JP2001326448A - プリント基板上の回路パターンを形成する際のエッチングレジストパターンを形成する方法および装置 - Google Patents

プリント基板上の回路パターンを形成する際のエッチングレジストパターンを形成する方法および装置

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JP2001326448A JP2000142911A JP2000142911A JP2001326448A JP 2001326448 A JP2001326448 A JP 2001326448A JP 2000142911 A JP2000142911 A JP 2000142911A JP 2000142911 A JP2000142911 A JP 2000142911A JP 2001326448 A JP2001326448 A JP 2001326448A
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成樹 宝関
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 微細な回路パターン形成を可能にし、かつ高
生産性及び省工程による製造コスト低減を可能にする、
プリント基板上の回路パターンの形成方法を提供するこ
と。 【解決手段】 水溶性樹脂系レジスト11を撥水性処理
凹型オフセット印刷用原版4に塗布し、ドクターブレー
ド6を用いて凹部回路パターン12以外に付着した水溶
性樹脂系レジスト11を掻き取り、凹部回路パターン1
2を満たしている水溶性樹脂系レジスト11を転写ゴム
ローラ3の表面に転写パターン化し、転写ゴムローラ3
から銅張りプリント基板7の表面に転写パターン化され
た水溶性樹脂系レジスト11を転写することによって、
エッチングレジストパターンが形成される。その後、当
該エッチングレジストパターンを用いて、プリント基板
上の回路パターンを形成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、プリント基板上の
回路パターンを形成する際のエッチングレジストパター
ンを形成する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、プリント基板上の回路パターンを
形成する方法としては、シルク印刷工法やUVフォト型
工法等でエッチングレジストパターンを形成して、塩化
第二銅または塩化第2鉄等のエッチング液で、プリント
基板表面に張り付けられた銅箔又は銅メッキ処理された
プリント基板表面をエッチングすることにより実現され
る方法が知られている。
【0003】図1に、シルク印刷工法を用いてプリント
基板上の回路パターンを形成する方法を示す。本方法で
は、まず、銅張りプリント基板(または、銅メッキ処理
プリント基板)7上に、シルク印刷工法によりエッチン
グレジストパターンを形成する。次に、当該エッチング
レジストパターンに熱又はUV硬化処理を施した後、銅
張りプリント基板7に対して、当該熱又はUV硬化処理
を施されたエッチングレジストパターンによるエッチン
グ処理を施す。最後に、エッチングレジストパターンを
剥離することによって、プリント基板上の回路パターン
が形成される。この際、形成されたエッチングレジスト
パターンのエッジ部で、シルクの編み目が再現される為
に、形成されたプリント基板上の回路パターンのエッジ
部に、ギザ模様が発生することになる。
【0004】なお、本方法により形成可能なエッチング
レジストパターンの限界は、150μm程度である。ま
た、本発明では、1枚のプリント基板上の回路パターン
を形成するのに約6秒程度掛かる。
【0005】図2に、UVフォト型工法を用いてプリン
ト基板上の回路パターンを形成する方法を示す。本方法
では、まず、銅張りプリント基板(または、銅メッキ処
理プリント基板)7の表面にUV感光型エッチングレジ
ストを塗布する。次に、ネガ型又はポジ型フィルムを当
該UV感光型エッチングレジスト表面に張り付けた後、
当該ネガ型又はポジ型フィルムに対して光を照射し、U
V感光型エッチングレジストをUV反応させる(UV露
光)。その後、アルカリ現像を実施して、UV感光型エ
ッチングレジストによるエッチングレジストパターンを
形成する。そして、エッチング液により銅をエッチング
し、最後に、当該エッチングレジストパターンを剥離す
ることによって、プリント基板上の回路パターンが形成
される。
【0006】本方法によれば、シルク印刷工法を用いて
プリント基板上の回路パターンを形成する方法よりも微
細な線幅の回路パターンを形成でき、回路パターンのエ
ッジ部にギザ模様も発生しない。しかし、UV露光工程
及びアルカリ現像工程という工程が新たに付加されるこ
とにより回路パターンを形成するのに必要な工程が増
え、回路パターンを形成するのに必要な時間の短縮とい
う面では効果は得られない。
【0007】そこで、本発明は、シルク印刷工法及びU
Vフォト型工法を用いてプリント基板上の回路パターン
を形成する方法の両者の問題点を共に解決することを目
的とする。以下、両者の問題点を挙げ、それらの解決手
段について実施例を用いながら詳細に述べる。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】上記のシルク印刷工法
を用いてプリント基板上の回路パターンを形成する方法
には、以下の問題点がある。
【0009】第1に、本方法により形成可能なエッチン
グレジストパターンの限界が150μmの線幅程度であ
る為に、微細な線幅のエッチングレジストパターンを形
成することができず、それによって、微細な線幅の回路
パターンを形成できないという問題点が挙げられる。
【0010】第2に、本方法により形成されたエッチン
グレジストパターンのエッジ部で、シルクの編み目が再
現される為に、該エッチングレジストパターンを用いた
エッチングにより形成されたプリント基板上の回路パタ
ーンのエッジ部に、ギザ模様が発生するという問題点が
挙げられる。
【0011】第3に、本方法では、1枚のプリント基板
上の回路パターンを形成するのに必要な時間は、シルク
印刷工法によりエッチングレジストパターンを形成する
工程に起因し、約6秒程度掛かるという問題点が挙げら
れる。
【0012】また、上記のUVフォト型工法を用いてプ
リント基板上の回路パターンを形成する方法では、シル
ク印刷工法を用いてプリント基板上の回路パターンを形
成する方法における、微細な線幅の回路パターンの形
成、及び形成された回路パターンのエッジ部でのギザ模
様の発生という問題点については解決されるが、UV露
光工程及びアルカリ現像工程が付加される為に、回路パ
ターン形成工程が増えるという問題点と、生産速度とい
う面ではシルク印刷工法を用いてプリント基板上の回路
パターンを形成する方法に対して向上していないという
問題点とが挙げられる。
【0013】
【課題を解決するための手段】上記の問題点は、本発明
の以下の特徴的構成によって解決される。
【0014】シルク印刷工法を用いてプリント基板
(7)上の回路パターンを形成する方法における、微細
な線幅の回路パターンを形成することが出来ないという
問題点は、請求項1に記載の発明で、UVフォト型工法
等の微細な線幅のエッチングレジストパターンを形成可
能な工法を用いて表面の凹部回路パターン(12)が形
成された撥水性処理凹型オフセット印刷用原版(4)を
使用することによって解決される。この結果、50μm
の線幅程度まで微細な線幅の回路パターンの形成が可能
になる。
【0015】シルク印刷工法を用いてプリント基板
(7)上の回路パターンを形成する方法における、形成
されたプリント基板(7)上の回路パターンのエッジ部
にギザ模様が発生するという問題点は、請求項1に記載
の発明で、ギザ模様を有しない撥水処理されている前記
凹部回路パターン(12)内部における表面張力の影響
で前記凹部回路パターン(12)内部を隙間なく満たし
ているレジスト(11)がプリント基板(7)上に転写
され、シャープな形状のエッチングレジストパターンが
形成されることによって解決される。
【0016】シルク印刷工法及びUVフォト型工法を用
いてプリント基板(7)上の回路パターンを形成する方
法の双方における、1枚のプリント基板上の回路パター
ンを形成するのに必要な時間は、シルク印刷工法及びU
Vフォト型工法を用いてエッチングレジストパターンを
形成する代わりに、請求項1に記載の発明で、前記撥水
性処理凹型オフセット印刷用原版(4)に埋め込んだレ
ジスト(11)を転写する方法を用いることによって、
約3秒程度にまで短縮される。これは、従来のシルク印
刷工法を用いた方法において必要な時間の約半分であ
る。
【0017】UVフォト型工法を用いてプリント基板
(7)上の回路パターンを形成する方法における、回路
パターン形成工程が増えるという問題点は、請求項3に
記載の発明で、一度作成した前記撥水性処理凹型オフセ
ット印刷用原版(4)を繰り返し用いることにより、毎
回UV露光工程及びアルカリ現像工程を行う必要がなく
なり解決される。
【0018】請求項6に記載の装置は、転写ゴムローラ
(3)が、撥水性処理凹型オフセット印刷用原版セット
ロール(14)の凹部回路パターン(12)内部を隙間
なく満たしているレジスト(11)をプリント基板
(7)上に転写する構成を含むので、上述の課題を解決
するための手段を効率的に実現する。
【0019】以下、図面を参照にして、本発明の実施例
について述べる。
【0020】
【発明の実施の形態】図3は、撥水性処理凹型オフセッ
ト印刷用原版4を作成する工程の実施例を示す。
【0021】工程101において、アルミ板または銅板
の表面に、UV感光型エッチングレジストを塗布する。
【0022】工程102において、UV感光型エッチン
グレジストを塗布したアルミ板または銅板に、ネガ型又
はポジ型フィルムを張り付ける。そして、前記ネガ型又
はポジ型フィルムを通過するようにUV光を照射し、U
V感光型エッチングレジストをUV反応させ、UV光で
硬化する部分とUV光で硬化しない部分との差別化を測
る(UV露光)。
【0023】工程103において、UV光で硬化しない
部分をアルカリ現像液で溶解除去し、その部分のアルミ
板又は銅板を剥き出しにする。
【0024】工程104において、エッチング液(塩化
第二銅又は塩化第二鉄)により、剥き出しにされた部分
のアルミ板又は銅板に対して、10μm程度のハーフエ
ッチング処理を施す。
【0025】工程105において、UV感光型エッチン
グレジストを剥離する。
【0026】工程106において、ハーフエッチング処
理により凹部回路パターン12が形成されたアルミ板又
は銅板の表面に、撥水性のあるシリコーン樹脂系又はフ
ッ素樹脂系の塗料の薄膜10(2乃至4μm)で撥水処
理を行う。この際、凹部回路パターン12は、ギザ模様
のないシャープな形状である必要があることは明らかで
ある。
【0027】工程101乃至105までの工程は、銅張
りプリント基板がアルミ板(または銅板)に変わった
点、及びエッチング処理がハーフエッチング処理に変わ
った点を除いて、従来技術のUVフォト型工法を用いて
プリント基板上に回路パターンを形成する方法と同様で
ある。
【0028】このように作成された撥水性処理凹型オフ
セット印刷用原版4は、同一の回路パターンを形成する
際に繰り返し使用される。
【0029】図4は、凹型オフセット印刷工法を用いて
プリント基板上の回路パターンを形成する方法を示す。
【0030】工程201において、水溶性樹脂系レジス
ト11(UV光感応型レジスト又は熱反応型レジスト)
を撥水性処理凹型オフセット印刷用原版4に塗布する。
【0031】工程202において、樹脂製のドクターブ
レード6を用いて、凹部回路パターン12以外に付着し
た水溶性樹脂系レジスト11を掻き取る。その結果、水
溶性樹脂系レジスト11は、凹部回路パターン12のみ
を満たすようになる。この際、凹部回路パターン12内
部も撥水処理されているので、水溶性樹脂系レジスト1
1が、表面張力の影響で凹部回路パターン12内部を隙
間なく満たしていることに留意されたい。
【0032】工程203において、凹部回路パターン1
2を満たしている水溶性樹脂系レジスト11を、転写ゴ
ムローラ3の表面に転写パターン化する。
【0033】工程204において、転写ゴムローラ3か
ら銅張りプリント基板7の表面に、転写パターン化され
た水溶性樹脂系レジスト11を転写することによって、
エッチングレジストパターンが形成される。
【0034】工程205において、転写された銅張りプ
リント基板7上の水溶性樹脂系レジスト11(エッチン
グレジストパターン)を、熱又はUV光により硬化させ
る。そして、エッチング液(塩化第二銅又は塩化第二
鉄)で、プリント基板表面のエッチングレジストパター
ンが形成されていない部分の銅をエッチングする。その
後、エッチングレジストパターン(硬化された水溶性樹
脂系レジスト11)を剥離する。その結果、プリント基
板上の回路パターンが形成されることになる。
【0035】図5に、凹型オフセット印刷工法を用いて
プリント基板上の回路パターンを形成する方法を実施す
る撥水処理凹型オフセット印刷装置の実施例を示す。以
下、撥水処理凹型オフセット印刷装置の動作について説
明する。
【0036】図5の撥水処理凹型オフセット印刷装置
は、複数の搬送用ロ―ラコンベア1及び2と、転写ゴム
ローラ3と、撥水性処理凹型オフセット印刷用原版セッ
トロール14と、ゴム系ロール5と、ドクターブレード
6とから構成されている。
【0037】ゴム系ロール5と撥水性処理凹型オフセッ
ト印刷用原版セットロール14の間には、水溶性樹脂系
レジスト11が注入されている。図5では、ゴム系ロー
ル5が反時計回りに回転し、撥水性処理凹型オフセット
印刷用原版セットロール14が時計回りに回転すること
によって、水溶性樹脂系レジスト11が、撥水性処理凹
型オフセット印刷用原版セットロール14に薄く塗布さ
れる(工程201)。
【0038】撥水性処理凹型オフセット印刷用原版セッ
トロール14の周囲に固定された樹脂系ドクターブレー
ド6が、凹部回路パターン12以外に付着した水溶性樹
脂系レジスト11を掻き取る。その結果、水溶性樹脂系
レジスト11は、凹部回路パターン12のみを満たすよ
うになる(工程202)。
【0039】撥水性処理凹型オフセット印刷用原版セッ
トロール14の凹部回路パターン12を満たす水溶性樹
脂系レジスト11が、転写ゴムローラ3に転写パターン
化される(工程203)。
【0040】搬送用ロ―ラコンベア1及び2によって、
プリント基板7は、転写ゴムローラ3に搬送される。搬
送用ロ―ラコンベア2と転写ゴムローラ3の間で、転写
ゴムローラ3から銅張りプリント基板7の表面に、転写
パターン化された水溶性樹脂系レジスト11を転写され
る。この結果、プリント基板上にエッチングレジストパ
ターンが形成される(工程204)。
【0041】図示されていないが、その後、転写された
銅張りプリント基板7上の水溶性樹脂系レジスト11
(エッチングレジストパターン)を、熱又はUV光によ
り硬化させる。そして、エッチング液(塩化第二銅又は
塩化第二鉄)で、プリント基板表面のエッチングレジス
トパターンが形成されていない部分の銅をエッチングす
る。その後、エッチングレジストパターン(硬化された
水溶性樹脂系レジスト11)を剥離する。その結果、プ
リント基板上の回路パターンが形成されることになる
(工程205)。
【0042】本発明は、上記実施例に限定されず、種々
の変形形態が可能である。当業者に明らかな変形を上記
実施例に適用して、例えば、撥水性処理凹型オフセット
印刷用原版を別の方法により作成すること等も可能であ
る。
【0043】
【発明の効果】本発明により、50μmの線幅程度まで
微細な線幅の回路パターンの形成が可能になり、形成さ
れたプリント基板上の回路パターンのエッジ部にギザ模
様が発生するという問題点が解決され、1枚のプリント
基板上の回路パターンを形成するのに必要な時間が約3
秒程度にまで短縮される。この結果、シルク印刷工法を
用いてエッチングレジストパターンを形成する方法にお
ける問題点が全て解決される。
【0044】また、本発明により、UVフォト型工法で
エッチングレジストパターンを形成する方法と比較する
と、UV露光工程及びアルカリ現像工程が省略されるの
で工数が減り、同方法における問題点も解決される。
【0045】さらに、本方法では、撥水性処理凹型オフ
セット印刷用原版(4)を再利用可能であるので生産性
も向上し、製造コストの面でも優れる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 従来のシルク印刷工法を用いてプリント基板
回路を形成する方法を示す図である。
【図2】 従来のUVフォト型工法を用いてプリント基
板回路を形成する方法を示す図である。
【図3】 本発明による撥水性処理凹型オフセット印刷
用原版を作成する工程の実施例である。
【図4】 本発明による凹型オフセット印刷工法を用い
てプリント基板上の回路パターンを形成する方法を示す
図である。
【図5】 本発明による方法を実施する撥水処理凹型オ
フセット印刷装置の実施例を示す図である。
【符号の説明】
1 搬送用ロ―ラコンベア 3 転写ゴムローラ 4 撥水性処理凹型オフセット印刷用原版 5 ゴム系ロール 6 ドクターブレード 7 プリント基板 11 水溶性樹脂系レジスト 12 凹部回路パターン 14 撥水性処理凹型オフセット印刷用原版セットロー
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H113 AA01 AA02 AA03 AA05 BA03 BC01 CA17 DA04 DA49 DA64 FA06 FA40 FA43 5E339 AB02 AD01 BE11 CC02 CD01 CE13 CE18 CG01 EE10

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 エッチングレジストパターンを形成する
    方法であって、 撥水性処理凹型オフセット印刷用原版(4)の表面にレ
    ジスト(11)を塗布する工程と、 前記レジスト(11)が前記撥水性処理凹型オフセット
    印刷用原版(4)の表面の凹部回路パターン(12)の
    みを満たすように、余分なレジスト(11)を掻き取る
    工程と、 前記凹部回路パターン(12)内部のレジスト(11)
    をプリント基板(7)表面に転写する工程とを含む方
    法。
  2. 【請求項2】 前記レジスト(11)が、水溶性樹脂系
    レジストであることを特徴とする請求項1に記載の方
    法。
  3. 【請求項3】 前記掻き取る工程が、ドクターブレード
    (6)によって実現されることを特徴とする請求項1ま
    たは2に記載の方法。
  4. 【請求項4】 前記転写する工程が、凹型オフセット印
    刷工法によって実現されることを特徴とする請求項1乃
    至3のいずれか一項に記載の方法。
  5. 【請求項5】 アルミ板若しくは銅板にハーフエッチン
    グ処理を施した後、該アルミ板若しくは該銅板に樹脂で
    撥水処理することによって、前記撥水性処理凹型オフセ
    ット印刷用原版(4)を作成することを特徴とする請求
    項1乃至4のいずれか一項に記載の方法。
  6. 【請求項6】 エッチングレジストパターンを形成する
    撥水性処理凹型オフセット印刷装置であって、 撥水性処理凹型オフセット印刷用原版セットロール(1
    4)と、 レジスト(11)を前記撥水性処理凹型オフセット印刷
    用原版セットロール(14)に薄く塗布するゴム系ロー
    ル(5)と、 前記レジスト(11)が前記撥水性処理凹型オフセット
    印刷用原版セットロール(14)の表面の凹部回路パタ
    ーン(12)のみを満たすように、余分なレジスト(1
    1)を掻き取るドクターブレード(6)と、 プリンタ基板(7)を搬送する搬送用ロ―ラコンベア
    (1、2)と、 前記撥水性処理凹型オフセット印刷用原版セットロール
    (14)の表面の凹部回路パターン(12)内部のレジ
    スト(11)により形成された転写パターンを前記搬送
    用ロ―ラコンベア(1)により搬送されるプリント基板
    (7)表面に転写する、転写ゴムローラ(3)と、を含
    む撥水性処理凹型オフセット印刷装置。
  7. 【請求項7】 前記レジスト(11)が、水溶性樹脂系
    レジストであることを特徴とする請求項6に記載の撥水
    性処理凹型オフセット印刷装置。
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006251071A (ja) * 2005-03-08 2006-09-21 Dainippon Screen Mfg Co Ltd レジストパターン形成方法
US7569153B2 (en) 2002-05-23 2009-08-04 Lg Display Co., Ltd. Fabrication method of liquid crystal display device
KR101019157B1 (ko) * 2008-11-17 2011-03-04 삼성전기주식회사 인쇄회로기판 제조방법
KR101300033B1 (ko) 2007-02-14 2013-08-29 엘지디스플레이 주식회사 레지스트 패턴 인쇄장치 및 레지스트 인쇄패턴 장치용클리체 형성방법
CN107735258A (zh) * 2015-09-28 2018-02-23 株式会社斯库林集团 印刷方法及印刷装置
CN113696616A (zh) * 2021-08-11 2021-11-26 Tcl华星光电技术有限公司 移印板和移印装置

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7569153B2 (en) 2002-05-23 2009-08-04 Lg Display Co., Ltd. Fabrication method of liquid crystal display device
JP2006251071A (ja) * 2005-03-08 2006-09-21 Dainippon Screen Mfg Co Ltd レジストパターン形成方法
KR101300033B1 (ko) 2007-02-14 2013-08-29 엘지디스플레이 주식회사 레지스트 패턴 인쇄장치 및 레지스트 인쇄패턴 장치용클리체 형성방법
KR101019157B1 (ko) * 2008-11-17 2011-03-04 삼성전기주식회사 인쇄회로기판 제조방법
CN107735258A (zh) * 2015-09-28 2018-02-23 株式会社斯库林集团 印刷方法及印刷装置
CN113696616A (zh) * 2021-08-11 2021-11-26 Tcl华星光电技术有限公司 移印板和移印装置
CN113696616B (zh) * 2021-08-11 2023-08-22 Tcl华星光电技术有限公司 移印板和移印装置

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