JP2001336926A - 円盤中心の偏差検出方法 - Google Patents

円盤中心の偏差検出方法

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JP2001336926A JP2000155105A JP2000155105A JP2001336926A JP 2001336926 A JP2001336926 A JP 2001336926A JP 2000155105 A JP2000155105 A JP 2000155105A JP 2000155105 A JP2000155105 A JP 2000155105A JP 2001336926 A JP2001336926 A JP 2001336926A
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turntable
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俊裕 小林
Masaaki Mizuno
正明 水野
Chuichi Nagai
忠一 長井
Shiroji Kondo
城二 近藤
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 情報記録媒体のディスク等の円盤と、ターン
テーブル等の回転支盤との中心のズレの長さと方向を高
精度に検出する。 【解決手段】 ディスク2をターンテーブル1に載置し
て固定した後、ターンテーブル1を回転させる。ディス
ク2に同心の標線3を設けると共に、ターンテーブル1
に基点10を設定しておく。ディスク2上方の光センサ
4を径方向ラインLに沿って移動させ、標線3を検出す
る。また、基点10がラインL上を通過する時点を光セ
ンサ11で測定する。これらの測定結果から、芯ズレ幅
dと、ズレ位相αを求める。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はターンテーブル等の
支盤上に配置された情報記録媒体等の円盤の中心と、該
支盤の回転軸心との偏差(位置ズレの距離及び方向)を
検出する方法に関するものである。詳しくは、情報記録
媒体の製作時のように極微小な偏差を高精度にて検出す
る方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】情報記録媒体を製作する場合、円盤(デ
ィスク)をターンテーブル上に載置し、真空チャック等
によって円盤をターンテーブルに固定した後、ターンテ
ーブルを回転させ、円盤上に成膜したり、記録用のトラ
ックやピットを形成したり、データを記録することが行
われている。
【0003】近年、ディスクをターンテーブルにセット
して回転させ、同心状又はらせん状に溝やピットを形成
する処理を行った後、該ディスクを取り外し、再度又は
別のターンテーブルにセットし、別の同心状又はらせん
状の溝やピットを形成する処理を行うことが検討されて
いる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】このような場合、第1
回目の処理によって形成された溝やピットと、第2回目
の処理によって形成された溝やピットとが高精度にて同
心状となる必要がある。
【0005】本発明は、このような必要性に鑑みてなさ
れたものであり、支盤の回転軸心と円盤の中心との微小
な偏差(距離及び方向)を高精度にて検出することがで
きる方法を提供するものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明の円盤中心の偏差
検出方法は、軸心回りに回転する支盤上に配置された円
盤の中心と該支盤の回転軸心との偏差を検出する方法で
あって、該円盤の盤面に該円盤の中心と同心に設けられ
た同心円よりなる標線と、該円盤の盤面に沿って、支盤
の回転軸心に対し径方向に移動可能な、該標線を検知す
るセンサと、該支盤の非中心位置に設けられた基点が予
め設定された回転位相になったときに信号を発生する位
相信号発生手段とを用い、該支盤を一定回転速度で回転
させながら該センサを該径方向に移動させ、該センサが
該標線を検知する位置範囲を測定することにより前記回
転軸心と円盤中心との距離偏差を検出し、該センサが標
線を検知する時点と前記位相信号発生手段が信号を発生
する時点とを測定し、これらに基づいて回転軸心回りの
前記基点と円盤中心との回転方向の角度偏差を検出する
こと特徴とするものである。
【0007】かかる本発明によると、該センサが標線を
検知する位置範囲(径方向距離)の1/2の値が円盤中
心と支盤回転軸心との位置ズレ距離になる。
【0008】また、上記の位相信号の発生時点とセンサ
の標線検知時点とのズレから、円盤中心の支盤回転軸心
回りの位相が基点を基準として求まる。
【0009】
【発明の実施の形態】以下、図1〜8を参照して本発明
について更に詳しく説明する。
【0010】図1の如く、ターンテーブル1上に円盤形
ディスク2が載置され、真空チャック(図示略)により
固定されている。ターンテーブル1の回転軸心Cに対
し、ディスク2の中心C’が距離dだけ離れている。な
お、図5の通り、ターンテーブル1の外周面の下縁に基
点10が設けられ、この基点10を検知する光センサ1
1がテーブルベース12に設けられている。このテーブ
ルベース12は、マシンフレーム(図示略)に固定設置
されており、その中にはターンテーブル1の回転駆動機
構(図示略)が設置されている。図5では基点10が光
センサ11と対峙しており、このターンテーブル1の回
転位相を以下、基準位相と称する。
【0011】図1ではターンテーブル1がこの基準位相
にあり、この状態において、ディスク2の中心C’はタ
ーンテーブル1の回転軸心Cに対し左方(ターンテーブ
ル1を時計盤に見立てた場合に、回転軸心Cに対し9時
の方向)に位置している。
【0012】本実施の形態は、このディスク2の中心
C’とターンテーブル1の回転軸心Cとの距離dと、
C’の位相(基準位相にあるターンテーブルの回転軸心
Cに対して何時の方向に位置するか)を高精度にて検出
するものである。
【0013】このディスク2には、図2の通り、C’を
中心とする円よりなる標線3が予め設けられている。図
2の点P,Pは、C,C’を結ぶ直線が標線3と交
わる点であり、PはCに近い点であり、PはP
りもCから遠い点である。P ,C間の距離をr
し、P,C間の距離をrとする。
【0014】ターンテーブル1が回転すると、ディスク
2もターンテーブル1の回転軸心C回りに回転する。そ
うすると、図3のドットを付したリング状の領域20が
標線3の回転領域となる。このリング状の領域の内周は
の軌跡Qであり、外周はPの軌跡Qである。
【0015】この実施の形態にあっては、図5,6,7
のように、ターンテーブル1の回転軸心Cと光センサ1
1とを結ぶ径方向の直線(以下、ラインという。)L上
を移動するように、標線3の検知用の光センサ4が設け
られている。この光センサ4は、ディスク2の上方に配
置されており、図7(a)の通り、ディスク2の外周よ
りも外方から回転軸心Cに向って移動しながら標線3を
検知する。
【0016】この光センサ4は、図4の通り、LED4
aの光をハーフミラー4cでディスク2の盤面に向けて
垂直に投射し、反射光の光量を受光素子4bで検出する
ように構成したものである。標線3の反射率は、ディス
ク2の他の盤面よりも低いので、標線3を光センサ4に
よって検出することができる。
【0017】この光センサ4がラインLに沿って外周側
から内周側に向って移動していく場合、図7(b)のよ
うに、光センサ4が領域20にさしかかると光センサ4
が標線3を横切る際にディスク2からの反射光量が低下
する。図7(c)の通り、光センサ4が領域20の外周
にさしかかった時点(図7(d),図8)と、光
センサ4が領域20の内周Qを脱する時点(図7
(e),図8)でそれぞれピークが現れる。
【0018】ところで、QはC〜P間の長さr
半径とする円であり、QはC〜P 間の長さrを半
径とする円であり、図2の通りr+d=r−dであ
るから、d=(r−r)/2である。
【0019】図7(a)の通り、領域20の幅は(r
−r)であるから、図7(c)の2個のピーク間距離
は(r−r)である。従って、この(r−r
を2で除すことにより、C〜C’間の距離偏差dが求め
られる。
【0020】一方、図1の通り、基点10がラインL上
に存在する時点において、ディスク2の中心C’は角度
α(度)だけラインLから回転方向に位相がずれてい
る。図7(d)の通り、ピークKが現れるのは、C’
がラインL上にきたときであり、これは基点10がライ
ンLから角度αだけ離れた時点である。従って、図8の
通り、基点10がラインL上にある時点Tからピーク
が現れるまでにターンテーブル1が回転した角度が
αということになる。即ち、基点10がラインLを通過
することにより、該ラインL上の光センサ11が信号を
発生する時点と、光センサ4がピークKを検出した時
点と、ターンテーブル1の回転速度とから角度αが特定
されることになる。
【0021】Kを検出する代りに、Kを検出しても
よく、この場合、(α+180°)の値が求まる。
【0022】なお、光センサ4がラインL上をQから
に向って移動している途中においては、図6の標線
3’,3’’のようにターンテーブル1が1回転する間
に標線3は光センサ4の下方を2回横切ることになり、
図8の,,のようにターンテーブルの1回転(3
60°)の間に2個のピークが現れる。この2個のピー
クの中間位置がピークK又はKの位置になるので、
直接ピークK又はK を求める代りに、図8の,
又はの2個のピークの中間値からK又はK の位置
を求めてもよく、この方がK又はKの位置(角度α
又はα+180°)を高精度に検知することができる。
【0023】なお、上記実施の形態では光センサ11を
ラインL上に位置させているが、光センサ11はライン
Lから離隔していてもよい。この場合、ラインLと光セ
ンサ11との位相差(光センサ11と中心Cを結ぶ線分
と、ラインLとの交差角度)を正確に求めておく。
【0024】本発明方法は、光ディスクや光磁気ディス
クなどの合成樹脂製基板を用いた情報記録媒体、該基板
を成形するための原盤及びスタンパの製造方法と、この
スタンパを用いた樹脂製情報記録媒体基板の製造方法と
に応用することができる。
【0025】光ディスクは再生専用と記録可能な記録可
能メディアに大別できる。記録可能メディアは更に、一
度だけ記録可能なメディア(ライトワンス)と書き換え
可能なメディアとに分類できる。現在広く普及している
CDやDVDにも各々再生専用と記録可能メディアが存
在する。再生専用CDとしては、いわゆるCDファミリ
ーである、CDDA、CD−ROM、CD−ROMX
A、CDV、CD−I、CD−MIDIなどが挙げられ
る。CD系の記録可能メディアであり近年パソコンの外
部記憶メモリーとして急激に普及し始めたCD−R(C
D−Recordable)はライトワンスメディアで
あり、CD−RW(CD−Rewritable)は1
000回程度の書き換えが可能なメディアである。DV
Dでは、再生専用メディアとしてはDVD−ROMが、
ライトワンスメディアとしてはDVD−Rが、書き換え
可能メディアとしてはDVD−RWやDVD−RAMな
どが製品化されている。
【0026】このディスクを製造するには、凹凸ピット
列やグルーブが形成された原盤を製造し、この原盤から
スタンパを製造する。そして、このスタンパから、通常
は射出成形により凹凸を転写した透光性ポリカーボネー
ト製等の基板を製造し、さらにこのピットやグルーブを
形成した面に各種ディスクに応じた層を形成する。例え
ば、CD−ROMディスクでは基板にスパッタリング等
の方法で貴金属やAl合金等の金属膜からなる反射層を
形成し、さらにこの上に光硬化型樹脂からなる保護層を
形成する。
【0027】また、CD−RWディスクやDVD−RW
ディスクでは、通常、第一保護層(誘電体層)/記録層
/第二保護層(誘電体層)/反射層をこの順にスパッタ
リング法等により基板上に形成し、さらにこの上に光硬
化型樹脂からなる保護層を形成し、必要に応じて他の基
板と貼合せる。
【0028】ところで、近年、1つの基板上に比較的浅
い凹部と比較的深い凹部との双方を形成することが検討
されている。
【0029】本出願人は、このような浅い凹部の、底面
が平坦である原盤の製造方法と、この原盤を用いたスタ
ンパの製造方法と、このスタンパを用いた情報記録媒体
の製造方法を提供する方法を提案している。
【0030】この原盤の製造方法は、原盤本体の盤面に
フォトレジストを塗布し、パターンに従った露光を施
し、次いで現像することにより、凹部を有したフォトレ
ジスト硬化層を形成するようにした情報記録媒体製造用
原盤を製造する方法において、該フォトレジスト硬化層
には、深い凹部と、該フォトレジスト硬化層の厚さ方向
の途中にまで達する浅い凹部が形成されている原盤を製
造する方法であって、該原盤本体上にポジ型フォトレジ
ストを塗布して第1フォトレジスト層を形成する工程
と、該第1フォトレジスト層を前記深い凹部のパターン
に従って露光する工程と、該第1フォトレジスト層を難
溶化処理する工程と、該第1フォトレジスト層の上にポ
ジ型フォトレジストを塗布して第2フォトレジスト層を
形成する工程と、該前記深い凹部及び浅い凹部のパター
ンに従って第2フォトレジスト層を露光する工程と、該
第2フォトレジスト層を硬化処理する工程と、該第1及
び第2フォトレジスト層を現像する工程と、をこの順で
実行することを特徴とするものである。
【0031】なお、第1フォトレジスト層の難溶化処理
とは、第2フォトレジスト層塗布時に、レジスト溶媒に
第1フォトレジスト層が溶けないよう硬化させる処理を
言う。
【0032】また、第1の領域とは、例えば図4に示す
情報記録媒体のピットエリア11のように、深い凹部を
形成すべき領域であり、また、第2の領域とは、グルー
ブエリア12,13のように浅い凹部を形成すべき領域
である。
【0033】本発明(請求項2)においては、第1フォ
トレジスト層の露光後、第1フォトレジスト層を現像し
た後、難溶化処理を行っても良い。
【0034】この原盤の製造方法にあっては、深い凹部
は第1のフォトレジスト層及び第2のフォトレジスト層
の同一箇所をそれぞれ露光することにより形成される。
この深い凹部は、原盤本体に達し、その底面は平坦であ
るのが好ましい。
【0035】浅い凹部については、第2フォトレジスト
層のみをエッチングして形成されたものであるが、上記
請求項1の方法と同様に第1フォトレジスト層は可溶化
しないので、十分な光量にて露光し、平坦な底面を形成
することができる。
【0036】図9は、この方法を示す模式的な厚み方向
の断面図である。
【0037】ガラス盤100の上面に第1フォトレジス
ト層としての下層21を塗布し()、次いでこれをタ
ーンテーブル(図示略)上に配置、固定する。そして、
ターンテーブルを回転させながら下層21に同心円状又
はらせん状に露光を施す()。図9のの符号50は
この第1回目の露光領域を示す。
【0038】次いで、ガラス盤100をターンテーブル
から取り外し、図9の通り、この下層21を現像する
ことにより、凹部51を形成する。次いで、この下層2
1を加熱硬化させるようにベークする()。
【0039】次いで、図9の通り、この下層21の上
に第2フォトレジスト層としての上層22を塗布する。
次に、このガラス盤100を再度ターンテーブルに配
置、固定する。そして、図9の通り、この上層22に
露光を施す。この場合、前記凹部51の真上部分と、そ
れ以外の領域とに、パターンに従って露光を施す。符号
52はこの露光領域を示す。次に、ガラス盤100をタ
ーンテーブルから取り外し、この上層22を現像する。
これにより、前記凹部51の部分においては、深い凹部
61が形成され、その他の領域にあっては露光52が施
された部分に浅い凹部62が形成される。
【0040】然る後、図9の通り、この上層22を加
熱硬化させるようにベークしてフォトレジスト硬化層2
00とする。これにより、深い凹部61と浅い凹部62
とを備えた原盤が製造される。
【0041】この原盤にあっては、深い凹部61は、ガ
ラス盤1に達しているものであり、その底面は平坦であ
り、断面形状は略矩形形状である。浅い凹部62の底面
は、加熱硬化された下層21の上面に沿うものであり、
やはり平坦であり、この浅い凹部62も略矩形形状の断
面形状のものとなる。
【0042】このようにして得られた原盤は、その後、
導体化処理が施された後、メッキされる。このメッキ層
を分離した後所定大きさに打ち抜くことによりスタンパ
が得られる。
【0043】このスタンパを射出成形装置の金型にセッ
トし、射出成形することにより、合成樹脂製の基板が得
られ、更に記録層、反射層を設けることで情報記録媒体
(ディスク)が得られる。
【0044】上記の図9,のようにガラス盤100
をターンテーブルにセットするに際し、ガラス盤100
をターンテーブルに正確に同軸状にセットする必要があ
るが、本発明によると、ガラス盤100の芯ズレを高精
度に検出することができるので、ガラス盤100とター
ンテーブルとを高精度にて同軸状とすることができる。
【0045】
【発明の効果】以上の通り、本発明によると、高精度に
て円盤の中心の回転支盤の回転軸心からのズレ幅及びズ
レ方向を検出することができ、情報記録媒体などの偏心
の検出や、回転軸心合わせなどを高精度にて行うことが
できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施の形態を説明する平面図である。
【図2】実施の形態を説明する平面図である。
【図3】実施の形態を説明する平面図である。
【図4】光センサ4の説明図である。
【図5】ターンテーブルの斜視図である。
【図6】実施の形態を説明する平面図である。
【図7】実施の形態の説明図である。
【図8】実施の形態を説明するオシログラフの模式図で
ある。
【図9】本発明方法を応用した情報記録媒体製造用原盤
の製造例を示す断面図である。
【符号の説明】
1 ターンテーブル 2 ディスク 3 標線 4 光センサ 10 基点 11 光センサ 20 標線の回転領域
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 長井 忠一 神奈川県横浜市青葉区鴨志田町1000番地 三菱化学株式会社横浜総合研究所内 (72)発明者 近藤 城二 神奈川県横浜市青葉区鴨志田町1000番地 三菱化学株式会社横浜総合研究所内 Fターム(参考) 2F065 AA07 AA11 AA32 AA39 BB03 BB27 CC03 DD03 FF41 FF66 GG07 JJ01 JJ18 KK01 LL04 LL46 MM04 MM07 QQ13 QQ29 TT07 UU09 2F069 AA21 AA74 AA83 BB17 BB40 CC07 DD19 GG04 GG07 GG41 GG45 GG58 GG63 HH30 JJ06 JJ17 JJ25 MM03 NN05 NN12 PP02 PP04 5D121 HH05

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 軸心回りに回転する支盤上に配置された
    円盤の中心と該支盤の回転軸心との偏差を検出する方法
    であって、 該円盤の盤面に該円盤の中心と同心に設けられた同心円
    よりなる標線と、 該円盤の盤面に沿って支盤の回転軸心に対し径方向に移
    動可能な、該標線を検知するセンサと、 該支盤の非中心位置に設けられた基点が予め設定された
    回転位相になったときに信号を発生する位相信号発生手
    段とを用い、 該支盤を一定回転速度で回転させながら該センサを該径
    方向に移動させ、 該センサが該標線を検知する位置範囲を測定することに
    より前記回転軸心と円盤中心との距離偏差を検出し、 該センサが標線を検知する時点と前記位相信号発生手段
    が信号を発生する時点とを測定し、これらに基づいて回
    転軸心回りの前記基点と円盤中心との回転方向の角度偏
    差を検出すること特徴とする円盤中心の偏差検出方法。
  2. 【請求項2】 請求項1において、該円盤は情報記録媒
    体であることを特徴とする円盤中心の偏差検出方法。
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