JP2001332601A - 基板処理装置 - Google Patents
基板処理装置Info
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
きるトラック搬送タイプの基板処理装置を提供するこ
と、および処理の途中で特定の処理ユニットへ基板を搬
送することが可能なトラック搬送タイプの基板処理装置
を提供すること。 【解決手段】 基板Gに所定の処理を施す複数の処理ユ
ニットが処理の順に配列され、これら複数の処理ユニッ
トに基板Gを順次搬入して、基板Gに対して一連の処理
を行う処理ライン2aを具備する基板処理装置100
は、基板Gを処理ライン2aから取り出す取り出し機構
60を具備する。
Description
ス基板等の基板に対してレジスト塗布、露光および現像
処理のような複数の処理を施す基板処理装置に関する。
は、基板であるLCDガラス基板に、所定の膜を成膜し
た後、フォトレジスト液を塗布してレジスト膜を形成
し、回路パターンに対応してレジスト膜を露光し、これ
を現像処理するという、いわゆるフォトリソグラフィー
技術により回路パターンを形成する。
理体であるLCD基板は、アドヒージョン(疎水化)処
理→レジスト塗布→プリベーク→露光→現像→ポストベ
ークという一連の処理を経てレジスト層に所定の回路パ
ターンを形成する。
各処理を行う処理ユニットを処理の順に配置し、これら
複数の処理ユニットに基板を順次搬入して処理を行う処
理ラインを有するいわゆるトラック搬送タイプの処理装
置が知られている。
は、所定の一連の処理を行うものであるから、一度処理
ラインに基板が搬入されると、一連の処理が終了するま
で自動的に基板が流される。
処理装置において、ある処理ユニットにおいてエラーが
発生した場合や予定した処理ができなかった場合、およ
び途中の処理までで検査を行いたい場合等には基板を処
理ラインから取り出す必要がある。また、特定の処理ユ
ニットでの処理を複数回繰り返したい場合や特定の処理
ユニットでの処理が不要な場合もある。
装置は、上述したように、基板が処理ラインに搬入され
ると一連の処理が終了するまで自動的に基板が流される
ため、これらの場合に対応することが困難である。
であって、一連の処理の途中で基板を取り出すことがで
きるトラック搬送タイプの基板処理装置を提供すること
を目的とする。また、処理の途中で特定の処理ユニット
へ基板を搬送することが可能なトラック搬送タイプの基
板処理装置を提供することを目的とする。
に、本発明は、基板に所定の処理を施す複数の処理ユニ
ットが処理の順に配列され、これら複数の処理ユニット
に基板を順次搬入して、基板に対して一連の処理を行う
処理ラインを具備する基板処理装置であって、基板を前
記処理ラインから取り出す取り出し機構を具備すること
を特徴とする基板処理装置を提供する。
複数の処理ユニットが処理の順に配列され、これら複数
の処理ユニットに基板を順次搬入して、基板に対して一
連の処理を行う処理ラインを具備する基板処理装置であ
って、基板を前記処理ラインから取り出す取り出し機構
と、前記処理ラインから取り出された基板を受け取ると
ともに、前記処理ラインに沿って基板を搬送する搬送機
構と、前記搬送機構により搬送された基板を前記処理ラ
インに取り入れる取り入れ機構とを具備することを特徴
とする基板処理装置を提供する。
す複数の処理ユニットが処理の順に配列され、これら複
数の処理ユニットに基板を順次搬入して、基板に対して
一連の処理を行う処理ラインを具備する基板処理装置で
あって、処理ラインにある基板を処理ラインの任意の位
置に搬送する搬送機構を具備することを特徴とする基板
処理装置を提供する。
板処理装置において、基板を前記処理ラインから取り出
す取り出し機構を設けたので、処理の途中で基板を処理
ラインから取り出すことができ、ある処理ユニットにお
いてエラーが発生した場合や予定した処理ができなかっ
た場合、および途中の処理までで検査を行いたい場合等
に対応が可能である。
において、基板を処理ラインから取り出す取り出し機構
と、処理ライン取り出された基板を受け取るとともに、
処理ラインに沿って基板を搬送する搬送機構と、搬送機
構により搬送された基板を前記処理ラインに取り入れる
取り入れ機構とを設けたので、処理の途中で基板を処理
ラインから取り出し特定の処理ユニットへ搬送すること
が可能となる。
置において、処理ラインにある基板を処理ラインの任意
の位置に搬送する搬送機構を設けたので、処理の途中で
基板を特定の処理ユニットへ搬送することが可能とな
る。
明の実施の形態について詳細に説明する。まず、本発明
が適用されるLCD基板のレジスト塗布・現像処理装置
の基本構造について説明する。図1はそのようなLCD
基板のレジスト塗布・現像処理装置の基本構造を概略的
に示す平面図である。
は、複数の基板Gを収容するカセットCを載置し、基板
Gを搬入するためのローダ部1と、基板Gにレジスト塗
布および現像を含む一連の処理を施すための複数の処理
ユニットを備えた処理部2と、露光装置40との間で基
板Gの受け渡しを行うためのインターフェイス部3と、
カセットCを載置し、処理後の基板Gを搬出するための
アンローダ部4とを備えている。
LCD基板Gの搬送を行うための搬送機構10を備えて
いる。搬送機構10は搬送路11上を移動可能な搬送ア
ーム12を備え、この搬送アーム12によりカセットC
から処理部2へ基板Gが搬送される。
イス部3に至る第1の処理ライン2aと、インターフェ
イス部3からアンローダ部4に至る第2の処理ライン2
bとを有しており、処理の順に各処理ユニットが配列さ
れている。
ら紫外線照射ユニット(UV)21、冷却処理ユニット
(COL)22、スクラバ洗浄ユニット(SCR)2
3、アドヒージョン処理ユニット(AD)24、冷却処
理ユニット(COL)25、レジスト塗布処理セクショ
ン(CT)26aおよび周縁レジスト除去セクション
(ER)26bが一体的に設けられたレジスト処理ユニ
ット26、加熱処理ユニット(HP)27、冷却処理ユ
ニット(COL)28が順に配列されており、この冷却
処理ユニット(COL)28からインターフェイス部3
へ基板Gが搬送されるようになっている。隣接する処理
ユニットの間、および冷却処理ユニット(COL)28
とインターフェイス部3との間には、それぞれ搬送機構
Tが設けられており、これら搬送機構Tによって配列さ
れた処理ユニットに順次基板が搬送される。
ス部3側から現像処理ユニット(DEV)29、加熱処
理ユニット(HP)30、冷却処理ユニット(COL)
31が順に配列されており、この冷却処理ユニット(C
OL)31からアンローダ部4へ基板Gが搬送されるよ
うになっている。インターフェイス部3と現像処理ユニ
ット(DEV)29との間、および隣接する処理ユニッ
トの間には、それぞれ搬送機構Tが設けられており、こ
れら搬送機構Tによって配列された処理ユニットに順次
基板が搬送される。
入された基板Gを一時的に保持するエクステンション3
2と、処理部2へ搬出する基板Gを一時的に保持するエ
クステンション33と、これらエクステンション32お
よび33の外側に設けられた、バッファーカセットを配
置する2つのバッファーステージ34と、これらと露光
装置40との間の基板Gの搬入出を行う搬送機構35と
を備えている。搬送機構35はエクステンション32、
33およびバッファステージ34の配列方向に沿って設
けられた搬送路36上を移動可能な搬送アーム37を備
え、この搬送アーム37により処理部2と露光装置40
との間で基板Gの搬送が行われる。
CへLCD基板Gの搬送を行うための搬送機構50を備
えている。搬送機構50は搬送路51上を移動可能な搬
送アーム52を備え、この搬送アーム52により処理部
2からカセットCへ基板Gが搬送される。
100では、ローダ部1から取り出された基板Gは、処
理部2に搬送され、処理部2に処理の順に配列された各
処理ユニットにおいて、紫外線照射処理、スクラバ洗浄
処理、アドヒージョン処理、レジスト塗布処理、および
プリベーク処理等が施された後、インターフェイス部3
を介して露光装置40に基板Gを搬送して露光処理を行
い、その後、インターフェイス部3を介して再び処理部
2に搬入され、現像処理、ポストベーク処理等が施され
て一連の処理が終了した後、アンローダ部4のカセット
Cに収容される。
明する。第1の実施形態では、基板Gを処理ラインから
取り出す取り出し機構を有するが、図2に示すように、
取り出し機構60は、所定の処理ユニット、図2ではア
ドヒージョン処理ユニット(AD)24に隣接して設け
られた基板保持機構61と、処理ライン2aに対してア
ドヒージョン処理ユニット(AD)24および基板保持
機構61を選択的に切り替える切り替え機構として、例
えばシリンダ機構62を有している。基板保持機構61
には基板Gを収納する収納容器であるカセット63が搭
載されている。
塗布・現像装置において、通常の処理を行う際には、図
2の(a)のようにアドヒージョン処理ユニット(A
D)24を処理ライン2aに位置させて搬送機構Tによ
り基板Gを搬入して基板Gに対して順次処理を施すが、
基板Gを処理ライン2aから取り出す際には、まず図2
の(b)に示すように、シリンダ機構62のピストンを
突出させることにより基板保持機構61を処理ライン2
aに位置させ、そこに搭載されたカセット63にスクラ
バ洗浄ユニット23の処理が終了した基板Gを搬送機構
Tにより順次収納する。カセット63に基板Gが所定枚
数収納された時点で、シリンダ機構62のピストンを退
入させて、基板保持機構61を処理ライン2aから取り
出して切り離すことにより基板Gが収納されたカセット
63を処理ライン2aから取り出すことができる。取り
出されたカセット63は、スクラバ洗浄を終了した基板
の検査等を行うため装置外の所定の場所へ搬送される。
搭載する代わりに基板Gを1枚載置するステージを設け
て1枚ずつ取り出すようにしてもよい。これにより、例
えば、処理ユニットにおいてエラーが発生した場合や予
定した処理ができなかった場合に、その対応する基板の
みを処理ラインから取り出すことが可能となる。
明する。第2の実施形態では、基板Gを処理ラインから
取り出す取り出し機構と、処理ラインから取り出された
基板Gを受け取るとともに、処理ラインに沿って基板G
を搬送する搬送機構と、搬送機構により搬送された基板
を前記処理ラインに取り入れる取り入れ機構とを有す
る。具体的には、図3の(a)に示すように、搬送機構
として移動ステージ75を有しており、取り出し機構と
しては例えばレジスト処理ユニット26から加熱処理ユ
ニット(HP)27へ基板Gを搬送する搬送機構Tとし
て機能する多関節アーム72が用いられ、取り入れ機構
としては例えば冷却処理ユニット(COL)25からレ
ジスト処理ユニット26へ基板を搬送する搬送機構Tと
して機能する多関節アーム71が用いられる。移動ステ
ージ75は、基板Gの搬入出を行うための複数のリフト
ピン76が設けられており、多関節アーム71,72と
の間の基板Gの受け渡しの際にこれらリフトピンが上昇
し基板Gを支持するようになっている。また、移動ステ
ージ75は、ガイドレール77にガイドされて図示しな
い駆動機構により処理ライン2aに沿って移動可能とな
っている。
塗布・現像装置において、通常の処理を行う際には、移
動ステージ75を用いることなく、処理の順に配列され
た処理ユニットに対し順次基板を搬送して一連の処理を
行うが、例えば、複数回のレジスト塗布を行う場合に
は、図3の(b)に示すように、取り出し機構として機
能する多関節アーム72により基板Gをレジスト処理ユ
ニット26から受け取り、処理ライン2aに沿って移動
可能な移動ステージ75を多関節アーム72に対応する
位置に移動させて、多関節アーム72の基板Gを移動ス
テージ75のリフトピン76上に載置する。その後、図
3の(c)に示すように移動ステージ75を多関節アー
ム71に対応する位置に移動させて、移動ステージ75
上の基板Gを取り入れ機構として機能する多関節アーム
71が受け取り、基板Gを再度レジスト処理ユニット2
6に搬入する。
中で基板Gを処理ラインから取り出し特定の処理ユニッ
トへ搬送することが可能となる。したがって、単に処理
ユニットの配列順に処理をするだけではなく、処理の自
由度を高めることができる。例えば、上述のように特定
の処理ユニットの処理を繰り返すばかりではなく、特定
の処理ユニットをスキップして他の処理ユニットに基板
を搬入することもできるし、途中まで処理が終了した時
点で基板Gを最初に戻したり、アンローダ部4に搬送し
たりすることも可能である。
して、所定枚数の基板Gをカセットに収納してから移動
ステージ75を所定の処理ユニットに対応する位置に移
動させるようにしてもよい。カセットを搭載する代わり
に基板Gを1枚載置するステージを設けて1枚ずつ取り
出すようにしてもよい。
よび取り入れ機構として機能する搬送手段、例えば多関
節アーム78を移動ステージ75に設けてもよい。この
場合には、図4の(a)に示すようにレジスト処理ユニ
ット26と加熱処理ユニット(HP)27との間の搬送
機構Tに保持された基板Gを取り出し機構として機能す
る多関節アーム78で受け取って処理ライン2aから取
り出し、図4の(b)に示すように、多関節アーム78
を折り畳んで多関節アーム78に基板Gを載せた状態の
まま移動ステージ75を移動させる。そして、図4の
(c)に示すように、多関節アーム78から冷却処理ユ
ニット(COL)25とレジスト処理ユニット26との
間の搬送装置Tに基板Gを渡し、基板Gを再度レジスト
処理ユニット26に搬入する。
送する搬送機構として機能する移動ステージ75に取り
出し機構および取り入れ機構として機能する搬送手段で
ある多関節アーム78を設けた場合には、図5に示すよ
うに、処理ユニット(図では加熱処理ユニット(HP)
27)の移動ステージ75側の面にも基板搬入出のため
の開口79を形成することにより、処理ユニット間ばか
りではなく、処理ユニットから基板Gを取り出したり取
り入れたりすることが可能である。
明する。第3の実施形態では、処理ラインにある基板G
を処理ラインの任意の位置に搬送する搬送機構を有す
る。具体的には、図6の(a),(b)に示すように、
処理ユニット間の搬送機構Tとして搬送ベルト80を用
い、スピナ系ユニット、例えば図示するようにスクラバ
洗浄ユニット(SCR)23では、スピンチャック81
を上昇させることによりベルトから基板Gを受け取り、
オーブン系ユニット、例えば図示するようにアドヒージ
ョン処理ユニット(AD)24では、加熱プレート82
に突没可能に設けられた複数のリフトピン83を上昇さ
せた状態で基板Gを受け取る。また、各処理ユニットに
は、処理ライン2aに沿って延びるガイドレール85が
貫通し、このガイドレール85を基板Gを把持して搬送
する搬送機構としての把持アーム84が移動するように
構成する。こうすることにより、この把持アーム84に
より処理工程の途中の基板Gを任意の処理ユニットへ搬
送することが可能である。したがって、一度処理が終了
した処理ユニットに基板Gを戻したり、特定の処理ユニ
ットをスキップしたり、基板Gを最初に戻したり、所定
の処理まで終了した後、アンローダ部4に搬送したり、
種々の処理を行うことができる。また、搬送機構として
ベルトを回転させて基板Gを搬送する搬送ベルト80を
各処理ユニット間に設けたので、把持アーム84を用い
なくとも搬送ベルト80を逆回転することで基板Gを逆
方向に搬送することが可能である。
ず、種々の変形が可能である。例えば、上記実施形態で
は、特定の処理ユニット部分を例にとって説明したが、
これらに限定されるものではないことはいうまでもな
い。また、上記実施形態で示した全ての処理ユニットが
処理装置に搭載されている必要はなく、その一部であっ
てもよい。さらにまた、装置レイアウトも上記実施形態
に限るものではなく、処理に応じて適宜のレイアウトを
採用すればよい。さらにまた、処理に関しても上記のよ
うにレジスト塗布現像装置による処理に限るものではな
く、基板としてもLCD基板に限らずカラーフィルタ
ー、半導体ウエハ等の他の基板の処理の場合にも適用可
能であることはいうまでもない。
トラック搬送タイプの基板処理装置において、基板を前
記処理ラインから取り出す取り出し機構を設けたので、
処理の途中で基板を処理ラインから取り出すことがで
き、ある処理ユニットにおいてエラーが発生した場合や
予定した処理ができなかった場合、および途中の処理ま
でで検査を行いたい場合等に対応が可能である。
において、基板を処理ラインから取り出す取り出し機構
と、処理ライン取り出された基板を受け取るとともに、
処理ラインに沿って基板を搬送する搬送機構と、搬送機
構により搬送された基板を前記処理ラインに取り入れる
取り入れ機構とを設けたので、処理の途中で基板を処理
ラインから取り出し特定の処理ユニットへ搬送すること
が可能となる。
置において、処理ラインにある基板を処理ラインの任意
の位置に搬送する搬送機構を設けたので、処理の途中で
基板を特定の処理ユニットへ搬送することが可能とな
る。
・現像処理装置の基本構造を概略的に示す平面図。
装置の構成の要部および動作を説明するための模式図。
装置の構成の要部および動作を説明するための模式図。
装置の他の例の構成の要部および動作を説明するための
模式図。
装置のさらに他の例の構成の要部を説明するための模式
図。
装置の構成の要部を示す概略平面図および概略側面図。
し機構、取り入れ機構) 75……移動ステージ 77……ガイドレール 79……開口 80……搬送ベルト 81……スピンチャック 82……加熱プレート 83……リフトピン 84……把持アーム(搬送機構) 85……ガイドレール 100……レジスト塗布・現像処理装置 G……LCD基板 T……搬送機構
Claims (15)
- 【請求項1】 基板に所定の処理を施す複数の処理ユニ
ットが処理の順に配列され、これら複数の処理ユニット
に基板を順次搬入して、基板に対して一連の処理を行う
処理ラインを具備する基板処理装置であって、 基板を前記処理ラインから取り出す取り出し機構を具備
することを特徴とする基板処理装置。 - 【請求項2】 前記取り出し機構は、所定の処理ユニッ
トに隣接して設けられた基板保持機構と、前記処理ライ
ンに対して前記所定の処理ユニットおよび前記基板保持
機構を選択的に切り替える切り替え機構とを有し、前記
基板保持機構を処理ラインに位置させて基板を保持し、
前記切り替え手段により基板を保持した基板保持機構を
前記処理ラインから取り出すことを特徴とする請求項1
に記載の基板処理装置。 - 【請求項3】 前記基板保持機構は、複数の基板を収納
する基板収納容器を搭載可能であり、この基板収納容器
に処理ラインの基板を順次収納可能なことを特徴とする
請求項2に記載の基板処理装置。 - 【請求項4】 基板に所定の処理を施す複数の処理ユニ
ットが処理の順に配列され、これら複数の処理ユニット
に基板を順次搬入して、基板に対して一連の処理を行う
処理ラインを具備する基板処理装置であって、 基板を前記処理ラインから取り出す取り出し機構と、 前記処理ラインから取り出された基板を受け取るととも
に、前記処理ラインに沿って基板を搬送する搬送機構
と、 前記搬送機構により搬送された基板を前記処理ラインに
取り入れる取り入れ機構とを具備することを特徴とする
基板処理装置。 - 【請求項5】 前記取り出し機構および取り入れ機構
は、それぞれ隣接する前記処理ユニット間で基板の取り
出しおよび取り入れを行うことを特徴とする請求項4に
記載の基板処理装置。 - 【請求項6】 前記搬送機構は、基板を保持して前記処
理ラインに沿って移動可能な移動ステージを有すること
を特徴とする請求項4または請求項5に記載の基板処理
装置。 - 【請求項7】 前記取り出し機構および取り入れ機構
は、隣接する前記処理ユニット間に設けられていること
を特徴とする請求項5または請求項6に記載の基板処理
装置。 - 【請求項8】 前記取り出し機構および取り入れ機構
は、前記移動ステージに設けられていることを特徴とす
る請求項6に記載の基板処理装置。 - 【請求項9】 前記搬送機構は、基板を保持して前記処
理ラインに沿って移動可能な移動ステージを有し、前記
取り出し機構および取り入れ機構は前記移動ステージに
設けられていることを特徴とする請求項4に記載の基板
処理装置。 - 【請求項10】 前記取り出し機構および取り入れ機構
は、それぞれ前記処理ユニットおよび/または前記処理
ユニット間で基板の取り出しおよび取り入れを行うこと
を特徴とする請求項9に記載の基板処理装置。 - 【請求項11】 前記移動ステージは、複数の基板を収
納する基板収納容器を搭載可能であり、この基板収納容
器に処理ラインの基板を順次収納可能なことを特徴とす
る請求項6から請求項10のいずれか1項に記載の基板
処理装置。 - 【請求項12】 基板に所定の処理を施す複数の処理ユ
ニットが処理の順に配列され、これら複数の処理ユニッ
トに基板を順次搬入して、基板に対して一連の処理を行
う処理ラインを具備する基板処理装置であって、 処理ラインにある基板を処理ラインの任意の位置に搬送
する搬送機構を具備することを特徴とする基板処理装
置。 - 【請求項13】 前記搬送機構は、各処理ユニット間に
設けられたそれぞれ独立して駆動可能な搬送ベルトを有
することを特徴とする請求項12に記載の基板処理装
置。 - 【請求項14】 前記搬送ベルトは正逆回転可能なこと
を特徴とする請求項13に記載の基板処理装置。 - 【請求項15】 前記搬送機構は、前記処理ラインにあ
る基板を把持し、前記処理ラインに沿って移動可能なチ
ャックを有することを特徴とする請求項12に記載の基
板処理装置。
Priority Applications (3)
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---|---|---|---|
JP2000153322A JP4097878B2 (ja) | 2000-05-24 | 2000-05-24 | 基板処理装置 |
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KR1020010028397A KR100807178B1 (ko) | 2000-05-24 | 2001-05-23 | 기판처리유니트, 기판처리시스템 및 기판처리장치 |
Applications Claiming Priority (1)
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Publication Number | Publication Date |
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JP2001332601A true JP2001332601A (ja) | 2001-11-30 |
JP4097878B2 JP4097878B2 (ja) | 2008-06-11 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009223447A (ja) * | 2008-03-14 | 2009-10-01 | Hitachi Via Mechanics Ltd | 加工装置 |
JP2010245346A (ja) * | 2009-04-07 | 2010-10-28 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
-
2000
- 2000-05-24 JP JP2000153322A patent/JP4097878B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2009223447A (ja) * | 2008-03-14 | 2009-10-01 | Hitachi Via Mechanics Ltd | 加工装置 |
JP2010245346A (ja) * | 2009-04-07 | 2010-10-28 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
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