JP2001501024A - 気体または蒸気のイオンを発生するためのイオン源装置 - Google Patents
気体または蒸気のイオンを発生するためのイオン源装置Info
- Publication number
- JP2001501024A JP2001501024A JP10515436A JP51543698A JP2001501024A JP 2001501024 A JP2001501024 A JP 2001501024A JP 10515436 A JP10515436 A JP 10515436A JP 51543698 A JP51543698 A JP 51543698A JP 2001501024 A JP2001501024 A JP 2001501024A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- source device
- ion source
- electro
- anode
- ion
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J27/00—Ion beam tubes
- H01J27/02—Ion sources; Ion guns
- H01J27/04—Ion sources; Ion guns using reflex discharge, e.g. Penning ion sources
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/06—Sources
- H01J2237/08—Ion sources
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/30—Electron or ion beam tubes for processing objects
- H01J2237/31—Processing objects on a macro-scale
- H01J2237/3114—Machining
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
Description
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1.とくに固体試料の薄肉化のための気体イオンまたは蒸気イオン発生用のイオ ン源装置であって、ハウジング(28)と、そのハウジング(28)に前記気体 または蒸気を導入する手段と(31)、そのハウジング(28)の内部に配置さ れ前記イオン源装置の軸(30)に沿った両側で開いた回転方向に対称な空胴( 21)を有する陽極(3)と、前記軸に沿って配置され前記陽極を配置するため の空間を相互間に区画する第1および第2の電気光学的鏡手段(1,2;5,4 )であって相互間で電子を振動させるように静電界を形成する第1および第2の 電気光学的鏡手段(1,2;5,4)とを含み、前記第1および第2の電気光学 的鏡手段(1,2;5,4)の少なくとも一方が前記空間内で発生したイオンの 一部を通す外部への開口を備えるイオン源装置において、前記空胴(21)の前 記両側の一方で前記空間の外側に配置した電子発生手段(12)と、発生した電 子を前記空胴(21)内に導く手段とを含むことを特徴とするイオン源装置。 2.前記電子を発生する手段が前記軸(30)を横断して配置した熱陰極(12 )であることを特徴とする請求項1記載のイオン源装置。 3.前記熱陰極(12)が前記軸(30)について回転方向に対称な環状体であ ることを特徴とする請求項2記載のイオン源装置。 4.前記第1および第2の電気光学的鏡手段がウェーネルト筒(2,4)で囲ま れた回転方向に対称な冷陰極(1,5)を含むことを特徴とする請求項2または 請求項3記載のイオン源装置。 5.前記電子を前記空胴(21)内に導く手段が前記第1の電気光学的鏡手段の 中の前記冷陰極(1)と前記ウェーネルト筒(2)との間に配置した二つの回転 方向に対称な補助電極(11,13)を含むことを特徴とする請求項4記載のイ オン源装置。 6.前記熱陰極(12)が前記二つの補助電極(11,13)の間に配置されて いることを特徴とする請求項5記載のイオン源装置。 7.前記補助電極(11,13)の各々をさらに二つの回転方向に対称な電極( 17,18,19,20)の間に配置したことを特徴とする請求項6記載のイオ ン源装置。 8.前記第2の電気光学的鏡手段(5,4)が前記イオンの第1の部分を被加工 物に向けて放出するための開口(16)を有し、前記第1の電気光学的鏡手段( 1,2)が前記イオンの第2の部分をイオン電流測定装置に向けて放出するため のもう一つの開口(22)を有することを特徴とする請求項4記載のイオン源装 置。 9.前記軸(30)と整合した軸を有し前記第2の電気光学的鏡手段(5,4) の近傍に配置されるとともに、軸方向に互いに離して配置された三つの電極(6 ,7,8)をさらに含む請求項4記載のイオン源装置。 10.前記静電レンズ(6,7,8)および前記第2の電気光学的鏡手段(5, 4)が前記ハウジング(28)に取り付けた交換可能なユニットであることを特 徴とする請求項9記載のイオン源装置。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/HU1996/000054 WO1998013851A1 (en) | 1996-09-27 | 1996-09-27 | Ion source for generating ions of a gas or vapour |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001501024A true JP2001501024A (ja) | 2001-01-23 |
JP4016402B2 JP4016402B2 (ja) | 2007-12-05 |
Family
ID=10987700
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP51543698A Expired - Lifetime JP4016402B2 (ja) | 1996-09-27 | 1996-09-27 | 気体または蒸気のイオンを発生するためのイオン源装置 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6236054B1 (ja) |
EP (1) | EP0928495B1 (ja) |
JP (1) | JP4016402B2 (ja) |
AT (1) | ATE194724T1 (ja) |
AU (1) | AU7092396A (ja) |
DE (1) | DE69609358T2 (ja) |
WO (1) | WO1998013851A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012522335A (ja) * | 2009-03-27 | 2012-09-20 | ディーエイチ テクノロジーズ デベロップメント プライベート リミテッド | 飛行源の加熱時間 |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20070107841A1 (en) * | 2000-12-13 | 2007-05-17 | Semequip, Inc. | Ion implantation ion source, system and method |
TW521295B (en) * | 1999-12-13 | 2003-02-21 | Semequip Inc | Ion implantation ion source, system and method |
US7838850B2 (en) * | 1999-12-13 | 2010-11-23 | Semequip, Inc. | External cathode ion source |
US6525326B1 (en) * | 2000-09-01 | 2003-02-25 | Axcelis Technologies, Inc. | System and method for removing particles entrained in an ion beam |
JP5186347B2 (ja) * | 2008-12-04 | 2013-04-17 | ギガフォトン株式会社 | 差動排気システム |
WO2011127394A1 (en) | 2010-04-09 | 2011-10-13 | E.A. Fischione Instruments, Inc. | Improved ion source |
US9633813B2 (en) * | 2012-12-27 | 2017-04-25 | Schlumberger Technology Corporation | Ion source using heated cathode and electromagnetic confinement |
US9362078B2 (en) | 2012-12-27 | 2016-06-07 | Schlumberger Technology Corporation | Ion source using field emitter array cathode and electromagnetic confinement |
US20140183349A1 (en) * | 2012-12-27 | 2014-07-03 | Schlumberger Technology Corporation | Ion source using spindt cathode and electromagnetic confinement |
EP2787523B1 (en) | 2013-04-03 | 2016-02-10 | Fei Company | Low energy ion milling or deposition |
CN110676148B (zh) * | 2019-10-12 | 2020-07-28 | 中国科学院地质与地球物理研究所 | 可控束斑离子发射装置及抛光蚀刻方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4423355A (en) | 1980-03-26 | 1983-12-27 | Tokyo Shibaura Denki Kabushiki Kaisha | Ion generating apparatus |
FR2514946A1 (fr) * | 1981-10-21 | 1983-04-22 | Commissariat Energie Atomique | Source d'ions comprenant une chambre d'ionisation a gaz avec oscillations d'electrons |
HU190855B (en) | 1983-10-12 | 1986-11-28 | Mta Mueszaki Fizikai Kutato Intezete,Hu | Device for working solid samples by ion beam and ion source to the device |
-
1996
- 1996-09-27 EP EP96931925A patent/EP0928495B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-09-27 DE DE69609358T patent/DE69609358T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1996-09-27 WO PCT/HU1996/000054 patent/WO1998013851A1/en active IP Right Grant
- 1996-09-27 JP JP51543698A patent/JP4016402B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1996-09-27 AU AU70923/96A patent/AU7092396A/en not_active Abandoned
- 1996-09-27 AT AT96931925T patent/ATE194724T1/de not_active IP Right Cessation
- 1996-09-27 US US09/269,801 patent/US6236054B1/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012522335A (ja) * | 2009-03-27 | 2012-09-20 | ディーエイチ テクノロジーズ デベロップメント プライベート リミテッド | 飛行源の加熱時間 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE69609358T2 (de) | 2000-12-14 |
DE69609358D1 (de) | 2000-08-17 |
JP4016402B2 (ja) | 2007-12-05 |
ATE194724T1 (de) | 2000-07-15 |
US6236054B1 (en) | 2001-05-22 |
EP0928495B1 (en) | 2000-07-12 |
AU7092396A (en) | 1998-04-17 |
WO1998013851A1 (en) | 1998-04-02 |
EP0928495A1 (en) | 1999-07-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2648235B2 (ja) | イオン銃 | |
JP3493460B2 (ja) | プラズマ質量スペクトロメータ | |
US6768120B2 (en) | Focused electron and ion beam systems | |
JP4511039B2 (ja) | 準安定原子衝撃源 | |
JP2995388B2 (ja) | イオン注入機に使用するイオン発生装置とその方法 | |
JP5601370B2 (ja) | 大気圧イオン化質量分析装置 | |
US20050205800A1 (en) | Flood gun for charge neutralization | |
JP2008518407A (ja) | ガスクラスターイオンビーム形成のためのイオナイザおよび方法 | |
JP2008508684A5 (ja) | ||
JP4016402B2 (ja) | 気体または蒸気のイオンを発生するためのイオン源装置 | |
US6320321B2 (en) | Ion beam processing apparatus for processing work piece with ion beam being neutralized uniformly | |
US3955091A (en) | Method and apparatus for extracting well-formed, high current ion beams from a plasma source | |
GB2296369A (en) | Radio frequency ion source | |
US20020185607A1 (en) | Ion source filament and method | |
US4988869A (en) | Method and apparatus for electron-induced dissociation of molecular species | |
JP2724464B2 (ja) | イオン源装置 | |
JPH062166A (ja) | イオンビームエッチング装置 | |
JPH0692638B2 (ja) | 薄膜装置 | |
US11217437B2 (en) | Electron capture dissociation (ECD) utilizing electron beam generated low energy electrons | |
JP3338099B2 (ja) | イオン注入装置 | |
Kirschner | Simple low‐energy sputter ion gun based on a Bayard–Alpert pressure gauge | |
JPH11500573A (ja) | リボン形イオンビーム発生器 | |
WO2023037545A1 (ja) | イオンビーム装置、エミッタティップ加工方法 | |
JP2000090844A (ja) | イオン源 | |
US3925664A (en) | Field emission electron gun |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050419 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20050715 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20050822 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050928 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20070123 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070312 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20070314 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070502 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20070517 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20070815 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20070907 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100928 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100928 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110928 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120928 Year of fee payment: 5 |