JP2001305562A - ガラス基板のシ−ル材硬化定盤への搬入出方法及びその装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ガラス基板の仮止め用シ−ル材の塗布量を最
小限に抑え、且つシ−ル材硬化定盤に穴開け加工を行わ
ずに仮止めされたガラス基板をシ−ル材硬化定盤上に搬
入載置すると共に硬化処理の後シ−ル材硬化定盤上から
搬出することができるガラス基板のシ−ル材硬化定盤へ
の搬入出方法及びその装置を提供する。 【解決手段】 搬入の際に、ガラス基板とシ−ル材硬化
定盤との間に気体を吹き入れてガラス基板をシ−ル材硬
化定盤から浮き上がらせた状態で吸着によるロ−ラ送り
込み搬送をさせ、搬出の際に、ガラス基板の一端上面を
吸着により持ち上げ、シ−ル材硬化定盤との間に隙間を
設けた後該隙間にイオン化したエヤ−を吹き入れて全面
を浮き上がらせることによって除電を行い、吸着による
ロ−ラ引込み搬送をする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶ディスプレイ
組立て工程において、貼合せ装置により仮止めされたガ
ラス基板をシ−ル材硬化定盤上に搬入載置し、シ−ル材
硬化処理を済ませた後、ガラス基板をシ−ル材硬化定盤
上から搬出する方法及びその装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、液晶ディスプレイ組立て工程で
は、貼合せ装置により仮止めされたガラス基板はシ−ル
材硬化工程に送られ、２枚のガラス基板間の隙間が所定
のギャップ平行度を得られた時点でシ−ル材を硬化させ
る硬化処理が行われる。このシ−ル材の硬化方法として
は、熱硬化方式と紫外線照射硬化方式の２方式があり、
熱硬化方式においては内部にヒ−タを埋め込んだ加熱定
盤が使用され、紫外線照射硬化方式では紫外線を透過す
る石英定盤が使用される。またそれぞれの定盤上にガラ
ス基板を載置し、シ−ル材硬化処理後定盤上からガラス
基板を取り出す方法としては、一般にガラス基板を上面
から多数の吸着パッドで吸着をして吊り上げて定盤上に
載置あるいは定盤上から取り出す上面吸着搬送方式と、
ガラス基板を下面から搬送ア−ムで持ち上げて、定盤を
貫通して上昇したリフトピンに移し替え、リフトピンが
下降して定盤上にガラス基板を載置あるいは定盤上から
取り出すリフトピン方式の２方式がある。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかし上記の上面吸着
搬送方式では、搬送途中において２枚のガラス基板の仮
止めがガラス基板自身の質量で剥がれてしまい、処理
（搬送）できるガラス基板のサイズが限定される。この
問題を解決するためにはシ−ル材の塗布量を増やしたり
塗布個所を増加させたりして接着強度を上げればよい
が、一旦硬化した仮止め用シ−ル材は加熱あるいは紫外
線照射をしても軟化せずガラス基板間の突支え棒にな
り、この部分が他の部分よりもギャップが１０μｍ程度
広くなってしまいギャップ平行度に悪影響を及ぼす。こ
のためガラス基板上面吸着搬送を行うために仮止め用シ
−ル材の数量を増やすのは望ましくない。さらに上記の
リフトピン方式は、定盤にリフトピン昇降用の穴を開け
るが、ガラス基板を加圧する際にこの穴の部分だけが圧
力が掛からずこの部分のギャップが広くなってギャップ
平行度に悪影響を及ぼす。このため定盤にリフトピン昇
降用の穴を開けるのは望ましくない。

【０００４】本発明は上記の問題に鑑みて成されたもの
であって、ガラス基板の仮止め用シ−ル材の塗布量を最
小限に抑え、且つシ−ル材硬化定盤に穴開け加工を行わ
ずに仮止めされたガラス基板をシ−ル材硬化定盤上に搬
入載置すると共に硬化処理の後シ−ル材硬化定盤上から
搬出することができるガラス基板のシ−ル材硬化定盤へ
の搬入出方法及びその装置を提供することを目的とす
る。

【０００５】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに本発明におけるガラス基板のシ−ル材硬化定盤への
搬入出方法は、仮止めをしたガラス基板をシ−ル材硬化
定盤上に搬入し、シ−ル材硬化処理をした後シ−ル材硬
化定盤上のガラス基板を搬出させる方法であって、前記
ガラス基板の搬入の際に、ガラス基板とシ−ル材硬化定
盤との間に気体を吹き入れて気体膜を形成してガラス基
板をシ−ル材硬化定盤から浮き上がらせた状態で上側ガ
ラス基板吸着によるロ−ラ送り込み搬送をさせ、前記シ
−ル材硬化処理済ガラス基板の搬出の際に、ガラス基板
の一端上面を吸着引き上げにより持ち上げ、ガラス基板
とシ−ル材硬化定盤との間に隙間を設けた後該隙間に正
負にイオン化したエヤ−を吹き入れて気体膜を形成して
ガラス基板全面を浮き上がらせることによってガラス基
板及びシ−ル材硬化定盤表面に帯電した電荷を逆極性の
イオンで中和し除電を行い、上側ガラス基板吸着による
ロ−ラ引込み搬送をさせることを特徴とするものであ
る。

【０００６】また本発明におけるガラス基板のシ−ル材
硬化定盤への搬入出装置は、ガラス基板を搬送させるロ
−ラを中央部に配置し、該ロ−ラを跨ぐ門形構造の移動
フレ−ムを搬送させるロ−ラを左右両外側に配置すると
共に両ロ−ラ間にガイドを設けた一軸多数ロ−ラ構成の
正逆回転ロ−ラコンベヤの搬送端外側に仮止めガラス基
板のシ−ル材硬化定盤を前記正逆回転ロ−ラコンベヤの
搬送面よりも若干低くして配置し、前記移動フレ−ムの
シ−ル材硬化定盤寄り前方に複数の吸着パッドを間隔を
おくと共に昇降可能にして取付け、かつ除電用エヤ−ノ
ズルを前記吸着パッドにより吸着したガラス基板の端面
下部に向けて下降傾斜させて取付け、前記正逆回転ロ−
ラコンベヤの搬入出口寄り下方に前記移動フレ−ムの押
し上げ機を配設すると共に正逆回転ロ−ラコンベヤのシ
−ル材硬化定盤寄り下方に、ガラス基板停止用のストッ
パを配設し、前記正逆回転ロ−ラコンベヤとシ−ル材硬
化定盤との間位置にシ−ル材硬化定盤上のガラス基板の
下面に向かって上昇傾斜させて気体吹き付けノズルを取
付け、さらに前記シ−ル材硬化定盤におけるガラス基板
の移動方向に交差する方向の両外側上方に、複数のノズ
ルを間隔をおいて配置すると共に対向移動可能にして設
けたことを特徴とするものである。

【０００７】

【発明の実施の形態】以下本発明の実施の形態を図面に
基づいて詳しく説明する。装置は正逆回転ロ−ラコンベ
ヤＡ、シ−ル材硬化定盤Ｂ及び移動フレ−ムＣが組み合
わされたものとなっており、該正逆回転ロ−ラコンベヤ
Ａは次のような構成にされている。コンベヤフレ−ム
１、１間に多数の回転軸２、２が間隔をおいて回転可能
に支持されていて、各回転軸２、２はプ−リ３、３及び
タイミングベルト４を介して正逆回転モ−タ５に連結さ
れている。

【０００８】また回転軸２、２にはガラス基板Ｐを搬送
すると共に撓みを防止するロ−ラ６、６が１００〜１５
０ｍｍピッチでガラス基板サイズに応じて複数個取付け
られており、このロ−ラ６、６の外側にはガラス基板Ｐ
の横ずれ防止のためのガイド７、７が取付けられ、さら
にガイド７、７の外側には移動フレ−ムＣを搬送するた
めのロ−ラ６Ａ、６Ａが左右２個づつと、その外側には
移動フレ−ムＣの横ずれ防止のためのガイド７Ａ、７Ａ
が取付けられている。

【０００９】また移動フレ−ムＣは、全体が門形構造
（図３参照）を成し、左右の脚８、８が移送板９、９上
に固定されており、移送板９、９が前記ロ−ラ６Ａ、６
Ａ上に載せられている。該移動フレ−ムＣの天井部には
シ−ル材硬化定盤Ｂの方向に突出すると共に左右に適当
な間隔をおいて取り付けた複数の取付けフレ−ム１０、
１０を介してシリンダ１１、１１が下向きにして取り付
けられ、該シリンダ１１、１１の下端には取付け板１
２、１２を介して吸着パッド１３、１３が下向きにして
取り付けられている。なお吸着パッド１３、１３は、図
５に示すようにシリンダ１１、１１に取付け板１２、１
２を介して固定されたホルダ１３Ａ、１３Ａの内径に貫
通し且つホルダ１３Ａに固定されていない配管シャフト
１３Ｂと共に上下動する。また吸着パッド１３、１３は
真空発生器１４に連通されている。

【００１０】さらに中央の吸着パッド１３の背後位置
（移動フレ−ムＣ本体側）には、通過するエヤ−をイオ
ナイザ−によって正負にイオン化する除電機構を有する
除電用エヤ−ノズル１５がノズル先端をガラス基板搬送
面に対し３０〜６０度下方に傾斜させて取付けられてい
る。なお除電用エヤ−ノズル１５は圧縮空気発生器１６
に連通され、０．３〜０．８ＭＰａ（好ましくは０．５
ＭＰａ）の圧縮エヤ−を吹き付けるようにされている。

【００１１】さらに正逆回転ロ−ラコンベヤＡにおける
移動フレ−ムＣに対応する下方には移動フレ−ムＣを正
逆回転ロ−ラコンベヤＡから持ち上げる押し上げ機１７
が、また正逆回転ロ−ラコンベヤＡのシ−ル材硬化定盤
Ｂ寄り位置下方にはガラス基板Ｐの移動停止用のストッ
パ１８がそれぞれ昇降可能にして配設されている。また
正逆回転ロ−ラコンベヤＡの終端外側にはシ−ル材硬化
定盤Ｂがその上面を正逆回転ロ−ラコンベヤＡの搬送面
よりも２〜３ｍｍ低くして配置されている。

【００１２】またシ−ル材硬化定盤Ｂの左右両外側上部
には図４に示すように横向シリンダ１９、１９がフレ−
ム２０、２０を介して対向して設けられており、各横向
シリンダ１９、１９のピストンロッド先端部には、マニ
ホ−ルド２１、２１が取り付けられている。各マニホ−
ルド２１、２１の下部には、Ｌ字状を成した複数のノズ
ル２２、２２が所定の間隔をおいて連通されていると共
にその水平部がシ−ル材硬化定盤Ｂ上面から０．５ｍｍ
程度の隙間を持つようにされている。なお各ノズル２
２、２２は、各横向シリンダ１９、１９の伸長作動によ
りガラス基板Ｐの端面から内側へ１０ｍｍ程度差し込み
され、縮引作動によりガラス基板Ｐの端面から外れるよ
うにされている。また各マニホ−ルド２１、２１は前記
圧縮空気発生器１６に連通され、０．３〜０．８ＭＰａ
（好ましくは０．５ＭＰａ）の圧縮エヤ−をノズル２
２、２２から吹き出すようにされている。

【００１３】さらに前記正逆回転ロ−ラコンベヤＡの終
端中央部には、シ−ル材硬化定盤Ｂ上面端部に向けて３
０〜６０度上昇傾斜させた気体吹き付けノズル２３が設
けられていて、該気体吹き付けノズル２３は前記圧縮空
気発生器１６に連通され、０．３〜０．８ＭＰａ（好ま
しくは０．５ＭＰａ）の圧縮エヤ−を吹き付けるように
されている。なお前記除電用エヤ−ノズル１５及び気体
吹き付けノズル２３は、内径１ｍｍ程度の吹き出し口を
１．５ｍｍピッチ程度で５０〜１００ｍｍ程度直列にガ
ラス基板Ｐと平行に配置するか、幅１ｍｍ程度で長さ５
０〜１００ｍｍ程度の吹き出し口をガラス基板Ｐと平行
に配置するのが望ましい。

【００１４】このように構成されたものの作動を説明す
る。正逆回転ロ−ラコンベヤＡにガラス基板Ｐが載せら
れていない状態で、移動フレ−ムＣを正逆回転ロ−ラコ
ンベヤＡの所定位置（左端位置）に位置決めして押し上
げ機１７が上昇作動して移動フレ−ムＣを持ち上げた
後、ストッパ１８が上昇される。次に仮止めした２枚の
ガラス基板Ｐを図示されない貼合せ装置から正逆回転ロ
−ラコンベヤＡの左端中央部に搬入し、ガラス基板Ｐが
ストッパ１８に当たって位置決めされた後、押し上げ機
１７を下降作動させ、移動フレ−ムＣを正逆回転ロ−ラ
コンベヤＡ上に載せ替え、ストッパ１８を下降させる。

【００１５】次に移動フレ−ムＣに取り付けられた吸着
パッド１３、１３を、ガラス基板Ｐのシ−ル材硬化定盤
Ｂへの搬入方向とは反対（図１、２で左側）の辺の端か
ら１０〜２０ｍｍ程度の位置にシリンダ１１、１１を下
降作動させて吸着パッド１３、１３をガラス基板Ｐに密
着させ、真空発生器１４を作動させて真空吸引を行い、
吸着パッド１３、１３によってガラス基板Ｐを吸着す
る。この際シリンダ１１、１１の下方への押し付け力が
吸着パッド１３、１３を介してガラス基板Ｐに掛からな
いように吸着パッド１３、１３はガラス基板Ｐに接触し
た時点で、シリンダ１１、１１に取付け板１２、１２を
介して固定されたホルダ−１３Ａ、１３Ａの内径に貫通
し且つホルダ−１３Ａ、１３Ａに固定されていない配管
シャフト１３Ｂ、１３Ｂと共に余分なストロ−ク分スラ
イドする（図５参照）。このためガラス基板Ｐには吸着
パッド１３、１３の自重（数十グラム）が作用するだけ
でよけいな外力が作用しないためガラス基板Ｐの相互の
ずれが防止される。

【００１６】この状態で正逆回転モ−タ５が正回転作動
して各回転軸２、２を正回転させ、ガラス基板Ｐと移動
フレ−ムＣを移送させる。ガラス基板Ｐと移動フレ−ム
Ｃは同一径のロ−ラ６、６Ａによって送られるため両者
の移動スピ−ドは同一であり、吸着パッド１３、１３が
上側のガラス基板を水平方向に引きずる力が作用するの
を防止し、ガラス基板Ｐの相互のずれが防止される。こ
のようにしてガラス基板Ｐは搬送されるにつれ正逆回転
ロ−ラコンベヤＡを外れ、シ−ル材硬化定盤Ｂ上に移行
してゆく。

【００１７】この際ガラス基板Ｐ下面（ロ−ラ６の搬送
面）とシ−ル材硬化定盤Ｂ上面間に設けられた２〜３ｍ
ｍの隙間に気体吹き付けノズル２３を介して０．３〜
０．８ＭＰａの圧縮エヤ−が吹き付けられてガラス基板
Ｐとシ−ル材硬化定盤Ｂの間に気体膜が形成され、ガラ
ス基板Ｐはシ−ル材硬化定盤Ｂ上から３ｍｍ程度浮き上
がる。さらに、この３ｍｍ程度の隙間には、横向シリン
ダ１９、１９の作動によりノズル２２、２２を前進させ
てガラス基板Ｐ端面から１０ｍｍ程度差し込み、０．３
〜０．８ＭＰａの圧縮エヤ−を吹き付ける。

【００１８】ガラス基板Ｐが正逆回転ロ−ラコンベヤＡ
から完全に外れシ−ル材硬化定盤Ｂ上方に移行すると気
体吹き付けノズル２３からの吹き付けエヤ−は作用しな
くなるがノズル２２、２２からの吹き付けエヤ−により
浮き上がった状態を維持される。一方、ガイド７、７に
よって規制されていたガラス基板Ｐの進行方向左右への
ずれはガラス基板Ｐ上面に吸着された吸着パッド１３、
１３を介して移動フレ−ムＣによって規制される。

【００１９】さらにガラス基板Ｐがシ−ル材硬化定盤Ｂ
上に載置される所定位置に到達すると正逆回転モ−タ５
の作動が停止され、移動フレ−ムＣの進行を停止させ
る。次にノズル２２、２２への圧縮エヤ−の供給を停止
すると同時に横向シリンダ１９、１９が逆作動してガラ
ス基板Ｐの下部からノズル２２、２２を引出し、次に真
空発生器１４による吸引を停止し、シリンダ１１、１１
を上昇作動させ、吸着パッド１３、１３をガラス基板Ｐ
から引き離した後正逆回転モ−タ５が逆回転作動して移
動フレ−ムＣを移動させ、吸着パッド１３、１３をシ−
ル材硬化定盤Ｂ上から退避させる。これによりガラス基
板Ｐはシ−ル材硬化定盤Ｂの所定位置に載置される。

【００２０】次にシ−ル材硬化定盤Ｂ上のガラス基板Ｐ
がシ−ル材硬化処理を終えると、正逆回転モ−タ５が正
回転されて移動フレ−ムＣを、上記ガラス基板Ｐをシ−
ル材硬化定盤Ｂ上に載置した際の停止位置まで移動さ
せ、吸着パッド１３、１３によりガラス基板Ｐの吸着を
行う。次にシリンダ１１、１１を上昇作動させることに
より吸着パッド１３、１３を介してガラス基板Ｐを数ｍ
ｍ（好ましくは２ｍｍ）上昇させガラス基板Ｐの一端を
持ち上げると同時にできた隙間に除電用エヤ−ノズル１
５から０．３〜０．８ＭＰａの圧縮エヤ−を吹き付け、
気体膜を形成させてガラス基板Ｐ全面を浮き上がらせ
る。

【００２１】この時、圧縮空気発生器１６から除電用エ
ヤ−ノズル１５を通る圧縮エヤ−はイオナイザ−により
正負にイオン化され、ガラス基板Ｐの下面及びシ−ル材
硬化定盤Ｂの上面に帯電した電荷を逆極性のイオンで中
和し除電する。次にガラス基板Ｐが浮き上がってシ−ル
材硬化定盤Ｂとの間にできた隙間にノズル２２、２２を
横向シリンダ１９、１９の伸長作動により前進差し込み
させ、０．３〜０．８ＭＰａの圧縮エヤ−を吹き付け
る。この状態で正逆回転モ−タ５を逆回転作動させて移
動フレ−ムＣをシ−ル材硬化定盤Ｂから離れる方向に移
動させる。これにより浮き上がっているガラス基板Ｐは
吸着パッド１３、１３を介して移動フレ−ムＣに誘導さ
れて正逆回転ロ−ラコンベヤＡに向かって移動する。

【００２２】ガラス基板が移動し始めたら除電用エヤ−
ノズル１５からのエヤ−供給を気体吹き付けノズル２３
からのエヤ−供給に切り替える。ガラス基板Ｐは移動フ
レ−ムＣの移動に伴ってシ−ル材硬化定盤Ｂから正逆回
転ロ−ラコンベヤＡ上に移行する。この際ガラス基板Ｐ
は気体吹き付けノズル２３及びノズル２２、２２から吹
き付けられるエヤ−によって常に浮き上がりシ−ル材硬
化定盤Ｂとは非接触のまま正逆回転ロ−ラコンベヤＡの
ロ−ラ６、６上に乗り移る。

【００２３】移動フレ−ムＣとガラス基板Ｐは正逆回転
ロ−ラコンベヤＡ上を移動し、移動フレ−ムＣが押し上
げ機１７の上方に位置した時点で正逆回転モ−タ５の作
動が停止される。その後、吸着パッド１３、１３の吸着
作用を解除し、シリンダ１１、１１を上昇作動させ、吸
着パッド１３、１３をガラス基板Ｐから引き離した後、
押し上げ機１７が上昇作動して移動フレ−ムＣを正逆回
転ロ−ラコンベヤＡから浮き上がらせた状態にする。次
に正逆回転モ−タ５が再び逆回転作動してガラス基板Ｐ
のみを正逆回転ロ−ラコンベヤＡにより移動させて次の
工程に搬出する。

【００２４】なお本発明の実施の形態では、ノズル２
２、２２及び気体吹き付けノズル２３から吹き出される
気体としてはエヤ−を示したが、窒素ガスなどの気体で
あってもよく、窒素ガスなどの気体を使用する場合は、
圧縮空気発生器１６とは別に気体供給源を設けることに
より対応できる。

【００２５】

【発明の効果】本発明は上記の説明から明らかなよう
に、ガラス基板の搬入の際に、ガラス基板とシ−ル材硬
化定盤との間に気体を吹き入れて気体膜を形成してガラ
ス基板をシ−ル材硬化定盤から浮き上がらせた状態で上
側ガラス基板吸着によるロ−ラ送り込み搬送をさせ、前
記シ−ル材硬化処理済ガラス基板の搬出の際に、ガラス
基板の一端上面を吸着引き上げにより持ち上げ、ガラス
基板とシ−ル材硬化定盤との間に隙間を設けた後該隙間
に正負にイオン化したエヤ−を吹き入れて気体膜を形成
してガラス基板全面を浮き上がらせることによってガラ
ス基板及びシ−ル材硬化定盤表面に帯電した電荷を逆極
性のイオンで中和し除電を行い、上側ガラス基板吸着に
よるロ−ラ引込み搬送をさせるようにしたから、２枚の
ガラス基板の相互のずれがなくなると共にガラス基板に
余計な外力が作用しなくなり、仮止めシ−ル材の塗布量
を最小限に抑えることが可能で大きなサイズのガラス基
板でも移載が可能になる。またシ−ル材硬化定盤には一
切加工穴を設ける必要がなくなり、ギャップ平行度にな
んら影響を与えない。さらにシ−ル材硬化定盤からの搬
出の際に、吹き付けエヤ−をイオン化することによりガ
ラス基板の剥離帯電を除去できる等種々の効果がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を実施する装置全体を示す平面図であ
る。

【図２】図１におけるＸ−Ｘ矢視図である。

【図３】図１におけるＹ−Ｙ矢視図である。

【図４】図１におけるＺ−Ｚ矢視図である。

【図５】吸着パッドスライド機構の作動説明図であっ
て、（イ）は吸着パッドがガラス基板を吸着していない
状態を示す。（ロ）は吸着パッドがガラス基板を吸着し
ている状態を示す。

【符号の説明】

Ａ 正逆回転ロ−ラコンベヤ Ｂ シ−ル材硬化定盤 Ｃ 移動フレ−ム Ｐ ガラス基板 ６ ６Ａ ロ−ラ ７ ７Ａ ガイド １３ 吸着パッド １５ 除電用エヤ−ノズル １７ 押し上げ機 １８ ストッパ ２２ ノズル ２３ 気体吹き付けノズル

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 仮止めをしたガラス基板をシ−ル材硬化
   定盤上に搬入し、シ−ル材硬化処理をした後シ−ル材硬
   化定盤上のガラス基板を搬出させる方法であって、前記
   ガラス基板の搬入の際に、ガラス基板とシ−ル材硬化定
   盤との間に気体を吹き入れて気体膜を形成してガラス基
   板をシ−ル材硬化定盤から浮き上がらせた状態で上側ガ
   ラス基板吸着によるロ−ラ送り込み搬送をさせ、前記シ
   −ル材硬化処理済ガラス基板の搬出の際に、ガラス基板
   の一端上面を吸着引き上げにより持ち上げ、ガラス基板
   とシ−ル材硬化定盤との間に隙間を設けた後該隙間に正
   負にイオン化したエヤ−を吹き入れて気体膜を形成して
   ガラス基板全面を浮き上がらせることによってガラス基
   板及びシ−ル材硬化定盤表面に帯電した電荷を逆極性の
   イオンで中和し除電を行い、上側ガラス基板吸着による
   ロ−ラ引込み搬送をさせることを特徴とするガラス基板
   のシ−ル材硬化定盤への搬入出方法。
2. 【請求項２】 ガラス基板を搬送させるロ−ラ６、６を
   中央部に配置し、該ロ−ラ６、６を跨ぐ門形構造の移動
   フレ−ムＣを搬送させるロ−ラ６Ａ、６Ａを左右両外側
   に配置すると共に両ロ−ラ６、６Ａ間にガイド７、７を
   設けた一軸多数ロ−ラ構成の正逆回転ロ−ラコンベヤＡ
   の搬送端外側に仮止めガラス基板Ｐのシ−ル材硬化定盤
   Ｂを前記正逆回転ロ−ラコンベヤＡの搬送面よりも若干
   低くして配置し、前記移動フレ−ムＣのシ−ル材硬化定
   盤Ｂ寄り前方に複数の吸着パッド１３、１３を間隔をお
   くと共に昇降可能にして取付け、かつ除電用エヤ−ノズ
   ル１５を前記吸着パッド１３、１３により吸着したガラ
   ス基板Ｐの端面下部に向けて下降傾斜させて取付け、前
   記正逆回転ロ−ラコンベヤＡの搬入出口寄り下方に前記
   移動フレ−ムＣの押し上げ機１７を配設すると共に正逆
   回転ロ−ラコンベヤＡのシ−ル材硬化定盤Ｂ寄り下方
   に、ガラス基板Ｐ停止用のストッパ１８を配設し、前記
   正逆回転ロ−ラコンベヤＡとシ−ル材硬化定盤Ｂとの間
   位置にシ−ル材硬化定盤Ｂ上のガラス基板Ｐの下面に向
   かって上昇傾斜させて気体吹き付けノズル２３を取付
   け、さらに前記シ−ル材硬化定盤Ｂにおけるガラス基板
   Ｐの移動方向に交差する方向の両外側上方に、複数のノ
   ズル２２、２２を間隔をおいて配置すると共に対向移動
   可能にして設けたことを特徴とするガラス基板のシ−ル
   材硬化定盤への搬入出装置。
3. 【請求項３】 前記除電用エヤ−ノズル１５及び気体吹
   き付けノズル２３のノズル角度が水平状態のガラス基板
   Ｐの搬送面に対し３０〜６０度にされていることを特徴
   とする請求項２記載のガラス基板のシ−ル材硬化定盤へ
   の搬入出装置。
4. 【請求項４】 前記シ−ル材硬化定盤Ｂ上面の高さが前
   記正逆回転ロ−ラコンベヤＡの搬送面高さより２〜３ｍ
   ｍ低くされていることを特徴とする請求項２又は３のい
   ずれかに記載のガラス基板のシ−ル材硬化定盤への搬入
   出装置。