JP2001350503A - Ｐｉｄ制御装置 - Google Patents
Ｐｉｄ制御装置Info
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- JP2001350503A JP2001350503A JP2000173839A JP2000173839A JP2001350503A JP 2001350503 A JP2001350503 A JP 2001350503A JP 2000173839 A JP2000173839 A JP 2000173839A JP 2000173839 A JP2000173839 A JP 2000173839A JP 2001350503 A JP2001350503 A JP 2001350503A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 制御対象の特性変動に適応した制御パラメー
タの調整を自動的に行って、常に安定した制御応答を保
持する。 【解決手段】 ＰＩＤ制御装置は、所定の制御対象プロ
セス１を自動制御するためのＰＩＤ制御器２を備えてい
る。プロセス同定手段３によって、制御中、定期的に、
操作量ＭＶを一定範囲内でステップ状に変化させ、その
際の制御量ＰＶの変化に基づいて、プロセス・パラメー
タが求められるようになっている。また、制御パラメー
タ決定手段４によって、プロセス同定手段３によって求
められたプロセス・パラメータを用いて、所定のＰＩＤ
調整公式に基づいてＰＩＤ制御器２の制御パラメータが
自動的に決定されるようになっている。
タの調整を自動的に行って、常に安定した制御応答を保
持する。 【解決手段】 ＰＩＤ制御装置は、所定の制御対象プロ
セス１を自動制御するためのＰＩＤ制御器２を備えてい
る。プロセス同定手段３によって、制御中、定期的に、
操作量ＭＶを一定範囲内でステップ状に変化させ、その
際の制御量ＰＶの変化に基づいて、プロセス・パラメー
タが求められるようになっている。また、制御パラメー
タ決定手段４によって、プロセス同定手段３によって求
められたプロセス・パラメータを用いて、所定のＰＩＤ
調整公式に基づいてＰＩＤ制御器２の制御パラメータが
自動的に決定されるようになっている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えばビル空調シ
ステムにおける空調プロセスのような所定のプロセスを
自動制御するためのＰＩＤ制御装置に係り、とりわけ、
制御パラメータの自動的な調整を可能としたＰＩＤ制御
装置に関する。
ステムにおける空調プロセスのような所定のプロセスを
自動制御するためのＰＩＤ制御装置に係り、とりわけ、
制御パラメータの自動的な調整を可能としたＰＩＤ制御
装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】例えばビル等の空調システムにおける空
調プロセスの制御を含めて、一般にプロセス量の制御と
してはＰＩＤ制御を用いることが多い。このＰＩＤ制御
のパラメータである比例ゲイン、積分時間および微分時
間は、制御応答を決定する重要なパラメータであり、こ
れらのパラメータの値によって制御応答の安定になった
り不安定になったりする
調プロセスの制御を含めて、一般にプロセス量の制御と
してはＰＩＤ制御を用いることが多い。このＰＩＤ制御
のパラメータである比例ゲイン、積分時間および微分時
間は、制御応答を決定する重要なパラメータであり、こ
れらのパラメータの値によって制御応答の安定になった
り不安定になったりする
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ここで、制御対象の特
性が変動しない系では、ＰＩＤ制御の制御パラメータを
一度調整した値にすれば、その値に固定しておいても問
題ない。しかし、制御対象の特性が変動する系では、Ｐ
ＩＤ制御の制御パラメータを固定したままでは、望まし
い制御応答を持続することができず、状態によっては不
安定な応答（ハンチング）になり、プロセスに悪影響を
与えることになる。また、制御応答が不安定となるた
め、無駄なエネルギーを消費することにもなる。
性が変動しない系では、ＰＩＤ制御の制御パラメータを
一度調整した値にすれば、その値に固定しておいても問
題ない。しかし、制御対象の特性が変動する系では、Ｐ
ＩＤ制御の制御パラメータを固定したままでは、望まし
い制御応答を持続することができず、状態によっては不
安定な応答（ハンチング）になり、プロセスに悪影響を
与えることになる。また、制御応答が不安定となるた
め、無駄なエネルギーを消費することにもなる。
【０００４】特に、空調プロセスの制御のように、むだ
時間や遅れ時間が大きく、また季節変動のあるような系
では、制御パラメータの調整が重要となる。しかし、従
来のＰＩＤ制御装置では、制御対象の特性変動に適応し
た制御パラメータの調整が困難であり、常に安定した制
御応答を保持することができない。
時間や遅れ時間が大きく、また季節変動のあるような系
では、制御パラメータの調整が重要となる。しかし、従
来のＰＩＤ制御装置では、制御対象の特性変動に適応し
た制御パラメータの調整が困難であり、常に安定した制
御応答を保持することができない。
【０００５】本発明は、このような点を考慮してなされ
たものであり、制御対象の特性変動に適応した制御パラ
メータの調整を自動的に行って、常に安定した制御応答
を保持することのできるようなＰＩＤ制御装置を提供す
ることを目的とする。
たものであり、制御対象の特性変動に適応した制御パラ
メータの調整を自動的に行って、常に安定した制御応答
を保持することのできるようなＰＩＤ制御装置を提供す
ることを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】第１の発明は、所定のプ
ロセスを自動制御するためのＰＩＤ制御器を備えたＰＩ
Ｄ制御装置において、制御中、定期的に、操作量（Ｍ
Ｖ）を一定範囲内でステップ状に変化させ、その際の制
御量（ＰＶ）の変化に基づいて、プロセス・パラメータ
を求めるためのプロセス同定手段と、前記プロセス同定
手段によって求められたプロセス・パラメータを用い
て、所定のＰＩＤ調整公式に基づいて前記ＰＩＤ制御器
の制御パラメータを決定するための制御パラメータ決定
手段とを更に備えたことを特徴とするものである。
ロセスを自動制御するためのＰＩＤ制御器を備えたＰＩ
Ｄ制御装置において、制御中、定期的に、操作量（Ｍ
Ｖ）を一定範囲内でステップ状に変化させ、その際の制
御量（ＰＶ）の変化に基づいて、プロセス・パラメータ
を求めるためのプロセス同定手段と、前記プロセス同定
手段によって求められたプロセス・パラメータを用い
て、所定のＰＩＤ調整公式に基づいて前記ＰＩＤ制御器
の制御パラメータを決定するための制御パラメータ決定
手段とを更に備えたことを特徴とするものである。
【０００７】この第１の発明によれば、プロセス同定手
段によって制御中、定期的にプロセス・パラメータが求
められ、そのプロセス・パラメータを用いて、制御パラ
メータ決定手段によってＰＩＤ制御器の制御パラメータ
が自動的に決定される。
段によって制御中、定期的にプロセス・パラメータが求
められ、そのプロセス・パラメータを用いて、制御パラ
メータ決定手段によってＰＩＤ制御器の制御パラメータ
が自動的に決定される。
【０００８】第２の発明は、第１の発明において、制御
対象としての前記プロセスの立ち上げ、又は目標値（Ｓ
Ｖ）の変更があったことを検知するための制御状態判定
手段、を更に備え、前記制御パラメータ決定手段は、前
記制御状態判定手段が前記プロセスの立ち上げ又は目標
値（ＳＶ）の変更を検知した場合に、前記制御パラメー
タを決定するためのＰＩＤ調整公式として、まず対目標
値の調整公式を用い、一定時間経過後に対外乱の調整公
式を用いるように構成されているものである。
対象としての前記プロセスの立ち上げ、又は目標値（Ｓ
Ｖ）の変更があったことを検知するための制御状態判定
手段、を更に備え、前記制御パラメータ決定手段は、前
記制御状態判定手段が前記プロセスの立ち上げ又は目標
値（ＳＶ）の変更を検知した場合に、前記制御パラメー
タを決定するためのＰＩＤ調整公式として、まず対目標
値の調整公式を用い、一定時間経過後に対外乱の調整公
式を用いるように構成されているものである。
【０００９】通常のＰＩＤ制御では、外乱抑制特性を最
適化しようとすれば目標追従特性が振動的となり、逆に
目標追従特性を最適化しようとすれば外乱抑制特性が甘
くなってしまう。そこで、この第２の発明においては、
外乱抑制と目標追従のいずれの特性を最適化する制御を
行うかを状況に応じて使い分けることとした。すなわ
ち、プロセスの立ち上げ時又は目標値（ＳＶ）の変更時
には、まず対目標値の調整公式を用いることで目標値追
従特性を最適化する制御を行い、一定時間経過後に対外
乱の調整公式を用いることで、外乱抑制特性を最適化す
る制御を行うようにした。
適化しようとすれば目標追従特性が振動的となり、逆に
目標追従特性を最適化しようとすれば外乱抑制特性が甘
くなってしまう。そこで、この第２の発明においては、
外乱抑制と目標追従のいずれの特性を最適化する制御を
行うかを状況に応じて使い分けることとした。すなわ
ち、プロセスの立ち上げ時又は目標値（ＳＶ）の変更時
には、まず対目標値の調整公式を用いることで目標値追
従特性を最適化する制御を行い、一定時間経過後に対外
乱の調整公式を用いることで、外乱抑制特性を最適化す
る制御を行うようにした。
【００１０】第３の発明は、第１の発明において、前記
ＰＩＤ制御器との組合せにおいて、外乱抑制と目標値追
従の双方の制御特性を最適化するような２自由度ＰＩＤ
制御器を構成するための目標値フィルタを更に備えたも
のである。
ＰＩＤ制御器との組合せにおいて、外乱抑制と目標値追
従の双方の制御特性を最適化するような２自由度ＰＩＤ
制御器を構成するための目標値フィルタを更に備えたも
のである。
【００１１】この第３の発明によれば、通常のＰＩＤ制
御器を用いる場合と異なり、外乱抑制と目標値追従の双
方の制御特性を最適化するようなＰＩＤ制御を行うこと
が可能となる。
御器を用いる場合と異なり、外乱抑制と目標値追従の双
方の制御特性を最適化するようなＰＩＤ制御を行うこと
が可能となる。
【００１２】第４の発明は、第１の発明において、主制
御器としての前記ＰＩＤ制御器との組合せにおいて、ス
ミスのむだ時間補償制御器を構成するためのプロセスモ
デル部、を更に備え、前記制御パラメータ決定手段は更
に、前記プロセス同定手段によって求められたプロセス
・パラメータを用いて、前記プロセスモデル部における
プロセス・パラメータを自動的に更新するように構成さ
れているものである。
御器としての前記ＰＩＤ制御器との組合せにおいて、ス
ミスのむだ時間補償制御器を構成するためのプロセスモ
デル部、を更に備え、前記制御パラメータ決定手段は更
に、前記プロセス同定手段によって求められたプロセス
・パラメータを用いて、前記プロセスモデル部における
プロセス・パラメータを自動的に更新するように構成さ
れているものである。
【００１３】この第４の発明によれば、特に大きなむだ
時間を持ったプロセスの制御において制御特性を改善す
ることが可能となる。
時間を持ったプロセスの制御において制御特性を改善す
ることが可能となる。
【００１４】第５の発明は、第４の発明において、第２
の発明のように、制御対象としての前記プロセスの立ち
上げ、又は目標値（ＳＶ）の変更があったことを検知す
るための制御状態判定手段、を更に備え、前記制御パラ
メータ決定手段は、前記制御状態判定手段が前記プロセ
スの立ち上げ又は目標値（ＳＶ）の変更を検知した場合
に、前記制御パラメータを決定するためのＰＩＤ調整公
式として、まず対目標値の調整公式を用い、一定時間経
過後に対外乱の調整公式を用いるように構成されている
ものである。
の発明のように、制御対象としての前記プロセスの立ち
上げ、又は目標値（ＳＶ）の変更があったことを検知す
るための制御状態判定手段、を更に備え、前記制御パラ
メータ決定手段は、前記制御状態判定手段が前記プロセ
スの立ち上げ又は目標値（ＳＶ）の変更を検知した場合
に、前記制御パラメータを決定するためのＰＩＤ調整公
式として、まず対目標値の調整公式を用い、一定時間経
過後に対外乱の調整公式を用いるように構成されている
ものである。
【００１５】第６の発明は、第４の発明において、第３
の発明のように、前記ＰＩＤ制御器との組合せにおい
て、外乱抑制と目標値追従の双方の制御特性を最適化す
るような２自由度ＰＩＤ制御器を構成するための目標値
フィルタを更に備えたものである。
の発明のように、前記ＰＩＤ制御器との組合せにおい
て、外乱抑制と目標値追従の双方の制御特性を最適化す
るような２自由度ＰＩＤ制御器を構成するための目標値
フィルタを更に備えたものである。
【００１６】第７の発明は、第１乃至第６の発明のいず
れかにおいて、制御対象としての前記プロセスは、空調
システムによる空調プロセスであり、前記プロセス同定
手段において、前記操作量をステップ状に変化させる範
囲は、所定の空調の快適性が保たれる範囲内に設定され
ているものである。
れかにおいて、制御対象としての前記プロセスは、空調
システムによる空調プロセスであり、前記プロセス同定
手段において、前記操作量をステップ状に変化させる範
囲は、所定の空調の快適性が保たれる範囲内に設定され
ているものである。
【００１７】この第７の発明によれば、むだ時間や遅れ
時間が大きく、また季節変動のある空調プロセスを制御
対象とすることで、第１乃至第６の発明による効果を有
効に発揮させることができる。また、操作量をステップ
状に変化させる範囲を空調の快適性が保たれる範囲内に
設定したので、空調の快適性を損ねることもない。
時間が大きく、また季節変動のある空調プロセスを制御
対象とすることで、第１乃至第６の発明による効果を有
効に発揮させることができる。また、操作量をステップ
状に変化させる範囲を空調の快適性が保たれる範囲内に
設定したので、空調の快適性を損ねることもない。
【００１８】第８の発明は、第７の発明において、記空
調の快適性が保たれる範囲を、室温において±２℃の範
囲としたものである。
調の快適性が保たれる範囲を、室温において±２℃の範
囲としたものである。
【００１９】
【発明の実施の形態】次に、図面を参照して本発明の実
施の形態について説明する。図１乃至図６は本発明によ
るＰＩＤ制御装置の実施の形態を示す図であり、図７は
本発明が適用される空調システムの構成例を示す図であ
る。
施の形態について説明する。図１乃至図６は本発明によ
るＰＩＤ制御装置の実施の形態を示す図であり、図７は
本発明が適用される空調システムの構成例を示す図であ
る。
【００２０】［第１の実施形態］次に、図１及び図２に
より本発明の第１の実施形態について説明する。
より本発明の第１の実施形態について説明する。
【００２１】〈構 成〉図１に示すように、本実施形態
のＰＩＤ制御装置は、制御対象プロセス１を自動制御す
るためのＰＩＤ制御器２を備えている。図１において、
記号ＳＶ、ＭＶおよびＰＶはそれぞれ目標値、操作量お
よび制御量の信号を表している。これらの要素によっ
て、通常のＰＩＤ制御装置と同様のフィードバック・ル
ープが形成されている。そして、本実施形態のＰＩＤ制
御装置は、プロセス同定手段３と制御パラメータ決定手
段４とを更に備えている。
のＰＩＤ制御装置は、制御対象プロセス１を自動制御す
るためのＰＩＤ制御器２を備えている。図１において、
記号ＳＶ、ＭＶおよびＰＶはそれぞれ目標値、操作量お
よび制御量の信号を表している。これらの要素によっ
て、通常のＰＩＤ制御装置と同様のフィードバック・ル
ープが形成されている。そして、本実施形態のＰＩＤ制
御装置は、プロセス同定手段３と制御パラメータ決定手
段４とを更に備えている。
【００２２】前者のプロセス同定手段３には、操作量Ｍ
Ｖおよび制御量ＰＶが入力されるようになっている。ま
た、このプロセス同定手段３は、ＰＩＤ制御器２に対し
て、制御を手動モードにして操作量ＭＶをステップ状に
変化させる指令信号を出力するようになっている。そし
て、プロセス同定手段３は、制御中、定期的に、操作量
ＭＶを一定範囲内でステップ状に変化させ、その際の制
御量ＰＶの変化に基づいて、プロセス・パラメータを求
めるように構成されている。
Ｖおよび制御量ＰＶが入力されるようになっている。ま
た、このプロセス同定手段３は、ＰＩＤ制御器２に対し
て、制御を手動モードにして操作量ＭＶをステップ状に
変化させる指令信号を出力するようになっている。そし
て、プロセス同定手段３は、制御中、定期的に、操作量
ＭＶを一定範囲内でステップ状に変化させ、その際の制
御量ＰＶの変化に基づいて、プロセス・パラメータを求
めるように構成されている。
【００２３】また、後者の制御パラメータ決定手段４に
は、プロセス同定手段３からプロセス・パラメータが入
力されるようになっている。そして、制御パラメータ決
定手段４は、プロセス同定手段３によって求められたプ
ロセス・パラメータを用いて、所定のＰＩＤ調整公式に
基づいてＰＩＤ制御器２の制御パラメータを決定するよ
うに構成されている。そのようにして決定された制御パ
ラメータが、制御パラメータ決定手段４からＰＩＤ制御
器２に入力されるようになっている。
は、プロセス同定手段３からプロセス・パラメータが入
力されるようになっている。そして、制御パラメータ決
定手段４は、プロセス同定手段３によって求められたプ
ロセス・パラメータを用いて、所定のＰＩＤ調整公式に
基づいてＰＩＤ制御器２の制御パラメータを決定するよ
うに構成されている。そのようにして決定された制御パ
ラメータが、制御パラメータ決定手段４からＰＩＤ制御
器２に入力されるようになっている。
【００２４】ここで、図２を参照して、プロセス同定手
段３におけるプロセス・パラメータの求め方について説
明する。図２において、操作量ＭＶをΔＭＶだけステッ
プ状に増加させてから制御量ＰＶが立ち上がる（増加し
始める）までの時間がむだ時間Ｌとなる。そして、むだ
時間Ｌの経過後、制御量（ＰＶが最終的な増加量（定常
値）ΔＰＶの６３％まで増加するのに要する時間が一次
遅れ時定数Ｔとなる。また、ΔＰＶ／ΔＭＶの値がプロ
セスゲインＫとなる。以上のＬ、ＴおよびＫがプロセス
・パラメータとして求められる。
段３におけるプロセス・パラメータの求め方について説
明する。図２において、操作量ＭＶをΔＭＶだけステッ
プ状に増加させてから制御量ＰＶが立ち上がる（増加し
始める）までの時間がむだ時間Ｌとなる。そして、むだ
時間Ｌの経過後、制御量（ＰＶが最終的な増加量（定常
値）ΔＰＶの６３％まで増加するのに要する時間が一次
遅れ時定数Ｔとなる。また、ΔＰＶ／ΔＭＶの値がプロ
セスゲインＫとなる。以上のＬ、ＴおよびＫがプロセス
・パラメータとして求められる。
【００２５】この場合、制御対象プロセスの伝達関数
は、 ＧＰ（Ｓ）＝ｅ―Ｌ・Ｓ・Ｋ／（１＋Ｔ・Ｓ） で表される。
は、 ＧＰ（Ｓ）＝ｅ―Ｌ・Ｓ・Ｋ／（１＋Ｔ・Ｓ） で表される。
【００２６】そして、制御パラメータ決定手段４は、プ
ロセス同定手段３によって求められた上記プロセス・パ
ラメータＬ，Ｔ，Ｋを用いて、所定のＰＩＤ調整公式に
基づいてＰＩＤ制御器２の制御パラメータとしての比例
ゲインＫＰ、積分時間ＴＩおよび微分時間ＴＤを決定す
る。この場合のＰＩＤ調整公式としては、［表１］に例
示するような各種の公式を用いることができる。具体的
には、これらの公式をテーブルとして持っておき、その
中から予めオペレータが選択しておくようにすればよ
い。
ロセス同定手段３によって求められた上記プロセス・パ
ラメータＬ，Ｔ，Ｋを用いて、所定のＰＩＤ調整公式に
基づいてＰＩＤ制御器２の制御パラメータとしての比例
ゲインＫＰ、積分時間ＴＩおよび微分時間ＴＤを決定す
る。この場合のＰＩＤ調整公式としては、［表１］に例
示するような各種の公式を用いることができる。具体的
には、これらの公式をテーブルとして持っておき、その
中から予めオペレータが選択しておくようにすればよ
い。
【００２７】次に、本発明の制御対象の一例としての空
調プロセスに用いられるビル用空調システムの構成例に
ついて、図７を参照して説明する。
調プロセスに用いられるビル用空調システムの構成例に
ついて、図７を参照して説明する。
【００２８】図７に示す空調システムは、エアフィルタ
ＡＦ、冷却コイルＣＣ、加熱コイルＨＣおよび加湿器Ｈ
Ｆを内蔵した空調機１０を備えている。この空調機１０
からの空調空気が、送風機１１によって空調の対象とな
る室内１２へ吹き出されるようになっている。また、こ
の室内１２の空気が還気ファン１３によって吸い出さ
れ、例えばその一部が排気される一方、残りが外気と共
に再び空調機１０に吸い込まれるようになっている。な
お、これらの室内空気、排気および外気の割合を調節す
るためのダンパ１４，１５，１６が設けられている。
ＡＦ、冷却コイルＣＣ、加熱コイルＨＣおよび加湿器Ｈ
Ｆを内蔵した空調機１０を備えている。この空調機１０
からの空調空気が、送風機１１によって空調の対象とな
る室内１２へ吹き出されるようになっている。また、こ
の室内１２の空気が還気ファン１３によって吸い出さ
れ、例えばその一部が排気される一方、残りが外気と共
に再び空調機１０に吸い込まれるようになっている。な
お、これらの室内空気、排気および外気の割合を調節す
るためのダンパ１４，１５，１６が設けられている。
【００２９】空調機１０における冷却コイルＣＣ、加熱
コイルＨＣおよび加湿器ＨＦには、それぞれ冷水ライ
ン、温水ラインおよび蒸気ラインが接続されている。こ
れらの各ラインには、それぞれ流量調節弁１７，１８，
１９が設けられている。また、室内１２には温度計２０
および湿度計２１が設けられている。また、本発明によ
るＰＩＤ制御装置としての、中央ＣＰＵに接続されたＤ
ＤＣ（直接ディジタル制御装置）２２が設けられてい
る。
コイルＨＣおよび加湿器ＨＦには、それぞれ冷水ライ
ン、温水ラインおよび蒸気ラインが接続されている。こ
れらの各ラインには、それぞれ流量調節弁１７，１８，
１９が設けられている。また、室内１２には温度計２０
および湿度計２１が設けられている。また、本発明によ
るＰＩＤ制御装置としての、中央ＣＰＵに接続されたＤ
ＤＣ（直接ディジタル制御装置）２２が設けられてい
る。
【００３０】そして、室内１２の温度計２０および湿度
計２１からの温度および湿度の信号が、それぞれ制御量
ＰＶとしてＤＤＣ２２に入力されると共に、各調節弁１
７，１８，１９の開度を調節するための信号が、それぞ
れ操作量ＭＶとしてＤＤＣ２２から出力されるようにな
っている。また、例えば所定の空調操作部（図示せず）
からの温度および湿度の設定信号が、それぞれ目標値Ｓ
ＶとしてＤＤＣ２２に入力されるようになっている。
計２１からの温度および湿度の信号が、それぞれ制御量
ＰＶとしてＤＤＣ２２に入力されると共に、各調節弁１
７，１８，１９の開度を調節するための信号が、それぞ
れ操作量ＭＶとしてＤＤＣ２２から出力されるようにな
っている。また、例えば所定の空調操作部（図示せず）
からの温度および湿度の設定信号が、それぞれ目標値Ｓ
ＶとしてＤＤＣ２２に入力されるようになっている。
【００３１】このような空調システムによる空調プロセ
スを制御する場合、プロセス同定手段３において操作量
ＭＶをステップ状に変化させる範囲ΔＭＶ（図２）は、
空調の快適性が保たれる範囲内に設定することが好まし
い。そのような空調の快適性が保たれる範囲は、例えば
室温においては±２℃の範囲である。
スを制御する場合、プロセス同定手段３において操作量
ＭＶをステップ状に変化させる範囲ΔＭＶ（図２）は、
空調の快適性が保たれる範囲内に設定することが好まし
い。そのような空調の快適性が保たれる範囲は、例えば
室温においては±２℃の範囲である。
【００３２】〈作用効果〉次に、このような構成よりな
る本実施形態の作用効果について説明する。
る本実施形態の作用効果について説明する。
【００３３】本実施形態によれば、プロセス同定手段３
によって制御中、定期的にプロセス・パラメータとして
のむだ時間Ｌ、一次遅れ時定数Ｔおよびプロセスゲイン
Ｋが求められる。そして、それらのプロセス・パラメー
タＬ，Ｔ，Ｋを用いて、制御パラメータ決定手段４によ
ってＰＩＤ制御器２の制御パラメータとしての比例ゲイ
ンＫＰ、積分時間ＴＩおよび微分時間ＴＤが自動的に決
定される。このため、制御対象としてのプロセスの特性
変動に適応した制御パラメータＫＰ，ＴＩ，Ｔ Ｄを自動
的に調整して、常に安定した制御応答を保持することが
できる。
によって制御中、定期的にプロセス・パラメータとして
のむだ時間Ｌ、一次遅れ時定数Ｔおよびプロセスゲイン
Ｋが求められる。そして、それらのプロセス・パラメー
タＬ，Ｔ，Ｋを用いて、制御パラメータ決定手段４によ
ってＰＩＤ制御器２の制御パラメータとしての比例ゲイ
ンＫＰ、積分時間ＴＩおよび微分時間ＴＤが自動的に決
定される。このため、制御対象としてのプロセスの特性
変動に適応した制御パラメータＫＰ，ＴＩ，Ｔ Ｄを自動
的に調整して、常に安定した制御応答を保持することが
できる。
【００３４】特に、むだ時間や遅れ時間が大きく、また
季節変動のある空調プロセスを制御対象とすることで、
そのような効果を有効に発揮させることができる。その
場合、プロセス同定手段３において操作量ＭＶをステッ
プ状に変化させる範囲を、上記のように空調の快適性が
保たれる範囲内に設定すれば、空調の快適性を損ねるこ
ともない。
季節変動のある空調プロセスを制御対象とすることで、
そのような効果を有効に発揮させることができる。その
場合、プロセス同定手段３において操作量ＭＶをステッ
プ状に変化させる範囲を、上記のように空調の快適性が
保たれる範囲内に設定すれば、空調の快適性を損ねるこ
ともない。
【００３５】［第２の実施形態］次に、図３により本発
明の第２の実施形態について説明する。
明の第２の実施形態について説明する。
【００３６】〈構 成〉本実施形態は、図３に示すよう
に制御状態判定手段５を更に備えると共に、制御パラメ
ータ決定手段４がＰＩＤ調整公式として対目標値の調整
公式と対外乱の調整公式とを使い分けるように構成した
点で上記第１の実施形態と異なり、その他の構成は図１
及び図２に示す上記第１の実施形態と同様である。
に制御状態判定手段５を更に備えると共に、制御パラメ
ータ決定手段４がＰＩＤ調整公式として対目標値の調整
公式と対外乱の調整公式とを使い分けるように構成した
点で上記第１の実施形態と異なり、その他の構成は図１
及び図２に示す上記第１の実施形態と同様である。
【００３７】具体的には、制御状態判定手段５は、目標
値ＳＶおよび制御量ＰＶが入力されるようになってお
り、制御対象プロセス１（例えば空調）の立ち上げ、又
は目標値ＳＶの変更があったことを検知するように構成
されている。
値ＳＶおよび制御量ＰＶが入力されるようになってお
り、制御対象プロセス１（例えば空調）の立ち上げ、又
は目標値ＳＶの変更があったことを検知するように構成
されている。
【００３８】また、制御パラメータ決定手段４は、制御
状態判定手段５がプロセスの立ち上げ又は目標値ＳＶの
変更を検知した場合に、制御パラメータを決定するため
のＰＩＤ調整公式として、まず対目標値の調整公式を用
い、一定時間経過後に対外乱の調整公式を用いるように
構成されている。この場合、対目標値の調整公式として
は、例えば［表１］下段の（３）-（Ｃ）〜（５）の公
式を用いることができる。また、対外乱の調整公式とし
ては、例えば［表１］上段の（１）〜（３）-（Ｂ）の
公式を用いることができる。
状態判定手段５がプロセスの立ち上げ又は目標値ＳＶの
変更を検知した場合に、制御パラメータを決定するため
のＰＩＤ調整公式として、まず対目標値の調整公式を用
い、一定時間経過後に対外乱の調整公式を用いるように
構成されている。この場合、対目標値の調整公式として
は、例えば［表１］下段の（３）-（Ｃ）〜（５）の公
式を用いることができる。また、対外乱の調整公式とし
ては、例えば［表１］上段の（１）〜（３）-（Ｂ）の
公式を用いることができる。
【００３９】
【表１】
【００４０】〈作用効果〉次に、このような構成よりな
る本実施形態の作用効果について説明する。
る本実施形態の作用効果について説明する。
【００４１】通常のＰＩＤ制御では、外乱抑制特性を最
適化しようとすれば目標追従特性が振動的となり、逆に
目標追従特性を最適化しようとすれば外乱抑制特性が甘
くなってしまう。そこで、本実施形態においては、外乱
抑制と目標追従のいずれの特性を最適化する制御を行う
かを状況に応じて使い分けることとした。すなわち、プ
ロセスの立ち上げ時又は目標値ＳＶの変更時には、まず
対目標値の調整公式を用いることで目標値追従特性を最
適化する制御を行い、一定時間経過後に対外乱の調整公
式を用いることで、外乱抑制特性を最適化する制御を行
うようにしたものである。
適化しようとすれば目標追従特性が振動的となり、逆に
目標追従特性を最適化しようとすれば外乱抑制特性が甘
くなってしまう。そこで、本実施形態においては、外乱
抑制と目標追従のいずれの特性を最適化する制御を行う
かを状況に応じて使い分けることとした。すなわち、プ
ロセスの立ち上げ時又は目標値ＳＶの変更時には、まず
対目標値の調整公式を用いることで目標値追従特性を最
適化する制御を行い、一定時間経過後に対外乱の調整公
式を用いることで、外乱抑制特性を最適化する制御を行
うようにしたものである。
【００４２】［第３の実施形態］次に、図４により本発
明の第３の実施形態について説明する。
明の第３の実施形態について説明する。
【００４３】〈構 成〉本実施形態は、図４に示すよう
に、ＰＩＤ制御器２との組合せにおいて２自由度のＰＩ
Ｄ制御器８を構成するための目標値フィルタ６を更に備
えた点で上記第１の実施形態と異なり、その他の構成は
図１及び図２に示す上記第１の実施形態と略同様であ
る。
に、ＰＩＤ制御器２との組合せにおいて２自由度のＰＩ
Ｄ制御器８を構成するための目標値フィルタ６を更に備
えた点で上記第１の実施形態と異なり、その他の構成は
図１及び図２に示す上記第１の実施形態と略同様であ
る。
【００４４】この目標値フィルタ６とＰＩＤ制御器２と
の組合せにおいて構成された２自由度ＰＩＤ制御器８
は、外乱抑制と目標値追従の双方の制御特性を最適化す
るようなＰＩＤ制御器として提案されているものである
（参考文献１：第２４回ＳＩＣＥ学術講演会予稿集（昭
和６０年７月）第２１７〜２１８頁）。
の組合せにおいて構成された２自由度ＰＩＤ制御器８
は、外乱抑制と目標値追従の双方の制御特性を最適化す
るようなＰＩＤ制御器として提案されているものである
（参考文献１：第２４回ＳＩＣＥ学術講演会予稿集（昭
和６０年７月）第２１７〜２１８頁）。
【００４５】この２自由度ＰＩＤ制御器８は、ＰＩＤ制
御器２の制御パラメータとして外乱抑制に最適な値を設
定しておくと共に、目標値フィルタ６のパラメータ設定
によって、目標値変更に対する制御パラメータのみを自
動変更することで、外乱抑制と目標値追従の双方の制御
特性を最適化できるように構成されている。
御器２の制御パラメータとして外乱抑制に最適な値を設
定しておくと共に、目標値フィルタ６のパラメータ設定
によって、目標値変更に対する制御パラメータのみを自
動変更することで、外乱抑制と目標値追従の双方の制御
特性を最適化できるように構成されている。
【００４６】この場合、目標値フィルタ６としては、例
えば、 Ｈ（Ｓ）＝（１＋α・ＴＩ・Ｓ）／（１＋ＴＩ・Ｓ） が用いられ、そのαの値は一般的に０.４が推奨値とさ
れている（上記参考文献１より）。
えば、 Ｈ（Ｓ）＝（１＋α・ＴＩ・Ｓ）／（１＋ＴＩ・Ｓ） が用いられ、そのαの値は一般的に０.４が推奨値とさ
れている（上記参考文献１より）。
【００４７】〈作用効果〉本実施形態によれば、通常の
ＰＩＤ制御器（例えばＰＩＤ制御器２のみ）を用いる場
合と異なり、外乱抑制と目標値追従の双方の制御特性を
最適化するようなＰＩＤ制御を行うことが可能となる。
ＰＩＤ制御器（例えばＰＩＤ制御器２のみ）を用いる場
合と異なり、外乱抑制と目標値追従の双方の制御特性を
最適化するようなＰＩＤ制御を行うことが可能となる。
【００４８】［第４の実施形態］次に、図５により本発
明の第４の実施形態について説明する。
明の第４の実施形態について説明する。
【００４９】〈構 成〉本実施形態は、図５に示すよう
に、主制御器としてのＰＩＤ制御器２との組合せにおい
て、スミスのむだ時間補償制御器９を構成するためのプ
ロセスモデル部７を更に備え点で上記第１の実施形態と
異なり、その他の構成は図１及び図２に示す上記第１の
実施形態と略同様である。
に、主制御器としてのＰＩＤ制御器２との組合せにおい
て、スミスのむだ時間補償制御器９を構成するためのプ
ロセスモデル部７を更に備え点で上記第１の実施形態と
異なり、その他の構成は図１及び図２に示す上記第１の
実施形態と略同様である。
【００５０】大きなむだ時間を持つ系では位相遅れが大
きいため、通常のフィードバック制御では所望の制御特
性を得ることが難しい。そのような場合に制御特性を改
善する手段としてスミスのむだ時間補償制御（スミス
法）がある（参考文献２：自動制御ハンドブック基礎
編，計測自動制御学会編，オーム社；第１３１〜１３３
頁）。
きいため、通常のフィードバック制御では所望の制御特
性を得ることが難しい。そのような場合に制御特性を改
善する手段としてスミスのむだ時間補償制御（スミス
法）がある（参考文献２：自動制御ハンドブック基礎
編，計測自動制御学会編，オーム社；第１３１〜１３３
頁）。
【００５１】本実施形態のむだ時間補償制御器９は、そ
のようなスミスのむだ時間補償制御を行うためのもので
あり、そのプロセスモデル部７としては、例えば、 ＧＰＭ（Ｓ）＝ＫＰＭ／（１＋ＴＰＭ・Ｓ） の形のものが用いられる。
のようなスミスのむだ時間補償制御を行うためのもので
あり、そのプロセスモデル部７としては、例えば、 ＧＰＭ（Ｓ）＝ＫＰＭ／（１＋ＴＰＭ・Ｓ） の形のものが用いられる。
【００５２】そして、制御対象プロセス ＧＰ（Ｓ）・ｅ―Ｌ・Ｓ＝ｅ―Ｌ・Ｓ・Ｋ／（１＋Ｔ・
Ｓ） の上記プロセス・パラメータＬ，Ｔ，Ｋ（むだ時間Ｌ，
一次遅れ時定数Ｔ，プロセスゲインＫ）を上記第１の実
施形態の場合と同様、プロセス同定手段３によって定期
的に求める。
Ｓ） の上記プロセス・パラメータＬ，Ｔ，Ｋ（むだ時間Ｌ，
一次遅れ時定数Ｔ，プロセスゲインＫ）を上記第１の実
施形態の場合と同様、プロセス同定手段３によって定期
的に求める。
【００５３】そして、本実施形態の制御パラメータ決定
手段４は更に、プロセス同定手段３によって求められた
プロセス・パラメータＬ，Ｔ，Ｋを用いて、プロセスモ
デル部７におけるプロセス・パラメータＫＰＭ，
ＴＰＭ，ＬＰＭを、 ＫＰＭ＝Ｋ，ＴＰＭ＝Ｔ，ＬＰＭ＝Ｌ とおいて自動的に更新するように構成されている。
手段４は更に、プロセス同定手段３によって求められた
プロセス・パラメータＬ，Ｔ，Ｋを用いて、プロセスモ
デル部７におけるプロセス・パラメータＫＰＭ，
ＴＰＭ，ＬＰＭを、 ＫＰＭ＝Ｋ，ＴＰＭ＝Ｔ，ＬＰＭ＝Ｌ とおいて自動的に更新するように構成されている。
【００５４】なお、主制御器としてのＰＩＤ制御器２の
制御パラメータＫＰ，ＴＩ，ＴＤは、上記第１の実施形
態の場合と同様、制御パラメータ決定手段４が、プロセ
ス同定手段３によって求められたプロセス・パラメータ
Ｌ，Ｔ，Ｋを用いて、所定のＰＩＤ調整公式に基づいて
決定するようになっている。
制御パラメータＫＰ，ＴＩ，ＴＤは、上記第１の実施形
態の場合と同様、制御パラメータ決定手段４が、プロセ
ス同定手段３によって求められたプロセス・パラメータ
Ｌ，Ｔ，Ｋを用いて、所定のＰＩＤ調整公式に基づいて
決定するようになっている。
【００５５】〈作用効果〉本実施形態によれば、特に
（例えば上記空調システムのような）大きなむだ時間を
持ったプロセスの制御において制御特性を改善すること
が可能となる。
（例えば上記空調システムのような）大きなむだ時間を
持ったプロセスの制御において制御特性を改善すること
が可能となる。
【００５６】〈変形例〉本実施形態のＰＩＤ制御装置に
おいて更に、上記第３の実施形態で説明したような２自
由度ＰＩＤ制御器を構成するための目標値フィルタ６を
設けることで、外乱抑制と目標値追従の双方の制御特性
の最適化を図るようにしてもよい。
おいて更に、上記第３の実施形態で説明したような２自
由度ＰＩＤ制御器を構成するための目標値フィルタ６を
設けることで、外乱抑制と目標値追従の双方の制御特性
の最適化を図るようにしてもよい。
【００５７】［第５の実施形態］次に、図６により本発
明の第５の実施形態について説明する。
明の第５の実施形態について説明する。
【００５８】〈構 成〉本実施形態は、図６に示すよう
に、上記第２の実施形態（図３）と同様、制御状態判定
手段５を更に備えると共に、制御パラメータ決定手段４
がＰＩＤ調整公式として対目標値の調整公式と対外乱の
調整公式とを使い分けるように構成した点で上記第４の
実施形態と異なり、その他の構成は図５に示す上記第４
の実施形態と同様である。
に、上記第２の実施形態（図３）と同様、制御状態判定
手段５を更に備えると共に、制御パラメータ決定手段４
がＰＩＤ調整公式として対目標値の調整公式と対外乱の
調整公式とを使い分けるように構成した点で上記第４の
実施形態と異なり、その他の構成は図５に示す上記第４
の実施形態と同様である。
【００５９】すなわち、本実施形態の制御パラメータ決
定手段４は、制御状態判定手段５がプロセスの立ち上げ
又は目標値ＳＶの変更を検知した場合に、（主制御器と
してのＰＩＤ制御器２の）制御パラメータを決定するた
めのＰＩＤ調整公式として、まず対目標値の調整公式を
用い、一定時間経過後に対外乱の調整公式を用いるよう
に構成されている。
定手段４は、制御状態判定手段５がプロセスの立ち上げ
又は目標値ＳＶの変更を検知した場合に、（主制御器と
してのＰＩＤ制御器２の）制御パラメータを決定するた
めのＰＩＤ調整公式として、まず対目標値の調整公式を
用い、一定時間経過後に対外乱の調整公式を用いるよう
に構成されている。
【００６０】〈作用効果〉本実施形態によれば、上記第
４の実施形態の作用効果と併せて、上記第２の実施形態
と同様の作用効果を奏することができる。
４の実施形態の作用効果と併せて、上記第２の実施形態
と同様の作用効果を奏することができる。
【００６１】［その他の実施形態］本発明は、上述した
実施形態に限定されるものではない。例えば、例示した
空調プロセスの制御以外でも、制御対象の特性が変動す
る系であって、且つオンライン制御中に操作量をある程
度変動させても悪影響がでないような制御系であれば本
発明を適用することが可能である。
実施形態に限定されるものではない。例えば、例示した
空調プロセスの制御以外でも、制御対象の特性が変動す
る系であって、且つオンライン制御中に操作量をある程
度変動させても悪影響がでないような制御系であれば本
発明を適用することが可能である。
【００６２】
【発明の効果】本発明によれば、制御中、定期的にＰＩ
Ｄ制御器の制御パラメータが自動的に決定されるため、
制御対象としてのプロセスの特性変動に適応した制御パ
ラメータを自動的に調整して、常に安定した制御応答を
保持することができる。
Ｄ制御器の制御パラメータが自動的に決定されるため、
制御対象としてのプロセスの特性変動に適応した制御パ
ラメータを自動的に調整して、常に安定した制御応答を
保持することができる。
【図１】本発明によるＰＩＤ制御装置の第１の実施形態
を示すブロック図。
を示すブロック図。
【図２】図１に示すＰＩＤ制御装置におけるプロセス・
パラメータの決定方法を説明するための図。
パラメータの決定方法を説明するための図。
【図３】本発明によるＰＩＤ制御装置の第２の実施形態
を示すブロック図。
を示すブロック図。
【図４】本発明によるＰＩＤ制御装置の第３の実施形態
を示すブロック図。
を示すブロック図。
【図５】本発明によるＰＩＤ制御装置の第４の実施形態
を示すブロック図。
を示すブロック図。
【図６】本発明によるＰＩＤ制御装置の第５の実施形態
を示すブロック図。
を示すブロック図。
【図７】本発明が適用される空調システムの構成例を示
すブロック図。
すブロック図。
１ 制御対象プロセス ２ ＰＩＤ制御器 ３ プロセス同定手段 ４ 制御パラメータ決定手段 ５ 制御状態判定手段 ６ 目標値フィルタ ７ プロセスモデル部 ８ ２自由度のＰＩＤ制御器 ９ スミスのむだ時間補償制御器 ＭＶ 操作量 ＰＶ 制御量 ＳＶ 目標値
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 3L060 AA08 CC19 DD08 EE00 5H004 GA10 GA15 GA17 GB01 GB20 HA01 HB01 KB02 KB04 KB06 KB12 KB26 KB38 KC35 KC38 KC43 KC49 KC52 LA01 LA03 LB04
Claims (8)
- 【請求項１】所定のプロセスを自動制御するためのＰＩ
Ｄ制御器を備えたＰＩＤ制御装置において、 制御中、定期的に、操作量（ＭＶ）を一定範囲内でステ
ップ状に変化させ、その際の制御量（ＰＶ）の変化に基
づいて、プロセス・パラメータを求めるためのプロセス
同定手段と、 前記プロセス同定手段によって求められたプロセス・パ
ラメータを用いて、所定のＰＩＤ調整公式に基づいて前
記ＰＩＤ制御器の制御パラメータを決定するための制御
パラメータ決定手段とを更に備えたことを特徴とするＰ
ＩＤ制御装置。 - 【請求項２】制御対象としての前記プロセスの立ち上
げ、又は目標値（ＳＶ）の変更があったことを検知する
ための制御状態判定手段、を更に備え、 前記制御パラメータ決定手段は、前記制御状態判定手段
が前記プロセスの立ち上げ又は目標値（ＳＶ）の変更を
検知した場合に、前記制御パラメータを決定するための
ＰＩＤ調整公式として、まず対目標値の調整公式を用
い、一定時間経過後に対外乱の調整公式を用いるように
構成されている、ことを特徴とする請求項１記載のＰＩ
Ｄ制御装置。 - 【請求項３】前記ＰＩＤ制御器との組合せにおいて、外
乱抑制と目標値追従の双方の制御特性を最適化するよう
な２自由度ＰＩＤ制御器を構成するための目標値フィル
タを更に備えたことを特徴とする請求項１記載のＰＩＤ
制御装置。 - 【請求項４】主制御器としての前記ＰＩＤ制御器との組
合せにおいて、スミスのむだ時間補償制御器を構成する
ためのプロセスモデル部、を更に備え、 前記制御パラメータ決定手段は更に、前記プロセス同定
手段によって求められたプロセス・パラメータを用い
て、前記プロセスモデル部におけるプロセス・パラメー
タを自動的に更新するように構成されている、ことを特
徴とする請求項１記載のＰＩＤ制御装置。 - 【請求項５】制御対象としての前記プロセスの立ち上
げ、又は目標値（ＳＶ）の変更があったことを検知する
ための制御状態判定手段、を更に備え、 前記制御パラメータ決定手段は、前記制御状態判定手段
が前記プロセスの立ち上げ又は目標値（ＳＶ）の変更を
検知した場合に、前記制御パラメータを決定するための
ＰＩＤ調整公式として、まず対目標値の調整公式を用
い、一定時間経過後に対外乱の調整公式を用いるように
構成されている、ことを特徴とする請求項４記載のＰＩ
Ｄ制御装置。 - 【請求項６】前記ＰＩＤ制御器との組合せにおいて、外
乱抑制と目標値追従の双方の制御特性を最適化するよう
な２自由度ＰＩＤ制御器を構成するための目標値フィル
タを更に備えたことを特徴とする請求項４記載のＰＩＤ
制御装置。 - 【請求項７】制御対象としての前記プロセスは、空調シ
ステムによる空調プロセスであり、 前記プロセス同定手段において、前記操作量をステップ
状に変化させる範囲は、所定の空調の快適性が保たれる
範囲内に設定されている、ことを特徴とする請求項１乃
至６のいずれかに記載のＰＩＤ制御装置。 - 【請求項８】前記空調の快適性が保たれる範囲を、室温
において±２℃の範囲とした、ことを特徴とする請求項
７記載のＰＩＤ制御装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000173839A JP2001350503A (ja) | 2000-06-09 | 2000-06-09 | Ｐｉｄ制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000173839A JP2001350503A (ja) | 2000-06-09 | 2000-06-09 | Ｐｉｄ制御装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001350503A true JP2001350503A (ja) | 2001-12-21 |
Family
ID=18675987
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000173839A Pending JP2001350503A (ja) | 2000-06-09 | 2000-06-09 | Ｐｉｄ制御装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001350503A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008097390A (ja) * | 2006-10-13 | 2008-04-24 | Fuji Electric Systems Co Ltd | むだ時間を含む制御対象に適用するモデル追従制御装置 |
| JP2009116515A (ja) * | 2007-11-05 | 2009-05-28 | Fuji Electric Systems Co Ltd | Ｐｉｄパラメータ調節支援装置 |
| JP2012168843A (ja) * | 2011-02-16 | 2012-09-06 | Azbil Corp | 制御装置および制御方法 |
| JP2013087790A (ja) * | 2011-10-13 | 2013-05-13 | Fuji Electric Co Ltd | 誘導性負荷制御装置 |
| CN104133371A (zh) * | 2014-07-09 | 2014-11-05 | 河海大学常州校区 | 一种室温控制对象的自抗扰比例积分控制算法 |
| WO2019167374A1 (ja) * | 2018-02-28 | 2019-09-06 | ソニー株式会社 | 情報処理装置および情報処理方法 |
| US10533763B2 (en) | 2014-09-01 | 2020-01-14 | Mitsubishi Electric Corporation | Controller of air-conditioning system and method for controlling air-conditioning system |
| KR102560106B1 (ko) * | 2022-02-16 | 2023-07-26 | 경희대학교 산학협력단 | 하모니 서치 알고리즘 기반 시간 지연 보상 환기 제어방법 및 시스템 |
-
2000
- 2000-06-09 JP JP2000173839A patent/JP2001350503A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008097390A (ja) * | 2006-10-13 | 2008-04-24 | Fuji Electric Systems Co Ltd | むだ時間を含む制御対象に適用するモデル追従制御装置 |
| JP2009116515A (ja) * | 2007-11-05 | 2009-05-28 | Fuji Electric Systems Co Ltd | Ｐｉｄパラメータ調節支援装置 |
| JP2012168843A (ja) * | 2011-02-16 | 2012-09-06 | Azbil Corp | 制御装置および制御方法 |
| US8923991B2 (en) | 2011-02-16 | 2014-12-30 | Azbil Corporation | Controlling device with operating quantity value switching portion and controlling method using the same |
| TWI468882B (zh) * | 2011-02-16 | 2015-01-11 | Azbil Corp | Control device and control method |
| JP2013087790A (ja) * | 2011-10-13 | 2013-05-13 | Fuji Electric Co Ltd | 誘導性負荷制御装置 |
| CN104133371A (zh) * | 2014-07-09 | 2014-11-05 | 河海大学常州校区 | 一种室温控制对象的自抗扰比例积分控制算法 |
| US10533763B2 (en) | 2014-09-01 | 2020-01-14 | Mitsubishi Electric Corporation | Controller of air-conditioning system and method for controlling air-conditioning system |
| WO2019167374A1 (ja) * | 2018-02-28 | 2019-09-06 | ソニー株式会社 | 情報処理装置および情報処理方法 |
| US11392092B2 (en) | 2018-02-28 | 2022-07-19 | Sony Corporation | Information processing device and information processing method |
| KR102560106B1 (ko) * | 2022-02-16 | 2023-07-26 | 경희대학교 산학협력단 | 하모니 서치 알고리즘 기반 시간 지연 보상 환기 제어방법 및 시스템 |
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