JP2001316413A - オレフィン類重合用触媒及びそれを用いたオレフィン系重合体の製造方法 - Google Patents
オレフィン類重合用触媒及びそれを用いたオレフィン系重合体の製造方法Info
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- JP2001316413A JP2001316413A JP2000136114A JP2000136114A JP2001316413A JP 2001316413 A JP2001316413 A JP 2001316413A JP 2000136114 A JP2000136114 A JP 2000136114A JP 2000136114 A JP2000136114 A JP 2000136114A JP 2001316413 A JP2001316413 A JP 2001316413A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 高活性を有し、オレフィン系重合体、特に高
立体規則性のアイソタクチックポリプロピレンを効率よ
く製造し得るオレフィン類重合用触媒及びそれを用いた
オレフィン系重合体の製造方法を提供すること。 【解決手段】 (A)一般式(I) 【化1】 で表される遷移金属錯体、(B)有機又は無機化合物か
らなる錯体、及び(C)有機アルミニウム化合物を含む
オレフィン類重合用触媒、並びに該触媒の存在下、オレ
フィン類を重合させるオレフィン系重合体の製造方法で
ある。
立体規則性のアイソタクチックポリプロピレンを効率よ
く製造し得るオレフィン類重合用触媒及びそれを用いた
オレフィン系重合体の製造方法を提供すること。 【解決手段】 (A)一般式(I) 【化1】 で表される遷移金属錯体、(B)有機又は無機化合物か
らなる錯体、及び(C)有機アルミニウム化合物を含む
オレフィン類重合用触媒、並びに該触媒の存在下、オレ
フィン類を重合させるオレフィン系重合体の製造方法で
ある。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、オレフィン類重合
用触媒及びそれを用いたオレフィン系重合体の製造方法
に関する。さらに詳しくは、本発明は、高活性を有する
担持型キレート系触媒であって、オレフィン系重合体、
特に高立体規則性のアイソタクチックポリプロピレンを
効率よく製造し得るオレフィン類重合用触媒、及びこの
ものを用いてオレフィン系重合体を製造する方法に関す
るものである。
用触媒及びそれを用いたオレフィン系重合体の製造方法
に関する。さらに詳しくは、本発明は、高活性を有する
担持型キレート系触媒であって、オレフィン系重合体、
特に高立体規則性のアイソタクチックポリプロピレンを
効率よく製造し得るオレフィン類重合用触媒、及びこの
ものを用いてオレフィン系重合体を製造する方法に関す
るものである。
【0002】
【従来の技術】従来、高活性可溶系オレフィン類重合用
触媒としては、遷移金属化合物とアルミノキサンとの組
合せからなるものが知られている(特開昭58−193
09号公報,特開昭60−217209号公報)。ま
た、可溶系オレフィン重合触媒の活性種としてはカチオ
ン種が有効であることが報告されている〔(J.Am.
Chem.Soc.の第81巻、第81ページ(195
9年),同誌第82巻、第1953ページ(1960
年),同誌第107巻、第7219ページ(1986
年)〕。また、この活性種を単離し、オレフィン重合に
適用した例としては、〔J.Am.Chem.Soc.
の第108巻,第7410ページ(1986年)〕,特
表平1−502636号公報,特開平3−139504
号公報,ヨーロッパ公開特許第46851号などを挙げ
ることがき、さらにこの活性種に有機アルミニウム化合
物を併用した例として、特開平3−207704号公
報,国際特許公開92−1723号などを挙げることが
できる。
触媒としては、遷移金属化合物とアルミノキサンとの組
合せからなるものが知られている(特開昭58−193
09号公報,特開昭60−217209号公報)。ま
た、可溶系オレフィン重合触媒の活性種としてはカチオ
ン種が有効であることが報告されている〔(J.Am.
Chem.Soc.の第81巻、第81ページ(195
9年),同誌第82巻、第1953ページ(1960
年),同誌第107巻、第7219ページ(1986
年)〕。また、この活性種を単離し、オレフィン重合に
適用した例としては、〔J.Am.Chem.Soc.
の第108巻,第7410ページ(1986年)〕,特
表平1−502636号公報,特開平3−139504
号公報,ヨーロッパ公開特許第46851号などを挙げ
ることがき、さらにこの活性種に有機アルミニウム化合
物を併用した例として、特開平3−207704号公
報,国際特許公開92−1723号などを挙げることが
できる。
【0003】近年、高活性可溶系オレフィン重合用触媒
として、キレート型触媒が報告されている(特開平11
−199592号公報、特開平11−199593号公
報、特開平11−240907号公報、「83th C
ATSJ MeetingAbstracts」第41
巻、第2号、第85ページ(1999年)、「Macr
omol.Rapid Commun」第19巻、第5
97ページ(1998年)」。しかしながら、これらの
キレート型触媒は、プロピレンの重合に適用した場合、
活性が全くないか、あるいは活性があったとしても、得
られるポリプロピレンは、アタクチックポリプロピレン
とアイソタクチックポリプロピレンとの混合物となり、
したがって、アイソタクチックポリプロピレンを得るに
は、該混合物にヘキサンやジエチルエーテルなどの溶媒
を用いて精製処理を施す必要がある。また、メタロセン
触媒を用いスラリー重合や気相重合装置で工業的にポリ
プロピレンを製造するためには、該触媒をシリカゲルの
ような担体に担持しなげればならない。しかしながら、
高立体規則性のポリプロピレンを得ようとして、高立体
規則性ポリプロピレンを与える錯体をシリカゲルなどの
担体に担持してプロピレンを重合させると、所望の高立
体規則性のポリプロピレンが得られにくいという問題が
生じる(特開平6−100579号公報)。
として、キレート型触媒が報告されている(特開平11
−199592号公報、特開平11−199593号公
報、特開平11−240907号公報、「83th C
ATSJ MeetingAbstracts」第41
巻、第2号、第85ページ(1999年)、「Macr
omol.Rapid Commun」第19巻、第5
97ページ(1998年)」。しかしながら、これらの
キレート型触媒は、プロピレンの重合に適用した場合、
活性が全くないか、あるいは活性があったとしても、得
られるポリプロピレンは、アタクチックポリプロピレン
とアイソタクチックポリプロピレンとの混合物となり、
したがって、アイソタクチックポリプロピレンを得るに
は、該混合物にヘキサンやジエチルエーテルなどの溶媒
を用いて精製処理を施す必要がある。また、メタロセン
触媒を用いスラリー重合や気相重合装置で工業的にポリ
プロピレンを製造するためには、該触媒をシリカゲルの
ような担体に担持しなげればならない。しかしながら、
高立体規則性のポリプロピレンを得ようとして、高立体
規則性ポリプロピレンを与える錯体をシリカゲルなどの
担体に担持してプロピレンを重合させると、所望の高立
体規則性のポリプロピレンが得られにくいという問題が
生じる(特開平6−100579号公報)。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
状況下で、高活性を有する担持型キレート系触媒であっ
て、オレフィン系重合体、特に高立体規則性のアイソタ
クチックポリプロピレンを効率よく製造し得るオレフィ
ン類重合用触媒、及びこのものを用いてオレフィン系重
合体を製造する方法を提供することを目的とするもので
ある。
状況下で、高活性を有する担持型キレート系触媒であっ
て、オレフィン系重合体、特に高立体規則性のアイソタ
クチックポリプロピレンを効率よく製造し得るオレフィ
ン類重合用触媒、及びこのものを用いてオレフィン系重
合体を製造する方法を提供することを目的とするもので
ある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者は、前記目的を
達成するために鋭意研究を重ねた結果、特定のキレート
型配位子を有する周期律表第3〜10族の遷移金属錯体
と、有機又は無機化合物からなる担体と、有機アルミニ
ウム化合物を含む触媒が、オレフィン類重合用触媒とし
て、その目的に適合し得ることを見出した。本発明は、
かかる知見に基づいて完成したものである。すなわち、
本発明は、(A)一般式(I)
達成するために鋭意研究を重ねた結果、特定のキレート
型配位子を有する周期律表第3〜10族の遷移金属錯体
と、有機又は無機化合物からなる担体と、有機アルミニ
ウム化合物を含む触媒が、オレフィン類重合用触媒とし
て、その目的に適合し得ることを見出した。本発明は、
かかる知見に基づいて完成したものである。すなわち、
本発明は、(A)一般式(I)
【0006】
【化3】
【0007】(式中、Mは周期律表第3〜10族の遷移
金属原子、Xは酸素原子,イオウ原子,セレン原子又は
N−R5 、AはR6 又は
金属原子、Xは酸素原子,イオウ原子,セレン原子又は
N−R5 、AはR6 又は
【0008】
【化4】
【0009】で表される基を示し、R1 〜R11は、それ
ぞれ独立して水素原子,ハロゲン原子,炭化水素基,酸
素含有基,窒素含有基,ホウ素含有基,イオウ含有基,
ハロゲン含有基,ケイ素含有基又はスズ含有基を示し、
これらのうちの隣接する2個がたがいに連結して環を形
成していてもよく、Zは水素原子,ハロゲン原子,炭化
水素基,酸素含有基,窒素含有基,ホウ素含有基,アル
ミニウム含有基,リン含有基,ハロゲン含有基,ケイ素
含有基,ゲルマニウム含有基又はスズ含有基を示し、n
はMの価数であり、nが3以上の場合は、複数のZはた
がいに同一でも異なっていてもよい。)で表される遷移
金属錯体、(B)有機又は無機化合物からなる担体、及
び(C)有機アルミニウム化合物を含むことを特徴とす
るオレフィン類重合用触媒を提供するものである。本発
明はまた、上記オレフィン類重合用触媒の存在下、オレ
フィン類を重合させることを特徴とするオレフィン系重
合体の製造方法をも提供するものである。
ぞれ独立して水素原子,ハロゲン原子,炭化水素基,酸
素含有基,窒素含有基,ホウ素含有基,イオウ含有基,
ハロゲン含有基,ケイ素含有基又はスズ含有基を示し、
これらのうちの隣接する2個がたがいに連結して環を形
成していてもよく、Zは水素原子,ハロゲン原子,炭化
水素基,酸素含有基,窒素含有基,ホウ素含有基,アル
ミニウム含有基,リン含有基,ハロゲン含有基,ケイ素
含有基,ゲルマニウム含有基又はスズ含有基を示し、n
はMの価数であり、nが3以上の場合は、複数のZはた
がいに同一でも異なっていてもよい。)で表される遷移
金属錯体、(B)有機又は無機化合物からなる担体、及
び(C)有機アルミニウム化合物を含むことを特徴とす
るオレフィン類重合用触媒を提供するものである。本発
明はまた、上記オレフィン類重合用触媒の存在下、オレ
フィン類を重合させることを特徴とするオレフィン系重
合体の製造方法をも提供するものである。
【0010】
【発明の実施の形態】本発明のオレフィン類重合用触媒
は、(A)遷移金属錯体(主触媒)と、(B)担体と、
(C)有機アルミニウム化合物(助触媒)を含むもので
ある。上記主触媒である(A)成分の遷移金属錯体とし
ては、一般式(I)
は、(A)遷移金属錯体(主触媒)と、(B)担体と、
(C)有機アルミニウム化合物(助触媒)を含むもので
ある。上記主触媒である(A)成分の遷移金属錯体とし
ては、一般式(I)
【0011】
【化5】
【0012】で表される構造を有するキレート型の周期
律表第3〜10族の遷移金属錯体が用いられる。一般式
(I)において、Mは周期律表第3〜10族の遷移金属
原子を示す。この遷移金属原子の例としては、チタニウ
ム,ジルコニウム,ハフニウム,パナジウム,クロム,
マンガン,ニッケル,コバルト,パラジウムなどを挙げ
ることができ、これらの中で、触媒活性の点から、周期
律表第4族の遷移金属原子が好ましい。Xは酸素原子,
イオウ原子,セレン原子又はN−R5 、AはR6 又は
律表第3〜10族の遷移金属錯体が用いられる。一般式
(I)において、Mは周期律表第3〜10族の遷移金属
原子を示す。この遷移金属原子の例としては、チタニウ
ム,ジルコニウム,ハフニウム,パナジウム,クロム,
マンガン,ニッケル,コバルト,パラジウムなどを挙げ
ることができ、これらの中で、触媒活性の点から、周期
律表第4族の遷移金属原子が好ましい。Xは酸素原子,
イオウ原子,セレン原子又はN−R5 、AはR6 又は
【0013】
【化6】
【0014】で表される基を示す。R1 〜R11は、それ
ぞれ独立して水素原子,ハロゲン原子,炭化水素基,酸
素含有基,窒素含有基,ホウ素含有基,イオウ含有基,
ハロゲン含有基,ケイ素含有基又はスズ含有基を示し、
これらのうちの隣接する2個がたがいに連結して環を形
成していてもよい。また、Zは水素原子,ハロゲン原
子,炭化水素基,酸素含有基,窒素含有基,ホウ素含有
基,アルミニウム含有基,リン含有基,ハロゲン含有
基,ケイ素含有基,ゲルマニウム含有基又はスズ含有基
を示す。nはMの価数であり、nが3以上の場合は、複
数のZはたがいに同一でも異なっていてもよい。一般式
(I)におけるハロゲン原子としては、塩素原子,フッ
素原子,臭素原子,ヨウ素原子が挙げられる。またR1
〜R11のうちの炭化水素基,酸素含有基,窒素含有基,
ホウ素含有基,イオウ含有基,ハロゲン含有基,ケイ素
含有基及びスズ含有基としては、それぞれ炭素数1〜2
0の炭化水素基,炭素数1〜20の酸素含有炭化水素
基,炭素数1〜20の窒素含有炭化水素基,炭素数1〜
20のホウ素含有炭化水素基,炭素数1〜20のイオウ
含有炭化水素基,炭素数1〜20のハロゲン含有炭化水
素基,炭素数1〜20のケイ素含有炭化水素基及び炭素
数1〜20のスズ含有炭化水素基が好ましい。
ぞれ独立して水素原子,ハロゲン原子,炭化水素基,酸
素含有基,窒素含有基,ホウ素含有基,イオウ含有基,
ハロゲン含有基,ケイ素含有基又はスズ含有基を示し、
これらのうちの隣接する2個がたがいに連結して環を形
成していてもよい。また、Zは水素原子,ハロゲン原
子,炭化水素基,酸素含有基,窒素含有基,ホウ素含有
基,アルミニウム含有基,リン含有基,ハロゲン含有
基,ケイ素含有基,ゲルマニウム含有基又はスズ含有基
を示す。nはMの価数であり、nが3以上の場合は、複
数のZはたがいに同一でも異なっていてもよい。一般式
(I)におけるハロゲン原子としては、塩素原子,フッ
素原子,臭素原子,ヨウ素原子が挙げられる。またR1
〜R11のうちの炭化水素基,酸素含有基,窒素含有基,
ホウ素含有基,イオウ含有基,ハロゲン含有基,ケイ素
含有基及びスズ含有基としては、それぞれ炭素数1〜2
0の炭化水素基,炭素数1〜20の酸素含有炭化水素
基,炭素数1〜20の窒素含有炭化水素基,炭素数1〜
20のホウ素含有炭化水素基,炭素数1〜20のイオウ
含有炭化水素基,炭素数1〜20のハロゲン含有炭化水
素基,炭素数1〜20のケイ素含有炭化水素基及び炭素
数1〜20のスズ含有炭化水素基が好ましい。
【0015】ここで、炭素数1〜20の炭化水素基とし
ては、具体的には、メチル基,エチル基,プロピル基,
ブチル基,ヘキシル基,シクロヘキシル基,オクチル基
などのアルキル基;ビニル基,プロペニル基,シクロヘ
キセニル基などのアルケニル基;ベンジル基,フェニル
エチル基,フェニルプロピル基などのアリールアルキル
基;フェニル基,トリル基,ジメチルフェニル基,トリ
メチルフェニル基,エチルフェニル基,プロピルフェニ
ル基,ビフェニル基,ナフチル基,メチルナフチル基,
アントラセニル基,フェナントニル基などのアリール基
が挙げられる。なかでもメチル基,エチル基,プロピル
基などのアルキル基やフェニル基などのアリール基が好
ましい。炭素数1〜20の酸素含有炭化水素基の例とし
ては、メトキシ基,エトキシ基,プロピルオキシ基,ブ
トキシ基,ヘキシルオキシ基,シクロヘキシルオキシ
基,オクチルオキシ基などのアルキルオキシ基;ビニル
オキシ基,プロペニルオキシ基,シクロヘキセニルオキ
シ基などのアルケニルオキシ基;ベンジルオキシ基,フ
ェニルエチルオキシ基,フェニルプロピルオキシ基など
のアリールアルキルオキシ基;フェノキシ基,トリルオ
キシ基,ジメチルフェニルオキシ基,トリメチルフェニ
ルオキシ基,エチルフェニルオキシ基,プロピルフェニ
ルオキシ基,ビフェニルオキシ基,ナフチルオキシ基,
メチルナフチルオキシ基,アントラセニルオキシ基,フ
ェナントニルオキシ基などのアリールオキシ基などが挙
げられる。炭素数1〜20の窒素含有炭化水素基の例と
しては、ジメチルアミノ基,ジエチルアミノ基,ジプロ
ピルアミノ基,ジブチルアミノ基,ジシクロヘキシルア
ミノ基,メチルエチルアミノ基等のアルキルアミノ基;
ジビニルアミノ基,ジプロペニルアミノ基,ジシクロヘ
キセニルアミノ基などのアルケニルアミノ基;ジベンジ
ルアミノ基,フェニルエチルアミノ基,フェニルプロピ
ルアミノ基などのアリールアルキルアミノ基;ジフェニ
ルアミノ基,ジナフチルアミノ基などのアリールアミノ
基などが挙げられる。炭素数1〜20のイオウ含有炭化
水素基の例としては、メチルスルフィド基,エチルスル
フィド基,プロピルスルフィド基,ブチルスルフィド
基,ヘキシルスルフィド基,シクロヘキシルスルフィド
基,オクチルスルフィド基などのアルキルスルフィド
基;ビニルスルフィド基,プロペニルスルフィド基,シ
クロヘキセニルスルフィド基などのアルケニルスルフィ
ド基;ペンジルスルフィド基,フェニルエチルスルフィ
ド基,フェニルプロピルスルフィド基などのアリールア
ルキルスルフィド基;フェニルスルフィド基,トリルス
ルフィド基,ジメチルフェニルスルフィド基,トリメチ
ルフェニルスルフィド基,エチルフェニルスルフィド
基,プロピルフェニルスルフィド基,ビフェニルスルフ
ィド基,ナフチルスルフィド基,メチルナフチルスルフ
ィド基,アントラセニルスルフィド基,フェナントニル
スルフィド基などのアリールスルフィド基などが挙げら
れる。炭素数1〜20のハロゲン含有炭化水素基の例と
しては、前記炭化水素基にハロゲン原子が置換したハロ
ゲン化炭化水素基が挙げられる。なかでもトリフルオロ
メチル基,トリクロロメチル基などのハロゲン化アルキ
ル基が好ましい。炭素数1〜20のケイ素含有炭化水素
基としては、メチルシリル基,フェニルシリル基などの
モノ炭化水素置換シリル基;ジメチルシリル基、ジフェ
ニルシリル基などのジ炭化水素置換シリル基;トリメチ
ルシリル基,トリエチルシリル基,トリプロピルシリル
基,トリシクロヘキシルシリル基,トリフェニルシリル
基,ジメチルフェニルシリル基,メチルジフェニルシリ
ル基,トリトリルシリル基,トリナフチルシリル基など
のトリ炭化水素置換シリル基;トリメチルシリルエーテ
ル基などの炭化水素置換シリル基のシリルエーテル基;
トリメチルシリルメチル基などのケイ素置換アルキル
基;トリメチルシリルフェニル基などのケイ素置換アリ
ール基などが挙げられる。なかでもトリメチルシリル
基,フェネチルジメチルシリル基などが好ましい。
ては、具体的には、メチル基,エチル基,プロピル基,
ブチル基,ヘキシル基,シクロヘキシル基,オクチル基
などのアルキル基;ビニル基,プロペニル基,シクロヘ
キセニル基などのアルケニル基;ベンジル基,フェニル
エチル基,フェニルプロピル基などのアリールアルキル
基;フェニル基,トリル基,ジメチルフェニル基,トリ
メチルフェニル基,エチルフェニル基,プロピルフェニ
ル基,ビフェニル基,ナフチル基,メチルナフチル基,
アントラセニル基,フェナントニル基などのアリール基
が挙げられる。なかでもメチル基,エチル基,プロピル
基などのアルキル基やフェニル基などのアリール基が好
ましい。炭素数1〜20の酸素含有炭化水素基の例とし
ては、メトキシ基,エトキシ基,プロピルオキシ基,ブ
トキシ基,ヘキシルオキシ基,シクロヘキシルオキシ
基,オクチルオキシ基などのアルキルオキシ基;ビニル
オキシ基,プロペニルオキシ基,シクロヘキセニルオキ
シ基などのアルケニルオキシ基;ベンジルオキシ基,フ
ェニルエチルオキシ基,フェニルプロピルオキシ基など
のアリールアルキルオキシ基;フェノキシ基,トリルオ
キシ基,ジメチルフェニルオキシ基,トリメチルフェニ
ルオキシ基,エチルフェニルオキシ基,プロピルフェニ
ルオキシ基,ビフェニルオキシ基,ナフチルオキシ基,
メチルナフチルオキシ基,アントラセニルオキシ基,フ
ェナントニルオキシ基などのアリールオキシ基などが挙
げられる。炭素数1〜20の窒素含有炭化水素基の例と
しては、ジメチルアミノ基,ジエチルアミノ基,ジプロ
ピルアミノ基,ジブチルアミノ基,ジシクロヘキシルア
ミノ基,メチルエチルアミノ基等のアルキルアミノ基;
ジビニルアミノ基,ジプロペニルアミノ基,ジシクロヘ
キセニルアミノ基などのアルケニルアミノ基;ジベンジ
ルアミノ基,フェニルエチルアミノ基,フェニルプロピ
ルアミノ基などのアリールアルキルアミノ基;ジフェニ
ルアミノ基,ジナフチルアミノ基などのアリールアミノ
基などが挙げられる。炭素数1〜20のイオウ含有炭化
水素基の例としては、メチルスルフィド基,エチルスル
フィド基,プロピルスルフィド基,ブチルスルフィド
基,ヘキシルスルフィド基,シクロヘキシルスルフィド
基,オクチルスルフィド基などのアルキルスルフィド
基;ビニルスルフィド基,プロペニルスルフィド基,シ
クロヘキセニルスルフィド基などのアルケニルスルフィ
ド基;ペンジルスルフィド基,フェニルエチルスルフィ
ド基,フェニルプロピルスルフィド基などのアリールア
ルキルスルフィド基;フェニルスルフィド基,トリルス
ルフィド基,ジメチルフェニルスルフィド基,トリメチ
ルフェニルスルフィド基,エチルフェニルスルフィド
基,プロピルフェニルスルフィド基,ビフェニルスルフ
ィド基,ナフチルスルフィド基,メチルナフチルスルフ
ィド基,アントラセニルスルフィド基,フェナントニル
スルフィド基などのアリールスルフィド基などが挙げら
れる。炭素数1〜20のハロゲン含有炭化水素基の例と
しては、前記炭化水素基にハロゲン原子が置換したハロ
ゲン化炭化水素基が挙げられる。なかでもトリフルオロ
メチル基,トリクロロメチル基などのハロゲン化アルキ
ル基が好ましい。炭素数1〜20のケイ素含有炭化水素
基としては、メチルシリル基,フェニルシリル基などの
モノ炭化水素置換シリル基;ジメチルシリル基、ジフェ
ニルシリル基などのジ炭化水素置換シリル基;トリメチ
ルシリル基,トリエチルシリル基,トリプロピルシリル
基,トリシクロヘキシルシリル基,トリフェニルシリル
基,ジメチルフェニルシリル基,メチルジフェニルシリ
ル基,トリトリルシリル基,トリナフチルシリル基など
のトリ炭化水素置換シリル基;トリメチルシリルエーテ
ル基などの炭化水素置換シリル基のシリルエーテル基;
トリメチルシリルメチル基などのケイ素置換アルキル
基;トリメチルシリルフェニル基などのケイ素置換アリ
ール基などが挙げられる。なかでもトリメチルシリル
基,フェネチルジメチルシリル基などが好ましい。
【0016】このR1 〜R11としては、特に水素原子,
炭素数1〜20の炭化水素基及び炭素数1〜20のケイ
素含有炭化水素基が好ましい。一方、Zのうちの炭化水
素基,酸素含有基,窒素含有基,ホウ素含有基,アルミ
ニウム含有基,リン含有基,ハロゲン含有基,ケイ素含
有基,ゲルマニウム含有基及びスズ含有基としては、そ
れぞれ炭素数1〜20の炭化水素基,炭素数1〜20の
酸素含有炭化水素基,炭素数1〜20の窒素含有炭化水
素基,炭素数1〜20のホウ素含有炭化水素基,炭素数
1〜20のアルミニウム含有炭化水素基,炭素数1〜2
0のリン含有炭化水素基,炭素数1〜20のハロゲン含
有炭化水素基,炭素数1〜20のケイ素含有炭化水素
基,炭素数1〜20のゲルマニウム含有炭化水素基及び
炭素数1〜20のスズ含有炭化水素基が好ましい。ここ
で、炭素数1〜20の炭化水素基,炭素数1〜20の酸
素含有炭化水素基,炭素数1〜20の窒素含有炭化水素
基,炭素数1〜20のハロゲン含有炭化水素基及び炭素
数1〜20のケイ素含有炭化水素基は前述のとおりであ
る。前記一般式(I)で表される遷移金属錯体の具体例
としては、周期律表第4族の例を示せば、下記のジルコ
ニウム化合物及び該化合物のZrをTiに置き換えたチ
タン化合物を挙げることができる。
炭素数1〜20の炭化水素基及び炭素数1〜20のケイ
素含有炭化水素基が好ましい。一方、Zのうちの炭化水
素基,酸素含有基,窒素含有基,ホウ素含有基,アルミ
ニウム含有基,リン含有基,ハロゲン含有基,ケイ素含
有基,ゲルマニウム含有基及びスズ含有基としては、そ
れぞれ炭素数1〜20の炭化水素基,炭素数1〜20の
酸素含有炭化水素基,炭素数1〜20の窒素含有炭化水
素基,炭素数1〜20のホウ素含有炭化水素基,炭素数
1〜20のアルミニウム含有炭化水素基,炭素数1〜2
0のリン含有炭化水素基,炭素数1〜20のハロゲン含
有炭化水素基,炭素数1〜20のケイ素含有炭化水素
基,炭素数1〜20のゲルマニウム含有炭化水素基及び
炭素数1〜20のスズ含有炭化水素基が好ましい。ここ
で、炭素数1〜20の炭化水素基,炭素数1〜20の酸
素含有炭化水素基,炭素数1〜20の窒素含有炭化水素
基,炭素数1〜20のハロゲン含有炭化水素基及び炭素
数1〜20のケイ素含有炭化水素基は前述のとおりであ
る。前記一般式(I)で表される遷移金属錯体の具体例
としては、周期律表第4族の例を示せば、下記のジルコ
ニウム化合物及び該化合物のZrをTiに置き換えたチ
タン化合物を挙げることができる。
【0017】
【化7】
【0018】
【化8】
【0019】
【化9】
【0020】
【化10】
【0021】
【化11】
【0022】
【化12】
【0023】
【化13】
【0024】
【化14】
【0025】
【化15】
【0026】
【化16】
【0027】
【化17】
【0028】
【化18】
【0029】
【化19】
【0030】
【化20】
【0031】
【化21】
【0032】
【化22】
【0033】
【化23】
【0034】
【化24】
【0035】
【化25】
【0036】
【化26】
【0037】
【化27】
【0038】なお、化学式中のPhはフェニル基の意味
である。本発明の重合用触媒においては、(A)成分と
して、前記遷移金属錯体を一種単独で用いてもよく、二
種以上組み合わせて用いてもよい。本発明の重合用触媒
においては、(B)成分として、有機化合物又は無機化
合物からなる担体が用いられる。ここで、有機化合物担
体としては、例えばポリエチレンやポリプロピレンなど
の高分子重合体、さらには各種の有機マグネシウム化合
物が挙げられ、無機化合物担体としては、例えば塩化マ
グネシウム等のハロゲン化マグネシウムをはじめ、シリ
カ,アルミナ,塩化マグネシウム−シリカゲル複合体,
ゼオライトなどの無機酸化物を好ましく挙げることがで
きる。これらのうちで特に、マグネシウム化合物が好ま
しい。
である。本発明の重合用触媒においては、(A)成分と
して、前記遷移金属錯体を一種単独で用いてもよく、二
種以上組み合わせて用いてもよい。本発明の重合用触媒
においては、(B)成分として、有機化合物又は無機化
合物からなる担体が用いられる。ここで、有機化合物担
体としては、例えばポリエチレンやポリプロピレンなど
の高分子重合体、さらには各種の有機マグネシウム化合
物が挙げられ、無機化合物担体としては、例えば塩化マ
グネシウム等のハロゲン化マグネシウムをはじめ、シリ
カ,アルミナ,塩化マグネシウム−シリカゲル複合体,
ゼオライトなどの無機酸化物を好ましく挙げることがで
きる。これらのうちで特に、マグネシウム化合物が好ま
しい。
【0039】マグネシウム化合物としては、特に制限は
ないが、次の一般式 MgR14R15で表されるマグネシ
ウム化合物を好ましく用いることができる。この一般式
において、R14及びR15は、炭化水素基,OR16基(R
16は炭化水素基)またはハロゲン原子を示す。ここで、
R14及びR15の炭化水素基としては、炭素数1〜12個
のアルキル基,シクロアルキル基,アリール基,アラル
キル基等を挙げることができ、OR16基としては、R16
が炭素数1〜12個のアルキル基,シクロアルキル基,
アリール基,アラルキル基等を挙げることができ、ハロ
ゲン原子としては、塩素,臭素,ヨウ素,フッ素等を挙
げることができる。また、R14及びR15は、同一でも異
なっていてもよい。
ないが、次の一般式 MgR14R15で表されるマグネシ
ウム化合物を好ましく用いることができる。この一般式
において、R14及びR15は、炭化水素基,OR16基(R
16は炭化水素基)またはハロゲン原子を示す。ここで、
R14及びR15の炭化水素基としては、炭素数1〜12個
のアルキル基,シクロアルキル基,アリール基,アラル
キル基等を挙げることができ、OR16基としては、R16
が炭素数1〜12個のアルキル基,シクロアルキル基,
アリール基,アラルキル基等を挙げることができ、ハロ
ゲン原子としては、塩素,臭素,ヨウ素,フッ素等を挙
げることができる。また、R14及びR15は、同一でも異
なっていてもよい。
【0040】このようなマグネシウム化合物の具体例と
しては、ジメチルマグネシウム,ジエチルマグネシウ
ム,ジイソプロピルマグネシウム,ジブチルマグネシウ
ム,ジヘキシルマグネシウム,ジオクチルマグネシウ
ム,エチルブチルマグネシウム,ジフェニルマグネシウ
ム,ジシクロヘキシルマグネシウム等のアルキルマグネ
シウム、アリールマグネシウム、ジメトキシマグネシウ
ム,ジエトキシマグネシウム,ジプロポキシマグネシウ
ム,ジブトキシマグネシウム,ジヘキシロキシマグネシ
ウム,ジオクトキシマグネシウム,ジフェノキシマグネ
シウム,ジシクロヘキシロキシマグネシウム等のアルコ
キシマグネシウム、アリロキシマグネシウム、エチルマ
グネシウムクロリド,ブチルマグネシウムクロリド,ヘ
キシルマグネシウムクロリド,イソプロピルマグネシウ
ムクロリド,イソブチルマグネシウムクロリド,t−ブ
チルマグネシウムクロリド,フェニルマグネシウムブロ
ミド,ベンジルマグネシウムクロリド,エチルマグネシ
ウムブロミド,ブチルマグネシウムブロミド,フェニル
マグネシウムクロリド,ブチルマグネシウムイオダイド
等のアルキルマグネシウムハライド、アリールマグネシ
ウムハライド,ブトキシマグネシウムクロリド,シクロ
ヘキシロキシマグネシウムクロリド,フェノキシマグネ
シウムクロリド,エトキシマグネシウムブロミド,ブト
キシマグネシウムブロミド,エトキシマグネシウムイオ
ダイド等のアルコキシマグネシウムハライド、アリロキ
シマグネシウムハライド、塩化マグネシウム,臭化マグ
ネシウム,ヨウ化マグネシウム等のハロゲン化マグネシ
ウム等を挙げることができる。これらのマグネシウム化
合物の中でも重合活性および立体規則性の面から、マグ
ネシウムハライド,アルコキシマグネシウム,アルキル
マグネシウム,アルキルマグネシウムハライドが好適に
使用できる。上記のマグネシウム化合物は、金属マグネ
シウム、またはマグネシウムを含有する化合物から調製
することができる。その一例としては、金属マグネシウ
ムにハロゲン化合物および一般式X2 mM(OR17)
n-m で表されるアルコキシ基含有化合物(式中、X2 は
水素原子,ハロゲン原子または炭素数1〜20個の炭化
水素基を示し、Mはホウ素,炭素,アルミニウム,ケイ
素またはリン原子を示し、またR17は炭素数1〜20個
の炭化水素基を示す。nはMの原子価,n>m≧0を示
す。)を接触させる方法が挙げられる。ここで、ハロゲ
ン化物としては、四塩化ケイ素,四臭化ケイ素,四塩化
スズ,四臭化スズ,塩化水素等が挙げられる。これらの
中では四塩化ケイ素が好ましい。上記のX2 及びR17の
炭化水素基としては、メチル基,エチル基,プロピル
基,イソプロピル基,ブチル基,イソブチル基,ヘキシ
ル基,オクチル基等のアルキル基、シクロヘキル基,ア
リル基,プロペニル基,ブテニル基等のアルケニル基、
フェニル基,トリル基,キシリル基等のアリール基、フ
ェネチル基,3−フェニルプロピル基等のアラルキル基
等が挙げられる。これらの中では特に炭素数1〜10個
のアルキル基が好ましい。また他の一例として、Mg
(OR 18)2 で表されるマグネシウムアルコキシ化合物
(式中、R18は、炭素数1〜20個の炭化水素基を示
す。)にハロゲン化物を接触させる方法が挙げられる。
上記のハロゲン化物としては、四塩化ケイ素,四臭化ケ
イ素,四塩化スズ,四臭化スズ,塩化水素等が挙げられ
る。これらの中では重合活性および立体規則性の面か
ら、四塩化ケイ素が好ましい。上記のR18としては、メ
チル基,エチル基,プロピル基,イソプロピル基,ブチ
ル基,イソブチル基,ヘキシル基,オクチル基等のアル
キル基、シクロヘキシル基,アリル基,プロペニル基,
ブテニル基等のアルケニル基、フェニル基,トリル基,
キシリル基等のアリール基、フェネチル基,3−フェニ
ルプロピル基等のアラルキル基等が挙げられる。これら
の中では特に炭素数1〜10個のアルキル基が好まし
い。なお、これらのマグネシウム化合物は単独でも良い
し、2種以上組み合わせて用いてもよい。また、シリ
カ,アルミナ,ポリスチレン等の支持体に担持して用い
てもよく、ハロゲン等の混合物として用いてもよい。
しては、ジメチルマグネシウム,ジエチルマグネシウ
ム,ジイソプロピルマグネシウム,ジブチルマグネシウ
ム,ジヘキシルマグネシウム,ジオクチルマグネシウ
ム,エチルブチルマグネシウム,ジフェニルマグネシウ
ム,ジシクロヘキシルマグネシウム等のアルキルマグネ
シウム、アリールマグネシウム、ジメトキシマグネシウ
ム,ジエトキシマグネシウム,ジプロポキシマグネシウ
ム,ジブトキシマグネシウム,ジヘキシロキシマグネシ
ウム,ジオクトキシマグネシウム,ジフェノキシマグネ
シウム,ジシクロヘキシロキシマグネシウム等のアルコ
キシマグネシウム、アリロキシマグネシウム、エチルマ
グネシウムクロリド,ブチルマグネシウムクロリド,ヘ
キシルマグネシウムクロリド,イソプロピルマグネシウ
ムクロリド,イソブチルマグネシウムクロリド,t−ブ
チルマグネシウムクロリド,フェニルマグネシウムブロ
ミド,ベンジルマグネシウムクロリド,エチルマグネシ
ウムブロミド,ブチルマグネシウムブロミド,フェニル
マグネシウムクロリド,ブチルマグネシウムイオダイド
等のアルキルマグネシウムハライド、アリールマグネシ
ウムハライド,ブトキシマグネシウムクロリド,シクロ
ヘキシロキシマグネシウムクロリド,フェノキシマグネ
シウムクロリド,エトキシマグネシウムブロミド,ブト
キシマグネシウムブロミド,エトキシマグネシウムイオ
ダイド等のアルコキシマグネシウムハライド、アリロキ
シマグネシウムハライド、塩化マグネシウム,臭化マグ
ネシウム,ヨウ化マグネシウム等のハロゲン化マグネシ
ウム等を挙げることができる。これらのマグネシウム化
合物の中でも重合活性および立体規則性の面から、マグ
ネシウムハライド,アルコキシマグネシウム,アルキル
マグネシウム,アルキルマグネシウムハライドが好適に
使用できる。上記のマグネシウム化合物は、金属マグネ
シウム、またはマグネシウムを含有する化合物から調製
することができる。その一例としては、金属マグネシウ
ムにハロゲン化合物および一般式X2 mM(OR17)
n-m で表されるアルコキシ基含有化合物(式中、X2 は
水素原子,ハロゲン原子または炭素数1〜20個の炭化
水素基を示し、Mはホウ素,炭素,アルミニウム,ケイ
素またはリン原子を示し、またR17は炭素数1〜20個
の炭化水素基を示す。nはMの原子価,n>m≧0を示
す。)を接触させる方法が挙げられる。ここで、ハロゲ
ン化物としては、四塩化ケイ素,四臭化ケイ素,四塩化
スズ,四臭化スズ,塩化水素等が挙げられる。これらの
中では四塩化ケイ素が好ましい。上記のX2 及びR17の
炭化水素基としては、メチル基,エチル基,プロピル
基,イソプロピル基,ブチル基,イソブチル基,ヘキシ
ル基,オクチル基等のアルキル基、シクロヘキル基,ア
リル基,プロペニル基,ブテニル基等のアルケニル基、
フェニル基,トリル基,キシリル基等のアリール基、フ
ェネチル基,3−フェニルプロピル基等のアラルキル基
等が挙げられる。これらの中では特に炭素数1〜10個
のアルキル基が好ましい。また他の一例として、Mg
(OR 18)2 で表されるマグネシウムアルコキシ化合物
(式中、R18は、炭素数1〜20個の炭化水素基を示
す。)にハロゲン化物を接触させる方法が挙げられる。
上記のハロゲン化物としては、四塩化ケイ素,四臭化ケ
イ素,四塩化スズ,四臭化スズ,塩化水素等が挙げられ
る。これらの中では重合活性および立体規則性の面か
ら、四塩化ケイ素が好ましい。上記のR18としては、メ
チル基,エチル基,プロピル基,イソプロピル基,ブチ
ル基,イソブチル基,ヘキシル基,オクチル基等のアル
キル基、シクロヘキシル基,アリル基,プロペニル基,
ブテニル基等のアルケニル基、フェニル基,トリル基,
キシリル基等のアリール基、フェネチル基,3−フェニ
ルプロピル基等のアラルキル基等が挙げられる。これら
の中では特に炭素数1〜10個のアルキル基が好まし
い。なお、これらのマグネシウム化合物は単独でも良い
し、2種以上組み合わせて用いてもよい。また、シリ
カ,アルミナ,ポリスチレン等の支持体に担持して用い
てもよく、ハロゲン等の混合物として用いてもよい。
【0041】ところで、この担体の粒径は、通常1〜3
00μmであり、好ましくは10〜200μm、より好
ましくは20〜100μmである。この粒径が1μmよ
りも小さいと重合体中の微粉が増大し、300μmを超
えるものであると重合体中の粗大粒子が増大し、嵩密度
の低下や製造工程でホッパーつまりの原因となる。この
場合の担体の比表面積は、通常1〜1000m2 /g、
好ましくは50〜500m2 /gであり、細孔容積は、
通常0.1〜5m3 /g、好ましくは0.3〜3m 3 /gで
ある。
00μmであり、好ましくは10〜200μm、より好
ましくは20〜100μmである。この粒径が1μmよ
りも小さいと重合体中の微粉が増大し、300μmを超
えるものであると重合体中の粗大粒子が増大し、嵩密度
の低下や製造工程でホッパーつまりの原因となる。この
場合の担体の比表面積は、通常1〜1000m2 /g、
好ましくは50〜500m2 /gであり、細孔容積は、
通常0.1〜5m3 /g、好ましくは0.3〜3m 3 /gで
ある。
【0042】この(B)成分の担体は、一種を単独で用
いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。本
発明の重合用触媒においては、前記(A)成分の遷移金
属錯体と(B)成分の担体との使用割合は、重量比で、
好ましくは1:2000〜10:1、より好ましくは
1:1000〜1:1の範囲で選定される。該(B)触
媒成分を用いることにより、遷移金属当たりの重合活性
を向上させることができるが、あまり多い場合、特に上
記範囲を逸脱する場合は担体が無駄になるとともに、重
合体中に多量に残存し、また少ない場合は充分な触媒活
性が得られず、好ましくない場合がある。本発明の重合
用触媒は、前記の(A)成分の遷移金属錯体と(B)成
分の担体と、さらに(C)成分として有機アルミニウム
化合物を含むものである。
いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。本
発明の重合用触媒においては、前記(A)成分の遷移金
属錯体と(B)成分の担体との使用割合は、重量比で、
好ましくは1:2000〜10:1、より好ましくは
1:1000〜1:1の範囲で選定される。該(B)触
媒成分を用いることにより、遷移金属当たりの重合活性
を向上させることができるが、あまり多い場合、特に上
記範囲を逸脱する場合は担体が無駄になるとともに、重
合体中に多量に残存し、また少ない場合は充分な触媒活
性が得られず、好ましくない場合がある。本発明の重合
用触媒は、前記の(A)成分の遷移金属錯体と(B)成
分の担体と、さらに(C)成分として有機アルミニウム
化合物を含むものである。
【0043】ここで、(C)成分の有機アルミニウム化
合物としては、例えば一般式(II) R12 v AlQ3-v ・・・(II) (式中、R12は炭素数1〜10のアルキル基、Qは水素
原子,ハロゲン原子,炭素数1〜20のアルコキシル基
又は炭素数6〜20のアリール基、vは1〜3の数を示
す。)で表される化合物、あるいは一般式(III)又は
(IV)
合物としては、例えば一般式(II) R12 v AlQ3-v ・・・(II) (式中、R12は炭素数1〜10のアルキル基、Qは水素
原子,ハロゲン原子,炭素数1〜20のアルコキシル基
又は炭素数6〜20のアリール基、vは1〜3の数を示
す。)で表される化合物、あるいは一般式(III)又は
(IV)
【0044】
【化28】
【0045】(式中、R13は、それぞれ炭素数1〜2
0、好ましくは1〜8のアルキル基を示し、各R13は同
じであっても異なっていてもよい。また、pは2<p≦
40、rは1<r≦50の整数である。)で表される有
機アルミニウムオキシ化合などを挙げることができる。
上記一般式(II) で表される化合物の例としては、トリ
メチルアルミニウム,トリエチルアルミニウム,トリイ
ソプロピルアルミニウム,トリイソブチルアルミニウ
ム,ジメチルアルミニウムクロリド,ジエチルアルミニ
ウムクロリド,メチルアルミニウムジクロリド,エチル
アルミニウムジクロリド,ジメチルアルミニウムフルオ
リド,ジイソブチルアルミニウムヒドリド,ジエチルア
ルミニウムヒドリド,エチルアルミニウムセスキクロリ
ド等が挙げられる。
0、好ましくは1〜8のアルキル基を示し、各R13は同
じであっても異なっていてもよい。また、pは2<p≦
40、rは1<r≦50の整数である。)で表される有
機アルミニウムオキシ化合などを挙げることができる。
上記一般式(II) で表される化合物の例としては、トリ
メチルアルミニウム,トリエチルアルミニウム,トリイ
ソプロピルアルミニウム,トリイソブチルアルミニウ
ム,ジメチルアルミニウムクロリド,ジエチルアルミニ
ウムクロリド,メチルアルミニウムジクロリド,エチル
アルミニウムジクロリド,ジメチルアルミニウムフルオ
リド,ジイソブチルアルミニウムヒドリド,ジエチルア
ルミニウムヒドリド,エチルアルミニウムセスキクロリ
ド等が挙げられる。
【0046】一方、上記一般式(III)又は(IV) で表さ
れる有機アルミニウムオキシ化合物としては、例えばメ
チルアルミノキサン,エチルアルミノキサン,イソブチ
ルアルミノキサンなどのアルミノキサンが挙げられる。
このアルミノキサンの製造法としては、アルキルアルミ
ニウムと水などの縮合剤とを接触させる方法が挙げられ
るが、その手段については特に限定はなく、公知の方法
に準じて反応させればよい。例えば有機アルミニウム化
合物を有機溶剤に溶解しておき、これを水と接触させる
方法、重合時に当初有機アルミニウム化合物を加えてお
き、後に水を添加する方法、金属塩などに含有されてい
る結晶水、無機物や有機物の吸着水を有機アルミニウム
化合物と反応させる方法、チトラアルキルジアルミノキ
サンにトリアルキルアルミニウムを反応させ、さらに水
を反応させる方法などがある。なお、アルミノキサンと
しては、トルエン不溶性のものであってもよい。この
(C)成分の有機アルミニウム化合物としては、トリア
ルキルアルミニウムが好ましく、中でもトリメチルアル
ミニウム及びトリイソブチルアルミニウムが好ましい。
れる有機アルミニウムオキシ化合物としては、例えばメ
チルアルミノキサン,エチルアルミノキサン,イソブチ
ルアルミノキサンなどのアルミノキサンが挙げられる。
このアルミノキサンの製造法としては、アルキルアルミ
ニウムと水などの縮合剤とを接触させる方法が挙げられ
るが、その手段については特に限定はなく、公知の方法
に準じて反応させればよい。例えば有機アルミニウム化
合物を有機溶剤に溶解しておき、これを水と接触させる
方法、重合時に当初有機アルミニウム化合物を加えてお
き、後に水を添加する方法、金属塩などに含有されてい
る結晶水、無機物や有機物の吸着水を有機アルミニウム
化合物と反応させる方法、チトラアルキルジアルミノキ
サンにトリアルキルアルミニウムを反応させ、さらに水
を反応させる方法などがある。なお、アルミノキサンと
しては、トルエン不溶性のものであってもよい。この
(C)成分の有機アルミニウム化合物としては、トリア
ルキルアルミニウムが好ましく、中でもトリメチルアル
ミニウム及びトリイソブチルアルミニウムが好ましい。
【0047】本発明の重合用触媒においては、この
(C)成分の有機アルミニウム化合物は、一種を単独で
用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
また、前記(A)成分の遷移金属錯体と、この(C)成
分の有機アルミニウム化合物との使用割合は、モル比
で、好ましくは1:1〜1:100000、より好まし
くは1:5〜1:10000、さらに好ましくは1:1
0ないし1:5000の範囲が望ましい。該(C)触媒
成分を用いることにより、遷移金属当たりの重合活性を
向上させることができるが、あまり多い場合、特に上記
範囲を逸脱する場合は有機アルミニウム化合物が無駄に
なるとともに、重合体中に多量に残存し、また少ない場
合は充分な触媒活性が得られず、好ましくない場合があ
る。
(C)成分の有機アルミニウム化合物は、一種を単独で
用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
また、前記(A)成分の遷移金属錯体と、この(C)成
分の有機アルミニウム化合物との使用割合は、モル比
で、好ましくは1:1〜1:100000、より好まし
くは1:5〜1:10000、さらに好ましくは1:1
0ないし1:5000の範囲が望ましい。該(C)触媒
成分を用いることにより、遷移金属当たりの重合活性を
向上させることができるが、あまり多い場合、特に上記
範囲を逸脱する場合は有機アルミニウム化合物が無駄に
なるとともに、重合体中に多量に残存し、また少ない場
合は充分な触媒活性が得られず、好ましくない場合があ
る。
【0048】本発明のオレフィン類重合用触媒において
は、必要に応じ、さらに(D)成分として電子供与性化
合物を用いることができる。この(D)電子供与性化合
物としては、Si−O−C結合を有する有機ケイ素化合
物,窒素含有化合物,リン含有化合物,酸素含有化合
物,アルコール類,フェノール類,ケトン類,アルデヒ
ド類,カルボン酸類,有機若しくは無機酸のエステル
類,モノエーテル,ジエーテル若しくはポリエーテル等
のエーテル類等の含酸素電子供与体、アンモニア,アミ
ン,ニトリル,イソシアネート等の含窒素電子供与体な
どを挙げることができる。また、エステルとしては、エ
ステル部の有機基が直鎖,分岐又は環状の脂肪族炭化水
素が好ましい。このうち、重合活性又は立体規則性の面
から、Si−O−C結合を有する有機ケイ素化合物,エ
ーテル類およびエステル類を用いることが好ましい。
は、必要に応じ、さらに(D)成分として電子供与性化
合物を用いることができる。この(D)電子供与性化合
物としては、Si−O−C結合を有する有機ケイ素化合
物,窒素含有化合物,リン含有化合物,酸素含有化合
物,アルコール類,フェノール類,ケトン類,アルデヒ
ド類,カルボン酸類,有機若しくは無機酸のエステル
類,モノエーテル,ジエーテル若しくはポリエーテル等
のエーテル類等の含酸素電子供与体、アンモニア,アミ
ン,ニトリル,イソシアネート等の含窒素電子供与体な
どを挙げることができる。また、エステルとしては、エ
ステル部の有機基が直鎖,分岐又は環状の脂肪族炭化水
素が好ましい。このうち、重合活性又は立体規則性の面
から、Si−O−C結合を有する有機ケイ素化合物,エ
ーテル類およびエステル類を用いることが好ましい。
【0049】ここで、Si−O−C結合を有する有機ケ
イ素化合物の具体例としては、テトラメトキシシラン,
テトラエトキシシラン,テトラブトキシシラン,テトラ
イソブトキシシラン,トリメチルメトキシシラン,トリ
メチルエトキシシラン,トリエチルメトキシシラン,ト
リエチルエトキシシラン,エチルイソプロピルジメトキ
シシラン,プロピルイソプロピルジメトキシシラン,ジ
イソプロピルジメトキシシラン,ジイソブチルジメトキ
シシラン,イソプロピルイソブチルジメトキシシラン,
ジ−t−ブチルジメトキシシラン,t−ブチルメチルジ
メトキシシラン,t−ブチルエチルジメトキシシラン,
t−ブチルプロピルジメトキシシラン,t−ブチルイソ
プロピルジメトキシシラン,t−ブチルブチルジメトキ
シシラン,tブチルイソブチルジメトキシシラン,t−
ブチル(s−ブチル)ジメトキシシラン,t−ブチルア
ミルジメトキシシラン,t−ブチルヘキシルジメトキシ
シラン,t−ブチルヘプチルジメトキシシラン,t−ブ
チルオクチルジメトキシシラン,t−ブチルノニルジメ
トキシシラン,t−ブチルデシルジメトキシシラン,t
−ブチル(3,3,3−トリフルオロメチルプロピル)
ジメトキシシラン,シクロヘキシルメチルジメトキシシ
ラン,シクロヘキシルエチルジメトキシシラン,シクロ
ヘキシルプロピルジメトキシシラン,シクロペンチル−
t−ブチルジメトキシシラン,シクロヘキシルt−ブチ
ルジメトキシシラン,ジシクロペンチルジメトキシシラ
ン,ジシクロヘキシルジメトキシシラン,ビス(2−メ
チルシクロペンチル)ジメトキシシラン,ビス(2,3
−ジメチルシクロペンチル)ジメトキシシラン,ジフェ
ニルジメトキシシラン,フェニルトリエトキシシラン,
メチルトリメトキシシラン,エチルトリメトキシシラ
ン,プロピルトリメトキシシラン,イソプロピルトリメ
トキシシラン,ブチルトリメトキシシラン,イソブルト
リメトキシシラン,t−ブチルトリメトキシシラン,s
−ブチルトリメトキシシラン,アミルトリメトキシシラ
ン,イソアミルトリメトキシシラン,シクロペンチルト
リメトキシシラン,シクロヘキシルトリメトキシシラ
ン,ノルボルナントリメトキシシラン,インデニルトリ
メトキシシラン,2−メチルシクロペンチルトリメトキ
シシラン,インデニルトリメトキシシラン,2−メチル
シクロペンチルトリメトキシシラン,シクロペンチル
(t−ブトキシ)ジメトキシシラン,イソプロピル(t
−ブトキシ)ジメトキシシラン,t−ブチル(イソブト
キシ)ジメトキシシラン,t−ブチル(t−ブトキシ)
ジメトキシシラン,テキシルトリメトキシシラン,テキ
シルイソプロポキシジメトキシシラン,テキシル(t−
ブトキシ)ジメトキシシラン,テキシルメチルジメトキ
シシラン,テキシルエチルジメトキシシラン,テキシル
イソプロピルジメトキシシラン,テキシルシクロペンチ
ルジメトキシシラン,テキシルミリスチルジメトキシシ
ラン,テキシルシクロヘキシルジメトキシシラン等が挙
げられる。
イ素化合物の具体例としては、テトラメトキシシラン,
テトラエトキシシラン,テトラブトキシシラン,テトラ
イソブトキシシラン,トリメチルメトキシシラン,トリ
メチルエトキシシラン,トリエチルメトキシシラン,ト
リエチルエトキシシラン,エチルイソプロピルジメトキ
シシラン,プロピルイソプロピルジメトキシシラン,ジ
イソプロピルジメトキシシラン,ジイソブチルジメトキ
シシラン,イソプロピルイソブチルジメトキシシラン,
ジ−t−ブチルジメトキシシラン,t−ブチルメチルジ
メトキシシラン,t−ブチルエチルジメトキシシラン,
t−ブチルプロピルジメトキシシラン,t−ブチルイソ
プロピルジメトキシシラン,t−ブチルブチルジメトキ
シシラン,tブチルイソブチルジメトキシシラン,t−
ブチル(s−ブチル)ジメトキシシラン,t−ブチルア
ミルジメトキシシラン,t−ブチルヘキシルジメトキシ
シラン,t−ブチルヘプチルジメトキシシラン,t−ブ
チルオクチルジメトキシシラン,t−ブチルノニルジメ
トキシシラン,t−ブチルデシルジメトキシシラン,t
−ブチル(3,3,3−トリフルオロメチルプロピル)
ジメトキシシラン,シクロヘキシルメチルジメトキシシ
ラン,シクロヘキシルエチルジメトキシシラン,シクロ
ヘキシルプロピルジメトキシシラン,シクロペンチル−
t−ブチルジメトキシシラン,シクロヘキシルt−ブチ
ルジメトキシシラン,ジシクロペンチルジメトキシシラ
ン,ジシクロヘキシルジメトキシシラン,ビス(2−メ
チルシクロペンチル)ジメトキシシラン,ビス(2,3
−ジメチルシクロペンチル)ジメトキシシラン,ジフェ
ニルジメトキシシラン,フェニルトリエトキシシラン,
メチルトリメトキシシラン,エチルトリメトキシシラ
ン,プロピルトリメトキシシラン,イソプロピルトリメ
トキシシラン,ブチルトリメトキシシラン,イソブルト
リメトキシシラン,t−ブチルトリメトキシシラン,s
−ブチルトリメトキシシラン,アミルトリメトキシシラ
ン,イソアミルトリメトキシシラン,シクロペンチルト
リメトキシシラン,シクロヘキシルトリメトキシシラ
ン,ノルボルナントリメトキシシラン,インデニルトリ
メトキシシラン,2−メチルシクロペンチルトリメトキ
シシラン,インデニルトリメトキシシラン,2−メチル
シクロペンチルトリメトキシシラン,シクロペンチル
(t−ブトキシ)ジメトキシシラン,イソプロピル(t
−ブトキシ)ジメトキシシラン,t−ブチル(イソブト
キシ)ジメトキシシラン,t−ブチル(t−ブトキシ)
ジメトキシシラン,テキシルトリメトキシシラン,テキ
シルイソプロポキシジメトキシシラン,テキシル(t−
ブトキシ)ジメトキシシラン,テキシルメチルジメトキ
シシラン,テキシルエチルジメトキシシラン,テキシル
イソプロピルジメトキシシラン,テキシルシクロペンチ
ルジメトキシシラン,テキシルミリスチルジメトキシシ
ラン,テキシルシクロヘキシルジメトキシシラン等が挙
げられる。
【0050】窒素含有化合物の具体例としては、2,6
−ジイソプロピルピペリジン,2,6−ジイソプロピル
−4−メチルピペリジン,N−メチル−2,2,6,6
−テトラメチルピペリジンなどの2,6−置換ピペリジ
ン類;2,5−ジイソプロピルアゾリジン,N−メチル
−2,2,5,6−テトラメチルアゾリジンなどの2,
5−置換アゾリジン類;N,N,N’,N’−テトラメ
チルメチレンジアミン,N,N,N’,N’−テトラエ
チルメチレンジアミンなどの置換メチレンジアミン類;
1,3−ジベンジルイミダゾリジン,1,3−ジベンジ
ル−2−フェニルイミダゾリジンなどの置換イミダゾリ
ジン類等が挙げられる。リン含有化合物の具体例として
は、トリエチルホスファイト,トリ−n−プロピルホス
ファイト,トリイソプロピルホスファイト,トリ−n−
ブチルホスファイト,トリイソブチルホスファイト,ジ
エチル−n−ブチルホスファイト,ジエチルフェニルホ
スファイトなどの亜リン酸エステル類等である。酸素含
有化合物の具体例としては、2,2,6,6−テトラメ
チルテトラヒドロフラン,2,2,6,6−テトラエチ
ルテトラヒドロフランなどの2,6−置換テトラヒドロ
フラン類;1,1−ジメトキシ−2,3,4,5−テト
ラクロロシクロペンタジエン,9,9−ジメトキフルオ
レン,ジフェニルジメトキシメタンなどのジメトキシメ
タン誘導体等が挙げられる。
−ジイソプロピルピペリジン,2,6−ジイソプロピル
−4−メチルピペリジン,N−メチル−2,2,6,6
−テトラメチルピペリジンなどの2,6−置換ピペリジ
ン類;2,5−ジイソプロピルアゾリジン,N−メチル
−2,2,5,6−テトラメチルアゾリジンなどの2,
5−置換アゾリジン類;N,N,N’,N’−テトラメ
チルメチレンジアミン,N,N,N’,N’−テトラエ
チルメチレンジアミンなどの置換メチレンジアミン類;
1,3−ジベンジルイミダゾリジン,1,3−ジベンジ
ル−2−フェニルイミダゾリジンなどの置換イミダゾリ
ジン類等が挙げられる。リン含有化合物の具体例として
は、トリエチルホスファイト,トリ−n−プロピルホス
ファイト,トリイソプロピルホスファイト,トリ−n−
ブチルホスファイト,トリイソブチルホスファイト,ジ
エチル−n−ブチルホスファイト,ジエチルフェニルホ
スファイトなどの亜リン酸エステル類等である。酸素含
有化合物の具体例としては、2,2,6,6−テトラメ
チルテトラヒドロフラン,2,2,6,6−テトラエチ
ルテトラヒドロフランなどの2,6−置換テトラヒドロ
フラン類;1,1−ジメトキシ−2,3,4,5−テト
ラクロロシクロペンタジエン,9,9−ジメトキフルオ
レン,ジフェニルジメトキシメタンなどのジメトキシメ
タン誘導体等が挙げられる。
【0051】エステル類としては、安息香酸,フタル
酸,ナフタレン−1,2−ジカルボン酸,ナフタレン−
2,3−ジカルボン酸,5,6,7,8−テトラヒドロ
ナフタレン−1,2−ジカルボン酸,5,6,7,8−
テトラヒドロナフタレン−2,3−ジカルボン酸,イン
ダン−4,5−ジカルボン酸,インダン−5,6−ジカ
ルボン酸等のジカルボン酸のメチル,エチル,n−プロ
ピル,イソプロピル,n−ブチル,イソブチル,t−ブ
チル,n−ペンチル,1−メチルブチル,2−メチルブ
チル,3−メチルブチル,1,1−ジメチルプロピル,
1−メチルペンチル,2−メチルペンチル,3−メチル
ペンチル,4−メチルペンチル,1−エチルブチル,2
−エチルブチル,n−ヘキシル,シクロヘキシル,n−
ヘプチル,n−オクチル,n−ノニル,2−メチルヘキ
シル,3−メチルヘキシル,4−メチルヘキシル,2−
エチルヘキシル,3−エチルヘキシル,4−エチルヘキ
シル,2−メチルペンチル,3−メチルペンチル,2−
エチルペンチル,3−エチルペンチル等のモノアルキル
エステルあるいは、ジアルキルエステルが挙げられる。
これらの中では、安息香酸エステル類が好ましい。これ
らの(D)成分の電子供与性化合物は、一種を単独で用
いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
酸,ナフタレン−1,2−ジカルボン酸,ナフタレン−
2,3−ジカルボン酸,5,6,7,8−テトラヒドロ
ナフタレン−1,2−ジカルボン酸,5,6,7,8−
テトラヒドロナフタレン−2,3−ジカルボン酸,イン
ダン−4,5−ジカルボン酸,インダン−5,6−ジカ
ルボン酸等のジカルボン酸のメチル,エチル,n−プロ
ピル,イソプロピル,n−ブチル,イソブチル,t−ブ
チル,n−ペンチル,1−メチルブチル,2−メチルブ
チル,3−メチルブチル,1,1−ジメチルプロピル,
1−メチルペンチル,2−メチルペンチル,3−メチル
ペンチル,4−メチルペンチル,1−エチルブチル,2
−エチルブチル,n−ヘキシル,シクロヘキシル,n−
ヘプチル,n−オクチル,n−ノニル,2−メチルヘキ
シル,3−メチルヘキシル,4−メチルヘキシル,2−
エチルヘキシル,3−エチルヘキシル,4−エチルヘキ
シル,2−メチルペンチル,3−メチルペンチル,2−
エチルペンチル,3−エチルペンチル等のモノアルキル
エステルあるいは、ジアルキルエステルが挙げられる。
これらの中では、安息香酸エステル類が好ましい。これ
らの(D)成分の電子供与性化合物は、一種を単独で用
いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
【0052】本発明の重合用触媒は、前記(A)成分の
遷移金属錯体、(B)成分の担体及び必要に応じて用い
られる(C)成分の有機アルミニウム化合物や(D)成
分の電子供与性化合物を接触させることにより調製する
ことができる。この接触は、窒素等の不活性気体中,ペ
ンタン,ヘキサン,ヘプタン,トルエン,キシレン等の
炭化水素中で行ってもよい。各成分の添加または接触
は、−30℃〜200℃の範囲で行うのが好ましい。
遷移金属錯体、(B)成分の担体及び必要に応じて用い
られる(C)成分の有機アルミニウム化合物や(D)成
分の電子供与性化合物を接触させることにより調製する
ことができる。この接触は、窒素等の不活性気体中,ペ
ンタン,ヘキサン,ヘプタン,トルエン,キシレン等の
炭化水素中で行ってもよい。各成分の添加または接触
は、−30℃〜200℃の範囲で行うのが好ましい。
【0053】本発明のオレフィン系重合体の製造方法に
おいては、前述のようにして得られたオレフィン類重合
用触媒の存在下に、オレフィン類の単独重合、又はオレ
フィンと他のオレフィン類及び/又は他の単量体との共
重合(つまり、異種のオレフィン類相互との共重合、オ
レフィン類と他の単量体との共重合、あるいは異種のオ
レフィン類相互と他の単量体との共重合)を好適に行う
ことができる。
おいては、前述のようにして得られたオレフィン類重合
用触媒の存在下に、オレフィン類の単独重合、又はオレ
フィンと他のオレフィン類及び/又は他の単量体との共
重合(つまり、異種のオレフィン類相互との共重合、オ
レフィン類と他の単量体との共重合、あるいは異種のオ
レフィン類相互と他の単量体との共重合)を好適に行う
ことができる。
【0054】該オレフィン類については特に制限はない
が、炭素数2〜20のα−オレフィンが好ましい。この
α−オレフィンとしては、例えばエチレン,プロピレ
ン,1−ブテン,1−ペンテン,1−ヘキセン,1−ヘ
プテン,1−オクテン,1−ノネン,1−デセン,4−
フェニル−1−ブテン,6−フェニル−1−ヘキセン,
3−メチル−1−ブテン,4−メチル−1−ブテン,3
−メチル−1−ペンテン,4−メチル−1−ヘキセン,
5−メチル−1−ヘキセン,3,3−ジメチル−1−ペ
ンテン,3,4−ジメチル−1−ペンテン,4,4−ジ
メチル−1−ペンテン,ビニルシクロヘキサン等のα−
オレフィン類、1,3−ブタジエン,イソプレン,1,
4−ペンタジエン,1,5−ヘキサジエン等のジエン
類、ヘキサフルオロプロペン,テトラフルオロエチレ
ン,2−フルオロプロペン,フルオロエチレン,1,1
−ジフルオロエチレン,3−フルオロプロペン,トリフ
ルオロエチレン,3,4−ジクロロ−1−ブテン等のハ
ロゲン置換α−オレフィン、クロペンテン,シクロヘキ
セン,ノルボルネン,5−メチルノルボルネン,5−エ
チルノルボルネン,5−プロピルノルボルネン,5,6
−ジメチルノルボルネン,5−ベンジルノルボルネン等
の環状オレフィン類、スチレン系としては、スチレン,
p−メチルスチレン,p−エチルスチレン,p−プロピ
ルスチレン,p−イソプロピルスチレン,p−ブチルス
チレン,p−tert−ブチルスチレン,p−フェニル
スチレン,o−メチルスチレン,o−エチルスチレン,
o−プロピルスチレン,o−イソプロピルスチレン,m
−メチルスチレン,m−エチルスチレン,m−イソプロ
ピルスチレン,m−ブチルスチレン,メシチルスチレ
ン,2,4−ジメチルスチレン,2,5−ジメチルスチ
レン,3,5−ジメチルスチレン等のアルキルスチレン
類、p−メトキシスチレン,o−メトキシスチレン,m
−メトキシスチレン等のアルコキシスチレン類、p−ク
ロロスチレン,m−クロロスチレン,o−クロロスチレ
ン,p−プロモスチレン,m−プロモスチレン,o−プ
ロモスチレン,p−フルオロスチレン,m−フルオロス
チレン,o−フルオロスチレン,o−メチル−p−フル
オロスチレン等のハロゲン化スチレン、更にはトリメチ
ルシリルスチレン,ビニル安息香酸エステル,ジビニル
ベンゼン等が挙げられる。また、上述した他のオレフィ
ン類についても、上記オレフィン類の中から適宜選定す
れば良い。
が、炭素数2〜20のα−オレフィンが好ましい。この
α−オレフィンとしては、例えばエチレン,プロピレ
ン,1−ブテン,1−ペンテン,1−ヘキセン,1−ヘ
プテン,1−オクテン,1−ノネン,1−デセン,4−
フェニル−1−ブテン,6−フェニル−1−ヘキセン,
3−メチル−1−ブテン,4−メチル−1−ブテン,3
−メチル−1−ペンテン,4−メチル−1−ヘキセン,
5−メチル−1−ヘキセン,3,3−ジメチル−1−ペ
ンテン,3,4−ジメチル−1−ペンテン,4,4−ジ
メチル−1−ペンテン,ビニルシクロヘキサン等のα−
オレフィン類、1,3−ブタジエン,イソプレン,1,
4−ペンタジエン,1,5−ヘキサジエン等のジエン
類、ヘキサフルオロプロペン,テトラフルオロエチレ
ン,2−フルオロプロペン,フルオロエチレン,1,1
−ジフルオロエチレン,3−フルオロプロペン,トリフ
ルオロエチレン,3,4−ジクロロ−1−ブテン等のハ
ロゲン置換α−オレフィン、クロペンテン,シクロヘキ
セン,ノルボルネン,5−メチルノルボルネン,5−エ
チルノルボルネン,5−プロピルノルボルネン,5,6
−ジメチルノルボルネン,5−ベンジルノルボルネン等
の環状オレフィン類、スチレン系としては、スチレン,
p−メチルスチレン,p−エチルスチレン,p−プロピ
ルスチレン,p−イソプロピルスチレン,p−ブチルス
チレン,p−tert−ブチルスチレン,p−フェニル
スチレン,o−メチルスチレン,o−エチルスチレン,
o−プロピルスチレン,o−イソプロピルスチレン,m
−メチルスチレン,m−エチルスチレン,m−イソプロ
ピルスチレン,m−ブチルスチレン,メシチルスチレ
ン,2,4−ジメチルスチレン,2,5−ジメチルスチ
レン,3,5−ジメチルスチレン等のアルキルスチレン
類、p−メトキシスチレン,o−メトキシスチレン,m
−メトキシスチレン等のアルコキシスチレン類、p−ク
ロロスチレン,m−クロロスチレン,o−クロロスチレ
ン,p−プロモスチレン,m−プロモスチレン,o−プ
ロモスチレン,p−フルオロスチレン,m−フルオロス
チレン,o−フルオロスチレン,o−メチル−p−フル
オロスチレン等のハロゲン化スチレン、更にはトリメチ
ルシリルスチレン,ビニル安息香酸エステル,ジビニル
ベンゼン等が挙げられる。また、上述した他のオレフィ
ン類についても、上記オレフィン類の中から適宜選定す
れば良い。
【0055】本発明においては、上記オレフィン類は一
種用いてもよいし、二種以上を組み合わせて用いてもよ
い。二種以上のオレフィンの共重合を行う場合、上記オ
レフィン類を任意に組み合わせることができる。また、
本発明においては、上記オレフィン類と他の単量体とを
共重合させてもよく、この際用いられる他の単量体とし
ては、例えば1,4,5,8−ジメタノ−1,2,3,
4,4a,5,8,8a−オクタヒドロナフタレン等の
多環状オレフィン類、ノルボルナジエン,5−エチリデ
ンノルボルネン,5−ビニルノルボルネン,ジシクロペ
ンタジエンなどの環状ジオレフィン類、アクリル酸エチ
ル,メタクリル酸メチルなどの不飽和エステル類などを
挙げることができる。
種用いてもよいし、二種以上を組み合わせて用いてもよ
い。二種以上のオレフィンの共重合を行う場合、上記オ
レフィン類を任意に組み合わせることができる。また、
本発明においては、上記オレフィン類と他の単量体とを
共重合させてもよく、この際用いられる他の単量体とし
ては、例えば1,4,5,8−ジメタノ−1,2,3,
4,4a,5,8,8a−オクタヒドロナフタレン等の
多環状オレフィン類、ノルボルナジエン,5−エチリデ
ンノルボルネン,5−ビニルノルボルネン,ジシクロペ
ンタジエンなどの環状ジオレフィン類、アクリル酸エチ
ル,メタクリル酸メチルなどの不飽和エステル類などを
挙げることができる。
【0056】本発明においては、このオレフィン類とし
て、特にプロピレンが好適であり、プロピレンを重合さ
せることにより、立体規則性の高いアイソタクチックポ
リプロピレンが効率よく得られる。また、オレフィン類
を重合させる方法については特に制限はなく、スラリー
重合法,溶液重合法,気相重合法,塊状重合法,懸濁重
合法など、任意の重合法を採用する事ができる。重合溶
媒を用いる場合には、その溶媒としては、ベンゼン,ト
ルエン,キシレン,n−ヘキサン,n−ヘプタン,シク
ロヘキサン,塩化メチレン,クロロホルム,1,2−ジ
クロロエタン,クロロベンゼン等の炭化水素類やハロゲ
ン化炭化水素類などが挙げられる。これらは一種用いて
もよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。また、
重合に用いるモノマーもその種類によっては使用するこ
とができる。また、重合反応における触媒の使用量は、
溶媒1リットル当たり、(A)成分が、通常0.5〜20
0マイクロモル、好ましくは2〜50マイクロモルの範
囲になるように選ぶのが重合活性および反応器効率の面
から有利である。
て、特にプロピレンが好適であり、プロピレンを重合さ
せることにより、立体規則性の高いアイソタクチックポ
リプロピレンが効率よく得られる。また、オレフィン類
を重合させる方法については特に制限はなく、スラリー
重合法,溶液重合法,気相重合法,塊状重合法,懸濁重
合法など、任意の重合法を採用する事ができる。重合溶
媒を用いる場合には、その溶媒としては、ベンゼン,ト
ルエン,キシレン,n−ヘキサン,n−ヘプタン,シク
ロヘキサン,塩化メチレン,クロロホルム,1,2−ジ
クロロエタン,クロロベンゼン等の炭化水素類やハロゲ
ン化炭化水素類などが挙げられる。これらは一種用いて
もよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。また、
重合に用いるモノマーもその種類によっては使用するこ
とができる。また、重合反応における触媒の使用量は、
溶媒1リットル当たり、(A)成分が、通常0.5〜20
0マイクロモル、好ましくは2〜50マイクロモルの範
囲になるように選ぶのが重合活性および反応器効率の面
から有利である。
【0057】重合条件については、圧力は、通常、常圧
〜200MPaの範囲が選択される。また、反応温度
は、通常−50℃〜250℃の範囲である。重合体の分
子量の調節方法としては、各触媒成分の種類,使用量,
重合温度の選択および水素の導入などが挙げられる。さ
らに、本発明におけるオレフィンの重合時には、上記触
媒を用いて予備重合を行うことができる。この予備重合
は、固体触媒成分に少量のオレフィンを接触させて行う
ことができ、この場合の反応温度は、−20〜100
℃、好ましくは−10〜70℃、特に好ましくは0〜5
0℃である。また、この予備重合に際して用いる溶媒と
しては、不活性炭化水素,脂肪族炭化水素,芳香族炭化
水素,モノマーが用いられるが、特に脂肪族炭化水素が
好ましい。この予備重合を無溶媒で行うこともできる。
また、予備重合生成物は、その極限粘度〔η〕(135
℃、デカリン中での測定)が0.2デシリットル/g、好
ましくは0.5デシリットル/g以上となるように行うの
がよく、触媒中の遷移金属成分1ミリモルあたりの予備
重合生成物の量が、1〜10000g、好ましくは10
〜1000gとなるように条件を調整することが望まし
い。
〜200MPaの範囲が選択される。また、反応温度
は、通常−50℃〜250℃の範囲である。重合体の分
子量の調節方法としては、各触媒成分の種類,使用量,
重合温度の選択および水素の導入などが挙げられる。さ
らに、本発明におけるオレフィンの重合時には、上記触
媒を用いて予備重合を行うことができる。この予備重合
は、固体触媒成分に少量のオレフィンを接触させて行う
ことができ、この場合の反応温度は、−20〜100
℃、好ましくは−10〜70℃、特に好ましくは0〜5
0℃である。また、この予備重合に際して用いる溶媒と
しては、不活性炭化水素,脂肪族炭化水素,芳香族炭化
水素,モノマーが用いられるが、特に脂肪族炭化水素が
好ましい。この予備重合を無溶媒で行うこともできる。
また、予備重合生成物は、その極限粘度〔η〕(135
℃、デカリン中での測定)が0.2デシリットル/g、好
ましくは0.5デシリットル/g以上となるように行うの
がよく、触媒中の遷移金属成分1ミリモルあたりの予備
重合生成物の量が、1〜10000g、好ましくは10
〜1000gとなるように条件を調整することが望まし
い。
【0058】
【実施例】次に、本発明を実施例により、さらに詳しく
説明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定
されるものではない。1H−NMRの測定には、日本電
子(株)製JEOL−EX90を使用した。 実施例1 (1)錯体(A−1)の製造 (イ)配位子(A−1−a)の合成 100ミリリットルフラスコにメタノール30ミリリッ
トル及びサリチルアルデヒド1.0g(8.2ミリモル)を
仕込み、攪拌しながら、室温下でp−トルイジン0.88
g(8.2ミリモル)を滴下した。2時間攪拌したのち、
メタノールを留去し、残留物をカラム精製することによ
り、
説明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定
されるものではない。1H−NMRの測定には、日本電
子(株)製JEOL−EX90を使用した。 実施例1 (1)錯体(A−1)の製造 (イ)配位子(A−1−a)の合成 100ミリリットルフラスコにメタノール30ミリリッ
トル及びサリチルアルデヒド1.0g(8.2ミリモル)を
仕込み、攪拌しながら、室温下でp−トルイジン0.88
g(8.2ミリモル)を滴下した。2時間攪拌したのち、
メタノールを留去し、残留物をカラム精製することによ
り、
【0059】
【化29】
【0060】で表される構造を有する配位子(A−1−
a)1.04gを得た。 (ロ)錯体(A−1)の合成
a)1.04gを得た。 (ロ)錯体(A−1)の合成
【0061】
【化30】
【0062】窒素置換した200ミリリットルシュレン
クに、上記(イ)で合成した配位子(A−1−a)1.0
4g及び脱水ヘキサン40ミリリットルを投入した。そ
の溶液にn−ブチルリチウム1.50モル/リットル濃度
のヘキサン溶液3.3ミリリットル(4.9ミリモル)を−
78℃で滴下した。滴下終了後、室温で8時間攪拌し
た。そして、溶媒を減圧留去した後、脱水トルエン25
ミリリットルを加えた。一方、四塩化チタニウム10ミ
リモルと脱水トルエン25ミリリットルを含む溶液を調
製し、この溶液に先に調製した配位子のリチウム塩のト
ルエン溶液を−78℃でゆっくり滴下した。滴下終了
後、室温で4時間攪拌した。反応終了後、カヌラーでろ
過し、ろ液を濃縮し脱水ヘキサンを加えた。生じた沈澱
物をろ別、乾燥することにより、目的化合物を0.3g得
た。このものについて、 1H−NMRの測定を行った結
果、 1H−NMR(δppm/CDCl3 ):8.52
(s,1H),7.90−7.10(m,8H),2.22
(s,3H)であった。
クに、上記(イ)で合成した配位子(A−1−a)1.0
4g及び脱水ヘキサン40ミリリットルを投入した。そ
の溶液にn−ブチルリチウム1.50モル/リットル濃度
のヘキサン溶液3.3ミリリットル(4.9ミリモル)を−
78℃で滴下した。滴下終了後、室温で8時間攪拌し
た。そして、溶媒を減圧留去した後、脱水トルエン25
ミリリットルを加えた。一方、四塩化チタニウム10ミ
リモルと脱水トルエン25ミリリットルを含む溶液を調
製し、この溶液に先に調製した配位子のリチウム塩のト
ルエン溶液を−78℃でゆっくり滴下した。滴下終了
後、室温で4時間攪拌した。反応終了後、カヌラーでろ
過し、ろ液を濃縮し脱水ヘキサンを加えた。生じた沈澱
物をろ別、乾燥することにより、目的化合物を0.3g得
た。このものについて、 1H−NMRの測定を行った結
果、 1H−NMR(δppm/CDCl3 ):8.52
(s,1H),7.90−7.10(m,8H),2.22
(s,3H)であった。
【0063】(2)錯体の塩化マグネシウムへの担持 100ミリリットルのシュレンクに、トルエン10ミリ
リットル及び上記(1)で得た錯体(A−1)76mg
及び粉砕型塩化マグネシウム(東邦チタニウム社製、比
表面積80m2 /g)339mgを投入し、室温で20
分間攪拌した。その後、溶媒を減圧留去し、ヘプタンを
加え、10ミリモル/リットル濃度の担持型触媒ヘプタ
ンスラリーを調製した。 (3)プロピレンのスラリー重合 攪拌装置付き1リットルステレンレス製耐圧オートクレ
ーブを80℃に加熱し、充分減圧乾燥した後、乾燥窒素
で大気圧に戻し室温まで冷却した。乾燥窒素気流下、乾
燥脱酸素ヘプタン400ミリリットル、トリイソブチル
アルミニウム2.0モル/リットル濃度のヘプタン溶液0.
2ミリリットル(0.4ミリモル)を投入し、350rp
mでしばらく攪拌した。その後、上記(2)で調製した
10ミリモル/リットル濃度の担持型触媒ヘプタンスラ
リー0.5ミリリットル(5.0マイクロモル)をオートク
レーブに素早く投入した。
リットル及び上記(1)で得た錯体(A−1)76mg
及び粉砕型塩化マグネシウム(東邦チタニウム社製、比
表面積80m2 /g)339mgを投入し、室温で20
分間攪拌した。その後、溶媒を減圧留去し、ヘプタンを
加え、10ミリモル/リットル濃度の担持型触媒ヘプタ
ンスラリーを調製した。 (3)プロピレンのスラリー重合 攪拌装置付き1リットルステレンレス製耐圧オートクレ
ーブを80℃に加熱し、充分減圧乾燥した後、乾燥窒素
で大気圧に戻し室温まで冷却した。乾燥窒素気流下、乾
燥脱酸素ヘプタン400ミリリットル、トリイソブチル
アルミニウム2.0モル/リットル濃度のヘプタン溶液0.
2ミリリットル(0.4ミリモル)を投入し、350rp
mでしばらく攪拌した。その後、上記(2)で調製した
10ミリモル/リットル濃度の担持型触媒ヘプタンスラ
リー0.5ミリリットル(5.0マイクロモル)をオートク
レーブに素早く投入した。
【0064】その後、水素を0.02MPa投入し、12
00rpmで攪拌を開始した。次に、プロピレンを導入
して全圧0.8MPaに5分間かけて昇圧し、同時に温度
を70℃まで昇温したのち、60分間重合を実施した。
反応終了後、メタノール20ミリリットルをオートクレ
ーブに投入し、未反応のプロピレンを脱圧により除去し
た。そして、反応スラリーをメタノール2リットルに投
入し、沈殿物をろ取,乾燥することにより、ポリプロピ
レンを得た。このポリプロピレンの融点は、示差走査熱
量計(DSC)により測定したところ、158.5℃であ
った。
00rpmで攪拌を開始した。次に、プロピレンを導入
して全圧0.8MPaに5分間かけて昇圧し、同時に温度
を70℃まで昇温したのち、60分間重合を実施した。
反応終了後、メタノール20ミリリットルをオートクレ
ーブに投入し、未反応のプロピレンを脱圧により除去し
た。そして、反応スラリーをメタノール2リットルに投
入し、沈殿物をろ取,乾燥することにより、ポリプロピ
レンを得た。このポリプロピレンの融点は、示差走査熱
量計(DSC)により測定したところ、158.5℃であ
った。
【0065】実施例2 (1)錯体(A−2)の製造 (イ)配位子(A−2−a)の合成 100ミリリットルフラスコにメタノール30ミリリッ
トル及び3−フェニル−2−ヒドロキシベンズアルデヒ
ド0.8g(4.0ミリモル)を仕込み、攪拌しながら、室
温下でp−トルイジン0.58g(5.4ミリモル)滴下し
た。2時間攪拌したのち、水50ミリリットルを投入
し、ジエチルエーテル100ミリリットルで抽出した。
次いで、分液ロートで有機相を分取し、これに無水硫酸
マグネシウムを加え、ろ去したのち、ろ液の溶媒を留去
して残留物を得た。この残留物をカラム精製することに
より、
トル及び3−フェニル−2−ヒドロキシベンズアルデヒ
ド0.8g(4.0ミリモル)を仕込み、攪拌しながら、室
温下でp−トルイジン0.58g(5.4ミリモル)滴下し
た。2時間攪拌したのち、水50ミリリットルを投入
し、ジエチルエーテル100ミリリットルで抽出した。
次いで、分液ロートで有機相を分取し、これに無水硫酸
マグネシウムを加え、ろ去したのち、ろ液の溶媒を留去
して残留物を得た。この残留物をカラム精製することに
より、
【0066】
【化31】
【0067】で示される構造を有する配位子(A−2−
a)0.74gを得た。 (ロ)錯体(A−2)の合成
a)0.74gを得た。 (ロ)錯体(A−2)の合成
【0068】
【化32】
【0069】実施例1−(1)−(ロ)において、配位
子(A−1−a)の代わりに、上記(イ)で得た配位子
(A−2−a)を用いた以外は、実施例1−(1)−
(ロ)と同様にして、錯体(A−2)0.2gを得た。こ
のものについて、 1H−NMRの測定を行った結果、 1
H−NMR(δppm/CDCl3 ):8.70(s,1
H),7.70−6.90(m,12H),2.21(s,3
H)であった。 (2)錯体の塩化マグネシウムへの担持 実施例1−(2)において、錯体(A−1)の代わり
に、上記(1)で得た錯体(A−2)70mgを用いた
以外は、実施例1−(2)と同様にして、担持型触媒ヘ
プタンスラリーを調製した。
子(A−1−a)の代わりに、上記(イ)で得た配位子
(A−2−a)を用いた以外は、実施例1−(1)−
(ロ)と同様にして、錯体(A−2)0.2gを得た。こ
のものについて、 1H−NMRの測定を行った結果、 1
H−NMR(δppm/CDCl3 ):8.70(s,1
H),7.70−6.90(m,12H),2.21(s,3
H)であった。 (2)錯体の塩化マグネシウムへの担持 実施例1−(2)において、錯体(A−1)の代わり
に、上記(1)で得た錯体(A−2)70mgを用いた
以外は、実施例1−(2)と同様にして、担持型触媒ヘ
プタンスラリーを調製した。
【0070】(3)プロピレンのスラリー重合 実施例1−(3)において、担持型触媒〔錯体(A−
1)〕ヘプタンスラリーの代わりに、上記(2)で得た
担持型触媒〔錯体(A−2)〕ヘプタンスラリーを用い
た以外は、実施例1−(3)と同様にしてポリプロピレ
ンを得た。このポリプロピレンの融点は156.8℃であ
った。 実施例3 (1)錯体(A−3)の製造 (イ)配位子(A−3−a)の合成 100ミリリットルフラスコにメタノール30ミリリッ
トル及び3−t−ブチル−2−ヒドロキシベンズアルデ
ヒド1.0g(5.6ミリモル)を仕込み、攪拌しながら、
室温下でp−トルイジン0.61g(5.7ミリモル)滴下
した。2時間攪拌したのち、水50ミリリットルを投入
し、ジエチルエーテル100ミリリットルで抽出した。
次いで、分液ロートで有機相を分取し、これに無水硫酸
マグネシウムを加え、ろ去したのち、ろ液の溶媒を留去
して残留物を得た。この残留物をカラム精製することに
より、
1)〕ヘプタンスラリーの代わりに、上記(2)で得た
担持型触媒〔錯体(A−2)〕ヘプタンスラリーを用い
た以外は、実施例1−(3)と同様にしてポリプロピレ
ンを得た。このポリプロピレンの融点は156.8℃であ
った。 実施例3 (1)錯体(A−3)の製造 (イ)配位子(A−3−a)の合成 100ミリリットルフラスコにメタノール30ミリリッ
トル及び3−t−ブチル−2−ヒドロキシベンズアルデ
ヒド1.0g(5.6ミリモル)を仕込み、攪拌しながら、
室温下でp−トルイジン0.61g(5.7ミリモル)滴下
した。2時間攪拌したのち、水50ミリリットルを投入
し、ジエチルエーテル100ミリリットルで抽出した。
次いで、分液ロートで有機相を分取し、これに無水硫酸
マグネシウムを加え、ろ去したのち、ろ液の溶媒を留去
して残留物を得た。この残留物をカラム精製することに
より、
【0071】
【化33】
【0072】で示される構造を有する配位子(A−3−
a)0.71gを得た。 (ロ)錯体(A−3)の合成
a)0.71gを得た。 (ロ)錯体(A−3)の合成
【0073】
【化34】
【0074】実施例1−(1)−(ロ)において、配位
子(A−1−a)の代わりに、上記(イ)で得た配位子
(A−3−a)を用いた以外は、実施例1−(1)−
(ロ)と同様にして、錯体(A−3)0.3gを得た。こ
のものについて、 1H−NMRの測定を行った結果、 1
H−NMR(δppm/CDCl3 ):8.52(s,1
H),7.50−6.90(m,8H),2.22(s,3
H),1.57(s,9H)であった。
子(A−1−a)の代わりに、上記(イ)で得た配位子
(A−3−a)を用いた以外は、実施例1−(1)−
(ロ)と同様にして、錯体(A−3)0.3gを得た。こ
のものについて、 1H−NMRの測定を行った結果、 1
H−NMR(δppm/CDCl3 ):8.52(s,1
H),7.50−6.90(m,8H),2.22(s,3
H),1.57(s,9H)であった。
【0075】(2)錯体の塩化マグネシウムへの担持 実施例1−(2)において、錯体(A−1)の代わり
に、上記(1)で得た錯体(A−3)30mgを用いた
以外は、実施例1−(2)と同様にして、担持型触媒ヘ
プタンスラリーを調製した。 (3)プロピレンのスラリー重合 実施例1−(3)において、担持型触媒〔錯体(A−
1)〕ヘプタンスラリーの代わりに、上記(2)で得た
担持型触媒〔錯体(A−3)〕ヘプタンスラリーを用い
た以外は、実施例1−(3)と同様にしてポリプロピレ
ンを得た。このポリプロピレンの融点は159.4℃であ
った。
に、上記(1)で得た錯体(A−3)30mgを用いた
以外は、実施例1−(2)と同様にして、担持型触媒ヘ
プタンスラリーを調製した。 (3)プロピレンのスラリー重合 実施例1−(3)において、担持型触媒〔錯体(A−
1)〕ヘプタンスラリーの代わりに、上記(2)で得た
担持型触媒〔錯体(A−3)〕ヘプタンスラリーを用い
た以外は、実施例1−(3)と同様にしてポリプロピレ
ンを得た。このポリプロピレンの融点は159.4℃であ
った。
【0076】比較例1 実施例1−(3)において、担持型触媒〔錯体(A−
1)〕の代わりに、実施例3−(1)で得た担持されて
いない錯体(A−3)(塩化マグネシウムを用いていな
い)を用いた以外は、実施例1−(3)と同様にして実
施したところ、ポリプロピレンは得られなかった。 比較例2 (1)錯体(A−4)の製造 特開平11−315109号公報に記載の錯体(A−
4)
1)〕の代わりに、実施例3−(1)で得た担持されて
いない錯体(A−3)(塩化マグネシウムを用いていな
い)を用いた以外は、実施例1−(3)と同様にして実
施したところ、ポリプロピレンは得られなかった。 比較例2 (1)錯体(A−4)の製造 特開平11−315109号公報に記載の錯体(A−
4)
【0077】
【化35】
【0078】を該公報の合成実施例2に従って製造し
た。 (2)プロピレンのスラリー重合 実施例1−(3)において、担持型触媒〔錯体(A−
1)〕ヘプタンスラリーの代わりに、上記(1)で得た
担持されていない錯体(A−4)(塩化マグネシウムを
用いていない)を用いた以外は、実施例1−(3)と同
様にして実施したところ、ポリプロピレンは得られなか
った。
た。 (2)プロピレンのスラリー重合 実施例1−(3)において、担持型触媒〔錯体(A−
1)〕ヘプタンスラリーの代わりに、上記(1)で得た
担持されていない錯体(A−4)(塩化マグネシウムを
用いていない)を用いた以外は、実施例1−(3)と同
様にして実施したところ、ポリプロピレンは得られなか
った。
【0079】
【発明の効果】本発明のオレフィン類重合用触媒は、高
活性を有する担持型キレート系触媒であって、オレフィ
ン系重合体、特に高立体規則性のアイソタクチックポリ
プロピレンを効率よく製造することができる。
活性を有する担持型キレート系触媒であって、オレフィ
ン系重合体、特に高立体規則性のアイソタクチックポリ
プロピレンを効率よく製造することができる。
フロントページの続き Fターム(参考) 4J028 AA01A AB00A AB01A AC01A AC08A AC09A AC26A AC27A AC37A AC38A AC42A AC45A AC47A AC48A BA00A BA01B BB00A BB01B BC05A BC06A BC07A BC15B BC16B BC17B BC18B BC19B BC25B CA08A CA14A CA15A CA16A CA20A CA27A CA28A CA30A CB09A CB35A CB36A EB02 EB04 EB05 EB08 EB09 EB10 EB12 EB13 EB14 EB15 EB17 EB18 EB21 EB22 FA01 FA02 FA03 FA04 FA06 FA07 GA04 GA19
Claims (5)
- 【請求項1】 (A)一般式(I) 【化1】 (式中、Mは周期律表第3〜10族の遷移金属原子、X
は酸素原子,イオウ原子,セレン原子又はN−R5 、A
はR6 又は 【化2】 で表される基を示し、R1 〜R11は、それぞれ独立して
水素原子,ハロゲン原子,炭化水素基,酸素含有基,窒
素含有基,ホウ素含有基,イオウ含有基,ハロゲン含有
基,ケイ素含有基又はスズ含有基を示し、これらのうち
の隣接する2個がたがいに連結して環を形成していても
よく、Zは水素原子,ハロゲン原子,炭化水素基,酸素
含有基,窒素含有基,ホウ素含有基,アルミニウム含有
基,リン含有基,ハロゲン含有基,ケイ素含有基,ゲル
マニウム含有基又はスズ含有基を示し、nはMの価数で
あり、nが3以上の場合は、複数のZはたがいに同一で
も異なっていてもよい。)で表される遷移金属錯体、
(B)有機又は無機化合物からなる担体、及び(C)有
機アルミニウム化合物を含むことを特徴とするオレフィ
ン類重合用触媒。 - 【請求項2】 (B)有機又は無機化合物からなる担体
が、マグネシウム化合物である請求項1記載のオレフィ
ン類重合用触媒。 - 【請求項3】 マグネシウム化合物が、塩化マグネシウ
ムである請求項1記載のオレフィン類重合用触媒。 - 【請求項4】 請求項1記載のオレフィン類重合用触媒
の存在下、オレフィン類を重合させることを特徴とする
オレフィン系重合体の製造方法。 - 【請求項5】 オレフィン類がプロピレンである請求項
4記載のオレフィン系重合体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000136114A JP2001316413A (ja) | 2000-05-09 | 2000-05-09 | オレフィン類重合用触媒及びそれを用いたオレフィン系重合体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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---|---|---|---|
JP2000136114A JP2001316413A (ja) | 2000-05-09 | 2000-05-09 | オレフィン類重合用触媒及びそれを用いたオレフィン系重合体の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001316413A true JP2001316413A (ja) | 2001-11-13 |
Family
ID=18644106
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---|---|---|---|
JP2000136114A Pending JP2001316413A (ja) | 2000-05-09 | 2000-05-09 | オレフィン類重合用触媒及びそれを用いたオレフィン系重合体の製造方法 |
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---|---|
JP (1) | JP2001316413A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1238989A2 (en) * | 2001-02-21 | 2002-09-11 | Mitsui Chemicals, Inc. | Olefin polymerization catalyst and process for producing olefin polymer with the catalyst |
-
2000
- 2000-05-09 JP JP2000136114A patent/JP2001316413A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1238989A2 (en) * | 2001-02-21 | 2002-09-11 | Mitsui Chemicals, Inc. | Olefin polymerization catalyst and process for producing olefin polymer with the catalyst |
EP1238989A3 (en) * | 2001-02-21 | 2004-01-02 | Mitsui Chemicals, Inc. | Olefin polymerization catalyst and process for producing olefin polymer with the catalyst |
US6897176B2 (en) | 2001-02-21 | 2005-05-24 | Mitsui Chemicals, Inc. | Olefin polymerization catalyst and process for producing olefin polymer with the catalyst |
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