JP2001352019A - 粘性魂状物の転写方法 - Google Patents

粘性魂状物の転写方法

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JP2001352019A
JP2001352019A JP2000172957A JP2000172957A JP2001352019A JP 2001352019 A JP2001352019 A JP 2001352019A JP 2000172957 A JP2000172957 A JP 2000172957A JP 2000172957 A JP2000172957 A JP 2000172957A JP 2001352019 A JP2001352019 A JP 2001352019A
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viscous
soul
support plate
porous support
semiconductor device
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Toshihiko Kitaura
敏彦 北浦
Naohiro Matsuo
直浩 松尾
Takeshi Tanaka
豪 田中
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Kyushu Nitto Denko Corp
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Kyushu Nitto Denko Corp
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
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    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
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    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
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    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181Encapsulation

Abstract

(57)【要約】 【課題】支持板2に載せて搬送してきた粘性魂状物3を
被転写体1に円滑に転写できる方法を提供し、半導体装
置に放熱板をグリ−ススペ−サを介して当接固定する際
のそのグリ−ススペ−サの半導体装置または放熱板への
円滑な転写を可能とする。 【解決手段】含水可能で、かつ加圧されて含水を滲出す
る多孔質支持板2に粘性魂状物3を乗せて搬送し、多孔
質支持板2を含水状態にしたうえで、粘性魂状物3に被
転写体1を押圧し、次いで脱離させることにより粘性魂
状物3を被転写体1に移着させる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、粘性魂状物を被転
写体に転写する方法に関し、例えば、半導体装置に放熱
板をグリ−ススペ−サを介して当接固定する場合に半導
体装置または放熱板にグリ−ススペ−サを転写するのに
有用なものである。
【0002】
【従来の技術】半導体装置の発生熱の放熱を促して半導
体装置の熱的破壊を防止するために、半導体装置に放熱
板を当接固定することがある。図5の(イ)は、積層式
マルチチップモジュ−ル型半導体装置を示し、TSOP
チップ(Thin Small Outline Package チップ)11’〜
13’を上下に間隔を隔てて配し、各TSOPチップの
リ−ドピン101’を両サイドのプリント配線基板1
0’に接続し、このプリント配線基板10’内の電気配
線層を介して各TSOPチップの各リ−ド101’を外
部リ−ド103’に導通してある。この積層式マルチチ
ップモジュ−ル型半導体装置では、TSOPで半導体集
積回路チップが封止されていてその集積回路の発生熱に
対する放熱抵抗が高いうえに、空隙の厚みがモジュ−ル
の小型化のために制限され空隙部での空気対流による放
熱性も低いので、全体としての放熱性がさして高くな
い。この積層式マルチチップモジュ−ルのTSOPチッ
プ中、中央TSOPチップの温度が最も高くなり、この
中央チップ温度が積層数の増加に伴いアップされるか
ら、チップの積層数、従ってモジュ−ル全体のメモリ容
量が中央チップの温度で律せられることになる。
【0003】そこで、図5の(ロ)に示すように、TS
OPチップ間に放熱板110’を挿入し、TSOPチッ
プ両端から放熱板両端部を突出させ、チップ発生熱を放
熱板の熱伝導で放熱板両端部に伝達し、この伝達熱を放
熱板両端部より空気中に放熱させることが知られてい
る。この場合、放熱板とTSOPとの接触界面を固定す
ると、両者の熱膨張収縮係数の差のためにその界面に剪
断熱応力が発生し、界面剪断破壊が生じ、界面の接触熱
抵抗が増大し、放熱効果の低下が惹起されるので、前記
接触界面にグリ−ススペ−サ3’を介在させることが知
られている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】このグリ−ススペ−サ
に要求される特性は、固化されずに流失しない程度の粘
性を有する半固体性である。従って、ディスペンサ塗布
が難しく、シ−ト状に塊状成形したグリ−スを転写する
方法によらざるを得ない。しかしながら、グリ−ススペ
−サがある程度の粘着性を有するために、その転写も容
易ではない。
【0005】本発明の目的は、支持板に載せて搬送して
きた粘性魂状物を被転写体に円滑に転写できる方法を提
供し、半導体装置に放熱板をグリ−ススペ−サを介して
当接固定する際のそのグリ−ススペ−サの半導体装置ま
たは放熱板への円滑な転写を可能とすることにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明に係る粘性魂状物
の転写方法は、含水可能で、かつ加圧されて含水を滲出
する多孔質支持板に粘性魂状物を乗せて搬送し、多孔質
支持板を含水状態にしたうえで、粘性魂状物に被転写体
を押圧し、次いで脱離させることにより粘性魂状物を被
転写体に移着させることを特徴とする構成であり、粘性
魂状物に被転写体を押圧する直前に、多孔質支持板を含
水状態にするか、または多孔質支持板を含水状態にし
て、多孔質支持板に載せての粘性魂状物の搬送を行うこ
とができ、後者の場合、多孔質支持板に載せての粘性魂
状物の搬送を密封包装状態で行うことができる。
【0007】本発明に係る粘性魂状物の転写方法は、グ
リ−ススペ−サ等の粘性魂状物を介して半導体装置に放
熱板を当接する工程での半導体装置または放熱板への粘
性魂状物の転写に使用することができる。
【0008】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しつつ本発明の
実施の形態について説明する。図1の(イ)〜(ニ)は
本発明に係る粘性魂状物の転写方法を示すための図面で
ある。図1において、1は被転写体である。2は含水可
能で、かつ加圧されて含水を滲出する多孔質支持板であ
る。3はシ−ト状の粘性魂状物である。4は後述するテ
−プキヤリア等のキャリアであり、多孔質支持板2とキ
ャリア4との間が粘着剤等で固定され、キャリア4の走
行で搬送が行われる。本発明によりシ−ト状粘性魂状物
を被転写体に転写するには、図1の(イ)に示すよう
に、粘性魂状物3を多孔質支持板2に載せて転写位置に
向け搬送し、図1の(ロ)に示す転写位置またはそれ以
前に、多孔質支持板2を含水させ、次いで、被転写体1
を降下させて図1の(ハ)に示すように、被転写体1を
粘性魂状物3に押し付け、而るのち、図1の(ニ)に示
すように、被転写体1を上昇させる。
【0009】上記図1の(イ)に示す搬送中、粘性魂状
物3がその粘着性で多孔質支持板2に固定されているか
ら、粘性魂状物3を位置ずれなく安定に移送できる。上
記図1の(ハ)に示すように、被転写体1を粘性魂状物
3に押し付けると、含水多孔質支持板20が加圧され、
含水が滲出されて粘性魂状物3と含水多孔質支持板20
との接触界面に水膜が形成される。一方、被転写体1と
粘性魂状物3との接触界面が、粘性魂状物3の粘着性の
ために粘着される。而して、図1の(ハ)において、被
転写体1と粘性魂状物3との粘着界面の粘着強度が、上
記の水膜形成により粘着強度が低下された粘性魂状物3
と含水多孔質支持板20との界面のその粘着強度よりも
強くなる結果、図1の(ニ)に示すように、被転写体1
を上昇させると、粘性魂状物3と含水多孔質支持板20
との界面が剥離され粘性魂状物3が被転写体1と共に上
昇されて被転写体1に移着される。
【0010】上記多孔質支持板2への含水は、被転写体
1を粘性魂状物3に押し付ける直前に行うことができ
る。また、含水多孔質支持板上にシ−ト状粘性魂状物を
載置し、この状態で保存しておいたものを使用すること
もでき、この場合、保存中に含水が蒸発飛散するのを防
止するために密封包装して取り扱うことが好ましい。こ
の密封包装には、例えば、図2に示すように、一定間隔
ごとにワ−クピ−ス収容凹部41を設けたエンボスプラ
スチックテ−プ40にプラスチックカバ−テ−プ42を
粘着剤等43で貼着して包装するテ−プキャリア4をリ
−ルに巻回するリ−ル方式の外、トレ−方式、ステック
方式等の電子部品用キャリアを使用できる。
【0011】上記多孔質支持板2には、その多孔空間に
水を保持させ易いような適度の親水性と、加圧圧縮によ
るこの含水の滲出を容易に生じさせ得るような適度の柔
らかさ及び適度の疎水性乃至は撥水性を付与することが
好ましく、水溶性物質の使用は不可である。この多孔質
支持板2には、例えば、無機繊維紙、例えば、ガラス繊
維不織布、セラミックスペ−パ等や連続発泡プラスチッ
クシ−トを使用できる。上記粘性魂状物3には、水に対
して安定であり、水との接触で変性しない物質、例え
ば、耐水性に優れた金属石ケン系のグリ−ス(例えば、
リチウム石ケン系グリ−ス)、未加硫ブチルゴム等を使
用でき、通常、撥水性のものが使用される。
【0012】本発明に係る粘性魂状物の転写方法は、半
導体装置に放熱板を当接固定する場合に、半導体装置と
放熱板との間にグリ−ススペ−サを形成するのに好適に
使用できる。この放熱板には、アルミニウムのような熱
良伝導性金属が用いられ、グリ−ススペ−サには、剪断
弾性係数が実質的に0で、かつ長期にわたり放熱板と半
導体装置との間に安定に保持できる可及的に高粘性の物
質が用いられる。従って、半導体装置が発熱して放熱板
と半導体装置との熱膨張収縮係数の差により、その接触
界面に剪断歪が発生し、この剪断歪の発生が半導体装置
のオン・オフ通電により繰り返されても、グリ−ススペ
−サの無応力剪断変形により、実質的に剪断応力が発生
されない結果、放熱板と半導体装置との接触界面が隙間
の発生なく初期の密接状態に保たれ、半導体装置の温度
上昇を放熱板の放熱作用により効果的に防止できる。
【0013】図3の(イ)は、放熱板を装着した積層式
マルチチップモジュ−ル型半導体装置を示す断面図、図
3の(ロ)は同じく側面図である。図3において、11
〜13はTSOPチップ、110,120はTSOPチ
ップ間に挾持された放熱板、3,…はTSOPチップと
放熱板との間に介在されたグリ−ススペ−サである。1
0はプリント配線基板であり、各TSOPチップの各リ
−ドを挿入接合する各導体ランド102と、各リ−ド1
01に対応して設けられた外部リ−ド103と、各導体
ランド102と各外部リ−ド103との間を導通する内
部配線(図示せず)等を備えている。この積層式マルチ
チップモジュ−ル型半導体装置の製作は、第1TSOP
チップ11へのグリ−ススペ−サ3の転写、この転写グ
リ−ススペ−サ3への第1放熱板110の粘着、この第
1放熱板110へのグリ−ススペ−サ3の転写、この転
写グリ−ススペ−サ3への第2TSOPチップ12の粘
着、この第2TSOPチップ12へのグリ−ススペ−サ
3の転写、この転写グリ−ススペ−サへの第2放熱板1
20の粘着、第2放熱板120へのグリ−ススペ−サ3
の転写、この転写グリ−ススペ−サへの第3TSOPチ
ップ13の粘着、これらの積層マルチチップへのプリン
ト配線基板10,10の接続等の過程を経て行われ、T
SOPチップへのグリ−ススペ−サの転写や放熱板への
グリ−ススペ−サの転写に本発明に係る粘性魂状物の転
写方法が使用される。
【0014】図4は放熱板を装着した半導体装置の別例
を示し、回路基板100のチップ実装部位に熱伝達継手
104,…を貫設し、回路基板100にチップ1を実装
し、樹脂封止105を行ったのち、熱伝達継手貫設部位
にグリ−ススペ−サ3を転写し、この転写グリ−ススペ
−サ3に放熱板110の凸部1101を当接粘着してあ
り、グリ−ススペ−サの転写に本発明に係る粘性魂状物
の転写方法が使用される。
【0015】
【発明の効果】本発明に係る粘性魂状物の転写方法で
は、多孔質支持板に粘性魂状物を乗せて搬送しており、
粘性魂状物の粘着性のために粘性魂状物を位置ずれなく
安定に搬送できる。また、粘性魂状物の粘着性にもかか
わらず、粘性魂状物の被転写体への転写時には、粘性魂
状物と多孔質支持板との界面の粘着力を水膜の形成によ
り低減でき、その界面の粘着力を粘性魂状物と被転写体
との接触界面の粘着力よりも低くできるから、粘性魂状
物の被転写体への確実・円滑な転写を保証できる。更
に、デスペンサ−では、粘度上円滑に、かつ定量にて塗
布できないような高粘度のグリ−スでも、多孔質支持板
に定量の粘性魂状物として載せておくことにより被転写
体に円滑に転写できるから、半導体装置にグリ−ススペ
−サを介して放熱板を当接固定する半導体装置製造装置
の製造工程での半導体装置または放熱板へのグリ−スス
ペ−サの転写を円滑に行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る粘性魂状物の転写方法を示す図面
である。
【図2】本発明において使用するキャリアの一例を示す
図面である。
【図3】本発明に係る粘性魂状物の転写方法によりグリ
−ススペ−サを介しての放熱板の装着を行う半導体装置
の一例を示す図面である。
【図4】本発明に係る粘性魂状物の転写方法によりグリ
−ススペ−サを介しての放熱板の装着を行う半導体装置
の別例を示す図面である。
【図5】積層式マルチチップモジュ−ル型半導体装置を
示す図面である。
【符号の説明】
1 被転写体 2 多孔質支持板 3 粘性魂状物 4 キャリア
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 田中 豪 佐賀県神崎郡三田川町大字吉田2307番地の 2 九州日東電工株式会社内 Fターム(参考) 5F036 AA01 BB21

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】含水可能で、かつ加圧されて含水を滲出す
    る多孔質支持板に粘性魂状物を乗せて搬送し、多孔質支
    持板を含水状態にしたうえで、粘性魂状物に被転写体を
    押圧し、次いで脱離させることにより粘性魂状物を被転
    写体に移着させることを特徴とする粘性魂状物の転写方
    法。
  2. 【請求項2】粘性魂状物に被転写体を押圧する直前に、
    多孔質支持板を含水状態にする請求項1記載の粘性魂状
    物の転写方法。
  3. 【請求項3】多孔質支持板を含水状態にして、多孔質支
    持板に載せての粘性魂状物の搬送を行う請求項1記載の
    粘性魂状物の転写方法。
  4. 【請求項4】多孔質支持板に載せての粘性魂状物の搬送
    を密封包装状態で行う請求項3記載の粘性魂状物の転写
    方法。
  5. 【請求項5】グリ−ススペ−サ等の粘性魂状物を介して
    半導体装置に放熱板を当接する工程での半導体装置また
    は放熱板への粘性魂状物の転写に使用する請求項1〜4
    記載の粘性魂状物の転写方法。
JP2000172957A 2000-06-09 2000-06-09 粘性魂状物の転写方法 Pending JP2001352019A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2014126041A1 (ja) * 2013-02-15 2017-02-02 株式会社ニコン 薄膜の転写方法、薄膜トランジスタの製造方法、液晶表示装置の画素電極形成方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2014126041A1 (ja) * 2013-02-15 2017-02-02 株式会社ニコン 薄膜の転写方法、薄膜トランジスタの製造方法、液晶表示装置の画素電極形成方法

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