JP2001330957A5 - - Google Patents

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JP4141625B2 (ja) * 2000-08-09 2008-08-27 東京応化工業株式会社 ポジ型レジスト組成物およびそのレジスト層を設けた基材
JP4295937B2 (ja) * 2000-12-05 2009-07-15 株式会社Kri 活性成分及びそれを用いた感光性樹脂組成物
JP4262516B2 (ja) 2003-05-12 2009-05-13 富士フイルム株式会社 ポジ型レジスト組成物
JP4494061B2 (ja) * 2004-03-30 2010-06-30 東京応化工業株式会社 ポジ型レジスト組成物
JP4494060B2 (ja) * 2004-03-30 2010-06-30 東京応化工業株式会社 ポジ型レジスト組成物
JP5003894B2 (ja) * 2007-11-22 2012-08-15 日産化学工業株式会社 レジスト下層膜形成組成物及び半導体装置の製造方法
KR20160102538A (ko) * 2014-02-13 2016-08-30 후지필름 가부시키가이샤 감광성 수지 조성물, 경화막의 제조 방법, 경화막, 액정 표시 장치, 유기 el 표시 장치, 터치 패널 표시 장치
KR101848656B1 (ko) * 2015-04-30 2018-04-13 롬엔드하스전자재료코리아유한회사 오버코트 조성물 및 포토리소그래피 방법
JP2022104895A (ja) * 2020-12-30 2022-07-12 ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシー フォトレジストトップコート組成物及びパターン形成方法
CN114690552A (zh) * 2020-12-30 2022-07-01 罗门哈斯电子材料有限责任公司 光致抗蚀剂组合物及图案形成方法
KR102515739B1 (ko) * 2022-12-07 2023-03-30 타코마테크놀러지 주식회사 감광성 수지 및 이를 포함하는 포토레지스트 조성물

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