JP2001316368A - キノリンカルバルデヒドの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 より短い工程で、キノリンカルバルデヒドを
効率よく工業的に有利に製造する方法を提供すること。 【解決手段】 キノリンカルボン酸エステル（Ｉ）を、
２級アミンの存在下、水素化アルミニウム錯化合物で還
元することを特徴とするキノリンカルバルデヒド（Ｉ
Ｉ）の製造方法。 【化１】

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、キノリンカルバル
デヒドの製造方法に関する。本発明で得られるキノリン
カルバルデヒド、例えば４−（４’−フルオロフェニ
ル）−２−シクロプロピルキノリン−３−カルバルデヒ
ドは、コレステロール生合成の律速酵素であるＨＭＧ−
ＣｏＡ還元酵素の阻害剤として知られるキノリン系メバ
ロノラクトン誘導体の重要な合成中間体である。

【０００２】

【従来の技術】キノリンカルバルデヒド、例えば４−
（４’−フルオロフェニル）−２−シクロプロピルキノ
リン−３−カルバルデヒドの合成法としては、相当す
るキノリンカルボン酸エステルをジイソブチルアルミニ
ウムヒドリドなどの各種金属水素化物で還元して対応す
るキノリンカルビノール（４−（４’−フルオロフェニ
ル）−２−シクロプロピル−３−ヒドロキシメチルキノ
リン）を得、次いでこの化合物をピリジニウムクロロク
ロメート、オキザリルクロリド／ジメチルスルホキシド
／第３級アミン（Ｓｗｅｒｎ酸化）、三酸化硫黄ピリジ
ン錯体などで酸化する方法（特開平１−２７９８６６号
公報参照）；４−（４’−フルオロフェニル）−２−
シクロプロピル−３−ヒドロキシメチルキノリンをニト
ロキシラジカル誘導体の存在下、次亜ハロゲン酸塩を用
いて酸化する方法（特開平８−２７１１４号公報参照）
が知られている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】上記およびはいず
れも、キノリンカルバルデヒドを製造するに際して、対
応するキノリンカルビノールを原料として用いてアルコ
ール部分をアルデヒドに酸化する方法であるが、かかる
キノリンカルビノールは、相当するキノリンカルボン酸
エステルを還元して得る必要があることから、工程が煩
雑である。またの方法において酸化剤として用いるピ
リジニウムクロロクロメートには、環境上有害なクロム
イオンを含有する廃液処理の問題があり、Ｓｗｅｒｎ酸
化条件、三酸化硫黄ピリジン錯体を用いる条件では臭気
の甚だしいジメチルスルフィドが副生するという問題が
ある。また、次亜ハロゲン酸塩を用いる酸化反応では、
通常、溶媒としてジクロロメタンなどの環境上有害なハ
ロゲン化炭化水素を用いる必要がある。したがって、上
記の方法はキノリンカルバルデヒドの工業的な製法とは
言い難い。

【０００４】しかして、本発明の目的は、より短い工程
で、入手かつ取り扱いが容易な薬品を用いて、キノリン
カルバルデヒドを効率よく工業的に有利に製造し得る方
法を提供することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明によれば、上記の
目的は、一般式（Ｉ）

【０００６】

【化３】

【０００７】（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵および
Ｒ⁶はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、トリフ
ルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、保護されて
いてもよい水酸基、置換基を有していてもよいアルキル
基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換
基を有していてもよいアリール基、置換基を有していて
もよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアルコ
キシル基または置換基を有していてもよいアリールオキ
シ基を表し、Ｒ⁷は置換基を有していてもよいアルキル
基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換
基を有していてもよいアリール基または置換基を有して
いてもよいアラルキル基を表す。）で示されるキノリン
カルボン酸エステル（以下、キノリンカルボン酸エステ
ル（Ｉ）と略称する）を、２級アミンの存在下、水素化
アルミニウム錯化合物で還元することを特徴とする一般
式（ＩＩ）

【０００８】

【化４】

【０００９】（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵および
Ｒ⁶は前記定義のとおりである。）で示されるキノリン
カルバルデヒド（以下、キノリンカルバルデヒド（Ｉ
Ｉ）と略称する）の製造方法を提供することによって達
成される。

【００１０】好ましい実施態様において、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ
³およびＲ⁶は水素原子であり、Ｒ⁴はハロゲン原子であ
り、Ｒ⁵は炭素数１〜６のアルキル基または炭素数３〜
６のシクロアルキル基であり、Ｒ⁷は炭素数１〜６のア
ルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、フェニル
基、ナフチル基またはベンジル基である。

【００１１】さらに好ましい実施態様において、Ｒ⁴は
フッ素原子であり、Ｒ⁷は炭素数１〜４のアルキル基で
ある。

【００１２】

【発明の実施の形態】上記一般式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、
Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶およびＲ⁷が表すアルキル基としては、好
ましくは炭素数１〜６、より好ましくは炭素数１〜４の
直鎖状または分岐鎖状のアルキル基が挙げられ、例えば
メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブ
チル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基などが挙げ
られる。これらのアルキル基は置換基を有していてもよ
く、かかる置換基としては、例えば水酸基；メトキシ
基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基などの好ま
しくは炭素数１〜４のアルコキシル基などが挙げられ
る。

【００１３】Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶およびＲ⁷
が表すシクロアルキル基としては、好ましくは炭素数３
〜６のシクロアルキル基が挙げられ、例えばシクロプロ
ピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘ
キシル基などが挙げられる。これらのシクロアルキル基
は置換基を有していてもよく、かかる置換基としては、
例えば水酸基；メチル基、エチル基、プロピル基、イソ
プロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチ
ル基などの好ましくは炭素数１〜６のアルキル基；メト
キシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基などの
好ましくは炭素数１〜４のアルコキシル基；フェニル
基、ｐ−メトキシフェニル基、ｐ−クロロフェニル基な
どの好ましくは炭素数６〜１０のアリール基などが挙げ
られる。

【００１４】Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶およびＲ⁷
が表すアリール基としては、好ましくは炭素数６〜１０
のアリール基が挙げられ、例えばフェニル基、ナフチル
基などが挙げられる。Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶お
よびＲ⁷が表すアラルキル基としては、アルキル部分と
して好ましくは炭素数１〜６のアルキル基を有し、アリ
ール部分として好ましくは炭素数６〜１０のアリール基
を有するアラルキル基が挙げられ、例えばベンジル基、
ナフチルメチル基などが挙げられる。これらのアリール
基およびアラルキル基は置換基を有していてもよく、か
かる置換基としては、例えば水酸基；メチル基、エチル
基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチ
ル基、ｔｅｒｔ−ブチル基などの好ましくは炭素数１〜
６のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ
基、ブトキシ基などの好ましくは炭素数１〜４のアルコ
キシル基；フェニル基、ｐ−メトキシフェニル基、ｐ−
クロロフェニル基などの好ましくは炭素数６〜１０のア
リール基が挙げられる。

【００１５】Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵およびＲ⁶が表す
ハロゲン原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、
臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられ、好ましくはフッ
素原子が挙げられる。

【００１６】Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵およびＲ⁶が表す
アルコキシル基としては、好ましくは炭素数１〜４の直
鎖状または分岐鎖状のアルコキシル基が挙げられ、例え
ばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基
などが挙げられる。これらのアルコキシル基は置換基を
有していてもよく、かかる置換基としては、例えば水酸
基；メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ
基などの好ましくは炭素数１〜４のアルコキシル基；フ
ェニル基、ｐ−メトキシフェニル基、ｐ−クロロフェニ
ル基などの好ましくは炭素数６〜１０のアリール基など
が挙げられる。

【００１７】Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵およびＲ⁶が表す
アリールオキシ基としては、アリール部分として好まし
くは炭素数６〜１０のアリール基を有するアリールオキ
シ基が挙げられ、例えばフェノキシ基、トリルオキシ
基、ナフチルオキシ基などが挙げられる。これらのアリ
ールオキシ基は置換基を有していてもよく、かかる置換
基としては、例えば水酸基；メチル基、エチル基、プロ
ピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔ
ｅｒｔ−ブチル基などの好ましくは炭素数１〜６のアル
キル基；メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブト
キシ基などの好ましくは炭素数１〜４のアルコキシル
基；フェニル基、ｐ−メトキシフェニル基、ｐ−クロロ
フェニル基などの好ましくは炭素数６〜１０のアリール
基が挙げられる。

【００１８】Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵およびＲ⁶が表す
水酸基は保護されていてもよく、水酸基の保護基として
は、水酸基を保護する目的のために通常用いられる保護
基であれば特に制限はなく、例えばベンジル基などのア
ラルキル基；トリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジ
メチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基
などの三置換シリル基；メトキシメチル基、１−エトキ
シエチル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピ
ラニル基などのアセタール型保護基などが挙げられる。

【００１９】上記一般式（Ｉ）および（ＩＩ）におい
て、置換基（Ｒ¹〜Ｒ⁷）の好ましい組合せとしては、Ｒ
¹、Ｒ²、Ｒ³およびＲ⁶が水素原子であり、Ｒ⁴がハロゲ
ン原子であり、Ｒ⁵が炭素数１〜６のアルキル基または
炭素数３〜６のシクロアルキル基であり、Ｒ⁷が炭素数
１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル
基、フェニル基、ナフチル基またはベンジル基である組
合せが挙げられる。

【００２０】より好ましい組合せとしては、Ｒ¹、Ｒ²、
Ｒ³およびＲ⁶が水素原子であり、Ｒ ⁴がフッ素原子であ
り、Ｒ⁵が炭素数１〜６のアルキル基または炭素数３〜
６のシクロアルキル基であり、Ｒ⁷が炭素数１〜４のア
ルキル基である組合せが挙げられる。

【００２１】さらに好ましい組合せとしては、Ｒ¹、
Ｒ²、Ｒ³およびＲ⁶が水素原子であり、Ｒ⁴がフッ素原子
であり、Ｒ⁵がイソプロピル基またはシクロプロピル基
であり、Ｒ⁷が炭素数１〜４のアルキル基である組合せ
が挙げられる。

【００２２】本発明のキノリンカルバルデヒド（ＩＩ）
の製造方法は、キノリンカルボン酸エステル（Ｉ）を、
２級アミンの存在下、水素化アルミニウム錯化合物で還
元することを特徴とする。

【００２３】水素化アルミニウム錯化合物としては、例
えば水素化アルミニウムナトリウム、水素化アルミニウ
ムリチウム、水素化ビス（２−メトキシエトキシ）アル
ミニウムナトリウムが挙げられる。これらの中でも、入
手および取扱いの容易さの観点から、水素化アルミニウ
ムリチウム、水素化ビス（２−メトキシエトキシ）アル
ミニウムナトリウムを用いるのが特に好ましい。当該水
素化アルミニウム錯化合物の使用量は、キノリンカルボ
ン酸エステル（Ｉ）に対して０．５〜１０モル倍の範囲
が好ましく、反応を円滑に進行させる観点からは１〜５
モル倍の範囲がより好ましい。

【００２４】２級アミンとしては、例えば、ジメチルア
ミン、エチルメチルアミン、ジエチルアミン、メチルイ
ソプロピルアミン、ジプロピルアミン、ジイソプロピル
アミン、メチルブチルアミン、エチルブチルアミン、ジ
ブチルアミン、ジイソブチルアミン、ジペンチルアミ
ン、メチルヘキシルアミン、ジヘキシルアミン、ジオク
チルアミン、Ｎ−プロピルシクロプロピルメチルアミ
ン、Ｎ−メチルシクロヘキシルアミン、Ｎ−エチルシク
ロヘキシルアミン、Ｎ−イソプロピルシクロヘキシルア
ミン、ジシクロヘキシルアミン、Ｎ−メチルシクロデシ
ルアミン、ジベンジルアミン、Ｎ−エチルベンジルアミ
ン、Ｎ−イソプロピルベンジルアミン、Ｎ−ブチルベン
ジルアミン、Ｎ−ベンジルフェネチルアミン、ビス（２
−メトキシエチル）アミン、メチルアミノアセトアルデ
ヒドジメチルアセタール、２−メチルアミノメチル−
１，３−ジオキソランなどの鎖状の脂肪族２級アミン；
２−メチルアジリジン、アゼチジン、ピロリジン、ピロ
リン、ピペリジン、ピペコリン、ジメチルピペリジン、
１−ピペロニルピペリジン、４−ベンジルピペリジン、
４−フェニルピペリジン、４−ピペリジノピペリジン、
ヘキサメチレンイミン、ヘプタメチレンイミン、２−メ
チル−２−イミダゾリン、２−フェニル−２−イミダゾ
リン、１−メチルピペラジン、１−フェニルピペラジ
ン、１−（２−ピリジル）ピペラジン、１−（４−フル
オロフェニル）ピペラジン、１−ベンジルピペラジン、
１−メトキシフェニルピペラジン、３−アザビシクロ
［３．２．２］ノナン、モルホリン、チオモルホリン、
チアゾリジン、インドリン、２−メチルインドリン、
２，３−ジメチルインドリン、パーヒドロインドール、
１，２，３，４−テトラヒドロキノリン、デカヒドロキ
ノリン、１，２，３，４−テトラヒドロイソキノリン、
イミノジベンジル、フェノキサジン、フェノチアジン、
Ｎ，Ｎ，Ｎ’−トリメチルエチレンジアミン、３，３’
−イミノビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルプロピルアミン）、
Ｎ’−ベンジル−Ｎ，Ｎ−ジメチルエチレンジアミンな
どの環状の脂肪族２級アミン；Ｎ−メチルアニリン、Ｎ
−エチルアニリン、Ｎ−プロピルアニリン、ジフェニル
アミン、フェニルベンジルアミン、Ｎ−ブチルベンジル
アミン、Ｎ−エチルトルイジン、３−メトキシジフェニ
ルアミン、Ｎ−フェニル−２−ナフチルアミン、２−メ
チルアミノピリジン、２−アニリノピリジン、２−ベン
ジルアミノピリジンなどの芳香族２級アミンが挙げられ
る。これらの中でも、反応を円滑に進行させる観点から
はジエチルアミン、モルホリン、１−メチルピペラジン
を用いるのが特に好ましい。

【００２５】２級アミンの使用量は、使用する水素化ア
ルミニウム錯化合物の種類によって異なるが、水素化ア
ルミニウム錯化合物１モルに対して、該水素化アルミニ
ウム錯化合物が保有する水素原子の数から０．５〜１．
５を減じた範囲の数に相当するモル量であるのが好まし
く、０．８〜１．２を減じた範囲の数に相当するモル量
であるのが特に好ましい。例えば、水素化アルミニウム
錯化合物として水素化アルミニウムリチウムを用いる場
合、水素化アルミニウムリチウムはその１分子あたり４
個の水素原子を保有しているので、２級アミンを水素化
アルミニウムリチウム１モルに対して２．５〜３．５モ
ル倍の範囲で用いるのが好ましく、また、水素化アルミ
ニウム錯化合物として水素化ビス（２−メトキシエトキ
シ）アルミニウムナトリウムを用いる場合、水素化ビス
（２−メトキシエトキシ）アルミニウムナトリウムはそ
の１分子あたり２個の水素原子を保有しているので、２
級アミンを水素化ビス（２−メトキシエトキシ）アルミ
ニウムナトリウム１モルに対して０．５〜１．５モル倍
の範囲で用いるのが好ましい。

【００２６】反応は、溶媒の存在下に行うのが好まし
い。使用する溶媒としては、反応に悪影響を与えない限
り特に限定されるものではなく、例えばペンタン、ヘキ
サン、ヘプタン、オクタン、石油エーテルなどの脂肪族
炭化水素；ベンゼン、トルエン、キシレン、クメンなど
の芳香族炭化水素；ジエチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシエタン、ジ
ブチルエーテルなどのエーテル；またはこれらの混合溶
媒などが挙げられる。溶媒の使用量は、キノリンカルボ
ン酸エステル（Ｉ）に対して０．１〜２００重量倍の範
囲が好ましく、反応を円滑に進行させる観点からは１〜
２０重量倍の範囲がより好ましい。

【００２７】反応温度は、−７０℃から使用する溶媒の
沸点の範囲が好ましく、反応を円滑に進行させる観点か
らは−３０℃〜３０℃の範囲がより好ましい。また、反
応時間は、反応温度によっても異なるが、通常０．５〜
２４時間の範囲が好ましい。

【００２８】反応は、水素化アルミニウム錯化合物と溶
媒を混合した溶液に２級アミンを滴下して得られた混合
液を、キノリンカルボン酸エステル（Ｉ）を溶媒に溶解
させて所定温度とした溶液に添加する方法、または水素
化アルミニウム錯化合物と溶媒を混合した溶液に２級ア
ミンを滴下して得られた混合液に、キノリンカルボン酸
エステル（Ｉ）またはキノリンカルボン酸エステル
（Ｉ）を溶媒に溶解させて得られた溶液を滴下し、所定
温度で反応させる方法が好ましい。

【００２９】このようにして得られたキノリンカルバル
デヒド（ＩＩ）は、通常の有機化合物の単離・精製に用
いられる方法により単離・精製することができる。例え
ば、反応混合液に塩酸、硫酸水溶液、酢酸水溶液などの
酸性水溶液を加え、またはこれらの酸性水溶液に反応混
合液を加えた後、有機層を分液し、無水硫酸ナトリウ
ム、無水硫酸マグネシウムなどの乾燥剤で乾燥後、濃縮
して得られる粗生成物を必要に応じて蒸留、再結晶、昇
華、クロマトグラフィーなどにより精製する。また、反
応混合液に硫酸ナトリウム、塩化ナトリウムなどの無機
塩の飽和水溶液を加えてアルミニウム塩を析出させ、こ
の塩を濾過により除去した後、濾液から有機層を分液
し、該有機層から粗生成物を得ることもできる。

【００３０】なお、キノリンカルボン酸エステル
（Ｉ）、例えば４−（４’−フルオロフェニル）−２−
シクロプロピルキノリン−３−カルボン酸エステルは、
２−アミノ−４’−フルオロベンゾフェノンと３−シク
ロプロピル−３−オキソプロパン酸エステルを酸触媒存
在下で縮合させることにより容易に合成することができ
る（ジャーナル オブ オーガニック ケミストリー
（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．）、３１巻、２８９９頁（１
９６６年）；ヘテロサイクルズ（Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌ
ｅｓ）、５０巻、４７９頁（１９９９年）参照）。

【００３１】

【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
るが、本発明はこれらの実施例により何ら制限されるも
のではない。

【００３２】実施例１ 温度計、マグネチックスターラおよび滴下漏斗を装備し
た内容積５０ｍｌの３口フラスコに水素化アルミニウム
リチウム０．５６９ｇ（１５ｍｍｏｌ）を入れ、溶媒と
してテトラヒドロフラン１０ｍｌを加えて系内を窒素置
換した。この溶液に、モルホリン４．１８ｇ（４８ｍｍ
ｏｌ）を室温でゆっくり滴下し、滴下終了後、さらに室
温で１時間攪拌した。次いで、この溶液を０℃に冷却し
た後、この溶液に、４−（４’−フルオロフェニル）−
２−シクロプロピルキノリン−３−カルボン酸メチル
３．２１ｇ（１０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン９．
６３ｇに溶解させて得られた溶液を内温を０℃以下に保
ちながら滴下し、滴下終了後、１０〜２０℃でさらに２
時間攪拌した。この反応液を、１５％硫酸水溶液５０ｍ
ｌに内温を１０℃以下に保ちながら滴下し、続いて混合
物にトルエン５０ｍｌを加えた。混合物から有機層を分
液し、水層をトルエン１０ｍｌで抽出し、抽出液を先の
有機層と合わせて水３０ｍｌで洗浄し、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥後、溶媒などの低沸成分を減圧下に留去し
た。得られた残留物をカラムクロマトグラフィー（展開
液：ヘキサン−酢酸エチル混合液）で精製し、淡黄色の
固体として、下記の物性を有する４−（４’−フルオロ
フェニル）−２−シクロプロピルキノリン−３−カルバ
ルデヒドを２．２７ｇ得た（収率７７％）。

【００３３】¹Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃，
ＴＭＳ，ｐｐｍ） δ：１．０８−１．１４（２Ｈ，
ｍ），１．３７−１．４０（２Ｈ，ｍ），３．２０−
３．２６（１Ｈ，ｍ），７．２４−７．４８（６Ｈ，
ｍ），７．７６（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１．８，６．５，
８．４Ｈｚ），７．９７−８．００（１Ｈ，ｍ），１
０．０６（１Ｈ，ｓ）

【００３４】実施例２ 実施例１において、４−（４’−フルオロフェニル）−
２−シクロプロピルキノリン−３−カルボン酸メチルの
代わりに４−（４’−フルオロフェニル）−２−シクロ
プロピルキノリン−３−カルボン酸ブチル３．６３ｇ
（１０ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例１と同様に反応
および後処理を行い、４−（４’−フルオロフェニル）
−２−シクロプロピルキノリン−３−カルバルデヒド
２．１６ｇを得た（収率７４％）。

【００３５】実施例３ 実施例１において、モルホリンの代わりにジエチルアミ
ン３．５１ｇ（４８ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例１
と同様に反応および後処理を行い、４−（４’−フルオ
ロフェニル）−２−シクロプロピルキノリン−３−カル
バルデヒド２．０１ｇを得た（収率６９％）。

【００３６】実施例４ 温度計、マグネチックスターラおよび滴下漏斗を装備し
た内容積２００ｍｌの３口フラスコに、水素化ビス（２
−メトキシエトキシ）アルミニウムナトリウムの７０％
トルエン溶液５７．８ｇ（２００ｍｍｏｌ）を入れ、溶
媒としてトルエン１００ｍｌを加えて系内を窒素置換し
た。この溶液に、モルホリン１３．９ｇ（１６０ｍｍｏ
ｌ）を室温でゆっくり滴下し、滴下終了後、さらに室温
で１時間攪拌した。一方、別の内容積１０００ｍｌの３
口フラスコに、４−（４’−フルオロフェニル）−２−
シクロプロピルキノリン−３−カルボン酸メチル３２．
１ｇ（１００ｍｍｏｌ）とトルエン３００ｍｌを入れ、
系内を窒素置換した後、−５℃まで冷却した。この溶液
に、水素化ビス（２−メトキシエトキシ）アルミニウム
ナトリウムおよびモルホリンとを混合して先に調製した
トルエン溶液の全量を、内温を０℃以下に保ちながら滴
下し、滴下終了後、室温まで昇温して３時間攪拌した。
この反応液を、１５％硫酸水溶液２００ｍｌに内温を１
０℃以下に保ちながら滴下した。混合物から有機層を分
液し、水層をトルエン３０ｍｌで抽出し、抽出液を先の
有機層と合わせて水１００ｍｌで洗浄し、無水硫酸ナト
リウムで乾燥後、濃縮した。得られた残留物をジイソプ
ロピルエーテルより再結晶し、４−（４’−フルオロフ
ェニル）−２−シクロプロピルキノリン−３−カルバル
デヒド２２．４ｇを得た（収率７６％）。

【００３７】

【発明の効果】本発明によれば、より短い工程で、キノ
リンカルバルデヒドを効率よく工業的に有利に製造する
ことができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 玉井 洋進 新潟県北蒲原郡中条町倉敷町２−28 株式 会社クラレ内 Ｆターム(参考） 4C031 BA07 4H039 CA62 CB40 CD40

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵およびＲ⁶はそれぞれ
   独立に水素原子、ハロゲン原子、トリフルオロメチル
   基、トリフルオロメトキシ基、保護されていてもよい水
   酸基、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を
   有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有してい
   てもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラル
   キル基、置換基を有していてもよいアルコキシル基また
   は置換基を有していてもよいアリールオキシ基を表し、
   Ｒ⁷は置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を
   有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有してい
   てもよいアリール基または置換基を有していてもよいア
   ラルキル基を表す。）で示されるキノリンカルボン酸エ
   ステルを、２級アミンの存在下、水素化アルミニウム錯
   化合物で還元することを特徴とする一般式（ＩＩ） 【化２】 （式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵およびＲ⁶は前記定義
   のとおりである。）で示されるキノリンカルバルデヒド
   の製造方法。
2. 【請求項２】 Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³およびＲ⁶が水素原子であ
   り、Ｒ⁴がハロゲン原子であり、Ｒ⁵が炭素数１〜６のア
   ルキル基または炭素数３〜６のシクロアルキル基であ
   り、Ｒ⁷が炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６の
   シクロアルキル基、フェニル基、ナフチル基またはベン
   ジル基である請求項１記載のキノリンカルバルデヒドの
   製造方法。
3. 【請求項３】 Ｒ⁴がフッ素原子であり、Ｒ⁷が炭素数１
   〜４のアルキル基である請求項２記載のキノリンカルバ
   ルデヒドの製造方法。