JP2001351963A - 基板処理装置 - Google Patents
基板処理装置Info
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- JP2001351963A JP2001351963A JP2000174065A JP2000174065A JP2001351963A JP 2001351963 A JP2001351963 A JP 2001351963A JP 2000174065 A JP2000174065 A JP 2000174065A JP 2000174065 A JP2000174065 A JP 2000174065A JP 2001351963 A JP2001351963 A JP 2001351963A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 装置内に収容できるカセットの個数を最大限
に増やしながら、１反応炉当たりの装置外形寸法の増大
を抑制することができるようにした基板処理装置を提供
する。 【解決手段】 筐体２１の前面にカセットステージ３
０、筐体２１内の後部上方に反応炉２２が設けられ、カ
セットステージ３０と反応炉２２の間に、回転カセット
棚２８、カセット移載機構２９、ウェハ移載機構２７が
設けられ、反応炉２２の下側にボートエレベータ２４が
設けられた基板処理装置において、筐体２１内の後部上
方に少なくとも２つの反応炉２２が設けられると共に、
これら少なくとも２つの反応炉２２に対して１つのカセ
ットステージ３０が共通に設けられ、該カセットステー
ジ３０が共通に設けられることにより生まれるカセット
ステージ３０の横のスペースに、補助カセット棚３１が
設けられている。
に増やしながら、１反応炉当たりの装置外形寸法の増大
を抑制することができるようにした基板処理装置を提供
する。 【解決手段】 筐体２１の前面にカセットステージ３
０、筐体２１内の後部上方に反応炉２２が設けられ、カ
セットステージ３０と反応炉２２の間に、回転カセット
棚２８、カセット移載機構２９、ウェハ移載機構２７が
設けられ、反応炉２２の下側にボートエレベータ２４が
設けられた基板処理装置において、筐体２１内の後部上
方に少なくとも２つの反応炉２２が設けられると共に、
これら少なくとも２つの反応炉２２に対して１つのカセ
ットステージ３０が共通に設けられ、該カセットステー
ジ３０が共通に設けられることにより生まれるカセット
ステージ３０の横のスペースに、補助カセット棚３１が
設けられている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウェハ等の
基板をバッチ処理するための縦型拡散ＣＶＤ装置等の基
板処理装置に関する。
基板をバッチ処理するための縦型拡散ＣＶＤ装置等の基
板処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体ウェハに対して酸化膜の形成、ド
ーパントの拡散、アニールあるいはＣＤＶといった熱処
理を行う装置として縦型の基板処理装置が知られてい
る。
ーパントの拡散、アニールあるいはＣＤＶといった熱処
理を行う装置として縦型の基板処理装置が知られてい
る。
【０００３】図２は、従来の１２インチ用の縦型ＣＶＤ
装置の外観構成を示している。この装置では、筐体１の
前面に、外部との間で基板カセット５の搬入出を行うカ
セットステージ１０が設けられ、筐体１内の後部上方に
ウェハに対して所定の処理を行う反応炉２が設けられ、
反応炉２の下方にウェハを多数搭載した状態で反応炉２
内に出し入れされるボート３と、該ボート３を反応炉２
内に搬入出するボートエレベータ４が設けられ、カセッ
トステージ１０と反応炉２の間に、ウェハカセット５の
蓋を開閉する蓋開閉機構６と、蓋開閉機構６とボート３
の間でウェハの移載を行うウェハ移載機構７と、所定数
の基板カセット５を保管する回転カセット棚８（この例
では、５個×３段のもの）と、カセット棚８と蓋開閉機
構６とカセットステージ１０との間で基板カセット５を
移載するカセット移載機構９とが設けられている。ま
た、筐体１の前面のカセットステージ１０の上側には操
作盤１２が設けられている。
装置の外観構成を示している。この装置では、筐体１の
前面に、外部との間で基板カセット５の搬入出を行うカ
セットステージ１０が設けられ、筐体１内の後部上方に
ウェハに対して所定の処理を行う反応炉２が設けられ、
反応炉２の下方にウェハを多数搭載した状態で反応炉２
内に出し入れされるボート３と、該ボート３を反応炉２
内に搬入出するボートエレベータ４が設けられ、カセッ
トステージ１０と反応炉２の間に、ウェハカセット５の
蓋を開閉する蓋開閉機構６と、蓋開閉機構６とボート３
の間でウェハの移載を行うウェハ移載機構７と、所定数
の基板カセット５を保管する回転カセット棚８（この例
では、５個×３段のもの）と、カセット棚８と蓋開閉機
構６とカセットステージ１０との間で基板カセット５を
移載するカセット移載機構９とが設けられている。ま
た、筐体１の前面のカセットステージ１０の上側には操
作盤１２が設けられている。
【０００４】この装置における基板カセット５並びにウ
ェハの流れを簡単に説明すると、まず、カセットステー
ジ１０に投入された基板カセット５は、カセット移載機
構９により回転カセット棚８に運ばれる。次に基板カセ
ット５は蓋開閉機構６に運ばれ、蓋開放後、ウェハ移載
機構７により基板カセット５内に収納されていたウェハ
がボート３に移載される。これを１バッチ分繰返した
後、ボート３はボート昇降手段４により反応炉２に挿入
され、ウェハの処理が行われる。そして、処理が終了し
た後、処理済みのウェハは、逆の流れで基板カセット５
内に収められて、カセットステージ１０まで運ばれ、工
場の自動搬送装置等により次工程に運ばれる。
ェハの流れを簡単に説明すると、まず、カセットステー
ジ１０に投入された基板カセット５は、カセット移載機
構９により回転カセット棚８に運ばれる。次に基板カセ
ット５は蓋開閉機構６に運ばれ、蓋開放後、ウェハ移載
機構７により基板カセット５内に収納されていたウェハ
がボート３に移載される。これを１バッチ分繰返した
後、ボート３はボート昇降手段４により反応炉２に挿入
され、ウェハの処理が行われる。そして、処理が終了し
た後、処理済みのウェハは、逆の流れで基板カセット５
内に収められて、カセットステージ１０まで運ばれ、工
場の自動搬送装置等により次工程に運ばれる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記の縦型
ＣＶＤ装置の場合、ＳＥＭＩ規格によって装置の高さ、
カセットステージ１０の幅や高さ等が制限されており、
１つの反応炉２を備えた装置内に保管し得るカセットの
数を増やす（１５個以上／１台に設定する）ためには、
装置の幅や奥行きを大きくして対応するしかなかった。
即ち、カセットステージ１０の上部は、ＯＨＴ（Over H
ead Transfer）の搬送空間として空けておく必要がある
ため、装置内におけるカセットの収納数を増やすために
は、カセット棚８とカセットステージ１０との間に更に
カセットを収容できるスペースを確保したり、カセット
ステージ１０の横に更にカセットを収容できるスペース
を確保したりする等の対策を講じなくてはならず、装置
の寸法が大きくなるという問題があった。
ＣＶＤ装置の場合、ＳＥＭＩ規格によって装置の高さ、
カセットステージ１０の幅や高さ等が制限されており、
１つの反応炉２を備えた装置内に保管し得るカセットの
数を増やす（１５個以上／１台に設定する）ためには、
装置の幅や奥行きを大きくして対応するしかなかった。
即ち、カセットステージ１０の上部は、ＯＨＴ（Over H
ead Transfer）の搬送空間として空けておく必要がある
ため、装置内におけるカセットの収納数を増やすために
は、カセット棚８とカセットステージ１０との間に更に
カセットを収容できるスペースを確保したり、カセット
ステージ１０の横に更にカセットを収容できるスペース
を確保したりする等の対策を講じなくてはならず、装置
の寸法が大きくなるという問題があった。
【０００６】本発明は、上記事情を考慮し、装置内に収
容できるカセットの個数を最大限に増やしながら、１反
応炉当たりの装置外形寸法の増大を抑制することができ
るようにした基板処理装置を提供することを目的とす
る。
容できるカセットの個数を最大限に増やしながら、１反
応炉当たりの装置外形寸法の増大を抑制することができ
るようにした基板処理装置を提供することを目的とす
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、筐体
の前面に、外部との間で基板カセットの搬入出を行うカ
セットステージが設けられ、筐体内の後部上方に、基板
に対して所定の処理を行う縦型の反応炉が設けられ、前
記カセットステージと反応炉の間に、基板カセットを保
管するカセット棚、該カセット棚と前記カセットステー
ジとの間で基板カセットを移載するカセット移載機構、
基板カセットの中から基板を取り出してボートに移載す
る基板移載機構が設けられ、前記反応炉の下側に、基板
が搭載されたボートを反応炉に対し出し入れするボート
エレベータが設けられた基板処理装置において、前記筐
体内の後部上方に少なくとも２つの前記反応炉が設けら
れると共に、これら少なくとも２つの反応炉に対して１
つの前記カセットステージが共通に設けられ、該カセッ
トステージが共通に設けられることにより生まれるカセ
ットステージの横のスペースに、補助カセット棚が設け
られていることを特徴とする。
の前面に、外部との間で基板カセットの搬入出を行うカ
セットステージが設けられ、筐体内の後部上方に、基板
に対して所定の処理を行う縦型の反応炉が設けられ、前
記カセットステージと反応炉の間に、基板カセットを保
管するカセット棚、該カセット棚と前記カセットステー
ジとの間で基板カセットを移載するカセット移載機構、
基板カセットの中から基板を取り出してボートに移載す
る基板移載機構が設けられ、前記反応炉の下側に、基板
が搭載されたボートを反応炉に対し出し入れするボート
エレベータが設けられた基板処理装置において、前記筐
体内の後部上方に少なくとも２つの前記反応炉が設けら
れると共に、これら少なくとも２つの反応炉に対して１
つの前記カセットステージが共通に設けられ、該カセッ
トステージが共通に設けられることにより生まれるカセ
ットステージの横のスペースに、補助カセット棚が設け
られていることを特徴とする。
【０００８】この発明では、カセットステージが、反応
炉１個に対して必ず１個設けなくてはならないものでは
ないという点に着目し、１台の装置に少なくとも２つの
反応炉を装備し、少なくとも２つの反応炉に対して１つ
のカセットステージを共通に設けている。そして、カセ
ットステージを共通に設けたことにより生まれるカセッ
トステージ横のスペースに、補助カセット棚を設けてい
るのである。つまり、少なくとも２台の装置を合体して
１個のカセットステージを共通化することで、１台分の
カセットステージを省略しており、そのカセットステー
ジの省略によって補助カセット棚の配置スペースを確保
しているのである。従って、これにより１つの反応炉当
たりの装置寸法を増大せずに、装置内に収容し得るカセ
ットの個数を最大限に増やすことができる。
炉１個に対して必ず１個設けなくてはならないものでは
ないという点に着目し、１台の装置に少なくとも２つの
反応炉を装備し、少なくとも２つの反応炉に対して１つ
のカセットステージを共通に設けている。そして、カセ
ットステージを共通に設けたことにより生まれるカセッ
トステージ横のスペースに、補助カセット棚を設けてい
るのである。つまり、少なくとも２台の装置を合体して
１個のカセットステージを共通化することで、１台分の
カセットステージを省略しており、そのカセットステー
ジの省略によって補助カセット棚の配置スペースを確保
しているのである。従って、これにより１つの反応炉当
たりの装置寸法を増大せずに、装置内に収容し得るカセ
ットの個数を最大限に増やすことができる。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面に
基づいて説明する。図１は実施形態の基板処理装置とし
ての縦型ＣＶＤ装置の外観斜視図である。この縦型ＣＶ
Ｄ装置は、従来の２つの縦型ＣＶＤ装置を横に並べて合
体したような外観構造を備えている。但し、２つの縦型
ＣＶＤ装置を合体した外観構造を備えているものの、カ
セットステージ３０は、筐体２１の前面の左側の部分の
みに１個だけ装備されている。
基づいて説明する。図１は実施形態の基板処理装置とし
ての縦型ＣＶＤ装置の外観斜視図である。この縦型ＣＶ
Ｄ装置は、従来の２つの縦型ＣＶＤ装置を横に並べて合
体したような外観構造を備えている。但し、２つの縦型
ＣＶＤ装置を合体した外観構造を備えているものの、カ
セットステージ３０は、筐体２１の前面の左側の部分の
みに１個だけ装備されている。
【００１０】即ち、筐体２１の前面の左側には、外部と
の間で基板カセット５の搬入出を行うカセットステージ
３０が１個だけ設けられ、筐体２１内の後部上方には、
基板に対して所定の処理を行う縦型の反応炉２２が２つ
横に並べて設けられている。また、カセットステージ３
０と反応炉２２、２２の間のスペースには、それぞれの
反応炉２２、２２に対応させて、基板カセット５を保管
する４個×４段の回転カセット棚２８、２８が横に並べ
て設けられている。同様に、該回転カセット棚２８とカ
セットステージ３０と蓋開閉機構２６との間で基板カセ
ット５を移載するカセット移載機構２９、基板カセット
５の中から基板を取り出してボート２３に移載する基板
移載機構２７が設けられ、前記各反応炉２２の下側に、
基板が搭載されたボート２３を反応炉２２に対し出し入
れするボートエレベータ２４が設けられている。
の間で基板カセット５の搬入出を行うカセットステージ
３０が１個だけ設けられ、筐体２１内の後部上方には、
基板に対して所定の処理を行う縦型の反応炉２２が２つ
横に並べて設けられている。また、カセットステージ３
０と反応炉２２、２２の間のスペースには、それぞれの
反応炉２２、２２に対応させて、基板カセット５を保管
する４個×４段の回転カセット棚２８、２８が横に並べ
て設けられている。同様に、該回転カセット棚２８とカ
セットステージ３０と蓋開閉機構２６との間で基板カセ
ット５を移載するカセット移載機構２９、基板カセット
５の中から基板を取り出してボート２３に移載する基板
移載機構２７が設けられ、前記各反応炉２２の下側に、
基板が搭載されたボート２３を反応炉２２に対し出し入
れするボートエレベータ２４が設けられている。
【００１１】そして、１個だけ設けられたカセットステ
ージ３０は、２つの回転カセット棚２８、２８及び２つ
の反応炉２２、２２に対して共通のものとして設けられ
ている。また、このようにカセットステージ３０が２つ
の回転カセット棚２８、２８及び２つの反応炉２２、２
２に対して共通に設けられていることにより、実施的的
には、１つのカセットステージが省略されていることに
なるのであるが、その省略によって生まれるカセットス
テージ３０の前から見て右横のスペースに、３個の基板
カセット５を収容できる補助カセット棚３１が設けられ
ている。
ージ３０は、２つの回転カセット棚２８、２８及び２つ
の反応炉２２、２２に対して共通のものとして設けられ
ている。また、このようにカセットステージ３０が２つ
の回転カセット棚２８、２８及び２つの反応炉２２、２
２に対して共通に設けられていることにより、実施的的
には、１つのカセットステージが省略されていることに
なるのであるが、その省略によって生まれるカセットス
テージ３０の前から見て右横のスペースに、３個の基板
カセット５を収容できる補助カセット棚３１が設けられ
ている。
【００１２】また、従来装置では、操作盤をカセットス
テージの上側のスペースに配置していたのであるが、こ
の実施形態の縦型ＣＶＤ装置では、補助カセット棚３１
を内側に設けた筐体２１の前面に、操作盤３２を配置し
ている。
テージの上側のスペースに配置していたのであるが、こ
の実施形態の縦型ＣＶＤ装置では、補助カセット棚３１
を内側に設けた筐体２１の前面に、操作盤３２を配置し
ている。
【００１３】この縦型ＣＶＤ装置では、各回転カセット
棚２８を４個×４段のものとしており、更に３個のカセ
ットを収容可能な補助カセット棚３１を設けているの
で、全部で３５個のカセットを収容することができる。
しかも、補助カセット棚３１はカセットステージ３０を
共通化したことにより生まれるスペースに配置している
ので、１つの反応炉２２当たりの奥行き寸法や幅寸法を
大きくすることなく設計できる。また、これにより、フ
ロントから回転カセット棚２８までの距離を大きくしな
いですむため、メンテナンス性も悪くならない。
棚２８を４個×４段のものとしており、更に３個のカセ
ットを収容可能な補助カセット棚３１を設けているの
で、全部で３５個のカセットを収容することができる。
しかも、補助カセット棚３１はカセットステージ３０を
共通化したことにより生まれるスペースに配置している
ので、１つの反応炉２２当たりの奥行き寸法や幅寸法を
大きくすることなく設計できる。また、これにより、フ
ロントから回転カセット棚２８までの距離を大きくしな
いですむため、メンテナンス性も悪くならない。
【００１４】また、補助カセット棚３１を内側に設けた
筐体２１の前面に、操作盤３２を配置しているので、従
来のカセットステージを乗り越えた形での操作を行う必
要がなくなり、カセットステージ３０に影響を受けず
に、操作盤３２を容易に操作できるようになる上、メン
テナンス性も向上する。また、操作盤３２がカセットス
テージ３０の上のカセット搬送経路Ｈ中に配置されてい
ないので、作業者の安全も確保される。
筐体２１の前面に、操作盤３２を配置しているので、従
来のカセットステージを乗り越えた形での操作を行う必
要がなくなり、カセットステージ３０に影響を受けず
に、操作盤３２を容易に操作できるようになる上、メン
テナンス性も向上する。また、操作盤３２がカセットス
テージ３０の上のカセット搬送経路Ｈ中に配置されてい
ないので、作業者の安全も確保される。
【００１５】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
１つの反応炉当たりの装置スペースを最小に抑えなが
ら、有効スペースを利用して最大個数のカセットを収納
できるようになる。
１つの反応炉当たりの装置スペースを最小に抑えなが
ら、有効スペースを利用して最大個数のカセットを収納
できるようになる。
【図１】本発明の実施形態の基板処理装置の外観斜視図
である。
である。
【図２】従来の基板処理装置の外観斜視図である。
５ 基板カセット ２１ 筐体 ２２ 反応炉 ２３ ボート ２４ ボートエレベータ ２７ ウェハ移載機構（基板移載機） ２８ 回転カセット棚 ２９ カセット移載機構 ３０ カセットステージ ３１ 補助カセット棚 ３２ 操作盤
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０１Ｌ 21/324 Ｈ０１Ｌ 21/324 Ｓ (72)発明者 新村 憲弘 東京都中野区東中野三丁目14番20号 国際 電気株式会社内 Ｆターム(参考） 4K030 BA42 CA04 CA12 DA09 GA12 KA04 5F031 CA02 DA01 DA17 FA01 FA03 FA11 FA12 FA15 GA49 GA54 GA58 HA67 MA02 MA09 MA28 MA30 NA09 PA06 PA09 5F045 AA03 AA20 AB32 BB08 DP19 DQ05 EN05
Claims (1)
- 【請求項１】 筐体の前面に、外部との間で基板カセッ
トの搬入出を行うカセットステージが設けられ、筐体内
の後部上方に、基板に対して所定の処理を行う縦型の反
応炉が設けられ、前記カセットステージと反応炉の間
に、基板カセットを保管するカセット棚、該カセット棚
と前記カセットステージとの間で基板カセットを移載す
るカセット移載機構、基板カセットの中から基板を取り
出してボートに移載する基板移載機構が設けられ、前記
反応炉の下側に、基板が搭載されたボートを反応炉に対
し出し入れするボートエレベータが設けられた基板処理
装置において、 前記筐体内の後部上方に少なくとも２つの前記反応炉が
設けられると共に、これら少なくとも２つの反応炉に対
して１つの前記カセットステージが共通に設けられ、該
カセットステージが共通に設けられることにより生まれ
るカセットステージの横のスペースに、補助カセット棚
が設けられていることを特徴とする基板処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000174065A JP2001351963A (ja) | 2000-06-09 | 2000-06-09 | 基板処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000174065A JP2001351963A (ja) | 2000-06-09 | 2000-06-09 | 基板処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001351963A true JP2001351963A (ja) | 2001-12-21 |
Family
ID=18676178
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000174065A Pending JP2001351963A (ja) | 2000-06-09 | 2000-06-09 | 基板処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001351963A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2012073765A1 (ja) * | 2010-11-29 | 2012-06-07 | 株式会社日立国際電気 | 半導体製造装置 |
| JP2013077819A (ja) * | 2011-09-29 | 2013-04-25 | Asm Internatl Nv | モジュール式半導体処理システム |
-
2000
- 2000-06-09 JP JP2000174065A patent/JP2001351963A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2012073765A1 (ja) * | 2010-11-29 | 2012-06-07 | 株式会社日立国際電気 | 半導体製造装置 |
| JP2013077819A (ja) * | 2011-09-29 | 2013-04-25 | Asm Internatl Nv | モジュール式半導体処理システム |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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Effective date: 20050930 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 |
|
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|
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|
| A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20080812 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |