JP2001500813A - 少なくとも一層の薄い層で被覆された透明な基板 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 本発明は、窒化シリコン、炭窒化物、酸窒化物、または酸炭窒化物を主成分とする薄い付着物、あるいは複数の薄い付着物の層であって、その最後の付着物が前記組成からなる層で被覆された、透明ガラス基板に関する。腐蝕性要素を含有する雰囲気に接触する曲げ加工および／または焼戻しなどの熱処理の間に前記付着物が損傷することを回避するため、その付着物は、高温でのこのタイプの腐蝕に適切な保護用被覆物がその最上面に置かれ、かつ／またはその組成に少なくとも一種類の金属を導入することによって「ドープされる」。

Description

【発明の詳細な説明】 少なくとも一層の薄い層で被覆された透明な基板 本発明は透明な基板に関し、特に、少なくとも一層の薄い層を備えたガラス基 板に関する。 本発明の主な適用例は、建築産業において、または乗り物の装備用に使用され る、いわゆる機能性ウィンドウの製造である。以下、「機能性」ウィンドウとは 、特別の特性、特に熱的特性、電気的特性、光学的特性、または例えば耐引掻性 などの機械的特性さえもウィンドウに付与することを目的とする薄い層で、基板 の少なくとも一枚を被覆したウィンドウを意味すると理解すべきである。 本発明で最大の関心が持たれている薄い層は、熱的特性の付与を目的としたも のであり、即ち、特に長波長の赤外線および／または太陽放射線を反射すること によって機能することができるものである。 例えば、いわゆる低放射率層が知られており、特に、薄い銀層、あるいはＦ： ＳｎＯ₂またはＩＴＯタイプのドープ金属酸化 物層が知られている。フィルタリング層は、太陽防護機能を有し、例えば、ニッ ケル−クロム合金タイプの金属層や、より厚い銀の層、またはＴｉＮタイプの金 属窒化物層を基礎にしている。 スタックは、これらの層を、一層または複数層備えてもよく、以下、「機能性 層」という用語で表示する。通常、これらの層は、様々な理由で他の層と組み合 わされてスタックを形成する。 従って通常、スタックは、機能性層の上に置かれかつ／またはキャリア基板と 機能性層との間に挿入される少なくとも一種類の誘電性材料の被覆物と組み合わ せるようにする。これは第一に光学的理由によるものであり、適切な屈折率およ び厚さを有するように選択されたこれらの被覆物は、特に反射の際に干渉によっ て、ウィンドウの視覚的外観を調節することができる。さらに、この機能性層の 上に、化学的または機械的な損傷を防止するものを備えてもよい。また、ＳｉＯ₂ 、ＳｉＯＣ、またはＳｉＯＮタイプの誘電層である他の層と組み合わせたＦ： ＳｎＯ₂タイプの機能性層を使用するスタックが記載されている特許ＥＰ−５４ ４，５７７、ＥＰ−５７３，３２５、およびＥＰ−６４８，１９６、金属酸化物 タイプの誘電体の一層または複 数層と互い違いになった一層または複数層の銀層を使用するスタックが記載され ている特許ＥＰ−６３８，５２８、ＥＰ−７４５，５６９およびＥＰ−６７８， ４８４、あるいは二層の酸化物層と組み合わされたＴｉＮ−ベースの層を使用す る特許ＥＰ−６５０，９３８、あるいは特定の二種類の金属酸化物の層の間に窒 化ニッケル−クロムタイプの層を使用する特許ＥＰ−５１１，９０１を挙げるこ とができる。 ごく最近では、これらのガラス基板に曲げ／強靭化タイプの高温熱処理中に機 能性層を保護する機能を、誘電性材料のこれらの層に備えることが求められてい る。この点から、窒化シリコンを主成分とした材料が、特に非常に有用になって いる。それらの材料は、光学的に屈折率が２に近いものであり、従って、例えば ＳｎＯ₂タイプの誘電層として一般に使用されるほとんどの金属酸化物の屈折率 と類似している。しかし、これらの材料は、機能性層に関して、大気酸素に対す るバリアとしても機能し、従って、高温酸化タイプのあらゆる劣化から機能性層 を保護する。さらに、これらの材料は、その性質、特にその光学的特性が、曲げ ／強靭化タイプの熱処理後も変わらないままであるという意味で、高温で酸素に 対して「不活性」である。従 って、機能性層が曲げ／強靭化後も全く同じ熱的特性および光学的特性を有した 状態でＳｉ₃Ｎ₄層によって覆われ、そのＳｉ₃Ｎ₄層は任意選択で他の層と組み合 わされているスタックを設計することが可能である。例えば特許ＥＰ−０，７１ ８，２５０に、ガラス／（一層または複数層の）酸化物層／銀／金属／（一層ま たは複数層の）酸化物層／Ｓｉ₃Ｎ₄タイプのスタックが記載されており、その最 も外側の層はＳｉ₃Ｎ₄で形成されているものである。 しかしこのタイプのスタックを備えていても、一旦それらが曲げられまたは強 靭化されると、ピンホールタイプの光学的な欠陥が出現することが裸眼で見える ことから、廃棄しなければならない基板の数が非常に多いという意味で、工業的 な歩留まりが最適ではない場合になることが立証されている。 従って、本発明の目的は、特に、より良好な光学的特性を保ちながら、または 少なく見てもより再生可能かつより制御可能である光学的特性を保ちながら、熱 処理することができる一層の機能性層または複数層の機能性層を含む、新規なタ イプのスタックを提供することによって、この欠点を克服することである。 本発明の主題は、窒化シリコン、炭窒化物、酸窒化物、および／または酸炭窒 化物を主成分とする薄い層（以下、「窒化シリコン層」という用語で表示する） で被覆された、または薄い層のスタックであってその最後の層がこの窒化シリコ ン層であるスタックで被覆された、ガラス基板タイプの透明基板である。曲げま たは強靭化タイプの熱処理の間、特にＮａ₂Ｏタイプの腐食性種および任意選択 で塩化物または硫化物を含有する雰囲気に接触させる間、この層の劣化を防止す るために、この層はこのタイプの高温腐蝕から保護する層で覆われ、かつ／また は少なくとも一種類の金属をその組成に導入することによって「ドープされる」 。「ドープされる」という用語は、本明細書では電子工学で知られている意味に 解釈すべきではなく、窒化物層が、この（これらの）金属性添加物の存在によっ て強靭化された特性、特に高温腐蝕耐性の抵抗特性を有することを示す。 実際に窒化シリコン層は、直下にある層を高温酸化から保護するという役割を 完全に果たすことが判明している。しかしその一方、強靭化タイプ、とりわけ、 曲げタイプの熱処理におけるある一定の条件下では、このシリコン窒化層は、酸 化による影響ではなく、むしろ、曲げ操作が実施される大気中に存在し かつ高温で「活動的」な化学種、そして／または、これら数枚のガラス基板を同 時に曲げる場合、第二ガラス基板から「移行」する化学種からの影響によって劣 化しやすい。これらの基板は、基板の一枚が他のガラス基板と接触している多層 スタックを有する環モールド上に重ねられたものである。これらの種の少なくと も一つのタイプが確認されており、それはナトリウムタイプのアルカリ金属化合 物のすべてであり、特にＮａ₂Ｏ蒸気である。従来は、この高温での感度のため に、窒化シリコンの表面影響がスタックの他の部分に広がり、上述のピンホール が生じる 従って本発明は、その非常に有用な酸素バリア特性のため窒化シリコンを保持 して、次の二つの手段の組合せによって、またはどちらかを選択することによっ て高温耐久性を改良することからなる。 第一の変形例によれば、完全に不浸透性のバリアを形成することによって、酸 素を妨げることを目的としないがＮａ₂Ｏタイプの腐蝕性種を妨げる保護層で「 覆われる」。このバリアは、これらの腐蝕性種に対し化学的に不活性であるか、 または腐蝕性種を吸収することによりそれらの腐食性種をフィルタアウト するよう、それらの種と十分な親和性を有するものである。 第二の変形例によれば、窒化物は、より耐性を高めるために、しかし酸素バリ ア特性を失うことなく、化学的に改質される。 この非常に有効なアプローチでは、従来観察された光学的欠陥の出現を相当に 制限することによって、ガラス基板を曲げる際のスクラップ発生率を著しく減少 させることが可能になる。通常、窒化シリコンは機械的見地からは全くの耐久性 材料とみなされ、かつ化学的にはかなり不活性であるために、このアプローチは 全く予期されないものである。スタック中に検出された光学的欠陥の出所が、そ のような段階の耐久性を持っていない層であり、また窒化シリコン層の直下、例 えば機能性層またはスタックの第一層であってガラスに直接接触している層であ ったのではないかということは、予想されたかもしれない。従って、本発明者ら はこれに反して、腐蝕が最終窒化物層を介して広がることを示している。 本発明によれば、妥協がなされ、即ち、上述の弱点に関わらず、窒化シリコン を改良して保持することができる。 従って第一の変形例によれば、窒化シリコンは重畳層によって保護される。 第一の実施形態では、この重畳層は、金属の形か、または酸素が化学量論的に 少ない金属酸化物の形で、窒化シリコン層上に置かれる（直接が好ましいが、任 意選択で誘電性タイプの他の少なくとも一層を介して）。この層は、熱処理中に 完全に酸化するようにする。この処理の前になされる付着の間、幾何的な厚さは 厚くても１０ｎｍであることが好ましく、特に、１ｎｍから５ｎｍの間である。 実際に酸化が生じ、従って熱処理後にスタックの光学的特性が変質し、本質的に 光の透過が増加する。しかし、これらの変質は、保護層が非常に薄い厚さに制限 されるのが好ましいため、特に重要というわけではないが、保護層の機能を果た すのに充分である。保護層の性質は、熱処理の間に完全に酸化するように選択さ れるため、これらの変質はいずれにせよ完全なコントロール下にある。 この第一の変形例の第二の実施形態によれば、保護層は、金属酸化物、酸炭化 物、および／または酸窒化物の形で、特に幾何学的な厚さが厚くても２０ｎｍ、 特に２ｎｍから１０ｎｍの間の厚さで窒化シリコン層の上面に付着される（前述 の実施形態と同様に、直接的または間接的に）。この第二の実施形態によれば、 熱処理後も、スタックの性質、特に光学的特性に変化 がないことが観察されている。 熱処理中に酸化を受けても、または酸化を受けなくても、保護層は、少なくと も一種類の金属を含み、その酸化物は、腐食性を有する酸素以外の種、特にＮａ₂ Ｏタイプの種を高温でブロックし／吸収し／フィルタリングできるものである 。この金属は、ニオブＮｂ、スズＳｎ、タンタルＴａ、チタンＴｉ、およびジル コニウムＺｒから選択することが好ましい。ニオブは特に有利であり、その酸化 物は、ナトリウムタイプのアルカリ金属に対して高い親和性を有する。 本発明の第二の変形例によれば、窒化シリコン層は、少なくとも一種類の金属 を２５重量％まで、特に３重量％から１２重量％の間で導入することによって「 ドープされる」。この金属は、アルミニウムが好ましい。 窒化シリコンベースの層は、薄い層のスタックの一部を形成することができれ ば有利であり、特にスタック中で、熱的特性を有する機能性層の上に、直接、ま たは少なくとも一層の他の薄い誘電層または金属層を介して存在させることがで きる。この機能性層は、特に、フィルタリング層、太陽防護層、選択層、低放射 率層、および／または導電層とすることができる。 このスタックは、同じ性質の、または同じ性質ではない一層または複数層の機 能性層を含み、例えば二層または三層の機能性層である。 機能性層は、金属性タイプのものであってもよく、特に、銀、金、アルミニウ ム、ニッケル、クロム、任意選択で窒化物、またはステンレス鋼を主成分とする ものである。単一の機能性層ではなく、少なくとも一種類の誘電性被覆物で分離 された少なくとも二層の機能性層を有することが可能である。 これらの機能性層、それらの厚さ、および光学的性能の特徴は、特に前述の特 許に記載されている。 より詳細には、スタックに「曲げ可能性」／「強靭化可能性」を付与するため だけに窒化シリコン層により完成されたスタックに、一層または複数層の銀層を 使用する上述の特許ＥＰ−０，７１８，２５０を挙げることができる。また、よ り詳細には、二層の銀層を有するタイプのスタックを開示している特許出願ＥＰ −０，８４７，９６５を挙げることができ、これらの層は、その曲げ可能性また は強靭化可能性の改良を目的とし、また少なくとも一層の窒化シリコン層を使用 することを目的として設計されている。本発明によって、これら二つの特許に記 載され ているスタックの質をさらに改良することができる。 従って我々は、図式的には、一方では「内側」の誘電性被覆物（キャリア基板 側上）と、他方では「外側」の誘電性被覆物との間に、好ましくは薄い金属層を 介して、銀層が置かれたタイプのスタックを持つ。前記「外側」の誘電性被覆物 は、本発明によって改良された窒化シリコン層を含むものである。三種類の誘電 性被覆物と交互に置かれる二層の銀層からなるスタックの場合、少なくとも、キ ャリア基板に対して「最も外側にある」誘電層は、本発明による改良型窒化シリ コン層によって完成される。 機能性層は、金属窒化物タイプ、特にＴｉＮ、ＣｒＮ、ＮｂＮまたはＺｒＮを 主成分とするもとすることもできる。 機能性層は、ＩＴＯ、Ｆ：ＳｎＯ₂、Ｉｎ：ＺｎＯ、Ｆ：ＺｎＯ、Ａｌ：Ｚｎ Ｏ、またはＳｎ：ＺｎＯなどの、ドープ金属酸化物タイプとすることもできる。 本発明は、好ましくは真空技術、特にスパッタリング技術によって付着し、任 意選択で磁界によって強化された薄い層に関する。この技術は、金属または金属 酸化物層、または金属窒化物または窒化シリコン層を付着させるために十分にコ ントロー ルされた技術である。後者の場合、金属またはシリコンのターゲットは、Ｏ₂ま たはＮ₂タイプの気体と共に、適切な反応性雰囲気中で使用される。本発明はま た、その他の技術、特に、フロートガラスのリボン上での直接的な熱分解と、粉 末またはＣＶＤ（化学蒸着法）の熱分解を含むタイプの技術によって付着した薄 い層に関する。これらの技術は、特許ＥＰ−６３８，５２７およびＥＰ−６５０ ，９３８に記載されているように、任意選択でドープ金属酸化物層を付着させ、 金属窒化物層を付着させ、また１９９７年２月１０日の特許出願ＦＲ９７／０１ ４６８に記載されているように、任意選択で酸素および／または炭素も含む窒化 シリコンを主成分とした層を付着させるのに適している。 また本発明は薄い層のスタックに関し、その層の何層かは、例えば第一層は熱 分解によって付着させることができ、その他の層、特に隣接する層は、真空技術 を用いて連続的な操作により付着させることができる。 また本発明の主題は、本発明による被覆された基板を、加熱されたウィンドウ としてスタックの（複数の）機能性層の電気的特性を利用したウィンドウの製造 に適用することであるとと もに、上述した熱的特性を有してさらに曲げ性／強靭化性を有するウィンドウの 製造に適用することである。 本発明は、これらのウィンドウを建築産業において、およびモータビークルタ イプのビークルに装備するウィンドウに使用することに関する。これらは「モノ リシック」構造（単一の剛性基板）を有し、二枚の剛性ガラス基板が積層されま たは非対称的に積層されたものである（一枚のガラス基板は、機械的エネルギー を吸収する少なくとも一枚のポリマーシートおよびいわゆる自己ヒーリングタイ プのポリマーのシートと組み合わされ、これらは一般に、両方ともポリウレタン を主成分とするものであり、例えば特許ＥＰ−６７３，７５７に記載されている ）。ビークルのフロントガラスおよびサイドウィンドウを特に挙げることができ る。 本発明は、想定される曲げまたは曲げ／強靭化技術に関係なく有利である。 すべてを網羅するものではないが、以下のものを挙げることができる。即ち、 特許ＥＰ−１３３，１１４、ＥＰ−２６３，０３０、ＥＰ−４７４，５３１、 およびＥＰ−５９３，３６３に記載されて いるように、特に真っ直ぐなまたは湾曲した回転ロールからなる湾曲したプロフ ィル形状の台の上を通る、ガラス基板を曲げる技術と、 特許ＥＰ−３１７，４０９、ＥＰ−４６５，３０８、ＥＰ−６４０，５６９、 およびＷＯ９７／２３４２０に記載されているように、ガラス基板または二枚の 重ねられたガラス基板が、再加熱炉内を移動するキャリッジに取り付けられた周 辺曲げ成形機上に水平に置かれ、また、特に積層ウィンドウの製造に適応する重 力曲げ技術と、 特許ＥＰ−３２４，６９０、ＥＰ−４３８，３４２、ＥＰ−６６５，８２２、 ＥＰ−４５９，８９８、ＥＰ−５７８，５４２、およびＥＰ−６６０，８０９に 記載されているように、低部環状曲げ成形機に関連する上方固体曲げ成形機に対 してプレスしかつ／または吸引する段階を含む曲げ技術とである。 強靭化操作、特に熱的強靭化操作は、これらの曲げ操作を完了することができ 、あるいはこれらの操作と置き換えることができる。すべての場合において、こ の操作ではガラスを少なくとも最高５００℃まで再加熱することが必要であり、 一般には約５５０℃〜６２０℃である。この温度では、ある種類のＮａ₂ Ｏタイプの蒸気による腐蝕作用が悪化し、その観察から本発明が生じた。 図面によって示される非限定的な例により、本発明の詳細について以下に述べ る。 第１図：銀層を含む、薄い層のスタックで被覆されたガラス基板。 第２図および第３図：二層の銀層を含む、薄い層のスタックで被覆されたガラ ス基板。 第４図：曲げられている、第１図、第２図、および第３図による基板が組み込 まれた積層ウィンドウ。 これらの図は極めて略図的であり、容易に理解できるようにするため、示され ている様々な材料の間の厚さの比率を重視していない。 実施例１ この実施例は、第１図の断面に示されるガラス基板１、即ちシリカーソーダ− 石灰フロートガラス製の厚さ２ｍｍの平坦な基板であって、その表面には特許Ｅ Ｐ−０，７１８，２５０に記載され、本発明によって改良されているタイプのス タックが 付着している基板に関する。すなわち、そのスタックは、 ガラス⁽¹⁾／Ｓｉ₃Ｎ₄ ⁽²⁾／ＺｎＯ⁽³⁾／Ａｇ⁽⁴⁾／Ｎｂ⁽⁵⁾／Ｓｉ₃Ｎ₄ ⁽⁶⁾／Ｎｂ⁽⁷⁾ である。すべての層は、スパッタリングによって付着される。 付着装置は、適切な材料で作成されたターゲットを備えるカソードが設けられ た、少なくとも一つのスパッタリングチャンンバを含み、そのスパッタリングチ ャンバの下を基板１が連続して通過する。この実施例の層のそれぞれに対する好 ましい付着条件は、以下のようである。 銀層４を、アルゴン雰囲気中で銀ターゲットを使用して付着させる。 窒化シリコンベースの層２および６を、ホウ素１％でドープされたシリコン製 ターゲットを使用し、窒素雰囲気中で反応性スパッタリングにより付着させる。 ＺｎＯ層３を、酸素約４０体積％を含有するアルゴン／酸素雰囲気中で、亜鉛 ターゲットを使用して反応性スパッタリングにより付着させる。 銀層を保護するためのＮｂ層５を、不活性アルゴン雰囲気中で、Ｎｂターゲッ トを使用してスパッタリングにより付着させ る。 直下の６が付されているＳｉ₃Ｎ₄層の保護を目的とした本発明による層７を、 Ｎｂ層５と同じ条件下で付着させる。 所望の厚さの層を得るために、この基板の出力密度および走行速度を、知られ ている方法で調整する。 下記の表１に、実施例１のスタックの、各層の性質、および層の厚さをナノメ ートル単位で示す。 実施例２ この実施例は、第２図の断面に示されるガラス基板１’に関し、この基板は前 述の基板１と同一である。その基板の表面に は、二層の銀層を含んで、前述の特許ＥＰ−０，８４７，９６５に記載され、本 発明により改良されているタイプのものとすることができるスタックが付着して いる。即ち、このスタックは、 ガラス^(1')／ＳｎＯ₂ ⁽⁸⁾／ＺｎＯ⁽⁹⁾／Ａｇ⁽¹⁰⁾／Ｎｂ⁽¹¹⁾／Ｓｉ₃Ｎ₄ ⁽¹²⁾／ ＺｎＯ⁽¹³⁾／Ａｇ⁽¹⁴⁾／Ｎｂ⁽¹⁵⁾／Ｓｉ₃Ｎ₄ ⁽¹⁶⁾／Ｎｂ⁽¹⁷⁾ である。 これらの層を、実施例１と同じ条件下で付着させる。この場合、ＳｎＯ₂層（ ８）を、酸素を含有する反応性雰囲気中で、スズターゲットを使用してスパッタ リングにより付着する。 下記の表２に、層の性質および層の厚さをナノメートル単位で示す。実施例３ この実施例は、第３図の断面に示すガラス基板１”に関する。この基板は前述 の基板１および１’と同一であり、その基板の上には、二層の銀層を含んで特許 ＥＰ−０，８４７，９６５に記載され、本発明により改良されているタイプのス タックが付着している。 このスタックは、以下のようである。 ガラス^(1")／ＳｎＯ₂ ⁽¹⁸⁾／ＺｎＯ⁽¹⁹⁾／Ａｇ⁽²⁰⁾／Ｔｉ⁽²¹⁾／ＺｎＯ⁽²²⁾／ Ｓｉ₃Ｎ₄ ⁽²³⁾／ＺｎＯ⁽²⁴⁾／Ａｇ⁽²⁵⁾／Ｔｉ⁽²⁶⁾／ＺｎＯ⁽²⁷⁾／Ａｌ７％でドー プされたＳｉ₃Ｎ₄ ⁽²⁸⁾ これらの層を、実施例１および２に関するものと同じ条件下で付着させる。 ７％のアルミニウムでドープしたＳｉ₃Ｎ₄層（２８）を、Ｓｉ／Ａｌ合金製の ターゲットを使用し、窒素雰囲気中で反応性スパッタリングにより付着させる。 下記の表３に、この層の性質および層の厚さをナノメートル単位で示す。 次に、実施例１、２、および３による三枚の被覆済み基板のそれぞれは、再加 熱炉内を移動する可動キャリッジ上に取り付けられた環状モールド内で、重力曲 げを受ける。各基板の上には、環状モールド内で、基板１、１’、および１”と 同一であるが層で被覆されていない第二ガラス基板２９が重ねられる。 層のスタックは基板１、１’、または１”の上面にあり、従って第二基板の下面 に接触している（「接触して」は、必ずしも連続的に接触していることを意味せ ず、二枚の基板の間の中間に空気をトラップすることが可能である）。従って、 曲げ操作が実施されると、層のスタックは、第一基板１、１’、または１”の凹 面上に存在する。次に、この二枚の重ねられた基板を分離して、次いで、風防ガ ラスとして使用可能な、第４図に示す積層ウィンドウを形成するために、再び知 られている方法で、厚さ約０．８ｍｍのポリビニルブチラールのシート３０を介 して二枚の基板を接合する。 従来通り、ガラス基板１および２９の面には、一旦ビークルにはめ込まれたら 外側に面することが予定される面から、番号が付される。この場合、我々は、凹 面の２層の多層スタックを持つ。 代わりに、積層状のこのスタックを、都合良く凹面上の面３のスタックとする こともできる。この場合、曲げ操作は、層のない基板２９の上面に多層スタック が接触する状態で、層のない基板２９の上面の環状モールド内に存在するのが層 を有する基板１、１’であるように実施される。 実施例１、２、および３の基板について、曲げの前後、次いで積層後に試験を 行った。 結果は以下のようである。 曲げの後、基板１および１’の光透過性が増大している。これは、直下のＳｉ₃ Ｎ₄層を「包封する」最終Ｎｂ保護層が、完全に酸化したことを意味する。 この最終Ｎｂ層を含有しない基板に比べて光学的特性が優れ、ピンホールはも はや出現せず、あるいはほとんど出現せず、熱的特性も維持される。 基板１’の光透過性は変化しない。 得られた積層ウィンドウは、風防ガラスとして使用するために必要とされるす べての基準を満たす。 最終Ｎｂ層の代替物として、本発明の範囲内で、スズ、ジルコニウム、または チタンの薄い層を付着させることも可能であることに留意すべきである（あるい はＮｂ₂Ｏ₅、ＳｎＯ₂、ＺｒＯ₂、またはＴｉＯ₂層を直接付着させること）。こ れらの金属、最も特別には、Ｎｂ、Ｓｎ、およびＴｉは、すべて、実際に、ナト リウムがその直下の層に拡散するのを制限するように、ナトリウムを有する化合 物を酸化によって形成する共通の性質 を有している。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０２Ｂ 5/28 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ｚ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．窒化シリコン、炭窒化物、酸窒化物、または酸炭窒化物を主成分とする薄い 層（６、１６、２８）で被覆された、あるいは薄い層のスタックにおいて、その 最後の層がこの組成を有するスタックで被覆された、ガラス基板タイプの透明基 板（１、１’、１”）であって、腐蝕性種を含有する雰囲気と接触する曲げおよ び／または強靭化タイプの熱処理中での前記層の劣化を防止する目的で、前記層 が、このタイプの高温腐蝕から保護しかつ／または少なくとも一種類の金属をそ の組成に導入することによって「ドープされた」層（７、１７）で覆われること を特徴とする基板。 ２．前記層（６、１６）が、少なくとも一種類のＡｌタイプの金属を２５重量％ まで、特に３重量％から１２重量％の間でその組成に導入することによって、「 ドープされる」ことを特徴とする請求の範囲第１項に記載の基板。 ３．保護層（７、１７）が、金属の形か、または酸素が化学量論的に少ない金属 酸化物の形で付着し、熱処理中に完全に酸化されるようにすることを特徴とする 請求の範囲第１項または第 ２項に記載の基板。 ４．金属の形でまたは酸素が化学量論的に少ない金属酸化物の形で付着した保護 層（７、１７）が、厚くても１０ｎｍの厚さであり、特に１ｎｍから５ｎｍの間 であることを特徴とする請求の範囲第３項に記載の基板。 ５．保護層（７、１７）が、金属酸化物、酸炭化物、または酸窒化物の形で付着 することを特徴とする請求の範囲第１項または第２項に記載の基板。 ６．金属酸化物、酸炭化物、または酸窒化物の形で付着した層（７、１７）が、 厚くても２０ｎｍの厚さであり、特に２ｎｍから１０ｎｍの間であることを特徴 とする請求の範囲第５項に記載の基板。 ７.酸化物がＮａ₂Ｏタイプの腐蝕性種を高温でブロックし／吸収することができ る少なくとも一種類の金属であって、特にＮｂ、Ｓｎ、Ｔａ、Ｔｉ、およびＺｒ から選択される金属を、保護層（７、１７）が含むことを特徴とする請求の範囲 第１項から第６項のいずれか一項に記載の基板。 ８．窒化シリコンベースの層（６、１６、２８）が薄い層のスタックの一部を形 成し、熱的特性、特にフィルタリング特性、 太陽防護特性、および低放射率特性を有してかつ／または導電特性を有する少な くとも一層の機能性層（４、１０、１４、２０、２５）の上に特に付着されるこ とを特徴とする請求の範囲第１項から第７項のいずれか一項に記載の基板。 ９．前記機能性層（４、１０、１４、２０、２５）が、金属タイプのものであり 、特に、銀、金、アルミニウム、ニッケル、クロム、またはステンレス鋼を主成 分とするものであることを特徴とする請求の範囲第８項に記載の基板。 １０．前記機能性層（４、１０、１４、２０、２５）が、ＴｉＮ、ＣｒＮ、Ｎｂ Ｎ、またはＺｒＮなどの金属窒化物タイプのものであることを特徴とする請求の 範囲第８項に記載の基板。 １１．前記機能性層（４、１０、１４、２０、２５）が、ＩＴＯ、Ｆ：ＳｎＯ₂ 、Ｉｎ：ＺｎＯ、Ｆ：ＺｎＯ、Ａｌ：ＺｎＯ、またはＳｎ：ＺｎＯなどの、ドー プ金属酸化物タイプのものであることを特徴とする請求の範囲第８項に記載の基 板。 １２．一方では、「内側」の誘電性被覆物（２、３）と、他方では、「外側」の 誘電性被覆物（６）との間に、好ましくは薄い金属層（５）を介して付着された 、少なくとも一層の銀をベースとした層（４）を含む薄い層のスタックを備え、 前記外側 の誘電性被覆物が窒化シリコン層（６）を含むことを特徴とする請求の範囲第９ 項に記載の基板。 １３．薄い層のスタックが、少なくとも二層の機能性層を含み、特に二層または 三層の銀をベースとした層（１０、１４）を含むことを特徴とする請求の範囲第 ８項に記載の基板。 １４．加熱されたウィンドウタイプの電気的特性を有するウィンドウ、および／ または耐光性、フィルタリング特性、または低放射率特性を有するウィンドウタ イプの熱的特性を有し、曲げ性／強靭化性を有するウィンドウの製造への、請求 の範囲第１項から第１３項のいずれか一項に記載の基板の適用。 １５．サイドウィンドウまたは風防ガラスタイプの、モノリシックまたは積層ウ ィンドウ、特に建築物用またはモータービークル両用に用いられるウィンドウの 製造への、請求の範囲第１３項に記載の適用。