JP2001312088A

JP2001312088A - 電子写真用感光体

Info

Publication number: JP2001312088A
Application number: JP2000133223A
Authority: JP
Inventors: Tamotsu Ariga; 保有賀
Original assignee: Ricoh Co Ltd
Current assignee: Ricoh Co Ltd
Priority date: 2000-05-02
Filing date: 2000-05-02
Publication date: 2001-11-09

Abstract

(57)【要約】【課題】基盤素管の欠陥を覆うことができ、且つ導電
性が良好で、残留電位の小さい電子写真用感光体を提供
すること。【解決手段】導電性支持体と感光層との間に少なくと
も２種以上の金属酸化物含有した下引き層を設け、しか
も該下引き層の導電性支持体側と感光層側のそれぞれの
金属酸化物の組成比が異なり、且つ導電性支持体側に多
い金属酸化物の方が感光層側に多い金属酸化物よりも電
気比抵抗の小さな金属酸化物であるものとする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は電子写真用感光体に
関し、耐久性に優れ、高品質画像を形成し得る電子写真
用感光体に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般的に電子写真用感光体は、繰り返し
使用により、帯電性低下、残留電位の上昇、画像特性の
劣化など、様々な問題を抱えている。特に反転現像法の
場合、素管の欠陥の影響により画像上に黒点など異常画
像がしばしば現れるのが問題である。それを防止するた
め酸化チタン含有下引き層を設ける例があるが、残留電
位防止、すなわち画像濃度低下防止のためにはあまり下
引き層の厚さを大きくできないため、素管の欠陥を覆い
きれない場合が多い。

【０００３】一方、比較的低抵抗の酸化錫、酸化チタン
を含有する下引き層を厚く設けた上に、更に樹脂絶縁層
を設ける例がある（例：特開昭６０−９７３６３号公
報、特開昭６０−３２０５４号公報）。ただこの場合、
素管の欠陥を覆う効果はあるものの樹脂膜抵抗の環境依
存性が大きく、低湿で残留電位が増大し、その結果画像
濃度が低下するという問題がある。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の課題
は、上記の欠点を解決した、すなわち、基盤素管の欠陥
を覆うことができ、且つ導電性が良好で、残留電位の小
さい電子写真用感光体を提供することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明によれば、第一
に、導電性支持体と感光層との間に少なくとも２種以上
の金属酸化物を含有した下引き層を設け、しかも該下引
き層の導電性支持体側と感光層側のそれぞれの金属酸化
物の組成比が異なり、且つ導電性支持体側に多い金属酸
化物の方が感光層側に多い金属酸化物よりも電気比抵抗
の小さな金属酸化物であることを特徴とする電子写真用
感光体が提供される。

【０００６】第二に、導電性支持体と感光層との間にそ
れぞれ種類の異なる金属酸化物を含有した下引き層を複
数層設けたことを特徴とする上記第一に記載した電子写
真用感光体が提供される。

【０００７】第三に、導電性支持体側の電気比抵抗の小
さな金属酸化物を含有した下引き層の厚さが感光層側の
下引き層の厚さより大きいことを特徴とする上記第一又
は第二に記載した電子写真用感光体が提供される。

【０００８】第四に、感光層側の金属酸化物が酸化マグ
ネシウム、酸化アルミニウム、酸化珪素、酸化ジルコニ
ウム、酸化亜鉛及び酸化チタンから選ばれた少なくとも
１種であり、且つ導電性支持体側の金属酸化物が酸化イ
ンジウム、酸化錫、酸化鉄及び酸化チタンから選ばれた
少なくとも１種であることを特徴とする上記第一〜三の
いずれかに記載した電子写真用感光体が提供される。

【０００９】第五に、導電性支持体として使用する素管
が３ミクロン以上の突起を有するアルミニウム素管であ
ることを特徴とする上記第一〜四のいずれかに記載した
電子写真用感光体が提供される。

【００１０】

【発明の実施の形態】以下、図面に沿って本発明を説明
する。図１は本発明の電子写真用感光体の模式断面図で
あり、導電性支持体（基盤）１上に第１下引き層２、第
２下引き層３、感光層４を順次設けた構成のものであ
る。図２は感光層４が電荷発生層（ＣＧＬ）４ａと電荷
輸送層（ＣＴＬ）４ｂより構成される機能分離型タイプ
のものである。

【００１１】なお、図１及び図２では、第１下引き層と
第２下引き層が明瞭に区別して書かれているが、スプレ
ー塗布方法などにより下引き層の組成が基盤側から感光
層側に徐々に変化するように作成することも可能であ
る。

【００１２】本発明で設けられる下引き層は、例えば金
属酸化物を各種の樹脂、例えば熱可塑性樹脂、あるいは
熱硬化性樹脂とともに塗布乾燥して形成される。下引き
層形成法としては、通常の塗布法、浸漬塗工法、スプレ
ー法などが採用される。

【００１３】金属酸化物としては、酸化チタン、酸化
錫、酸化アルミニウム、酸化インジウム、酸化ジルコニ
ウム、酸化鉄、酸化珪素、酸化亜鉛、酸化マグネシウム
などである。バインダー樹脂としては、ポリアミド樹
脂、アルコール可溶性ポリアミド樹脂、水溶性ポリビニ
ルブチラール、ポリビニルブチラール、ポリビニルアル
コールなどの接着性の良いバインダー樹脂、あるいはア
ルキド樹脂、メラミン樹脂などの熱硬化性樹脂などが使
用される。

【００１４】なお、ここで重要なのは下引き層に金属酸
化物の種類を複数含有させ、且つ下引き層の導電性支持
体（基盤）側と感光層側の金属酸化物の種類あるいはそ
の組成比を変えることにある。その組成変化の仕方は前
述したようにスプレー方法などで段階的に変化するよう
にしてもよいし、また異なる金属酸化物を含有した下引
き層を複数層設ける方法でもよい。ここで更に重要なの
は、基盤側に多い金属酸化物は感光層側に多い金属酸化
物よりも電気比抵抗の小さな材料を選ぶことである。こ
のようにすることにより、素管の画像欠陥を覆うという
目的と、基本電気特性、すなわち残留電位のない帯電性
の良好な感光体を作成するという両方の目的が達成でき
る。

【００１５】この両方の目的が達成できる理由は現在不
明であるが、以下のように類推される。なお、ここでは
説明の都合上、２層設ける方法について述べる。我々は
以下述べるように、感光体全体の帯電性は感光層と接触
する部分の材料が重要であることを見い出した。すなわ
ち、金属酸化物として電気比抵抗の小さな酸化錫を下引
き層（下引き層は単層の場合）に使用した感光体と、相
対的に大きな比抵抗の酸化チタンを下引き層に使用した
感光体との暗減衰速度を比べてみると、図３に示される
ように、酸化錫の方がはるかに暗減衰速度が大きい。酸
化錫の場合、暗減衰速度が大きく通常の時間内使用の感
光体としては使用できない。一方、上記単層下引き層と
同じ膜厚で下引き層を２層、・・・・それぞれ酸化錫、
あるいは酸化チタンを使用・・・・とした場合の暗減衰
速度をみると、その暗減衰特性は感光層に接触する部分
の金属酸化物の材料によってほぼ決まってしまうことが
図３より明らかとなった。すなわち、電荷発生層と接触
する部位が酸化チタンか酸化錫かによって特性が決まっ
てしまい、基盤側の下引き層材料には依存しない。

【００１６】ここで図３の縦軸は感光体の暗減衰速度を
（電界／時間）で表した数字、横軸はそのときの電界の
平方根である。（１）は酸化錫含有下引き層、（３）は
酸化チタン含有下引き層、（２）と（４）は下引き層を
２層設けた場合である。明らかに暗減衰速度は電荷発生
層と接触する部位の材料で決まり、基盤側の材料にはあ
まり影響されない。これは酸化錫の代わりに、酸化イン
ジウムを用いた場合も同様であった。

【００１７】なお、感光体の帯電性（Ｖｏの意味は後
述）は、図４に示すように金属酸化物の比抵抗に大きく
影響される。

【００１８】以上の結果より、素管の欠陥を覆うための
基盤側の下引き層（第１下引き層）には電気比抵抗の小
さな材料を選定し、可能な限り膜厚を厚くすること、一
方帯電性を維持させるには電荷発生層と接触する側の下
引き層（第２下引き層）には電気比抵抗の大きな金属酸
化物を使用する必要があることが見い出された。第２下
引き層は抵抗が高く残留電位が発生するため、あまり膜
厚を厚くできない。また、すでに厚い第１下引き層で欠
陥を覆っているため、第２下引き層は厚くする必要がな
い。

【００１９】本発明の電子写真用感光体は、前述したよ
うに、少なくとも導電性支持体と感光層（単層であって
も、あるいは電荷発生層と電荷輸送層との積層であって
もよい）との間に、導電性支持体側と感光層側のそれぞ
れの金属酸化物の組成比が異なり、且つ導電性支持体側
に多い金属酸化物の方が感光層側に多い金属酸化物より
も電気比抵抗の小さい金属酸化物である下引き層を設け
た構成を有するものであるが、ここで使用される導電性
支持体、電荷発生材、電荷輸送材は何ら限定されるもの
ではなく、従来公知の材料の中から適宜選択して使用す
ることができる。これらの材料について、以下簡単に説
明する。

【００２０】導電性支持体１としては、体積抵抗１０¹⁰
Ω・ｃｍ以下の導電性を示すもの、例えば、アルミニウ
ム、ニッケル、クロム、ニクロム、銅、金、銀、白金な
どの金属、酸化錫、酸化インジウムなどの金属酸化物
を、蒸着又はスパッタリングにより、フィルム状若しく
は円筒状のプラスチック、紙に被覆したもの、あるい
は、アルミニウム、アルミニウム合金、ニッケル、ステ
ンレスなどの板及びそれらを押し出し、引き抜きなどの
工法で素管化後、切削、超仕上げ、研摩などの表面処理
した管などを使用することができる。また、特開昭５２
−３６０１６号公報に開示されたエンドレスニッケルベ
ルト、エンドレスステンレスベルトも導電性支持体１と
して用いることができる。ただし、本発明は特に３ミク
ロン以上の大きな突起を有するアルミニウム素管を使用
した場合に顕著な効果を奏する。もちろん、比較的突起
の少ない場合でも有効である。

【００２１】この他、上記支持体上に導電性粉体を適当
な結着樹脂に分散して塗工したものも、本発明の導電性
支持体１として用いることができる。この導電性粉体と
しては、カーボンブラック、アセチレンブラック、また
アルミニウム、ニッケル、鉄、ニクロム、銅、亜鉛、銀
などの金属粉、あるいは導電性酸化錫、ＩＴＯなどの金
属酸化物粉体などが挙げられる。また、同時に用いられ
る結着樹脂には、ポリスチレン、スチレン−アクリロニ
トリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチ
レン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステル、ポリ塩
化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸
ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアリレート樹脂、フ
ェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セルロース樹
脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチラール、ポ
リビニルホルマール、ポリビニルトルエン、ポリ−Ｎ−
ビニルカルバゾール、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、
エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノー
ル樹脂、アルキッド樹脂などの熱可塑性樹脂、熱硬化性
樹脂又は光硬化性樹脂が挙げられる。このような導電性
層は、これらの導電性粉体と結着樹脂を適当な溶剤、例
えば、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、メチルエ
チルケトン、トルエンなどに分散して塗布することによ
り設けることができる。

【００２２】更に、適当な円筒基体上にポリ塩化ビニ
ル、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリスチレン、ポ
リ塩化ビニリデン、ポリエチレン、塩化ゴム、テフロン
（登録商標）などの素材に前記導電性粉体を含有させた
熱収縮チューブによって導電性層を設けてなるものも、
本発明の導電性支持体１として良好に用いることができ
る。

【００２３】感光層は単層でも積層でもよいが、説明の
都合上、先ず電荷発生層４ａと電荷輸送層４ｂで構成さ
れる場合から述べる。

【００２４】電荷発生層４ａは、顔料を必要に応じてバ
インダー樹脂とともに適当な溶剤中にボールミル、アト
ライター、サンドミル、超音波などを用いて分散し、こ
れを導電性支持体上に塗布し、乾燥することにより形成
される。

【００２５】電荷発生層４ａに使用される顔料として
は、モノアゾ顔料、ジスアゾ顔料、トリスアゾ顔料、ペ
リレン系顔料、ペリノン系顔料、キナクリドン系顔料、
キノン系縮合多環化合物、スクアリック酸系染料、フタ
ロシアニン系顔料、ナフタロシアニン系顔料、アズレニ
ウム塩系染料等が挙げられる。

【００２６】必要に応じて電荷発生層４ａに用いられる
結着樹脂としては、ポリアミド、ポリウレタン、エポキ
シ樹脂、ポリケトン、ポリカーボネート、シリコーン樹
脂、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニル
ホルマール、ポリビニルケトン、ポリスチレン、ポリス
ルホン、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリアクリル
アミド、ポリビニルベンザール、ポリエステル、フェノ
キシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸
ビニル、ポリフェニレンオキシド、ポリアミド、ポリビ
ニルピリジン、セルロース系樹脂、カゼイン、ポリビニ
ルアルコール、ポリビニルピロリドン等が挙げられる。
結着樹脂の量は、電荷発生物質１００重量部に対し０〜
５００重量部、好ましくは１０〜３００重量部が適当で
ある。

【００２７】ここで用いられる溶剤としては、例えばイ
ソプロパノール、アセトン、メチルエチルケトン、シク
ロヘキサノン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチ
ルセルソルブ、酢酸エチル、酢酸メチル、ジクロロメタ
ン、ジクロロエタン、モノクロロベンゼン、シクロヘキ
サン、トルエン、キシレン、リグロイン等が挙げられ
る。塗布液の塗工法としては、浸漬塗工法、スプレーコ
ート、ビードコート、ノズルコート、スピナーコート、
リングコート等の方法を用いることができる。電荷発生
層４ａの膜厚は、０.０１〜５μｍ程度が適当であり、
好ましくは０.１〜２μｍである。

【００２８】電荷輸送層４ｂは、電荷輸送物質及び結着
樹脂を適当な溶剤に溶解ないし分散し、これを電荷発生
層上に塗布、乾燥することにより形成できる。また、必
要により可塑剤、レベリング剤、酸化防止剤等を添加す
ることもできる。

【００２９】電荷輸送物質には、正孔輸送物質と電子輸
送物質とがある。電子輸送物質としては、例えばクロル
アニル、ブロムアニル、テトラシアノエチレン、テトラ
シアノキノジメタン、２，４，７−トリニトロ−９−フ
ルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フル
オレノン、２，４，５，７−テトラニトロキサントン、
２，４，８−トリニトロチオキサントン、２，６，８−
トリニトロ−４Ｈ−インデノ〔１，２−ｂ〕チオフェン
−４−オン、１，３，７−トリニトロジベンゾチオフェ
ン−５，５−ジオキサイド、ベンゾキノン誘導体等の電
子受容性物質が挙げられる。

【００３０】正孔輸送物質としては、ポリ−Ｎ−ビニル
カルバゾール及びその誘導体、ポリ−γ−ガルバゾリル
エチルグルタメート及びその誘導体、ピレン−ホルムア
ルデヒド縮合物及びその誘導体、ポリビニルピレン、ポ
リビニルフェナントレン、ポリシラン、オキサゾール誘
導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、
モノアリールアミン誘導体、ジアリールアミン誘導体、
トリアリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、α−フ
ェニルスチルベン誘導体、ベンジジン誘導体、ジアリー
ルメタン誘導体、トリアリールメタン誘導体、９−スチ
リルアントラセン誘導体、ピラゾリン誘導体、ジビニル
ベンゼン誘導体、ヒドラジン誘導体、インデン誘導体、
ブタジエン誘導体、ピレン誘導体、ビススチルベン誘導
体、エナミン誘導体等その他公知の材料が挙げられる。
これらの電荷輸送物質は単独、又は２種以上混合して用
いられる。

【００３１】結着樹脂としては、ポリスチレン、スチレ
ン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン
共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエ
ステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重
合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアレ
ート、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セルロ
ース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチラー
ル、ポリビニルホルマール、ポリビニルトルエン、ポリ
−Ｎ−ビニルカルバゾール、アクリル樹脂、シリコーン
樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フ
ェノール樹脂、アルキッド樹脂等の熱可塑性又は熱硬化
性樹脂が挙げられる。

【００３２】電荷輸送物質の量は結着樹脂１００重量部
に対し、２０〜３００重量部、好ましくは４０〜１５０
重量部が適当である。また、電荷輸送層の膜厚は５〜１
００μｍ程度とすることが好ましい。ここで用いられる
溶剤としては、テトラヒドロフラン、ジオキサン、トル
エン、ジクロロメタン、モノクロロベンゼン、ジクロロ
エタン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセ
トンなどが用いられる。

【００３３】本発明において電荷輸送層４ｂ中に可塑剤
やレベリング剤を添加してもよい。可塑剤としては、ジ
ブチルフタレート、ジオクチルフタレートなど一般の樹
脂の可塑剤として使用されているものがそのまま使用で
き、その使用量は、結着樹脂に対して０〜３０重量％程
度が適当である。レベリング剤としては、ジメチルシリ
コーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイルなどの
シリコーンオイル類や、側鎖にパーフルオロアルキル基
を有するポリマーあるいはオリゴマーが使用され、その
使用量は結着樹脂に対して０〜１重量％が適当である。

【００３４】次に、感光層が単層構成４の場合について
述べる。単層感光層は、電荷発生物質、電荷輸送物質及
び結着樹脂を適当な溶剤に溶解ないし分散し、これを塗
布、乾燥することによって形成できる。更に、この感光
層には上述した電荷輸送材料を添加した機能分離タイプ
としても良く、良好に使用できる。また、必要により、
可塑剤やレベリング剤、酸化防止剤等を添加することも
できる。

【００３５】結着樹脂としては、先に電荷輸送層４ｂで
挙げた結着樹脂をそのまま用いるほかに、電荷発生層４
ａで挙げた結着樹脂を混合して用いてもよい。結着樹脂
１００重量部に対する、電荷発生物質の量は５〜４０重
量部が好ましく、電荷輸送物質の量は０〜１９０重量部
が好ましく、更に好ましくは５０〜１５０重量部であ
る。単層感光層は、電荷発生物質、結着樹脂を必要なら
ば電荷輸送物質とともにテトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、ジクロロエタン、シクロヘキサン等の溶媒を用いて
分散機等で分散した塗工液を、浸漬塗工法やスプレーコ
ート、ビードコートなどで塗工して形成できる。単層感
光層の膜厚は５〜１００μｍ程度が適当である。

【００３６】本発明の電子写真用感光体には、感光層保
護の目的で、保護層が感光層の上に設けられることもあ
る。保護層に使用される材料としては、ＡＢＳ樹脂、Ａ
ＣＳ樹脂、オレフィン−ビニルモノマー共重合体、塩素
化ポリエーテル、アリル樹脂、フェノール樹脂、ポリア
セタール、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリアクリ
レート、ポリアリルスルホン、ポリブチレン、ポリブチ
レンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエーテル
スルホン、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリイミド、アクリル樹脂、ポリメチルペンテン、
ポリプロピレン、ポリフェニレンオキシド、ポリスルホ
ン、ポリスチレン、ＡＳ樹脂、ブタジエン−スチレン共
重合体、ポリウレタン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニ
リデン、エポキシ樹脂等の樹脂が挙げられる。なお、保
護層には金属酸化物などの耐摩耗性フィラー、電荷輸送
物質が含有されてもよい。

【００３７】

【実施例】以下、本発明を実施例を挙げて説明するが、
本発明はこれら実施例により制約を受けるものではな
い。なお、部はすべて重量部である。

【００３８】（実施例１）アルミ板上に下記組成の第１
下引き層塗工液、第２下引き層塗工液、電荷発生層塗工
液及び電荷輸送層塗工液を、順次塗布・乾燥し、積層感
光体を作製した。

【００３９】＜第１下引き層塗工液＞酸化錫（電気比抵抗４×１０^-2Ωｃｍ：サムソノフ最新酸化物便覧）粉末５００部アルキド樹脂（固形分５０％）１５０部メラミン樹脂（固形分６０％）８５部メチルエチルケトン１０００部第１下引き層膜厚３．５μｍ

【００４０】＜第２下引き層塗工液＞酸化チタン（電気比抵抗３×１０⁷Ωｃｍ：サムソノフ最新酸化物便覧）粉末５００部アルキド樹脂（固形分５０％）１５０部メラミン樹脂（固形分６０％）８５部メチルエチルケトン１０００部第２下引き層膜厚３．５μｍ

【００４１】＜電荷発生層塗工液＞チタニルフタロシアニン１．５部ブチラール樹脂１部２−ブタノン１００部電荷発生層膜厚約０．５μｍ

【００４２】＜電荷輸送層塗工液＞ポリカーボネート（ポリカＺ）１０部下記構造式の電荷輸送物質７部

【化１】塩化メチレン８０部電荷輸送層膜厚約１５μｍ

【００４３】（比較例１）実施例１において、第１下引
き層を酸化チタン、第２下引き層を酸化錫とした以外
は、実施例１と同様にして感光体を作成した。

【００４４】（比較例２）実施例１において、下引き層
を酸化チタン使用の単層（７ミクロン）とした以外は、
実施例１と同様にして感光体を作成した。

【００４５】次に、こうして得られた積層型電子写真用
感光体の７８０ｎｍでの感度を調べるため、この感光体
にリコー社製の静電特性評価機を用いて暗所で約−５．
２ｋＶのコロナ放電を２０秒間行って帯電させ電位（Ｖ
m）を測定、更に２０秒間暗所にて放置したのち表面電
位Ｖo（Ｖ）を測定した。ついで、７８０ｎｍ単色光で
照射し、−８００ボルトからの電位が１／５になるまで
の露光量Ｅ_1/5（μＪ／ｃｍ²）を算出した。その結果を
表１に示す。

【００４６】以上のように、電気比抵抗の小さな金属酸
化物含有層を感光層と接触する第２下引き層とした比較
例１は、帯電性が悪い。また、従来のように電気比抵抗
の大きな下引き層単層のみでは、膜厚に依存して残留電
位が大きくなるため、あまり膜厚は大きくできない。そ
のため素管の欠陥を覆うには不利である。

【００４７】（実施例２）第１下引き層の膜厚を１０μ
ｍ、第２下引き層の膜厚を１μｍとした以外は、実施例
１と同様にして感光体を作成し、評価した。その結果を
表１に示す。この場合、第１下引き層の膜厚を大きくし
ても、第１下引き層は低抵抗のため残留電位は増えな
い。その分第２下引き層の膜厚を小さくでき、残留電位
を小さく押さえることができる。帯電性は、第２下引き
層の材質で保持される。素管の欠陥は、低抵抗層の第１
下引き層の膜厚を厚くすることで覆うことができる。

【００４８】（実施例３）第１下引き層を酸化錫の代わ
りに酸化インジウム（電気比抵抗１×１０^-1Ωｃｍ：サ
ムソノフ最新酸化物便覧）とし、第１下引き層を７ミク
ロン、第２下引き層を２ミクロンとした以外は、実施例
１と同様にして感光体を作成し、評価した。その結果を
表１に示す。

【００４９】（比較例３）実施例３の第１下引き層と第
２下引き層を交換した以外は、実施例３と同様にして感
光体を作成し、評価した。その結果を表１に示す。酸化
錫と同様に、比抵抗の小さな金属酸化物を含有する下引
き層を感光層側に設けると、帯電性が悪くなる。

【００５０】（実施例４）第１下引き層を酸化チタン
３．５μｍ、第２下引き層を酸化アルミ（電気比抵抗１
×１０¹⁶Ωｃｍ：サムソノフ最新酸化物便覧）０．１μ
ｍとした以外は、実施例１と同様にして感光体を作成
し、評価した。その結果を表１に示す。

【００５１】

【表１】

【００５２】

【発明の効果】以上のように、基盤側の下引き層材質を
比抵抗の小さな材質として好ましくはその膜厚を厚く
し、感光層と接する方の材質を比較的比抵抗の大きなも
のとして好ましくはその膜厚を薄くした２層構造の下引
き層により、基盤素管の欠陥を覆うことができな、なお
且つ帯電性がよく、残留電位の小さな理想的な感光体が
得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の電子写真用感光体の１例の模式断面図
である。

【図２】本発明の電子写真用感光体の別の例の模式断面
図である。

【図３】下引き層を有する電子写真用感光体の暗減衰速
度と電界との関係を示す図である。

【図４】電子写真用感光体の帯電性と下引き層中の金属
酸化物の比抵抗との関係を示す図である。

【符号の説明】

１導電性支持体２第１下引き層３第２下引き層４感光層４ａ電荷発生層４ｂ電荷輸送層

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】導電性支持体と感光層との間に少なくと
も２種以上の金属酸化物を含有した下引き層を設け、し
かも該下引き層の導電性支持体側と感光層側のそれぞれ
の金属酸化物の組成比が異なり、且つ導電性支持体側に
多い金属酸化物の方が感光層側に多い金属酸化物よりも
電気比抵抗の小さな金属酸化物であることを特徴とする
電子写真用感光体。
【請求項２】導電性支持体と感光層との間にそれぞれ
種類の異なる金属酸化物を含有した下引き層を複数層設
けたことを特徴とする請求項１記載の電子写真用感光
体。
【請求項３】導電性支持体側の電気比抵抗の小さな金
属酸化物を含有した下引き層の厚さが感光層側の下引き
層の厚さより大きいことを特徴とする請求項１又は２記
載の電子写真用感光体。
【請求項４】感光層側の金属酸化物が酸化マグネシウ
ム、酸化アルミニウム、酸化珪素、酸化ジルコニウム、
酸化亜鉛及び酸化チタンから選ばれた少なくとも１種で
あり、且つ導電性支持体側の金属酸化物が酸化インジウ
ム、酸化錫、酸化鉄及び酸化チタンから選ばれた少なく
とも１種であることを特徴とする請求項１〜３のいずれ
かに記載の電子写真用感光体。
【請求項５】導電性支持体として使用する素管が３ミ
クロン以上の突起を有するアルミニウム素管であること
を特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の電子写真
用感光体。