JP2001314912A - 熱間圧延された金属ストリップ或いは薄板を表面処理する方法と装備 - Google Patents

熱間圧延された金属ストリップ或いは薄板を表面処理する方法と装備

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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】ストリップ長さと幅にわたり均質機械的特性を
備える、熱間圧延薄板あるいはストリップの表面処理方
法及び装置を提供する。 【解決手段】第一工程では圧延品6が圧延ライン1の最
終変形工程直後に均質に圧延品幅と長さに渡り圧延品の
スケ−ル発生が制限される或いは抑制される温度に冷却
されて、第二工程では場合によっては弱くスケ−ル発生
された圧延品がその表面のスケ−ルを完全に除去するよ
うに並びに同時に望ましい機械的特性に調整するために
減少する大気の下に焼きなましする。コイル7は巻き解
き装置9で巻き解かれ、100%の水素大気を有する焼
きなまし炉8に連続的に入る。炉は加熱ゾーン13、保
持ゾーン14、冷却ゾーン15に分れており、スケール
除去過程と望まれた組織の調整が行われる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、圧延品が出口区
間を介して巻取り装置へ供給される際にスケ−ル或いは
表面酸化を除去するために熱間圧延された金属製、特に
鋼製薄板或いはストリップを表面処理する方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】鋼製薄板或いはストリップの製造の場合
に、連続熱間幅広ストリップ圧延後に、或いは薄スラブ
の鋳造と圧延の際に材料が変形中に圧延スタンド及び接
続する出口区間或いは空気の冷却エッジランナ−を通過
されるので、圧延品の表面は強制的に空気酸素との接触
のためにスケ−ルを生じる。増加速度及びこの場合に生
じるスケ−ル層の種類は実質的に圧延材料の合金構成と
使用された温度−時間−周期とに依存している。570
°Cの以上の温度では例えば主製品として鉄酸化の際に
FeO層が生じ、570°Cの以下ではFe2 O3 層及
びFe3 O4 層が生じ、合金された鋼ではそれぞれの合
金成分の酸化物を生じる。
【0003】圧延されたストリップは通常には水冷要素
を備える冷却エッジランナ−を介してリ−ル装置へ走行
し、この際にしばしば冷却エッジランナ−で及び温度選
択を介して巻取り装置でストリップの機械的特性が調整
できる。しかし、この場合に巻取り装置ではスケ−ル発
生に関する温度の影響と機械的特性の調整は組織の調整
によって逆に維持される。そのほかに巻かれたコイルに
おけるスケ−ル層はストリップ縁の領域において空気酸
素に対するより良い接触のためにストリップ中心におけ
るよりひどく増加し、高いリ−ル温度の場合にも僅かに
増加する。熱間幅広ストリップラインにおける機械的特
性の調整の欠点は、温度分布がコイル長さと幅にわたり
定義されなく、特にコイル終端と始端には非均質であ
る。一致して仕上り製品の機械的特性も非均質であり得
る。
【0004】通常には巻かれてスケ−ルを生じた加熱ス
トリップは、スケ−ルと表面酸化を塩酸或いは硫酸媒体
中の運行によってストリップ表面から取り除くために、
加熱装置に供給される。無論、そのような腐食ラインの
経済的運転のために腐食液体によって増進する圧延品容
積について一定量が必要である。圧延品容積は同じ表面
通過の場合に減少する加熱ストリップ厚さにより減少す
る。それにもかかわらず連続速度の上昇による表面通過
の上昇は公知の腐食技術により制限されている。それと
同時に、腐食装置によるいつも薄くなる加熱ストリップ
の表面処理は任意にさらに実施されない。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】それ故に、この発明の
課題は、特にストリップ長さと幅にわたり均質機械的特
性を備える高処理品質をもつ薄いストリップが経済的に
製造され得る熱間圧延薄板或いはストリップの表面処理
方法及び装置を提供する。
【0006】
【課題を解決するための手段】この課題は、この種の方
法の場合には第一工程では圧延品が圧延ラインにおける
最終変形工程直後に、即ち仕上げ圧延スタンドの出た後
に圧延品幅と長さにわたり圧延品のスケ−ル発生が制限
されるか或いは抑圧される温度に冷却され、第二工程は
場合によっては僅かにスケ−ル発生された圧延品を表面
の完全なスケ−ル除去のために及び望ましい機械的特性
を調整するために減少する大気の下に焼きなましされる
ことによって解決される。
【0007】この解決は、圧延ラインから直接に出る圧
延品の適切な急激な冷却によってスケ−ル発生がストリ
ップ表面で制限されるか或いは減少される温度が調整さ
れると言う知識に基づいている。選択された温度と冷却
速度によって望まれた組織の調整が可能である。スケ−
ル発生は材料に依存して、上昇する温度と一緒に増大す
る。鉄の場合はスケ−ル発生が450°C以下の温度の
場合に著しく減少される。第二方法工程ではこの種の冷
却された、それ故にほんの僅かにスケ−ルを発生する材
料は場合によっては圧延中に形成されたスケ−ルを有
し、減少する大気の下に焼きなましされる。この工程中
に一方で圧延品表面が完全にスケ−ル除去され、他方で
焼きなましが均質組織とそれで均質機械的特性を調整す
るために圧延品や仕上げ製品に利用される。
【0008】特にスケ−ル層の同時減少を伴うこの焼き
なましは、加熱ゾ−ン、保持ゾ−ンと冷却ゾ−ンを備え
る外気に対して密封された連続焼きなまし炉にて行わ
れ、最初の加熱ゾ−ンにてストリップが500−800
°Cの範囲における温度に、特におよそ550°Cに加
熱される。
【0009】特に好ましい方法態様では圧延品が直接に
第一加熱ゾ−ンに接続する第二加熱ゾ−ンにおいて70
0°から800°までの範囲における温度に加熱され
る。
【0010】保持ゾ−ンは実質的に表面のスケ−ルを除
去する並びに時間影響下で望まれた組織を調整するのに
役立つ。
【0011】連続炉は空気大気に対してガス密封した室
から成り、減少するガス、特に100%水素を含有す
る。一酸化炭素或いは炭化水素並びにそれら混合物或い
は水素と窒素の混合物のような他の減少するガスは同様
に考えられる。無論、水素は二つの利点を有する。水素
は引きずり込んで完全には回避しない空気による圧延品
の連続的搬出によって連続炉に入る酸素と反応して水に
成る。その他に、水素による圧延品表面の脱炭は極めて
僅かである。合金金属が通常には鉄より酸化に敏感であ
るから、100%水素大気は特に高合金鋼或いはより高
く合金された鋼の場合に適切である。
【0012】一部には焼きなまし工程を備える提案され
た方法が終了でき、密封された連続炉の冷却ゾ−ンには
圧延品は、炉から圧延品の出る際の再酸化や空気酸素と
の新たな接触を阻止するために既におよそ100°Cの
温度に冷却されることを考慮すべきである。ストリップ
は直接にその後に巻かれて、スケ−ル除去された表面と
調整された均質組織を備える焼きなまし製品として利用
できる。
【0013】選択的に連続的焼きなまし方法ですぐに表
面被覆が特に溶融浸漬改良ラインの形態で亜鉛合金或い
はアルミニウム合金による層に接続し得る。そのような
実施形態のために圧延品は冷却ゾ−ンで400°から7
00°Cまでの間の温度範囲の或る温度に冷却され、次
にすぐに表面処理を受ける。
【0014】従来の加熱幅広ストリップライン或いはC
SP装置において提案した方法を公知の方法と結合する
ために、冷却された圧延品は現存出口区間を介して搬送
して巻き取り、引き続いて束で別々に配置された連続焼
きなまし炉へ輸送し、ここで巻き解き、焼きなまし後に
再び巻き取るか又は直接に接続する表面被覆装置に供給
することが得策である。
【0015】この発明によると、方法を実施するために
適した装置が提案されている。この装置は、ストリップ
や薄板を圧延する公知ユニットの傍に、仕上げ圧延スタ
ンドと出口区間の間の移行部に配置されている冷却装置
が必要であり、並びに減少する大気の下で作動する連続
焼きなまし炉が設けられることを特徴とする。
【0016】提案された方法の重要な利点は、公知過程
に基づいて厚さに関して既に冷却ストリップの寸法に達
し得る加熱ストリップがその表面品質並びに機械的特性
に関して冷却ストリップの領域に到達することである。
実際に加熱ストリップが組織に負の影響なしに表面被覆
されて使用され得る。
【0017】この発明のさらなる詳細と利点は、添付図
に基づきこの発明の対象の実施例の特許請求の範囲と次
の詳細な説明とから明らかになり、図1は圧延ライン後
の冷却の第一工程及びやそれに続く焼きなましを備える
本発明の方法の概略的順序を示す。図2は薄スラブ鋳造
圧延装置の概略図を示す。
【0018】図1は提案した方法の順序とこのために必
要な装置ユニットとを概略的に示す。方法の両実施態様
は後に到達される連続焼きなまし炉の冷却ゾ−ンで圧延
品の処理と区別する。
【0019】この発明の方法は、従来の加熱幅広ストリ
ップライン並びに薄いストリップの製造装置において
(図2参照)使用され得る。両装置タイプは出口区間3
及び巻取り装置4が接続する圧延ライン1を有し、圧延
ラインの仕上げ段がここで二個づつの作業ロ−ラと支持
ロ−ラをもつ三つスタンド2a,2b,2cで概略的に
図示されている。この発明によると最終スタンド2cの
直後に加熱ストリップ6を調整可能な速度で冷却する冷
却装置5が配置されている。到達すべき温度は450°
Cの以下にすべきである。冷却速度と冷却温度によって
望まれた組織が即ち純粋なマルテンサイト、バイニット
(Bainit) 或いはフェライト−パ−ライト組織或いは混
合組織が調整できる。このように冷却されたストリップ
6はスケ−ル或いは表面酸化の更なる大きな発生なしに
巻取り装置4まで搬送される。ストリップ表面には、圧
延過程中に発生したスケ−ル或いは表面酸化がある。
【0020】巻取り装置4に巻かれたコイル7は引き続
いて別に配置された連続焼きなまし炉に供給される。図
示されない実施例によると、同様に焼きなまし炉が圧延
装置の出口区間に一体化されていることが考慮できる。
【0021】既に完全に冷却された或いはなお熱いコイ
ル7は巻き解き装置9で巻き解かれ、溶接装置10を介
して入口蓄積機11へ搬出される。これら三つの装置要
素は連続焼きなまし炉の入口群12を形成する。そこか
らコイル7は、特に100%の水素大気を有する焼きな
まし炉8に連続的に入る。両側面の焼きなまし炉の密封
は動的ガス密封により実現できる。炉は三つの基本ゾ−
ン13(加熱ゾ−ン)、14(保持ゾ−ン)、15(冷
却ゾ−ン)に分布されていて、加熱ゾ−ン13は第一加
熱ゾ−ン(13a)と第二加熱ゾ−ン(13b)に分布
されている。
【0022】第一加熱ゾ−ン13aは特にストリップが
素早くおよそ550°Cほどの温度に加熱される誘導炉
を備えている。ストリップにて700°から800°C
までの温度に調整するために第二加熱ゾ−ン13bが続
く。その上、関係の長い保持領域14が続き実質的に減
少する条件の下でスケ−ル除去過程と望まれた組織の調
整が行われる。
【0023】第一方法の変形のために接続する巻取り機
を備える冷却過程が接続する。このためにストリップは
冷却ゾ−ン15で100°C以下の温度に冷却され、冷
却速度並びに冷却媒体に関して望まれた組織が調整でき
る。出口蓄積機17、絞りスタンド及び/又は圧延整合
機18並びに巻取り装置19を備える出口群16が連続
焼きなまし炉8の後に配置されている。
【0024】選択的にストリップ6は連続焼きなまし炉
8において400°から700°Cまでの温度に冷却さ
れて、溶融浸漬改良ライン20の加熱状態で供給され、
ここでは概略的に図示される。
【0025】図1で部分的のみに図示された圧延ライン
は図2で連続的鋳造圧延装置の概略図によって具体化さ
れる。そのような装置は実質的に30から250mmま
で、特に30から130mmまでの厚さのストランド2
2用の連続鋳造装置21(ここでは概略的に金型で示さ
れる)から成り、ここでこの厚さ装置がこの発明の保護
範囲に限定されなく、横分割装置23、加熱装置或いは
温度補償装置24、例えば持ち上げ梁炉或いはロ−ラ火
床炉、並びに圧延ライン1(ここでは概略的に二つの圧
延スタンド2a,2bで示される)も含まれる。実施態
様の種類に応じて、分離装置が省略される。
【0026】
【発明の効果】提案された方法により、加熱ストリップ
は極めて良い表面品質を伴って同時に良い機械的特性を
生じる。ストリップ表面は更なる加工工程のために減少
されて、或いは表面処理され、特に溶融浸漬改良され、
ストリップ仕上げ製品として存在する。
【図面の簡単な説明】
【図1】圧延ライン後の冷却の第一工程及びやそれに続
く焼きなましを備える本発明の方法の概略的順序を示
す。
【図2】薄スラブ鋳造圧延装置の概略図を示す。
【符号の説明】
1.....圧延ライン 2.....圧延スタンド 3.....出口
区間 4.....巻取り装置 5.....冷却
装置 6.....ストリップ 7.....コイ
ル 8.....連続焼きなまし炉 9.....巻き解き装置 10....溶接装置 11....入口蓄積機 12....入口群 13....加熱ゾ−ン 14....保持ゾ−ン 15....冷却ゾ−ン 16....出口群 17....出口蓄積機 18....圧延整合機 19....巻取り装置 20....溶融浸漬改良ライン 21....連続鋳造装置 22....ストランド 23....横分割装置 24....温度補償装置

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 圧延品が圧延過程後に出口区間(3)を
    介して巻取り装置(4)へ供給される際にスケ−ル或い
    は表面酸化を除去するために熱間圧延された金属薄板或
    いはストリップ(6)を表面処理する方法において、第
    一工程では圧延ラインの最終変形工程直後に均質に圧延
    品幅と長さに渡り圧延品のスケ−ル発生が制限される或
    いは抑圧される温度に冷却されて、第二工程では場合に
    よっては弱くスケ−ル発生された圧延品がその表面のス
    ケ−ルを完全に除去するように並びに焼きもどしの望ま
    れた機械的特性を調整するように減少する条件下に置か
    れることを特徴とする方法。
  2. 【請求項2】 第二方法工程用の圧延品が加熱ゾ−ン
    (13)、保持ゾ−ン(14)と冷却ゾ−ン(15)を
    備える連続的連続焼きなまし炉(8)に供給され、圧延
    品をおよそ500°Cから800°Cまでの範囲の温度
    に加熱し、残留スケ−ル層の減少の下で圧延製品を加熱
    温度に保持し、並びに100°Cから700°Cまでの
    範囲から或る温度に冷却することを特徴とする請求項1
    に記載の方法。
  3. 【請求項3】 圧延品がおよそ500°Cの温度の予熱
    される第一加熱ゾ−ン(13a)の通過後に圧延品を7
    00°Cから800°Cまでの範囲の温度に更に加熱す
    るために直接に接続する第二加熱ゾ−ン(13b)を通
    過することを特徴とする請求項2に記載の方法。
  4. 【請求項4】 連続焼きなまし炉の冷却ゾ−ン(15)
    では圧延品が再酸化を減らすために100°C以下の温
    度に冷却され、直接に引き続いて巻き上げられることを
    特徴とする請求項2或いは請求項3に記載の方法。
  5. 【請求項5】 連続焼きなまし炉の冷却ゾ−ン(15)
    では400°Cから700°Cまでの温度範囲の温度に
    冷却され、引き続いてなお加熱された状態にて直接に表
    面成層されることを特徴とする請求項2或いは請求項3
    に記載の方法。
  6. 【請求項6】 圧延品が出口区間に続く巻上げ装置4に
    巻き上げられる最終圧延湯出し直後に冷却され、巻き上
    げられたストリップ(7)を圧延ラインに対して個々の
    連続焼きなまし炉(8)に供給され、連続焼きなまし炉
    (8)へ流入の前に巻き解かれ、減少する条件下で焼き
    戻され、引き続いて冷却されて巻き上げられるか或いは
    引き続いて直接に溶融浸漬改良ライン(20)に供給さ
    れることを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれか
    一項に記載の方法。
  7. 【請求項7】 減少する大気が水素、一酸化炭素、炭化
    水素、その混合物によって或いは水素と窒素の混合物に
    よって調整されることを特徴とする請求項1乃至請求項
    6のいずれか一項に記載の方法。
  8. 【請求項8】 圧延品(6)が圧延ライン(1)の仕上
    げロ−ルスタンド(2a,b,c)から出て、出口区間
    (3)を介して巻取り装置(4)へ供給される際に請求
    項1乃至請求項7のいずれか一項に記載の方法を実施す
    るためにスケ−ル或いは表面酸化を除去するために熱間
    圧延された金属薄板或いはストリップを表面処理する装
    備において、仕上げロ−ルスタンド(2c)と出口区間
    (3)との間の移行部における冷却装置(5)及び減少
    する大気の下で作動する冷却された圧延品用連続焼きな
    まし炉(8)を備えることを特徴とする装備。
  9. 【請求項9】 連続焼きなまし炉(8)は圧延ライン
    (1)と別に配置されていることを特徴とする請求項8
    に記載の装備。
  10. 【請求項10】 冷却されて巻上げられたストリップ
    (7)を連続焼きなまし炉まで搬送する手段、巻き解き
    装置(9)、場合によっては溶接装置(10)及び場合
    によっては入口貯蔵体(11)を含めた、連続再熱炉
    (8)の前に配置される入口グル−プ(12)、場合に
    よっては出口貯蔵体(17)、プレススタンド及び/又
    は延伸装置(18)及びストリップ或いは薄板を巻上げ
    る装置(19)又は連続焼きなまし炉(8)に直接に接
    続する溶融浸漬改良ライン(20)を含めた、連続焼き
    なまし炉(8)の後に配置される出口グル−プ(16)
    を備えることを特徴とする請求項9に記載の装備。
  11. 【請求項11】 請求項8乃至請求項10のいずれか一
    項に記載の、スラブ(22)を鋳造する連続鋳造装置
    (21)、選択的に横分割装置(23)、加熱装置及び
    /又は温度補償装置(24)、熱間圧延ライン(1)及
    び表面処理装置を含めた、特に2mmより薄い加熱スト
    リップ厚さの金属薄板或いはストリップを製造する装
    備。
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