JPH03101674A - 新規な4hピラン及びその製造方法 - Google Patents
新規な4hピラン及びその製造方法Info
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Pyrane Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は一般式(1)
(式中、R1は水素原子、アルキル基、アルケニル基、
シクロアルキル基、アラルキル基又はアシル基を表わし
、R2,R!及びR4は同一又は異なって、水素原子、
アルキル基、アルケニル基、アリール基、シクロアルキ
ル基もしくはアラルキル基を表わす)で示される4Hビ
ラン及びその製造方法に関する。
シクロアルキル基、アラルキル基又はアシル基を表わし
、R2,R!及びR4は同一又は異なって、水素原子、
アルキル基、アルケニル基、アリール基、シクロアルキ
ル基もしくはアラルキル基を表わす)で示される4Hビ
ラン及びその製造方法に関する。
本発明によって提供される一般弐N)で示される4Hピ
ランは後述するように除草剤、2(2−イミダゾリンー
2−イル)ビリジン類の中間体である一般式(I[I) (式中、RZ、R:l及びR4は前記定義のとおりであ
る)で示されるビリジン−2,3−ジカルボン酸類の合
或中間体として有用である。
ランは後述するように除草剤、2(2−イミダゾリンー
2−イル)ビリジン類の中間体である一般式(I[I) (式中、RZ、R:l及びR4は前記定義のとおりであ
る)で示されるビリジン−2,3−ジカルボン酸類の合
或中間体として有用である。
〔従来の技術及び発明が解決しようとする課題〕従来、
一般式(I)で示されるビリジン−2,3一ジカルポン
酸誘導体は次のように示すような方法により製造される
ことが知られている。
一般式(I)で示されるビリジン−2,3一ジカルポン
酸誘導体は次のように示すような方法により製造される
ことが知られている。
(1)
(式中、Xは塩素、臭素、ヨウ素などのハロゲン原子を
表わす) N一置換−1−アザジエンと親電子性オレフィンとを反
応させて5一置換ビリジン−2,3−ジカルボン酸誘導
体を製造する方法(ヨーロッパ特許出願公開第0161
221号明細書(1985)参照)。
表わす) N一置換−1−アザジエンと親電子性オレフィンとを反
応させて5一置換ビリジン−2,3−ジカルボン酸誘導
体を製造する方法(ヨーロッパ特許出願公開第0161
221号明細書(1985)参照)。
キノリン又はその誘導体をオゾンあるいは過マンガン酸
カリウムなどの酸化剤で酸化してベンゼン環を開裂させ
ピリジン−2,3−ジカルボン酸又はその誘導体を合戊
する方法(Rec. Trav. Chim.2 4,
2 4 1 (1955) )。
カリウムなどの酸化剤で酸化してベンゼン環を開裂させ
ピリジン−2,3−ジカルボン酸又はその誘導体を合戊
する方法(Rec. Trav. Chim.2 4,
2 4 1 (1955) )。
しかしながら、これらの方法はいずれも原料が高価でそ
の合戒が困難であり、また取り扱いに危険を伴うことか
ら、入手の点で難点があること、最終物質の収率が低く
、また副生戒物が多量に副生ずるため、純度の高い製品
を得るために多大の労力を必要とすること、など多くの
問題点がある。
の合戒が困難であり、また取り扱いに危険を伴うことか
ら、入手の点で難点があること、最終物質の収率が低く
、また副生戒物が多量に副生ずるため、純度の高い製品
を得るために多大の労力を必要とすること、など多くの
問題点がある。
しかして、本発明の目的は安価にかつ容易に入手できる
工業原料から高収率でかつ容易に製造でき、しかもピリ
ジン−2.3−ジカルボン酸誘導体に高収率でかつ容易
に誘導される新規な化合物を提供するにある。また、本
発明のもう一つの目的はその新規な化合物の製造方法を
提供するにある。
工業原料から高収率でかつ容易に製造でき、しかもピリ
ジン−2.3−ジカルボン酸誘導体に高収率でかつ容易
に誘導される新規な化合物を提供するにある。また、本
発明のもう一つの目的はその新規な化合物の製造方法を
提供するにある。
本発明によれば、上記の目的は、前記一般式(1)で示
される4Hピランによって達威され、また一般式(II
) (式中、Rg、R:l及びR4は前記定義のとおりであ
り、R5及びR6は同一又は異なって、アルキル基、ア
ルケニル基、シクロアルキル基もしくはアラルキル基を
表わすか、又は一緒になってアルキレン基を形或するア
セタール型保護基を表わす)で示される化合物を酸の存
在下に反応させることを特徴とする一般式(1)で示さ
れる4Hビランの製造方法によって達或される。
される4Hピランによって達威され、また一般式(II
) (式中、Rg、R:l及びR4は前記定義のとおりであ
り、R5及びR6は同一又は異なって、アルキル基、ア
ルケニル基、シクロアルキル基もしくはアラルキル基を
表わすか、又は一緒になってアルキレン基を形或するア
セタール型保護基を表わす)で示される化合物を酸の存
在下に反応させることを特徴とする一般式(1)で示さ
れる4Hビランの製造方法によって達或される。
上記一般式におI.fるRI,R” ,R’ 、R’R
sおよびR6を詳しく説明する。R1は水素原子;メチ
ル基、エチル基、n−プロビル基、イソブチル基、se
c−ブチル基、ter t〜ブチル基、3−メチルブチ
ル基、ペンチル基、オクチル基などのアルキル基;ビニ
ル基、1−ブロベニル基、アリル基、イソプロペニル基
、2−メチルアリル基、1−フテニルi、2−フテニル
基、プレニル基、3−メチル−3−ブテニル基、2,3
−ジメチル−2−ブテニル基などのアルケニル基;シク
ロブロベニル基、シクロベンチル基、シクロヘキシル基
などのシクロアルキル基;ベンジル基、1−フエニルエ
チル基、2−フェニルエチル基などのアラルキル基;又
はフォルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリ
ル基、イソブチリル基、バレリル基、イソバレリル基な
どのアシル基などを例示することができる。R! 、R
3およびR4は同一又は異なり、水素原子;メチル基、
エチル基、n−プロビル基、イソブロビル基、n−ブチ
ル基、イソプチル基、sec−ブチル基、tert−ブ
チル基、ペンチル基、オクチル基、3.7−ジメチルオ
クチル基ナトのアルキル基;ビニル基、1−プロペニル
基、アリル基、イソプロベニル基、2−メチルアリル基
、1−ブテニル基、2−ブテニル基、プレニル基、3−
メチル−3−ブテニルL 2.3ジメチル−2−ブテニ
ル基、3−メチル−2−ペンテニル基、3−メチル−3
−ペンテニル基、3.7−ジメチル−2−オクテニル基
、3,7−ジメチル−6−オクテニル基などのアルケニ
ル基;フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基
などのアリール基;シクロプロビル基、シクロペンチル
基、シクロヘキシル基、メンチル基などのシクロアルキ
ル基;ベンジル基、1−フエニルエチル基、2−フエニ
ルエチル基、1−フエニルプロビルi、3−7エニルブ
口ピル基2−メチル−1=フェニルプロビル基、2−ナ
フチルエチル基ナどのアラルキル基を例示することがで
きる。
sおよびR6を詳しく説明する。R1は水素原子;メチ
ル基、エチル基、n−プロビル基、イソブチル基、se
c−ブチル基、ter t〜ブチル基、3−メチルブチ
ル基、ペンチル基、オクチル基などのアルキル基;ビニ
ル基、1−ブロベニル基、アリル基、イソプロペニル基
、2−メチルアリル基、1−フテニルi、2−フテニル
基、プレニル基、3−メチル−3−ブテニル基、2,3
−ジメチル−2−ブテニル基などのアルケニル基;シク
ロブロベニル基、シクロベンチル基、シクロヘキシル基
などのシクロアルキル基;ベンジル基、1−フエニルエ
チル基、2−フェニルエチル基などのアラルキル基;又
はフォルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリ
ル基、イソブチリル基、バレリル基、イソバレリル基な
どのアシル基などを例示することができる。R! 、R
3およびR4は同一又は異なり、水素原子;メチル基、
エチル基、n−プロビル基、イソブロビル基、n−ブチ
ル基、イソプチル基、sec−ブチル基、tert−ブ
チル基、ペンチル基、オクチル基、3.7−ジメチルオ
クチル基ナトのアルキル基;ビニル基、1−プロペニル
基、アリル基、イソプロベニル基、2−メチルアリル基
、1−ブテニル基、2−ブテニル基、プレニル基、3−
メチル−3−ブテニルL 2.3ジメチル−2−ブテニ
ル基、3−メチル−2−ペンテニル基、3−メチル−3
−ペンテニル基、3.7−ジメチル−2−オクテニル基
、3,7−ジメチル−6−オクテニル基などのアルケニ
ル基;フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基
などのアリール基;シクロプロビル基、シクロペンチル
基、シクロヘキシル基、メンチル基などのシクロアルキ
ル基;ベンジル基、1−フエニルエチル基、2−フエニ
ルエチル基、1−フエニルプロビルi、3−7エニルブ
口ピル基2−メチル−1=フェニルプロビル基、2−ナ
フチルエチル基ナどのアラルキル基を例示することがで
きる。
BsおよびR6は同一又は異なり、例えば1〜12個好
ましくは1〜8個の炭素原子を有するアルキル基、アル
ケニル基、シクロアルキル基又はアラルキル基であって
、例えばメチル基、エチル基、n−プロビル基、イソプ
ロビル基、n −7’+ル基、イソブチル基、sec−
ブチル基、ter t−ブチル基、3−メチルブチル基
、ペンチル基、オクチル基、などのアルキル基;ビニル
基、1−ブロベニル基、アリル基、イソブロペニルL2
−メチルアリル基、1−ブテニル基、2−プテニル基、
プレニル基、3−メチル−3−ブテニルL 2.3=ジ
メチル−2−ブテニル基などのアルケニル基;シクロプ
ロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などの
シクロアルキル基;又はベンジル基、1−フェニルエチ
ル基、2−フェニルエチル基などのアラルキル基である
。またRsとRhとは一緒になって環を形成していても
よく、例えばエチレン基、プロピレン基、エチルエチレ
ン基、トリメチレン基もしくは1−メチルトリメチレン
基などが例示できる。
ましくは1〜8個の炭素原子を有するアルキル基、アル
ケニル基、シクロアルキル基又はアラルキル基であって
、例えばメチル基、エチル基、n−プロビル基、イソプ
ロビル基、n −7’+ル基、イソブチル基、sec−
ブチル基、ter t−ブチル基、3−メチルブチル基
、ペンチル基、オクチル基、などのアルキル基;ビニル
基、1−ブロベニル基、アリル基、イソブロペニルL2
−メチルアリル基、1−ブテニル基、2−プテニル基、
プレニル基、3−メチル−3−ブテニルL 2.3=ジ
メチル−2−ブテニル基などのアルケニル基;シクロプ
ロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などの
シクロアルキル基;又はベンジル基、1−フェニルエチ
ル基、2−フェニルエチル基などのアラルキル基である
。またRsとRhとは一緒になって環を形成していても
よく、例えばエチレン基、プロピレン基、エチルエチレ
ン基、トリメチレン基もしくは1−メチルトリメチレン
基などが例示できる。
本発明において用いられる酸触媒としては、硫酸、塩酸
、酢酸、P−}ルエンスルホン酸などを例示することが
できる。酸触媒の添加量は、化合物(■)1モルに対し
て、0601〜50モル好ましくは0.01〜10モル
であるのがよい。この反応は、有機溶媒を用いても用い
なくても行なうことができる。用いる有機溶媒としては
、例えばベンゼン、トルエン、ヘキサンなどの炭化水素
類:塩化メチレン、1.2ジクロルエタンなどのハロゲ
ン過炭化水素:メタノール、エタノールなどのアルコー
ル類が使用される。好ましくはこの反応は、有機溶媒を
用いず一般式(n)の化合物と水溶液との二層系で行う
のがよい。反応は約■0〜100゜Cで行うのがよい。
、酢酸、P−}ルエンスルホン酸などを例示することが
できる。酸触媒の添加量は、化合物(■)1モルに対し
て、0601〜50モル好ましくは0.01〜10モル
であるのがよい。この反応は、有機溶媒を用いても用い
なくても行なうことができる。用いる有機溶媒としては
、例えばベンゼン、トルエン、ヘキサンなどの炭化水素
類:塩化メチレン、1.2ジクロルエタンなどのハロゲ
ン過炭化水素:メタノール、エタノールなどのアルコー
ル類が使用される。好ましくはこの反応は、有機溶媒を
用いず一般式(n)の化合物と水溶液との二層系で行う
のがよい。反応は約■0〜100゜Cで行うのがよい。
上記の反応により得られた一般式(1)の4Hピランの
分離は、通常の方法により行なうことができる。例えば
、反応液に有機溶媒を加えて、水層を分液し、次いで、
その有機層を水洗し、減圧下低沸物を留去し、その残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付することに
より、一般式(1)の4Hピランを単離することができ
る。
分離は、通常の方法により行なうことができる。例えば
、反応液に有機溶媒を加えて、水層を分液し、次いで、
その有機層を水洗し、減圧下低沸物を留去し、その残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付することに
より、一般式(1)の4Hピランを単離することができ
る。
原料として使用する一般式(n)で示される化合物は下
記ルートにしたがって合成することができる。
記ルートにしたがって合成することができる。
R”−C}12cHo
α置換もしくは無置換のアセトアルデヒド2位置換もし
くは無置換の1−(N−ピベリジニル)一エチレン ↓ HOC CH CHz−CHz COOR’R2 4位置換もしくは無置換の4−ホルミル酪酸エステル ↓ R′ 4位置換もしくは無置換の4−ジメトキシメチル酪酸エ
ステル ↓ 5位置換もしくは無置換の5−ジメトキシメチル−3−
アルコキシカルボニルー2−オキサペンクン酸エステル 上記反応において4位置換もしくは無置換の4一ホルミ
ル酪酸エステルまでは公知のルート(J.Org. C
hem. 1988, 53 . 3370参照)にt
$じてその合或を行なうことができる。すなわち、2級
アミン例えば、ビペリジン中、脱水剤例えば無水炭酸カ
リウム、モレキュラーシュブス、無水硫酸マグネシウム
存在下、窒素雰囲気下−5〜10゜Cに冷却し、α位置
換もしくは無置換のア七トアルデヒドを滴下する。更に
1〜5時間−5〜10″Cで反応させて2位置換もしく
は無置換の1−(Nビペリジニル)一エチレンを合戒す
る。精製は、固体を濾別し、エーテル洗浄、エーテル留
去ついで蒸留することにより得られる。ついでこの化合
物をMichael付加反応によってアクリル酸エステ
ルと反応させて4位置換もしくは無置換の4−ホルミル
酪酸エステルを合戒する。このとき、反応条件はエナξ
ンとα、β不飽和エステルとのMichael付加反応
の通常用いられる条件でよく、例えば、2位置換もしく
は無置換の1−(N−ビベリジニル)一エチレンと有機
溶媒例えばアセトニトリルの混合溶液を0〜10゜C以
下に冷却し、そこにアクリル酸エステルとアセトニトリ
ルの混合溶液を滴下する。更に室温で1〜20時間、還
流下10〜50時間反応させる。その後、酢酸と.水を
添加し、1〜20時間還流することによって合威される
。精製は反応終了後室温まで冷却し、水層を塩化ナトリ
ウムで飽和させ、エーテル抽出する。エーテル層を5%
塩酸、5%炭酸水素ナトリウム、飽和塩化ナトリウム水
溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥ついで蒸留
することによって得られる。ついでこの化合物を例えば
オルト酢酸メチルでアセタール化することによって、4
位置換もしくは無置換の4−ジメトキシメチル酪酸エス
テルを合或する。反応条件は、4位置換もしくは無置換
の4−ホル湾ル酪酸エステル、オルト酢酸メチル、メタ
ノールの混合溶液に、硫酸のメタノール溶液を内温か6
0℃を越えないように滴下する。4位置換もしくは無置
換の4−ホルミル酪酸エステルの転化率が100%にな
るまで反応させ、4位置換もしくは無置換の4−ジメト
キシメチル酪酸エステルを合戒する。精製は反応終了後
ナトリウムメトキサイドで中和し、蒸留することにより
4位置換もしくは無置換の4−ジメトキシメチル酪酸エ
ステルを得る。この化合物をClaisen縮合反応に
よってシュウ酸ジエステルと反応させて5位置換もしく
は無置換の5−ジメトキシメチル−3−アルコキシカル
ボニルー2−オキサペンタン酸エステルを得る。反応条
件はClaisen反応の通常の条件でよく、例えば塩
基として、ナトリウムメトキシドを用い、溶媒としてイ
ソプロビルエーテルを用いて懸濁液とし、還流下4位置
換もしくは無置換の4−ジメトキシ酪酸エステルとシュ
ウ酸ジエステルのイソプロビルエーテル混合溶液を滴下
し、留出するメタノールを抜きながら反応させ、5位置
換もしくは無置換の5−ジメトキシメチル−3−アルコ
キシカルボニル−2−オキサペンクン酸エステルを得る
。
くは無置換の1−(N−ピベリジニル)一エチレン ↓ HOC CH CHz−CHz COOR’R2 4位置換もしくは無置換の4−ホルミル酪酸エステル ↓ R′ 4位置換もしくは無置換の4−ジメトキシメチル酪酸エ
ステル ↓ 5位置換もしくは無置換の5−ジメトキシメチル−3−
アルコキシカルボニルー2−オキサペンクン酸エステル 上記反応において4位置換もしくは無置換の4一ホルミ
ル酪酸エステルまでは公知のルート(J.Org. C
hem. 1988, 53 . 3370参照)にt
$じてその合或を行なうことができる。すなわち、2級
アミン例えば、ビペリジン中、脱水剤例えば無水炭酸カ
リウム、モレキュラーシュブス、無水硫酸マグネシウム
存在下、窒素雰囲気下−5〜10゜Cに冷却し、α位置
換もしくは無置換のア七トアルデヒドを滴下する。更に
1〜5時間−5〜10″Cで反応させて2位置換もしく
は無置換の1−(Nビペリジニル)一エチレンを合戒す
る。精製は、固体を濾別し、エーテル洗浄、エーテル留
去ついで蒸留することにより得られる。ついでこの化合
物をMichael付加反応によってアクリル酸エステ
ルと反応させて4位置換もしくは無置換の4−ホルミル
酪酸エステルを合戒する。このとき、反応条件はエナξ
ンとα、β不飽和エステルとのMichael付加反応
の通常用いられる条件でよく、例えば、2位置換もしく
は無置換の1−(N−ビベリジニル)一エチレンと有機
溶媒例えばアセトニトリルの混合溶液を0〜10゜C以
下に冷却し、そこにアクリル酸エステルとアセトニトリ
ルの混合溶液を滴下する。更に室温で1〜20時間、還
流下10〜50時間反応させる。その後、酢酸と.水を
添加し、1〜20時間還流することによって合威される
。精製は反応終了後室温まで冷却し、水層を塩化ナトリ
ウムで飽和させ、エーテル抽出する。エーテル層を5%
塩酸、5%炭酸水素ナトリウム、飽和塩化ナトリウム水
溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥ついで蒸留
することによって得られる。ついでこの化合物を例えば
オルト酢酸メチルでアセタール化することによって、4
位置換もしくは無置換の4−ジメトキシメチル酪酸エス
テルを合或する。反応条件は、4位置換もしくは無置換
の4−ホル湾ル酪酸エステル、オルト酢酸メチル、メタ
ノールの混合溶液に、硫酸のメタノール溶液を内温か6
0℃を越えないように滴下する。4位置換もしくは無置
換の4−ホルミル酪酸エステルの転化率が100%にな
るまで反応させ、4位置換もしくは無置換の4−ジメト
キシメチル酪酸エステルを合戒する。精製は反応終了後
ナトリウムメトキサイドで中和し、蒸留することにより
4位置換もしくは無置換の4−ジメトキシメチル酪酸エ
ステルを得る。この化合物をClaisen縮合反応に
よってシュウ酸ジエステルと反応させて5位置換もしく
は無置換の5−ジメトキシメチル−3−アルコキシカル
ボニルー2−オキサペンタン酸エステルを得る。反応条
件はClaisen反応の通常の条件でよく、例えば塩
基として、ナトリウムメトキシドを用い、溶媒としてイ
ソプロビルエーテルを用いて懸濁液とし、還流下4位置
換もしくは無置換の4−ジメトキシ酪酸エステルとシュ
ウ酸ジエステルのイソプロビルエーテル混合溶液を滴下
し、留出するメタノールを抜きながら反応させ、5位置
換もしくは無置換の5−ジメトキシメチル−3−アルコ
キシカルボニル−2−オキサペンクン酸エステルを得る
。
一般式(1)で示される化合物は、例えば次の方法によ
り高収率でかつ容易に一般式(IV)で示されるビリジ
ン−2,3−ジカルボン酸誘導体に誘導できる。
り高収率でかつ容易に一般式(IV)で示されるビリジ
ン−2,3−ジカルボン酸誘導体に誘導できる。
(I)
(IV)
化合物(1)を、アンモニア水もしくはアンモニアガス
と反応させることにより化合物(IV)が得られる。ア
ンモニアの使用料は化合物(I)1モルに対して約0.
8〜2モルの量が好ましい。この反応は有機溶媒中で
行なうのが好ましく、有機溶媒としては、メタノール、
エタノールなどのアルコール類もしくはイソプロビルエ
ーテル、1.4−ジオキサンなどのエーテル類が使用さ
れる。有機溶媒の使用量は化合物(1)の濃度が約0.
1〜5モル/lとなる程度が好ましい−。反応は約10
〜100゜Cの温度範囲内で行なうのが適当である。
と反応させることにより化合物(IV)が得られる。ア
ンモニアの使用料は化合物(I)1モルに対して約0.
8〜2モルの量が好ましい。この反応は有機溶媒中で
行なうのが好ましく、有機溶媒としては、メタノール、
エタノールなどのアルコール類もしくはイソプロビルエ
ーテル、1.4−ジオキサンなどのエーテル類が使用さ
れる。有機溶媒の使用量は化合物(1)の濃度が約0.
1〜5モル/lとなる程度が好ましい−。反応は約10
〜100゜Cの温度範囲内で行なうのが適当である。
更に、この反応液を酸化剤もしくは脱水素触媒で処理す
る。酸化剤とては、亜硝酸ナトリウムと酢酸もしくは空
気が好ましく、脱水素触媒としては、バラトルエンスル
ホン酸が好ましい。得られた反応液を通常の精製手段、
例えば、蒸留することにより、一般式(I[[)で示さ
れるピリジン−2,3ジカルボン酸誘導体が得られる。
る。酸化剤とては、亜硝酸ナトリウムと酢酸もしくは空
気が好ましく、脱水素触媒としては、バラトルエンスル
ホン酸が好ましい。得られた反応液を通常の精製手段、
例えば、蒸留することにより、一般式(I[[)で示さ
れるピリジン−2,3ジカルボン酸誘導体が得られる。
以下に実施例をあげて本発明を更に詳しく説明するが、
本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
参考例l(原料合Fi.)
攪拌機付き2I!.容のガラス製フラスコに、■(N−
ピペリジニル)−1−ブテン150g(1.06モル)
とアセトニトリル750ccを入れ、5゜Cに冷却した
後、アクリル酸メチル116g(1.35モル)とアセ
トニトリル3 0 0 ccをボンプにより30分でフ
ィードした。その後室温で8時間攪拌し、更に4時間還
流した。その後、水400ccと酢酸64.3g(1.
07モル)を加え4時間還流した。室温まで冷却した後
に水層に塩化ナトリウムを飽和させ、更に、水層をエー
テルで抽出し有機層と合わせる。有機層を5%HCl、
5%Na.CO:l及び飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥後蒸留により精製し、4−ホルミルヘキ
サン酸メチル1 4 1. 7 gを得た。(収率84
.5%、純度99.6%、b161〜62゜C / 0
. 3 mmHg減圧) 参考例2(原料合戒) 攪拌機付き5 0 0 cc容のガラス製フラスコに参
考例1で得られた4−ホルミルヘキサン酸メチル129
.4g(0.82モル)とオルト酢酸メチル108g(
0.90モル)およびメタノール45gを入れ、硫酸0
. 1 2 g (0.0012モル)とメタノール2
5gの混合溶液を1時間で滴下し、更に2時間反応させ
た。反応終了後、ナトリウムメトキサイドで中和し、蒸
留精製により4−ホルミルヘキサン酸メチルジメチルア
セタール160.2gを得た。(収率96.O%、純度
99.7%、bp82〜83゜C / 1 mmHg減
圧) 参考例3(原料合!) 攪拌機付き2l容のガラス製フラスコにナトリウムメト
キサイド50.7g(0.89モル)とイソブロビルエ
ーテル3 0 0 ccを入れ、滴下ロートに参考例2
で得られた4−ホルミルヘ牛サン酸メチルジメチルアセ
クール1 5 1.6 g (0.7 4モル)、シュ
ウ酸ジメチル131.6g(1.12モル)、イソプロ
ビルエーテル400ccを入れ加熱溶解後還流下2時間
で滴下した。更に7時間反応し生或するメタノールをイ
ソプロビルエーテルと共沸によって留去させた。反応終
了後、水11gと酢酸53.5g(0.89モル)を加
え中和後分液した。
ピペリジニル)−1−ブテン150g(1.06モル)
とアセトニトリル750ccを入れ、5゜Cに冷却した
後、アクリル酸メチル116g(1.35モル)とアセ
トニトリル3 0 0 ccをボンプにより30分でフ
ィードした。その後室温で8時間攪拌し、更に4時間還
流した。その後、水400ccと酢酸64.3g(1.
07モル)を加え4時間還流した。室温まで冷却した後
に水層に塩化ナトリウムを飽和させ、更に、水層をエー
テルで抽出し有機層と合わせる。有機層を5%HCl、
5%Na.CO:l及び飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥後蒸留により精製し、4−ホルミルヘキ
サン酸メチル1 4 1. 7 gを得た。(収率84
.5%、純度99.6%、b161〜62゜C / 0
. 3 mmHg減圧) 参考例2(原料合戒) 攪拌機付き5 0 0 cc容のガラス製フラスコに参
考例1で得られた4−ホルミルヘキサン酸メチル129
.4g(0.82モル)とオルト酢酸メチル108g(
0.90モル)およびメタノール45gを入れ、硫酸0
. 1 2 g (0.0012モル)とメタノール2
5gの混合溶液を1時間で滴下し、更に2時間反応させ
た。反応終了後、ナトリウムメトキサイドで中和し、蒸
留精製により4−ホルミルヘキサン酸メチルジメチルア
セタール160.2gを得た。(収率96.O%、純度
99.7%、bp82〜83゜C / 1 mmHg減
圧) 参考例3(原料合!) 攪拌機付き2l容のガラス製フラスコにナトリウムメト
キサイド50.7g(0.89モル)とイソブロビルエ
ーテル3 0 0 ccを入れ、滴下ロートに参考例2
で得られた4−ホルミルヘ牛サン酸メチルジメチルアセ
クール1 5 1.6 g (0.7 4モル)、シュ
ウ酸ジメチル131.6g(1.12モル)、イソプロ
ビルエーテル400ccを入れ加熱溶解後還流下2時間
で滴下した。更に7時間反応し生或するメタノールをイ
ソプロビルエーテルと共沸によって留去させた。反応終
了後、水11gと酢酸53.5g(0.89モル)を加
え中和後分液した。
有機層を水洗した後、ガスクロマトグラフィーにより定
量(内部標準法)したところ、メチル5一(ジメトキシ
メチル)−3−メトキシカルボニル=2−オキサヘプタ
ネートが1 7 1.3 g (0.5 9モル、収率
79.5%)で生或していた。
量(内部標準法)したところ、メチル5一(ジメトキシ
メチル)−3−メトキシカルボニル=2−オキサヘプタ
ネートが1 7 1.3 g (0.5 9モル、収率
79.5%)で生或していた。
実施例1
攪拌機付き3 0 0 cc容のガラス製フラスコに参
考例3で得られたメチル5−(ジメトキシメチル)−3
−メトキシ力ルボニル−2−オキサヘプトネートを18
4.4g(純度92.9%、0.59モル)とIN硫酸
50ccを入れ、室温で5時間攪拌した。
考例3で得られたメチル5−(ジメトキシメチル)−3
−メトキシ力ルボニル−2−オキサヘプトネートを18
4.4g(純度92.9%、0.59モル)とIN硫酸
50ccを入れ、室温で5時間攪拌した。
反応終了後、イソプロビルエーテルを100CC加え分
液によって水層を除去した。得られた有機層を重炭酸ナ
トリウム水溶液で中和し更に30ccの水で水洗した後
に、ガスクロマトグラフィーにより定量(内部標準法)
したところ、5−エチル−6−ヒドロキシ−2,3−ジ
メトキシカルボニル−5,6−ジヒドロ−4H−ピラン
が1 5 5. 1 g(0.527モル、純度82.
9%、収率89.7%)得られた。
液によって水層を除去した。得られた有機層を重炭酸ナ
トリウム水溶液で中和し更に30ccの水で水洗した後
に、ガスクロマトグラフィーにより定量(内部標準法)
したところ、5−エチル−6−ヒドロキシ−2,3−ジ
メトキシカルボニル−5,6−ジヒドロ−4H−ピラン
が1 5 5. 1 g(0.527モル、純度82.
9%、収率89.7%)得られた。
H−NMR (δ in CDCf3) :0.
96(t,3H) , 1.20〜1.40(m,3H
) , 2.30(dd,18) . 2.60(dd
,IH) . 3.72(s,38) .3.86(s
,3H) , 5.20(d,18)I R (nea
t , νcm−’)3480 (−OH) ,
2960(−CH2−) . 1796(C=O
)参考例4 攪拌機付き100cc容のガラス製フラスコに、1,4
−ジオキサン20ccと実施例lで得られた5−エチル
−6−ヒドロキシー2.3−ジメトキシカルボニル−5
,6−ジヒドロ−4H−ピラン9.76g(0.0.3
3モル)を入れ、30゜Cで滴下ロートより25%アン
モニア水2.7g(0.04モル)を30分で滴下した
。更に30分反応した後、温度を50゛Cとし空気を3
時間吹き込んだ。反応液をガスクロマトグラフィーによ
り定M(内部標準法)したところ、5−エチルピリジン
−2.3−ジメトキシ力ルボニルが7.0 4 g (
0.0 3 1モル、収率94%)得られた。
96(t,3H) , 1.20〜1.40(m,3H
) , 2.30(dd,18) . 2.60(dd
,IH) . 3.72(s,38) .3.86(s
,3H) , 5.20(d,18)I R (nea
t , νcm−’)3480 (−OH) ,
2960(−CH2−) . 1796(C=O
)参考例4 攪拌機付き100cc容のガラス製フラスコに、1,4
−ジオキサン20ccと実施例lで得られた5−エチル
−6−ヒドロキシー2.3−ジメトキシカルボニル−5
,6−ジヒドロ−4H−ピラン9.76g(0.0.3
3モル)を入れ、30゜Cで滴下ロートより25%アン
モニア水2.7g(0.04モル)を30分で滴下した
。更に30分反応した後、温度を50゛Cとし空気を3
時間吹き込んだ。反応液をガスクロマトグラフィーによ
り定M(内部標準法)したところ、5−エチルピリジン
−2.3−ジメトキシ力ルボニルが7.0 4 g (
0.0 3 1モル、収率94%)得られた。
実施例2
攪拌機付き100cc容ガラス製フラスコに参考例3で
得られたメチル5−(ジメトキシメチル)一3−メトキ
シカルボニル−2−オキサヘプトネートを9.27g(
純度92.9%、0.03モル)と硫酸メタノール溶液
(0.2 5 g/1 0cc)を入れ、室温で5時間
攪拌した。反応終了後、イソプロビルエーテルを50c
c加え分液によって水層を除去した。得られた有機層を
重炭酸ナトリウム水溶液で中和し更に30ccの水で洗
浄した後、減圧下溶媒を留去し、カラムクロマトグラフ
ィーで単離し、5−エチル−6−ヒドロキシ−2,3−
ジメトキシ力ルボニル−5,6−ジヒドロ−4H−ビラ
ン5.12g(0.02モル、収率70%)、5−エチ
ル−6=メトキシ−2.3−ジメトキシカルボニル−5
.6ージヒドロ−4H−ビラン0.7 8 g (0.
0 0 3モル、収率10%)得られた。
得られたメチル5−(ジメトキシメチル)一3−メトキ
シカルボニル−2−オキサヘプトネートを9.27g(
純度92.9%、0.03モル)と硫酸メタノール溶液
(0.2 5 g/1 0cc)を入れ、室温で5時間
攪拌した。反応終了後、イソプロビルエーテルを50c
c加え分液によって水層を除去した。得られた有機層を
重炭酸ナトリウム水溶液で中和し更に30ccの水で洗
浄した後、減圧下溶媒を留去し、カラムクロマトグラフ
ィーで単離し、5−エチル−6−ヒドロキシ−2,3−
ジメトキシ力ルボニル−5,6−ジヒドロ−4H−ビラ
ン5.12g(0.02モル、収率70%)、5−エチ
ル−6=メトキシ−2.3−ジメトキシカルボニル−5
.6ージヒドロ−4H−ビラン0.7 8 g (0.
0 0 3モル、収率10%)得られた。
’H−NMR (δin CDCj’3) :0.
97(t,3H) , 1.22 〜2.24(m,3
H) , 2.36(dd.IH) , 2.52(d
d,18) , 3.72(s,3H) .3.76(
s,38) , 3.88(s,3H) , 5.14
(d,18)I R (neat , νcm−’)
3000(−CH.−) , 1740(C=O)実施
例3 攪拌機付き100cc容ガラス製フラスコに参考例3で
得られたメチル5−(ジメトキシメチル)3−メトキシ
カルポニル−2−オキサヘプトネートを8.86g(純
度92.9%、0. 0 2 8モル)と3N酢酸30
ccを入れ、室温で6時間攪拌した。
97(t,3H) , 1.22 〜2.24(m,3
H) , 2.36(dd.IH) , 2.52(d
d,18) , 3.72(s,3H) .3.76(
s,38) , 3.88(s,3H) , 5.14
(d,18)I R (neat , νcm−’)
3000(−CH.−) , 1740(C=O)実施
例3 攪拌機付き100cc容ガラス製フラスコに参考例3で
得られたメチル5−(ジメトキシメチル)3−メトキシ
カルポニル−2−オキサヘプトネートを8.86g(純
度92.9%、0. 0 2 8モル)と3N酢酸30
ccを入れ、室温で6時間攪拌した。
反応終了後、重炭酸ナトリウム水溶液で中和し、イソプ
ロビルエーテルを100cc加えて分液によって水層を
除去した。得られた有機層を30ccの水で水洗した後
に、低沸物を減圧留去し、カラムクロマトグラフィーで
単離した。5−エチル−56−ヒドロキシー2,3−ジ
メトキシ力ルボニル−5.6−ジヒドロ−4H−ビラン
が4.23g(収率62%、0.017モル)、5−エ
チル−6−アセトキシー2,3−ジヒドロ−4Hビラン
1. 6 8 g(収率21%、0. O O 6モル
)得られた’H−NMR (δin CDCIs
) :0.978(t.3H) , 1.22〜1.
45(m,38) , 2.11(s.3}1) .
2.28(dd,LH) . 2.57(dd,IH)
,3.74(s,3H) , 3.82(s,3H)
. 6.19(d.IH)I R (neat ,
l/Cll1−’)2970(−co2−) , 1
760(c・0)実施例4及び5 実施例1の反応を、実施例4については、5一(ジメト
キシメチル)−3−エトキシカルボニル2−オキサヘプ
タネートを、実施例5については、5−(ジメトキシメ
チル)−3−ペンジロキシ−2−オキサヘブタネートを
原料にそれぞれ用いて行なった。反応条件については実
施例1と同様に行なった。以下に生成物の収率とスペク
トルデータを示す。
ロビルエーテルを100cc加えて分液によって水層を
除去した。得られた有機層を30ccの水で水洗した後
に、低沸物を減圧留去し、カラムクロマトグラフィーで
単離した。5−エチル−56−ヒドロキシー2,3−ジ
メトキシ力ルボニル−5.6−ジヒドロ−4H−ビラン
が4.23g(収率62%、0.017モル)、5−エ
チル−6−アセトキシー2,3−ジヒドロ−4Hビラン
1. 6 8 g(収率21%、0. O O 6モル
)得られた’H−NMR (δin CDCIs
) :0.978(t.3H) , 1.22〜1.
45(m,38) , 2.11(s.3}1) .
2.28(dd,LH) . 2.57(dd,IH)
,3.74(s,3H) , 3.82(s,3H)
. 6.19(d.IH)I R (neat ,
l/Cll1−’)2970(−co2−) , 1
760(c・0)実施例4及び5 実施例1の反応を、実施例4については、5一(ジメト
キシメチル)−3−エトキシカルボニル2−オキサヘプ
タネートを、実施例5については、5−(ジメトキシメ
チル)−3−ペンジロキシ−2−オキサヘブタネートを
原料にそれぞれ用いて行なった。反応条件については実
施例1と同様に行なった。以下に生成物の収率とスペク
トルデータを示す。
5−エチル−6−ヒドロキシ−2.3−ジエトキシ力ル
ボニル−5.6−ジヒドロ−4Hビラン収率 94
% ’H−NMR (δ in CDCj!z )
:0.92(t,38) , 1.1〜1.91(m,
12B) , 2.21(dd,IH) , 2.42
(dd,18) , 4.22(q,4H) ,5.
00(d, IH) I R (neat , νcm−’)3480(−
OH) , 2960(−CI.−) , 1760(
C・0)5−エチル−6−ヒドロキシ−2,3−ジベン
ジロキシカルボニル−5.6−ジヒドロ−4Hピラン収
率 93% ’H−NMR(δ in CDClz ) :0
.92(t.3H) , 1.3〜1.6(m,3
H) , 2.20(dd.IH) , 2.
41(dd,IH) , 5.24(s,4H)
.5.30(d,LH) . 7.33(s,I
OH)I R (neat , I/Cll−’
)3500(−OH) ’+ 2970(−Clh
−) , 1750(C=0)〔発明の効果〕 本発明によれば上記の実施例から明らかなとおり、安価
にかつ容易に入手できる工業原料から高収率でかつ容易
に一般式(I)で示される4Hピランを製造することが
できる。また一般式(I)で示される4Hピランは上記
参考例から明らかなとうり、高収率かつ容易にビリジン
−2.3−ジカルボン酸頻に誘導される。
ボニル−5.6−ジヒドロ−4Hビラン収率 94
% ’H−NMR (δ in CDCj!z )
:0.92(t,38) , 1.1〜1.91(m,
12B) , 2.21(dd,IH) , 2.42
(dd,18) , 4.22(q,4H) ,5.
00(d, IH) I R (neat , νcm−’)3480(−
OH) , 2960(−CI.−) , 1760(
C・0)5−エチル−6−ヒドロキシ−2,3−ジベン
ジロキシカルボニル−5.6−ジヒドロ−4Hピラン収
率 93% ’H−NMR(δ in CDClz ) :0
.92(t.3H) , 1.3〜1.6(m,3
H) , 2.20(dd.IH) , 2.
41(dd,IH) , 5.24(s,4H)
.5.30(d,LH) . 7.33(s,I
OH)I R (neat , I/Cll−’
)3500(−OH) ’+ 2970(−Clh
−) , 1750(C=0)〔発明の効果〕 本発明によれば上記の実施例から明らかなとおり、安価
にかつ容易に入手できる工業原料から高収率でかつ容易
に一般式(I)で示される4Hピランを製造することが
できる。また一般式(I)で示される4Hピランは上記
参考例から明らかなとうり、高収率かつ容易にビリジン
−2.3−ジカルボン酸頻に誘導される。
Claims (2)
- (1)一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、R^1は水素原子、アルキル基、アルケニル基
、シクロアルキル基、アラルキル基又はアシル基を表わ
し、R^2、R^3及びR^4は同一又は異なって、水
素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、シク
ロアルキル基もしくはアラルキル基を表わす) で示される4Hピラン。 - (2)一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、R^2、R^3及びR^4は同一又は異なって
、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、
シクロアルキル基もしくはアラルキル基を表わし、R^
5およびR^6は同一又は異なって、アルキル基、アル
ケニル基、シクロアルキル基もしくはアラルキル基を表
わすか、又は一緒になってアルキレン基を形成するアセ
タール型保護基を表わす) で示される化合物を酸の存在下に加水分解することを特
徴とする一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、R^1は水素原子、アルキル基、アルケニル基
、シクロアルキル基、アラルキル基又はアシル基を表わ
し、R^2、R^3及びR^4は前記定義のとおりであ
る) で示される4Hピランの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1240458A JPH03101674A (ja) | 1989-09-15 | 1989-09-15 | 新規な4hピラン及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1240458A JPH03101674A (ja) | 1989-09-15 | 1989-09-15 | 新規な4hピラン及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03101674A true JPH03101674A (ja) | 1991-04-26 |
Family
ID=17059801
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1240458A Pending JPH03101674A (ja) | 1989-09-15 | 1989-09-15 | 新規な4hピラン及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03101674A (ja) |
-
1989
- 1989-09-15 JP JP1240458A patent/JPH03101674A/ja active Pending
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