JP2001301304A - 平版印刷方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 エマルジョンインキを適用した平版印刷にお
いて、画像部／非画像部のバランスに係わらず、簡易
に、安定した高品質の印刷物を得ることができる平版印
刷方法を提供する。 【解決手段】 平版印刷版原版に画像記録を行って、ゾ
ル−ゲル変換により形成した無機マトリックスを有する
親水性層からなる非画像部領域を形成し、その後、油性
インキ成分に水及び／又は多価アルコールを主成分とす
る親水性成分を加え、乳化して得られたエマルジョンイ
ンキを用いて印刷することを特徴とする。前記平版印刷
版原版が、支持体上に、ゾル−ゲル変換により形成した
無機マトリックスを有する親水性層を設けてなるもので
あることが好ましい。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、平版印刷版を用い
た印刷方法に関するものであり、詳しくは、ディジタル
信号に基づいた画像記録が可能であり、簡易な処理によ
り製版可能な平版印刷版原版を画像形成し、非画像部が
親水性層により形成された平版印刷版により、湿し水を
用いずに、安定した印刷物を得ることができる平版印刷
版の印刷方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、平版印刷版は、印刷過程でイン
キを受容する親油性の画像部と湿し水を受容する親水性
の非画像部とからなる。このような、平版印刷とは、水
と油性インキが互いに反発する性質を利用して、親油性
の画像部をインキ受容部、親水性の非画像部を湿し水受
容部（インキ非受容部）として、版表面にインキの付着
性の差異を生じせしめ、画像部のみにインキを着肉させ
た後、紙等の被印刷体にインキを転写して印刷する方法
であり、従来は、表面親水性処理した親水性アルミニウ
ム支持体上に親油性の感光性樹脂層を設けたＰＳ版が広
く用いられている。その製版方法として、通常は、平版
印刷原版を、フォトリソグラフィーの技術を用いて、リ
スフイルムなどの原画を通して露光を行った後、画像部
には感光層を残存させ、非画像部を現像液によって溶解
除去してアルミニウム基板表面を露出させ、露出した親
水性アルミニウム基板表面に湿し水層を形成してインキ
の付着を防止している。この方法では、印刷機から湿し
水と呼ばれる水または水を主成分とする液を版表面に供
給することが必要であったが、水とインキの供給量のバ
ランスをとることが難しく、印刷に際しては湿し水の量
を常時コントロールすることが必要であり、適正な湿し
水量を制御するためには、技術や経験が必要であるのみ
ならず、大量の湿し水廃液が発生したり、また、印刷開
始時の損紙量も多量であった。

【０００３】一方、近年のこの分野のもう一つの動向と
しては、画像情報をコンピュータを用いて電子的に処
理、蓄積、出力する、ディジタル化技術が広く普及して
きており、このような、ディジタル化技術に対応した、
新しい画像出力方式が種々実用されるようになってきて
いる。これに伴い、レーザ光のような高収斂性の輻射線
にディジタル化された画像情報を担持してこの光で原版
を走査露光し、リスフィルムを介することなく、直接印
刷版を製造するコンピュータ・トゥ・プレート技術が注
目されている。それに伴ってこの目的に適応した印刷版
用原版を得ることが重要な技術課題となっている。した
がって、製版作業の簡素化、平版印刷工程における湿し
水の不要化（乾式化）は、上記した環境面と、ディジタ
ル化への適合化の両面から、従来にも増して、強く望ま
れるようになっている。

【０００４】これに対し、湿し水を用いない簡易な平版
印刷の方式として、特公昭５４−２６９２３号公報、特
公昭５７−３０６０号公報、特公昭５６−１２８６２号
公報、特公昭５６−２３１５０号公報、特公昭５６−３
０８５６号公報、特公昭６０−６００５１号公報、特公
昭６１−５４２２０号公報、特公昭６１−５４２２２号
公報、特公昭６１−５４２２３号公報、特公昭６１−６
１６号公報、特公昭６３−２３５４４号公報、特公平２
−２５４９８号公報、特公平３−５６６２２号公報、特
公平４−２８０９８号公報、特公平５−１９３４号公
報、特開平２−６３０５０号公報、特開平２−６３０５
１号公報、などが提案されている。これらは、非画像部
にシリコーンゴム層をインキ反発層として備えた平版印
刷版を使用するため、印刷中に湿し水の供給がなくと
も、非画像部にインキが付着せず印刷が可能であるとい
う特徴を有している。

【０００５】また、特公昭４９−２６８４４号公報、特
公昭４９−２７１２４号公報、特公昭４９−２７１２５
号公報、特開昭５３−３６３０７号公報、特開昭５３−
３６３０８号公報、特公昭６１−５２８６７号公報、特
開昭５８−２１１４８４４号公報、特開昭５３−２７８
０３号公報、特開昭５３−２９８０７号公報、特開昭５
４−１４６１１０号公報、特開昭５７−２１２２７４号
公報、特開昭５８−３７０６９号公報、特開昭５４−１
０６３０５号公報などには、エマルジョンインキを用い
た平版印刷が提案されている。これら、エマルジョンイ
ンキは、含水インキのエマルジョンであり、版面上で水
とインキが分離されるため、インキの側から水が供給で
き、したがって、印刷機から湿し水を供給する必要のな
いことが特徴である。しかしながら、従来の親水化され
たアルミニウム基板表面を非画像部とする平版印刷版に
エマルジョンインキを適用した場合、水過剰による水負
けを起こしたり、水不足による地汚れを起こしやすいと
いう問題点があった。これは、エマルジョンインキから
供給されるインキおよび水の量的なバランスは一定であ
るのに対し、水が供給される非画像部とインキの供給さ
れる画像部の割合は印刷物により大きく異なるため、版
面上のインキと水がバランス可能な幅が小さいことによ
るものと考えられる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、平版印刷
に、エマルジョンインキを適用した場合の上記問題点を
解決するためになされたものである。すなわち、本発明
の目的は、エマルジョンインキを適用した平版印刷にお
いて、画像部／非画像部のバランスに係わらず、簡易
に、安定した高品質の印刷物を得ることができる平版印
刷方法を提供することにある。本発明のさらなる目的
は、非画像部として、アルミニウム基板の親水性表面の
利用に変わる、エマルジョンインキからの水の供給に好
適に態様し得る新規な親水性層の利用方法を提供するこ
とにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意検討
の結果、非画像部にゾル−ゲル変換により形成した無機
マトリックスを有する親水性層を備えた平版印刷版を利
用することで、上記問題点を解決し得ることを見出し、
本発明を完成した。即ち、本発明の平版印刷方法は、平
版印刷版原版に画像記録を行って、ゾル−ゲル変換によ
り形成した無機マトリックスを有する親水性層からなる
非画像部領域を形成し、その後、油性インキ成分に水及
び／又は多価アルコールを主成分とする親水性成分を加
え、乳化して得られたエマルジョンインキを用いて印刷
することを特徴とする。本発明の方法において用いられ
る平版印刷版原版は、支持体上に、ゾル−ゲル変換によ
り形成した無機マトリックスを有する親水性層を設けて
なるものであることが好ましい態様である。エマルジョ
ンインキを用いて印刷するのに適した機能を有するゾル
−ゲル変換により形成した無機マトリックスを有する親
水性層が非画像部を形成することにより、高画質の印刷
物の安定的な提供が可能となった。

【０００８】本発明のエマルジョンインキを適用した印
刷において、ゾル−ゲル変換により形成した無機マトリ
ックスを有する親水性層が有効に作用する理由は必ずし
も明確ではないが、従来のアルミニウム基板表面に比
べ、ゾル−ゲル変換により形成した無機マトリックスを
有する親水性層は、親水性であると同時に、若干の有機
基を有することから、エマルジョンインキ中の親水性成
分中に含有される多価アルコール成分に対し、親和性が
高くなり、版面に存在する親水性成分が少ない場合にも
十分なインキ反発性を発現し、さらに、多孔性の膜であ
ることから、版面に存在する親水性成分が過剰であって
も、エマルジョンインキ中の親水性成分を層内に保持す
る能力が高いため、版面上の油性インキ成分量と親水性
成分量の存在割合に対する許容幅が広くなることが影響
していると考えられる。

【０００９】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て詳細に説明する。本発明の印刷方法に適用する平版印
刷版原版は、画像記録により非画像部領域を形成する特
定の親水性層を備え、画像記録により画像部と親水性層
よりなる非画像をそれぞれ形成し、印刷時に使用するエ
マルジョンインキが分離することにより、画像部に油性
インキ成分が、非画像部に親水性成分が供給されること
で、湿し水を供給することなく、高画質の印刷物が安定
して得られることが特徴である。

【００１０】〔エマルジョンインキ〕本発明に用いるエ
マルジョンインキは、油性インキ成分に、親水性成分を
加え、乳化したエマルジョンインキであり、Ｗ／Ｏ（wa
ter in oil）型であっても、Ｏ／Ｗ（oil in water）型
であっても良い。また、本発明に用いるエマルジョンイ
ンキは、インキ缶内での保存状態及び印刷に適用した時
の印刷機のインキ壺内では、安定な乳化状態を保持し、
印刷時、シェアを受けながらインキングシステム（イン
キ供給システム）を転移し、インキ付けローラーに達し
た時点では、乳化が破壊され親水性成分が分離し、版面
上に供給される。版面においては、非画像部領域に親水
性成分が付着し、液膜を形成し、油性インキ成分の付着
が防止され、一方、画像部領域には、油性インキ成分が
付着する。このような機能を有するエマルジョンインキ
であれば、特に限定されることなく本発明に使用するこ
とができる。また、本発明のエマルジョンインキが上記
機能を発現するために、インキングシステムに冷却機構
の付いた印刷機を用いることがより好ましい。

【００１１】本発明のエマルジョンインキの油性インキ
成分と親水性成分の割合は、油性インキ成分１００重量
部に対し、親水性成分５〜１５０重量部であり、好まし
くは、１０〜１２０重量部、さらに好ましくは、２０〜
１００重量部である。本発明のエマルジョンインキの油
性インキ成分としては、植物油、合成樹脂ワニスまた
は、天然樹脂ワニス、あるいは、それらの合成ワニス、
高沸点石油系溶剤、顔料、その他添加剤（耐摩擦向上
剤、インキドライヤー、乾燥抑制剤など）からなる通常
の油性インキを用いることができる。本発明のエマルジ
ョンインキの親水性成分としては、水及び／又は多価ア
ルコール類を用いることができる。多価アルコール類と
しては、例えば、グリセリン、ジグリセリン、エチレン
グリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコ
ール、ジプロピレングリコール、ヘキシレングリコー
ル、ソルビトール、ブタンジオール、ペンタンジオール
等が挙げられる。なかでも、グリセリン、、エチレング
リコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコー
ル、ジプロピレングリコールが好ましく使用できる。多
価アルコールは、１種単独で用いても、２種以上を混合
して用いても良く、さらに、水と混合して用いても良
い。本発明の親水性成分中の多価アルコール類の好まし
い含有量は、３０〜１００重量％であり、より好ましく
は、５０〜１００重量％である。

【００１２】本発明に係るエマルジョンインキの親水性
成分としては、上記以外に、乳化安定性の向上、流動特
性の改良、親水性の向上、親水性成分の蒸発の抑制等を
目的として、添加剤を使用することができる。例えば、
メタノール、エタノール等の１価のアルコール類、モノ
エタノールアミン、ジエタノールアミン等のアミノアル
コール類、ノニオン系、アニオン系、カチオン系、ベタ
イン系の公知の界面活性剤、グリコール酸、乳酸、クエ
ン酸等のオキシカルボン酸類、ポリビニルピロリドン、
ポリアクリル酸、アラビアガム、カルボキシメチルセル
ロース等の親水性高分子類、リン酸、ケイ酸、硝酸、及
びそれらの塩等の無機酸及び無機塩類等が挙げられる。

【００１３】〔画像形成方法〕本発明の非画像部にゾル
−ゲル変換により形成した無機マトリックスを有する親
水性層を備えた平版印刷版は、基板上に少なくともゾル
−ゲル変換により形成した無機マトリックスを有する親
水性層（以下、適宜、ゾル−ゲル親水性層と称する）を
備えた平版印刷原版に画像記録を行うことにより得られ
る。画像形成の方法としては、（ａ）基板上に、ゾル−
ゲル親水性層を備えた平版印刷版原版上に、インキジェ
ット法等の公知の方法により、親油性の画像部を形成す
る方法、（ｂ）基板上に、ゾル−ゲル親水性層及び親油
性層を順次備えた平版印刷原版（ここで、親油性層自身
あるいは隣接する層が感熱性又は感光性である）におい
て、公知の感熱性又は感光性画像記録方法により、非画
像部となる部分の親油性層を除去し、残存した親油性層
が画像部となる方法、（ｃ）親油性表面を有する基板又
は親油性層を備えた基板上に、ゾル−ゲル親水性層を備
えた平版印刷原版（ここで、親水性層自身あるいは隣接
する層が感熱性又は感光性である）において、公知の感
熱性又は感光性画像記録方法により、画像部となる部分
の親水性層を除去して親油性層を露出させて画像部を形
成する方法、（ｄ）基板上に、加熱又は露光することに
より親油性に変換される親水性層を備えた平版印刷原版
を公知の感熱性又は感光性画像記録方法により、画像部
となる部分の親水性層を親油性に変換して画像部を形成
する方法、等が使用できる。なかでも、赤外線レーザ露
光などの、感熱性画像記録方法により画像形成する平版
印刷原版は、室内照明のような通常の照度レベルの光で
は感光せず、また、感熱記録された画像は定着が必要な
いと言う長所を有し、本発明において、好ましく使用さ
れる。本発明においては、画像形成された平版印刷版の
非画像部がゾル−ゲル変換により形成した無機マトリッ
クスを有する親水性層より成ることが特徴であり、上記
した様に、この範囲において、用いられる平版印刷原版
の種類や画像形成に用いられる方法、手段は、特に限定
されない。ここでは、便宜上、レーザー光により感熱性
の画像記録可能な親油性表面を有する基板上にゾル−ゲ
ル親水性層を備えた平版印刷版原版、或いは、支持体上
に親油性層及びゾル−ゲル親水性層を順次備えた平版印
刷版原版について、以下、詳細に説明する。

【００１４】〔平版印刷版原版の構成〕本発明に使用さ
れる赤外線レーザにより画像記録可能な親油性表面を有
する基板又は親油性層を備えた基板上に、親水性層を備
えた平版印刷原版の態様としては、例えば、基板上に、
光熱変換機能を有する油性インキ受容性層及びゾル−ゲ
ル親水性層を順次設けて成る態様、油性インキ受容性の
表面を有するか又は油性インキ受容性層がコートされた
基板上に、ゾル−ゲル親水性層及び光熱変換機能を有
し、除去可能な親水性のオーバーコート層を順次設けて
成る態様、及び、油性インキ受容性の表面を有するか又
は油性インキ受容性層がコートされた基板上に、光熱変
換機能を有する親水性層を順次設けてなる態様等が挙げ
られる。

【００１５】（ゾル−ゲル親水性層）本発明において使
用される親水性層は、ゾル−ゲル変換により形成した無
機マトリックスを有する層であり、さらに、印刷におい
てエマルジョンインキの親水性成分を受容、保持し、非
画像部として機能する層である。本発明の親水性層は、
例えば、ポリアルコキシシラン、チタネート、ジルコネ
ート又はアルミネートの加水分解、縮合反応からなるゾ
ルーゲル変換により得られる無機親水性マトリックスを
有する。

【００１６】本発明の親水性層の無機親水性マトリック
ス形成に使用することができるゾル−ゲル変換が可能な
系は、多価元素から出ている結合基が酸素原子を介して
網目状構造を形成し、同時に多価金属は未結合の水酸基
やアルコキシ基も有していて、これらが混在した樹脂状
構造となっている高分子体であって、アルコキシ基や水
酸基が多い段階ではゾル状態であり、エーテル結合化が
進行するのに伴って網目状の樹脂構造が強固となりゲル
状態となる。また、水酸基の一部が固体微粒子に結合す
ることによって固体微粒子の表面を修飾し、親水性度を
変化させる働きをも併せ持っている。ゾル−ゲル変換を
行う水酸基やアルコキシ基を有する化合物の多価結合元
素は、アルミニウム、ケイ素、チタン及びジルコニウム
などであり、これらはいずれも本発明に用いることがで
きるが、以下はもっとも好ましく用いることのできるシ
ロキサン結合によるゾル−ゲル変換系について説明す
る。アルミニウム、チタン及びジルコニウムを用いるゾ
ル−ゲル変換は、下記の説明のケイ素をそれぞれの元素
に置き換えて実施することができる。

【００１７】すなわち、特に好ましく用いられるのは、
ゾル−ゲル変換が可能な、少なくとも１個のシラノール
基を有するシラン化合物を含んだ系である。以下に、ゾ
ル−ゲル変換を利用する系についてさらに説明する。ゾ
ル−ゲル変換によって形成される無機親水性マトリック
スは、好ましくはシロキサン結合およびシラノール基を
有する樹脂であり、少なくとも１個のシラノール基を有
するシラン化合物を含んだゾルの系である塗布液を、塗
布、乾燥、経時する間に、シラノール基の加水分解縮合
が進んでシロキサン骨格の構造が形成され、ゲル化が進
行することにより形成される。また、このゲル構造のマ
トリックスのなかには、膜強度、柔軟性等の物理的性能
向上や、塗布性の改良、親水性の調整等を目的として、
有機親水性高分子や架橋剤などを添加することも可能で
ある。ゲル構造を形成するシロキサン樹脂は、下記一般
式（Ｉ）で示され、また少なくとも１個のシラノール基
を有するシラン化合物は、下記一般式（ＩＩ）で示され
るシラン化合物の加水分解により得られ、必ずしも一般
式（ＩＩ）のシラン化合物の部分加水分解物単独である
必要はなく、一般には、シラン化合物が部分加水重合し
たオリゴマーからなっていてもよく、あるいは、シラン
化合物とそのオリゴマーの混合組成であってもよい。

【００１８】

【化１】

【００１９】上記一般式（Ｉ）のシロキサン系樹脂は、
下記一般式（ＩＩ）で示されるシラン化合物の少なくと
も１種の化合物のゾル−ゲル変換によって形成され、一
般式（Ｉ）中のＲ⁰¹〜Ｒ⁰³の少なくとも一つは水酸基を
表し、他は下記一般式（ＩＩ）中の記号のＲ⁰及びＹか
ら選ばれる有機残基を表わす。

【００２０】

【化２】

【００２１】一般式（ＩＩ）中、Ｒ⁰は、水酸基、炭化
水素基又はヘテロ環基を表わす。Ｙは水素原子、ハロゲ
ン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原
子を表わす）、−ＯＲ¹、−ＯＣＯＲ²、又は、−Ｎ（Ｒ
³）（Ｒ⁴）を表す（Ｒ¹，Ｒ²は、各々炭化水素基を表
し、Ｒ³、Ｒ⁴はそれぞれ独立に、水素原子又は炭化水素
基を表す）、ｎは０，１，２又は３を表わす。

【００２２】一般式（ＩＩ）中のＲ⁰の炭化水素基又は
ヘテロ環基とは、例えば、（ａ）炭素数１〜１２の置換
されてもよい直鎖状もしくは分岐状のアルキル基（例え
ば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペン
チル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル
基、デシル基、ドデシル基等、これらの基に置換される
基としては、ハロゲン原子（塩素原子、フッ素原子、臭
素原子）、ヒドロキシ基、チオール基、カルボキシ基、
スルホ基、シアノ基、エポキシ基、−ＯＲ’基（Ｒ’
は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘプ
チル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、プロペニ
ル基、ブテニル基、ヘキセニル基、オクテニル基、２−
ヒドロキシエチル基、３−クロロプロピル基、２−シア
ノエチル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル基、１−ブ
ロモエチル基、２−（２−メトキシエチル）オキシエチ
ル基、２−メトキシカルボニルエチル基、３−カルボキ
シプロピル基、ベンジル基等を示す）、−ＯＣＯＲ”基
（Ｒ”は、前記Ｒ’と同一の内容を表わす）、−ＣＯＯ
Ｒ”基、−ＣＯＲ”基、−Ｎ（Ｒ’’’）（Ｒ’’’）
基（Ｒ’’’は、水素原子又は前記Ｒ’と同一の内容を
表わし、各々同じでも異なってもよい）、−ＮＨＣＯＮ
ＨＲ”基、−ＮＨＣＯＯＲ”基、−Ｓｉ（Ｒ”）₃基、
−ＣＯＮＨＲ’’’基、−ＮＨＣＯＲ”基等が挙げら
れ、これらの置換基はアルキル基中に複数置換されても
よい）、

【００２３】（ｂ）炭素数２〜１２の置換されてもよい
直鎖状又は分岐状のアルケニル基（例えば、ビニル基、
プロペニル基・ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル
甚、オクテニル基、デセニル基、ドデセニル基等、これ
らの基に置換される基としては、前記アルキル基に置換
される基と同一の内容のものが挙げられる）、（ｃ）炭
素数７〜１４の置換されてもよいアラルキル基（例え
ば、ベンジル基、フェネチル基、３−フェニルプロピル
基、ナフチルメチル基、２−ナフチルエチル基等；これ
らの基に置換される基としては、前記アルキル基に置換
される基と同一の内容のものが挙げられ、又複数置換さ
れてもよい）、（ｄ）炭素数５〜１０の置換されてもよ
い脂環式基（例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシ
ル基、２−シクロヘキシルエチル基、２−シクロペンチ
ルエチル基、ノルボニル基、アダマンチル基等、これら
の基に置換される基としては、前記アルキル基の置換基
と同一の内容のものが挙げられ、又複数置換されてもよ
い）、（ｅ）炭素数６〜１２の置換されてもよいアリー
ル基（例えば、フェニル基、ナフチル基で、置換基とし
ては前記アルキル基に置換される基と同一の内容のもの
が挙げられ、又複数置換されてもよい）、又は、（ｆ）
窒素原子、酸素原子、イオウ原子から選ばれる少なくと
も１種の原子を含有する縮環してもよいヘテロ環基（例
えば、該ヘテロ環としては、ピラン環、フラン環、チオ
フェン環、モルホリン環、ピロール環、チアゾール環、
オキサゾール環、ピリジン環、ピペリジン環、ピロリド
ン環、ベンゾチアゾール環・ベンゾオキサゾール環、キ
ノリン環、テトラヒドロフラン環等で、置換基を含有し
てもよい。置換基としては、前記アルキル基に置換され
る基と同一の内容のものが挙げられ、又複数置換されて
もよい）を表わす。

【００２４】一般式（ＩＩ）中のＹの−ＯＲ¹基、−Ｏ
ＣＯＲ²基又は−Ｎ（Ｒ³）（Ｒ⁴）基の置換基として
は、例えば、以下の置換基を表す。−ＯＲ¹基におい
て、Ｒ¹は炭素数１〜１０の置換されてもよい脂肪族基
（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ヘプチル基、ヘキシル基、ペンチル基、オクチル
基、ノニル基、デシル基、プロペニル基、ブテニル基、
ヘプテニル基、ヘキセニル基、オクテニル基、デセニル
基、２−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシプロピル
基、２−メトキシエチル基、２−（メトキシエチルオキ
ソ）エチル基、１−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）エチル
基、２−メトキシプロピル基、２−シアノエチル基、３
−メチルオキサプロピル基、２−クロロエチル基、シク
ロヘキシル基、シクロペンチル基、シクロオクチル基、
クロロシクロヘキシル基、メトキシシクロヘキシル基、
ベンジル基、フェネチル基、ジメトキシベンジル基、メ
チルベンジル基、ブロモベンジル基等が挙げられる）を
表わす。

【００２５】−ＯＣＯＲ²基において、Ｒ²は、Ｒ¹と同
一の内容の脂肪族基又は炭素数６〜１２の置換されても
よい芳香族基（芳香族基としては、前記Ｒ中のアリール
基で例示したと同様のものが挙げられる）を表わす。ま
た、−Ｎ（Ｒ³）（Ｒ⁴）基において、Ｒ³，Ｒ⁴は、互い
に同じでも異なってもよく、各々、水素原子又は炭素数
１〜１０の置換されてもよい脂肪族基（例えば、前記の
−ＯＲ¹基のＲ¹と同様の内容のものが挙げられる）を表
わす。より好ましくは、Ｒ³とＲ⁴の炭素数の総和が１６
個以内である。

【００２６】一般式（ＩＩ）で示されるシラン化合物の
具体例としては、以下のものが挙げられるが、これに限
定されるものではない。例えば、テトラクロルシラン、
テトラブロムシラン、テトラメトキシシラン、テトラエ
トキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラｎ
−プロピルシラン、テトラｔ−ブトキシシラン、テトラ
ｎ−ブトキシシラン、ジメトキシジエトキシシラン、メ
チルトリクロルシラン、メチルトリブロムシラン、メチ
ルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メ
チルトリイソプロポキシシラン、メチルトリｔ−ブトキ
シシラン、エチルトリクロルシラン、エチルトリブロム
シラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキ
シシラン、エチルトリイソプロポキシシラン、エチルト
リｔ−ブトキシシラン、ｎ−プロピルトリクロルシラ
ン、ｎ−プロピルトリブロムシラン、ｎ−プロピルトリ
メトキシシラン、ｎ−プロピルトリエトキシシラン、ｎ
−プロピルトリイソプロポキシシラン、ｎ−プロピルト
リｔ−ブトキシシラン、ｎ−ヘキシルトリクロルシラ
ン、ｎ−ヘキシルトリブロムシラン、ｎ−ヘキシルトリ
メトキシシラン、ｎ−ヘキシルトリエトキシシラン、ｎ
−ヘキシルトリイソプロポキシシラン、ｎ−ヘキシルト
リｔ−ブトキシシラン、ｎ−デシルトリクロルシラン、
ｎ−デシルトリブロムシラン、

【００２７】ｎ−デシルトリメトキシシラン、ｎ−デシ
ルトリエトキシシラン、ｎ−デシルトリイソプロポキシ
シラン、ｎ−デシルトリｔ−ブトキシシラン、ｎ−オク
タデシルトリクロルシラン、ｎ−オクタデシルトリブロ
ムシラン、ｎ−オクタデシルトリメトキシシラン、ｎ−
オクタデシルトリエトキシシラン、ｎ−オクタデシルト
リイソプロポキシシラン、ｎ−オクタデシルトリｔ−ブ
トキシシラン、フェニルトリクロルシラン、フェニルト
リブロムシラン、フェニルトリメトキシシラン・フェニ
ルトリエトキシシラン、フェニルトリイソプロポキシシ
ラン、フェニルトリｔ−ブトキシシラン、ジメチルジク
ロルシラン、ジメチルジブロムシラン、ジメチルジメト
キシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジ
クロルシラン、ジフェニルジブロムシラン、ジフェニル
ジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、フェ
ニルメチルジクロルシラン、フェニルメチルジブロムシ
ラン、フェニルメチルジメトキシシラン、フェニルメチ
ルジエトキシシラン、トリエトキシヒドロシラン、トリ
ブロムヒドロシラン、トリメトキシヒドロシラン、イソ
プロポキシヒドロシラン、トリｔ−ブトキシヒドロシラ
ン、

【００２８】ビニルトリクロルシラン、ビニルトリブロ
ムシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエト
キシシラン、ビニルトリイソプロポキシシラン、ビニル
トリｔ−ブトキシシラン、トリフルオロプロピルトリク
ロルシラン、トリフルオロプロピルトリブロムシラン、
トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオ
ロプロピルトリエトキシシラン、トリフルオロプロピル
トリイソプロポキシシラン、トリフルオロプロピルトリ
ｔ−ブトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチル
ジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジ
エトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキ
シシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリイソプロポキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリｔ−ブトキシシラ
ン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラ
ン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラ
ン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、
γ−メタクリロキシプロピルトリイソプロポキシシラ
ン、γ−メタクリロキシプロピルトリｔ−ブトキシシラ
ン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−
アミノプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプ
ロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエ
トキシシラン、γ−アミノプロピルトリイソプロポキシ
シラン、γ−アミノプロピルトリｔ−ブトキシシラン、
γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−
メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メル
カプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプ
ロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルト
リイソプロポキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリ
ｔ−ブトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘ
キシル）エチルトリメトキシシラン、β−（３，４−エ
ポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン等が
挙げられる。

【００２９】本発明に係るゾル−ゲル親水性層の無機親
水性マトリックス形成に用いる一般式（ＩＩ）で示され
るシラン化合物とともに、Ｔｉ，Ｚｎ，Ｓｎ，Ｚｒ，Ａ
ｌ等のゾル−ゲル変換の際に樹脂に結合して成膜可能な
金属化合物を併用することができる。用いられる金属化
合物として、例えば、Ｔｉ（ＯＲ⁵）₄（Ｒ⁵はメチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘ
キシル基等）、ＴｉＣｌ₄、Ｔｉ（ＣＨ₃ＣＯＣＨＣＯＣ
Ｈ₃）₂（ＯＲ⁵）₂、Ｚｎ（ＯＲ⁵）₂、Ｚｎ（ＣＨ₃ＣＯ
ＣＨＣＯＣＨ₃）₂、Ｓｎ（ＯＲ⁵）₄、Ｓｎ（ＣＨ₃ＣＯ
ＣＨＣＯＣＨ₃）₄，Ｓｎ（ＯＣＯＲ⁵）₄、ＳｎＣｌ₄、
Ｚｒ（ＯＲ⁵）₄、Ｚｒ（ＣＨ₃ＣＯＣＨＣＯＣＨ₃）₄、
Ａｌ（ＯＲ⁵）₃、Ａｌ（ＣＨ₃ＣＯＣＨＣＯＣＨ₃）₃等
が挙げられる。

【００３０】更に一般式（ＩＩ）で示されるシラン化合
物、更には併用する前記の金属化合物の加水分解及び重
縮合反応を促進するために、酸性触媒又は塩基性触媒を
併用することが好ましい。触媒は、酸あるいは塩基性化
合物をそのままか、あるいは水またはアルコールなどの
溶媒に溶解させた状態のもの（以下、それぞれ酸性触
媒、塩基性触媒という）を用いる。そのときの濃度につ
いては特に限定しないが、濃度が高い場合は加水分解・
重縮合速度が速くなる傾向がある。但し、濃度の高い塩
基性触媒を用いると、ゾル溶液中で沈殿物が生成する場
合があるため、塩基性触媒の程度は１Ｎ（水溶液での濃
度換算）以下が望ましい。

【００３１】酸性触媒あるいは塩基性触媒の種類は特に
限定されないが、具体的には、酸性触媒としては、塩酸
などのハロゲン化水素、硝酸、硫酸、亜硫酸、硫化水
素、過塩素酸、過酸化水素、炭酸、蟻酸や酢酸などのカ
ルボン酸、そのＲＣＯＯＨで表される構造式のＲを他元
素または置換基によって置換した置換カルボン酸、ベン
ゼンスルホン酸などのスルホン酸など、塩基性触媒とし
ては、アンモニア水などのアンモニア性塩基、エチルア
ミンやアニリンなどのアミン類などが挙げられる。

【００３２】上記のゾル−ゲル法のさらに詳細は、作花
済夫「ゾル−ゲル法の科学」（株）アグネ承風社（刊）
（１９８８年）、平島碩「最新ゾル−ゲル法による機能
性薄膜作成技術」総合技術センター（刊）（１９９２
年）等の成書等に詳細に記述されている。

【００３３】本発明に係る親水性層の総固形分中に占め
るゾル−ゲル変換により形成した無機マトリックスの割
合は、５重量％〜１００重量％、好ましくは１０重量％
〜８０重量％、より好ましくは２０重量％〜７０重量％
である。本発明に係るゾル−ゲル親水性層中には、上記
以外にも、親水性の程度の制御、親水性層の膜強度、柔
軟性等の物理的性能の向上、層を構成する組成物相互の
分散性の向上、塗布性の向上、印刷適性の向上などの種
々の目的の化合物を添加することができる。例えば、可
塑剤、顔料、色素、界面活性剤、親水性の粒子、有機親
水性高分子、架橋剤等が挙げられる。

【００３４】親水性の粒子としては、特に限定されない
が、好ましくはシリカ、アルミナ、酸化チタン、酸化マ
グネシウム、炭酸マグネシウム、アルギン酸カルシウム
等が挙げられる。これらは、親水性を助長したり、皮膜
の強化などに用いることができる。本発明の上記有機又
は無機親水性マトリックスの親水性層においては、特
に、シリカ、アルミナ、酸化チタン等の金属酸化物粒子
を含有することが好ましい態様である。

【００３５】シリカは、表面に多くの水酸基を持ち、内
部はシロキサン結合（−Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ−）を構成して
いる。本発明において、好ましく用いることができるシ
リカとしては、コロイダルシリカとも称される、水もし
くは、極性溶媒中に分散した粒子径１〜１００ｎｍのシ
リカ超微粒子である。具体的には、加賀美敏郎、林瑛監
修「高純度シリカの応用技術」第３巻、（株）シーエム
シー（１９９１年）に記載されている。

【００３６】また、好ましく用いることができるアルミ
ナとしては、５〜２００ｎｍのコロイドの大きさをもつ
アルミナ水和物（ベーマイト系）で、水中の陰イオン
（例えば、フッ素イオン、塩素イオン等のハロゲン原子
イオン、酢酸イオン等のカルボン酸アニオン等〉を安定
剤として分散されたものである。又好ましく用いること
ができる酸化チタンとしては、平均一次粒径が５０〜５
００ｎｍのアナターゼ型あるいはルチル型の酸化チタン
を、必要に応じ、分散剤を用い、水もしくは、極性溶媒
中に分散したものである。

【００３７】本発明において、好ましく用いることがで
きる親水性の粒子の平均一次粒径は、１〜５０００ｎｍ
であり、より好ましくは、１０〜１０００ｎｍである。
本発明の親水性層中において、これらの親水性の粒子
は、１種単独で用いても、２種以上を併用して用いても
良い。その使用量は親水性層の総固形分重量に対して、
５重量％〜９０重量％、好ましくは１０重量％〜７０重
量％、より好ましくは２０重量％〜６０重量％である。

【００３８】本発明に係る親水性層に使用可能な有機親
水性高分子としては、例えば、ポリビニルアルコール
（ケン化度６０％以上のポリビニルアセテート）、カル
ボキシ変性ポリビニルアルコール等の変性ポリビニルア
ルコール、澱粉およびその誘導体、カルボキシメチルセ
ルロースおよびその塩、ヒドロキシエチルセルロースの
ようなセルロース誘導体、カゼイン、ゼラチン、アラビ
アゴム、ポリビニルピロリドン、酢酸ビニル−クロトン
酸共重合体及びその塩、スチレン−マレイン酸共重合体
及びその塩、ポリアクリル酸及びその塩、ポリメタクリ
ル酸及びその塩、ポリエチレングリコール、ポリエチレ
ンイミン、ポリビニルホスホン酸及びその塩、ポリスチ
レンスルホン酸及びその塩、ポリ（メタクリロイロキシ
プロパンスルホン酸）及びその塩、ポリビニルスルホン
酸及びその塩、ポリ（メタクリロイロキシエチルトリメ
チルアンモニウムクロライド）、ポリヒドロキシエチル
メタクリレート、ポリヒドロキシエチルアクリレート、
ポリアクリルアミド等が挙げられる。これらのポリマー
は、親水性を損なわない限りにおいて、コポリマーであ
っても良く、１種単独で用いても、２種以上を併用して
用いても良い。その使用量は親水性層の総固形分重量に
対して、２重量％〜５０重量％、好ましくは３重量％〜
４０重量％、より好ましくは５重量％〜３０重量％であ
る。

【００３９】また、親水性層として光熱変換機能を有す
るものを用いる場合には、親水性層中に、画像記録に使
用するレーザー光を吸収し、熱に変換することが可能な
光熱変換物質を含有させることができる。本発明の親水
性層に用いる光熱変換物質としては、レーザー光源を赤
外線レーザーとした場合、赤外線吸収色素、赤外線吸収
顔料、赤外線吸収性金属、赤外線吸収金属酸化物など画
像記録に使用するレーザー波長の光を吸収する各種の有
機および無機材料が使用可能であり、エマルジョンイン
キの親水性成分、特に、水及び／又は多価アルコール類
に、親和性の高いものが好ましい。例えば、顔料として
は、親水性樹脂を表面コートする方法、界面活性剤を付
着させる方法、反応性物質（例えば、シリカゾル、アル
ミナゾル、シランカップリング剤やエポキシ化合物、イ
ソシアネート化合物等）を顔料表面に結合させる方法等
（上記の表面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」
（幸書房）、「印刷インキ技術」（ＣＭＣ出版、１９８
４年刊）および「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１
９８６年刊）に記載されている。）により表面処理を施
した顔料が適している。なかでも、水溶性の樹脂と分散
しやすく、かつ親水性を損わないものとして、親水性樹
脂でコートされたカーボンブラックやシリカゾルで変性
されたカーボンブラックが好適に用いられる。

【００４０】また、金属あるいは金属酸化物の微粒子と
しては、例えば界面活性剤で表面処理したり、粒子の構
成物質と反応する親水性基をもつ物質で表面処理した
り、保護コロイド性の親水性高分子皮膜を設けるなどの
方法により、表面親水化処理を施した金属あるいは金属
酸化物の微粒子が適している。とくに好ましいのは、表
面シリケート処理であり、例えば、鉄微粒子や四三酸化
鉄微粒子の場合は、７０℃の珪酸ナトリウム（３％）水
溶液に３０秒浸漬する方法によって表面を十分に親水性
化することができる。他の金属微粒子や金属酸化物微粒
子も同様の方法で表面シリケート処理を行うことができ
る。表面のアルミネート処理、チタネート処理などの親
水性化も、同様の方法で、あるいはピロリン酸ナトリウ
ム、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウムなどの表面エッ
チング助剤などを併用して行うことができる。なかで
も、表面を親水性化した金属酸化物微粒子、とくに表面
をシリケート処理した金属酸化物微粒子、とりわけ、表
面をシリケート処理した鉄酸化物や鉄の微粒子が好適に
用いられる。

【００４１】また、色素としては、米国特許第５，１５
６，９３８号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いら
れ、また、米国特許第３，８８１，９２４号記載の置換
されたアリールベンゾ（チオ）ピリリウム塩、特開昭５
７−１４２６４５号（米国特許第４，３２７，１６９
号）記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭５８−
１８１０５１号、同５８−２２０１４３号、同５９−４
１３６３号、同５９−８４２４８号、同５９−８４２４
９号、同５９−１４６０６３号、同５９−１４６０６１
号に記載されているピリリウム系化合物、特開昭５９−
２１６１４６号記載のシアニン色素、米国特許第４，２
８３，４７５号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩
等や特公平５−１３５１４号、同５−１９７０２号公報
に開示されているピリリウム化合物等が、市販品として
は、エポリン社製Ｅｐｏｌｉｇｈｔ III−１７８、Ｅｐ
ｏｌｉｇｈｔ III−１３０、Ｅｐｏｌｉｇｈｔ III−１
２５等が、特に好ましく用いられる。これらの色素中、
下記（Ｉ）式で示される水溶性のシアニン色素が、特に
好適に用いられる。

【００４２】

【化３】

【００４３】（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶
は置換又は未置換のアルキル基を表し、Ｚ¹及びＺ²は置
換もしくは未置換のフェニル基又はナフタレン基を表
す。Ｌは置換又未置換のメチン基でであり、置換基を有
する場合、該置換基は、炭素数８以下のアルキル基、ハ
ロゲン原子又はアミノ基であるか、該メチン基がその２
つのメチン炭素上の置換基が相互に結合して形成された
置換基を有していても良いシクロヘキセン環またはシク
ロペンテン環を含むものであってもよく、該置換基は炭
素数６以下のアルキル基またはハロゲン原子を表す。Ｘ
^-はアニオン基を表す。ｎは１又は２；そしてＲ¹、
Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｚ¹及びＺ²のうち少なくと
も一つは酸性基又は酸性基のアルカリ金属塩基又はアミ
ン塩基を有する置換基を示す。

【００４４】下記に（Ｉ）式で示される水溶性のシアニ
ン色素の具体的な化合物〔例示化合物（Ｉ−１）〜（Ｉ
−３２）〕を列記するが、本発明はこれらに制限される
ものではない。

【００４５】

【化４】

【００４６】

【化５】

【００４７】

【化６】

【００４８】

【化７】

【００４９】

【化８】

【００５０】

【化９】

【００５１】

【化１０】

【００５２】

【化１１】

【００５３】光熱変換物質の使用量は親水性層の総固形
分重量に対して、２重量％〜５０重量％、好ましくは５
重量％〜４５重量％、より好ましくは１０重量％〜４０
重量％である。

【００５４】本発明に用いる上記のゾル−ゲル変換によ
り形成した無機マトリックスを有する親水性層は、例え
ば、水や、メタノール、エタノール等の極性溶剤等の適
当な溶剤の単独又はこれらの混合溶媒に溶解あるいは分
散して、親油性層上に塗布、乾燥、硬化されることで形
成される。その塗布重量は乾燥後の重量で、０．１〜５
ｇ／ｍ²が適当であり、好ましくは０．３〜３ｇ／ｍ²、
さらに好ましくは０．５〜２ｇ／ｍ²である。親水性層
の乾燥後の塗布重量が０．１ｇ／ｍ²より低いと、エマ
ルジョンインキの親水性成分の保持性の低下や、膜強度
の低下など好ましくない結果を与え、一方、高すぎる
と、画像記録感度の低下などの好ましくない結果を与え
る。

【００５５】（油性インキ受容性層）本発明に使用され
る油性インキ受容性層（以下、適宜、親油性層と称す
る）は、印刷においてエマルジョンインキの油性インキ
成分を受容し、画像部として機能する層であり、油性イ
ンキ受容性の表面を有する有機高分子を含有する層であ
る。また、本発明に使用する油性インキ受容性層は、基
板上に塗布されるか、あるいは、基板自体が油性インキ
成分受容性の表面を有する場合（例えば、プラスチック
フィルムやプラスチックフィルムがラミネートされた基
板等）は、基板が油性インキ受容性層の機能を兼ねても
良い。なお、基板（支持体）の詳細な説明は後述する。

【００５６】本発明の油性インキ受容性層に使用する有
機高分子としては、親油性の被膜の形成能を有するもの
である。更には、上層の親水性層を形成する塗布溶媒に
不溶であることが望ましいが、場合によっては一部上層
の塗布溶媒に膨潤するものが、上層との接着性に優れ望
ましい場合がある。その他、上層の塗布溶媒で可溶な有
機高分子を用いる場合には、予め架橋剤等を添加する等
の工夫をして硬化させておくことが望ましい。

【００５７】有用な有機高分子としては、ポリエステ
ル、ポリウレタン、ポリウレア、ポリイミド、ポシシロ
キサン、ポリカーボネート、フェノキシ樹脂、エポキシ
樹脂、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂、アルキルフ
ェノール・ホルムアルデヒド樹脂、ポリビニルアセテー
ト、アクリル樹脂及びその共重合体、ポリビニルフェノ
ール、ポリビニルハロゲン化フェノール、メタクリル樹
脂及びその共重合体、アクリルアミド共重合体、メタク
リルアミド共重合体、ポリビニルフォルマール、ポリア
ミド、ポリビニルブチラール、ポリスチレン、セルロー
スエステル樹脂、ポリ塩化ビニルやポリ塩化ビニリデン
等を挙げることができる。これらの中で、より好ましい
化合物として、側鎖に水酸基、カルボキシ基、スルホン
アミド基やトリアルコキシシリル基を有する樹脂が基板
や上層の親水性層との接着性に優れ、かつ場合によって
架橋剤で容易に硬化するので望ましい。その他、アクロ
ニトリル共重合体、ポリウレタン、側鎖にスルホンアミ
ド基を有する共重合体や側鎖に水酸基を有する共重合体
をジアゾ樹脂によって光硬化させたものが好ましい。

【００５８】その他フェノール、クレゾール（ｍ−クレ
ゾール、ｐ−クレゾール、ｍ／ｐ混合クレゾール）、フ
ェノール／クレゾール（ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾー
ル、ｍ／ｐ混合クレゾール）、フェノール変性キシレ
ン、ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、オクチルフェノー
ル、レゾルシノール、ピロガロール、カテコール、クロ
ロフェノール（ｍ−Ｃｌ、ｐ−Ｃｌ）、ブロモフェノー
ル（ｍ−Ｂｒ、ｐ−Ｂｒ）、サリチル酸、フロログルシ
ノールなどのホルムアルデヒドとの縮合のノボラック樹
脂及びレゾール樹脂、さらに上記フェノール類化合物と
アセトンとの縮合樹脂などが有用である。

【００５９】その他の好適な高分子化合物として以下
（１）〜（１２）に示すモノマーをその構成単位とする
通常１万〜２０万の分子量を持つ共重合体を挙げること
ができる。 （１）芳香族水酸基を有するアクリルアミド類、メタク
リルアミド類、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エ
ステル類およびヒドロキシスチレン類、例えばＮ−（４
−ヒドロキシフェニル）アクリルアミドまたはＮ−（４
−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミド、ｏ−、ｍ−
およびｐ−ヒドロキシスチレン、ｏ−、ｍ−およびｐ−
ヒドロキシフェニルアクリレートまたはメタクリレー
ト、（２）脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類
およびメタクリル酸エステル類、例えば、２−ヒドロキ
シエチルアクリレートまたは２−ヒドロキシエチルメタ
クリレート、（３）アクリル酸メチル、アクリル酸エチ
ル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル
酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸シクロヘキ
シル、アクリル酸オクチル、アクリル酸フェニル、アク
リル酸ベンジル、アクリル酸−２−クロロエチル、アク
リル酸４−ヒドロキシブチル、グリシジルアクリレー
ト、Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレートなどの（置
換）アクリル酸エステル、

【００６０】（４）メタクリル酸メチル、メタクリル酸
エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、
メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリ
ル酸シクロヘキシル、メタクリル酸オクチル、メタクリ
ル酸フェニル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−
２−クロロエチル、メタクリル酸４−ヒドロキシブチ
ル、グリシジルメタクリレート、Ｎ−ジメチルアミノエ
チルメタクリレートなどの（置換）メタクリル酸エステ
ル、（５）アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−メ
チロールアクリルアミド、Ｎ−メチロールメタクリルア
ミド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−エチルメタクリ
ルアミド、Ｎ−ヘキシルアクリルアミド、Ｎ−ヘキシル
メタクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミ
ド、Ｎ−シクロヘキシルメタクリルアミド、Ｎ−ヒドロ
キシエチルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルアク
リルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−フェニ
ルメタクリルアミド、Ｎ−ベンジルアクリルアミド、Ｎ
−ベンジルメタクリルアミド、Ｎ−ニトロフェニルアク
リルアミド、Ｎ−ニトロフェニルメタクリルアミド、Ｎ
−エチル−Ｎ−フェニルアクリルアミドおよびＮ−エチ
ル−Ｎ−フェニルメタクリルアミドなどのアクリルアミ
ドもしくはメタクリルアミド、

【００６１】（６）エチルビニルエーテル、２−クロロ
エチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテ
ル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、
オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテルなど
のビニルエーテル類、（７）ビニルアセテート、ビニル
クロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル
などのビニルエステル類、（８）スチレン、メチルスチ
レン、クロロメチルスチレンなどのスチレン類、（９）
メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビ
ニルケトン、フェニルビニルケトンなどのビニルケトン
類、（１０）エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブ
タジエン、イソプレンなどのオレフィン類、（１１）Ｎ
−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾール、４−ビ
ニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル
など、

【００６２】（１２）Ｎ−（ｏ−アミノスルホニルフェ
ニル）アクリルアミド、Ｎ−（ｍ−アミノスルホニルフ
ェニル）アクリルアミド、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニル
フェニル）アクリルアミド、Ｎ−〔１−（３−アミノス
ルホニル）ナフチル〕アクリルアミド、Ｎ−（２−アミ
ノスルホニルエチル）アクリルアミドなどのアクリルア
ミド類、Ｎ−（ｏ−アミノスルホニルフェニル）メタク
リルアミド、Ｎ−（ｍ−アミノスルホニルフェニル）メ
タクリルアミド、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニ
ル）メタクリルアミド、Ｎ−〔１−（３−アミノスルホ
ニル）ナフチル〕メタクリルアミド、Ｎ−（２−アミノ
スルホニルエチル）メタクリルアミドなどのメタクリル
アミド類、また、ｏ−アミノスルホニルフェニルアクリ
レート、ｍ−アミノスルホニルフェニルアクリレート、
ｐ−アミノスルホニルフェニルアクリレート、１−（３
−アミノスルホニルフェニルナフチル）アクリレートな
どのアクリル酸エステル類などの不飽和スルホンアミ
ド、ｏ−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、ｍ
−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、ｐ−アミ
ノスルホニルフェニルメタクリレート、１−（３−アミ
ノスルホニルフェニルナフチル）メタクリレートなどの
メタクリル酸エステル類などの不飽和スルホンアミド。

【００６３】また、本発明に用いられる熱分解性の有機
高分子としてニトロセルロースやｔ−ブトキシカルボニ
ル基やアセタール基を含有する樹脂に代表される「J. I
maging Sci.,P59-64 ,30(2), (1986)（Frechetら）」や
「Polymers in Electronics（Symposium Series,P11,
242, T.Davidson,Ed., ACS Washington,DC(1984)（Ito,
Willson）」、「Microelectronic Engineering,P3-10,1
3(1991)（E. Reichmanis,L.F.Thompson）」に記載のい
わゆる「化学増幅系」に使用されるバインダー等が挙げ
られるがこれに限定されるものではない。これらの高分
子化合物は単独で用いてもよく、２種以上を混合して用
いてもよい。

【００６４】また、油性インキ受容性層が、光熱変換機
能を有する場合には、油性インキ受容性層中に、画像記
録に使用するレーザー光を吸収し、熱に変換することが
可能な光熱変換物質を含有させることができる。油性イ
ンキ受容性層に用いる光熱変換物質としては、レーザー
光源を赤外線レーザーとした場合、赤外線吸収色素、赤
外線吸収顔料、赤外線吸収性金属、赤外線吸収金属酸化
物など画像記録に使用するレーザー波長の光を吸収する
各種の有機および無機材料が使用可能であり、エマルジ
ョンインキの油性インキ成分に対し親和性の高いものが
好ましい。

【００６５】例えば、顔料としては、酸性カーボンブラ
ック、塩基性カーボンブラック、中性カーボンブラック
など各種カーボンブラック、分散性改良等のために表面
修飾もしくは表面コートされた各種カーボンブラック、
ニグロシン類、色素としては、「赤外増感色素」（松岡
著 Plenum Press ,New York,NY(1990)）、ＵＳ４８３３
１２４，ＥＰ−３２１９２３、ＵＳ−４７７２５８３，
ＵＳ−４９４２１４１、ＵＳ−４９４８７７６、ＵＳ−
４９４８７７７、ＵＳ−４９４８７７８、ＵＳ−４９５
０６３９、ＵＳ−４９１２０８３、ＵＳ−４９５２５５
２、ＵＳ−５０２３２２９等の明細書に記載の各種化合
物、金属もしくは金属酸化物としては、アルミニウム、
インジウムスズ酸化物、酸化タングステン、酸化マンガ
ン、酸化チタン等、この他にポリピロール、ポリアニリ
ンなどの導電性ポリマーなども使用可能である。その使
用量は油性インキ受容性層の総固形分重量に対して、２
重量％〜５０重量％、好ましくは５重量％〜４５重量
％、より好ましくは１０重量％〜４０重量％である。

【００６６】油性インキ受容性層の形成は、上記組成物
を適当な溶媒に溶解させて、基板上に塗布乾燥させ基板
上に設けることができる。有機高分子単独を溶媒に溶解
させ用いることもできるが、通常は架橋剤、接着助剤、
着色剤、無機あるいは有機の微粒子、塗布面状改良剤あ
るいは可塑剤と共に用いる。また、レーザー記録感度を
高めるための熱分解性化合物や露光後のプリントアウト
画像を形成させるための加熱発色系あるいは消色系が添
加されてもよい。

【００６７】具体的な有機高分子を架橋させる公知の架
橋剤としては、ジアゾ樹脂、芳香族アジド化合物、多官
能イソシアネート化合物、多官能エポキシ化合物、多官
能アミン化合物、ポリオール化合物、多官能カルボキシ
ル化合物、アルデヒド化合物、多官能（メタ）アクリル
化合物、多官能ビニル化合物、多官能メルカプト化合
物、多価金属塩化合物、ポリアルコキシシラン化合物、
ポリアルコキシチタン化合物、ポリアルコキシアルミニ
ウム化合物、ポリメチロール化合物、ポリアルコキシメ
チル化合物等が挙げられ、公知の反応触媒を添加し、反
応を促進することも可能である。その使用量は、親油性
層の塗布液総固形分量の０〜５０重量％であり、好まし
くは３〜４０重量％、さらに好ましくは５〜３５重量％
である。

【００６８】接着助剤としては、上記のジアゾ樹脂が基
板及び親水性層との接着に優れるが、この他にシランカ
ップリング剤、イソシアネート化合物、チタン系カップ
リング剤も有用である。

【００６９】着色剤としては、通常の染料や顔料が用い
られるが、特にローダミン６Ｇ塩化物、ローダミンＢ塩
化物、クリスタルバイオレット、マラカイトグリーンシ
ュウ酸塩、オキサジン４パークロレート、キニザリン、
２−（α−ナフチル）−５−フェニルオキサゾール、ク
マリン−４が挙げられる。他の染料として具体的には、
オイルイエロー＃１０１、オイルイエロー＃１０３、オ
イルピンク＃３１２、オイルグリーンＢＧ、オイルブル
ーＢＯＳ、オイルブルー＃６０３、オイルブラックＢ
Ｙ、オイルブラックＢＳ、オイルブラックＴ−５０５
（以上、オリエント化学工業（株）製）、ビクトリアピ
ュアブルー、クリスタルバイオレット（ＣＩ４２５５
５）、メチルバイオレット（ＣＩ４２５３５）、エチル
バイオレット、メチレンブルー（ＣＩ５２０１５）、パ
テントピュアブルー（住友三国化学社製）、ブリリアン
トブルー、メチルグリーン、エリスリシンＢ、ベーシッ
クフクシン、ｍ−クレゾールパープル、オーラミン、４
−ｐ−ジエチルアミノフェニルイミナフトキノン、シア
ノ−ｐ−ジエチルアミノフェニルアセトアニリドなどに
代表されるトリフェニルメタン系、ジフェニルメタン
系、オキサジン系、キサンテン系、イミノナフトキノン
系、アゾメチン系またはアントラキノン系の染料あるい
は特開昭６２−２９３２４７号公報、特願平７−３３５
１４５号公報に記載されている染料を挙げることができ
る。上記色素は、親油性層中に添加される場合は親油性
層の全固形分に対し、通常約０.０２〜１０重量％、よ
り好ましくは約０.１〜５重量％の割合ある。

【００７０】更に塗布面状改良剤としてよく知られた化
合物であるフッ素系界面活性剤やシリコン系界面活性剤
も用いることができる。具体的にはパーフルオロアルキ
ル基やジメチルシロキサン基を有する界面活性剤が塗布
面上を整えることで有用である。

【００７１】本発明で用いることができる無機又は有機
の微粉末としては１０nmから１００nmまでのコロイダル
シリカやコロイダルアルミニウム、更にはこれらのコロ
イドより大きい粒径の不活性粒子、例えば、シリカ粒
子、表面疎水化したシリカ粒子、アルミナ粒子、二酸化
チタン粒子、その他重金属粒子、クレーやタルク等を挙
げることができる。これらの無機又は有機の微粉末を親
油性層中に添加することによって、上層の親水性層との
接着性を改良し、印刷における耐刷力を増加させる効果
がある。親油性層中におけるこれらの微粉末の添加割合
は、全量の８０重量％以下が好ましく、更に好ましく
は、４０重量％以下である。

【００７２】本発明に係る親油性層には、レーザー記録
感度を向上させる熱分解性化合物を添加することができ
る、このような化合物としては、加熱により分解しガス
を発生する公知の化合物を用いる。この場合には親油性
層表面の急激な体積膨張によりレーザー記録感度が向上
でき、これらの添加剤の例としては、ジニチロペンタメ
チレンテトラミン、Ｎ，Ｎ'−ジメチル−Ｎ，Ｎ'−ジニ
トロソテレフタルアミド、ｐ−トルエンスルホニルヒド
ラジド、４、４−オキシビス（ベンゼンスルホニルヒド
ラジド）、ジアミドベンゼン等が挙げられる。また、レ
ーザー記録感度を向上させる熱分解性化合物としては、
各種のヨードニウム塩、スルフォニウム塩、フォスフォ
ニウムトシレート、オキシムスルフォネート、ジカルボ
ジイミドスルフォネート、トリアジン等、加熱により分
解し酸性化合物を生成する熱酸発生剤の公知の化合物を
添加剤として使用することができる。これらを化学増幅
系バインダーと併用することにより、親油性層の構成物
質となる化学増幅系バインダーの分解温度を大きく低下
させ、結果としてレーザー記録感度を向上させることが
可能である。その添加割合は、油性インキ受容性層の全
量に対し、１重量％〜２０重量％が好適であり、より好
ましくは５重量％〜１０重量％である。

【００７３】更に、本発明の油性インキ受容性層中には
必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤が
加えられる。例えば、ポリエチレングリコール、クエン
酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、
フクル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリ
クレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オ
レイン酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸又はメタ
クリル酸のオリゴマー及びポリマー等が用いられる。

【００７４】更に、本発明の油性インキ受容性層中には
露光したとき画像部と非画像部を鮮明にするため発色系
又は消色系の化合物が添加されることが好ましい。例え
ば、ジアゾ化合物やジフェニルヨードニウム塩のような
熱酸発生剤と共にロイコ染料（ロイコマラカイトグリー
ン、ロイコクリスタルバイオレット、クリスタルバイオ
レットのラクトン体等）やＰＨ変色染料（例えば、エチ
ルバイオレット、ビクトリアプアーブルーＢＯＨ等の染
料）が用いられる。その他、ＥＰ８９７１３４号明細書
に記載されているような、酸発色染料と酸性バインダー
の組合わせも有効である。この場合、加熱によって染料
を形成している会合状態の結合が切れ、ラクトン体が形
成して有色から無色に変化する。これらの発色系の添加
割合は親油性層中の全量に対し１０重量％以下が好まし
く、さらに好ましくは、５重量％以下である。

【００７５】上記油性インキ受容性層を塗布して形成す
る場合の溶媒としては、アルコール類（メタノール、エ
タノール、プロピルアルコール、エチレングリコール、
ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロ
ピレングリコール、エチレングリコールモノメチルエー
テル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチ
レングリコールモノエチルエーテル等）、エーテル類
（テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエ
ーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、テト
ラヒドロピラン等）、ケトン類（アセトン、メチルエチ
ルケトン、アセチルアセトン等）、エステル類（酢酸メ
チル、エチレングリコールモノメチルモノアセテート
等）、アミド類（ホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアミ
ド、ピロリドン、Ｎ−メチルピロリドン等）、ガンマー
ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチル等を用いるこ
とができる。これらの溶媒は単独あるいは混合状態で使
用される。塗布液を調製する場合、溶媒中の上記油性イ
ンキ受容性層構成成分（添加剤を含む全固形分）の濃度
は、好ましくは１〜５０重量％である。その他、上記の
ような有機溶媒からの塗布ばかりでなく、水性エマルジ
ョンからも被膜を形成させることができる。この場合の
濃度は５重量％から５０重量％が好ましい。

【００７６】本発明の油性インキ受容性層の塗布乾燥後
の厚みは、特に限定的ではないが０.１ｇ／ｍ²以上あれ
ばよい。金属板上に設ける場合には断熱層としての役目
をも有するので０.５ｇ／ｍ²以上が望ましい。油性イン
キ受容性層が薄すぎると発熱した熱が金属板の方に発散
し、感度が低下する。その上親水性の金属板の場合に
は、耐摩耗性が要求されるため、耐刷力を確保できなくな
る。親油性のプラスチックフィルムを基板として使用す
る場合には、油性インキ受容性層の塗布量は金属板の時
より少なくてもよく、０.０５μｍ以上が好ましい。

【００７７】（オーバーコート層）本発明の方法に適用
される平版印刷版原版には、前記親水性層、油性インキ
受容性層のほか、必要に応じてオーバーコート層を形成
することができる。本発明に使用されるオーバーコート
層は、印刷前あるいは印刷時に容易に除去される層であ
り、親水性表面を保護する機能を有する層であり、フィ
ルム形成可能な高分子化合物を含有する。さらに、本発
明のオーバーコート層は、光熱変換機能を有しても良
く、その場合には、オーバーコート層中には、光熱変換
物質を含有することができる。

【００７８】オーバーコート層を設ける方法としては、
オーバーコート層組成物を含有する塗布溶液を親水性層
上に、直接、塗布、乾燥して設けても良いし、前記塗布
液を別の支持体上に塗布、乾燥した後、親水性層上に圧
着（ラミネート）して設け、その支持体を剥離除去して
設けても良い。オーバーコート層に使用する高分子は、
公知の有機又は無機の樹脂であり、塗布乾燥によってで
きた被膜がフィルム形成能を有するものであり、さら
に、印刷時、エマルジョンインキにより除去する場合に
は、エマルジョンインキの親水性成分、特に、水及び／
又は多価アルコール類に、容易に溶解又は分散すること
が好ましい。このような高分子としては、親水性高分子
を使用することが好ましく、そのような親水性高分子と
しては、具体的には、ポリビニル酢酸（但し加水分解率
６５％以上のもの）、ポリアクリル酸及びそのアルカリ
金属塩又はアミン塩、ポリアクリル酸共重合体及びその
アルカリ金属塩又はアミン塩、ポリメタクリル酸及びそ
のアルカリ金属塩又はアミン塩、ポリメタクリル酸共重
合体及びそのアルカリ金属塩又はアミン塩、ポリアクリ
ルアミドおよびその共重合体、ポリヒドロキシエチルア
クリレート、ポリビニルピロリドン及びその共重合体、
ポリビニルメチルエーテル、ポリビニルメチルエーテル
／無水マレイン酸共重合体、ポリ−２−アクリルアミド
−２−メチル−１−プロパンスルホン酸及びそのアルカ
リ金属塩又はアミン塩、ポリ−２−アクリルアミド−２
−メチル−１−プロパンスルホン酸共重合体及びそのア
ルカリ金属塩又はアミン塩、アラビアガム、繊維素誘導
体（例えば、カルボキシメチルセルローズ、カルボキシ
エチルセルローズ、メチルセルローズ等）及びその変性
体、ホワイトデキストリン、プルラン、酵素分解エーテ
ル化デキストリン等を挙げることができる。また、目的
に応じて、これらの樹脂を二種以上混合して用いること
もできる。

【００７９】オーバーコート層に光熱変換物質を添加す
ることにより、感光／感熱記録における感度の向上を図
ることができる。ここで用いうる光熱変換物質として
は、画像記録に使用するレーザー光を吸収し、熱に変換
できる光熱変換物質であり、種々の顔料や染料を用いる
事ができるが、高分子と同様に、印刷時、エマルジョン
インキにより除去する場合には、エマルジョンインキの
親水性成分、特に、水及び／又は多価アルコール類に、
容易に溶解又は分散することが好ましい。記録光源であ
るレーザー光源として、赤外線レーザーを用いる場合、
赤外線吸収色素、赤外線吸収顔料、赤外線吸収性金属、
赤外線吸収金属酸化物など画像記録に使用するレーザー
波長の光を吸収する各種の有機および無機材料が使用可
能であり、前記親水性層に用いる光熱変換物質と同様の
ものが使用可能である。

【００８０】光熱変換物質の使用量は、オーバーコート
層の全固形分中の１〜７０重量％、好ましくは２〜５０
重量％、染料の場合、特に好ましくは２〜３０重量％、
顔料の場合、特に好ましくは２０〜５０重量％の割合で
ある。顔料又は染料の添加量が上記範囲より少なすぎる
と感度向上効果が低くなり、また上記範囲より多すぎる
と層の均一性が失われ、層の耐久性が悪くなる。

【００８１】その他、オーバーコート層には、膜の物理
的強度の向上、膜を構成する組成物相互の分散性の向
上、塗布性の向上、膜の除去性の向上、親水性層表面に
対する密着性の向上等の目的で、例えば、可塑剤、顔
料、色素、界面活性剤、粒子、密着改良剤等を添加する
ことが可能である。例えば、オーバーコート層を水溶液
塗布により設ける場合には、塗布の均一性向上を目的と
して、主に非イオン系界面活性剤が添加される。この様
な非イオン界面活性剤の具体例としては、ソルビタント
リステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビ
タントリオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリ
オキシエチレンノニルフェニルエーテル等を挙げること
が出来る。上記非イオン界面活性剤のオーバーコート層
の全固形物中に占める割合は、０.０５〜５重量％が好
ましく、より好ましくは１〜３重量％である。

【００８２】本発明に用いるオーバーコート層の塗布量
は、０.０５〜４.０ｇ／ｍ²が好ましく、更に好ましい
範囲は０.１〜１.０ｇ／ｍ²である。オーバーコート層
は、厚すぎると、印刷前あるいは印刷時に除去するのに
時間がかかり、薄すぎると皮膜性が損なわれる場合があ
る。また、オーバーコート層は、光熱変換物質の含有量
にも依存するが、厚すぎても、薄すぎても、感度が低下
する傾向にある。

【００８３】（基板）本発明に係る平版印刷版原版に使
用可能な基板としては、寸度的に安定な板状物が用いら
れる。紙、親油性のプラスチック（例えば、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリスチレン等）がラミネートさ
れた紙、金属板（例えば、アルミニウム、亜鉛、銅、ニ
ッケル、ステンレス鋼板等）、有機高分子樹脂が塗布さ
れている上記金属板、プラスチックフィルム（例えば、
二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セ
ルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸
セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレ
ンナフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプ
ロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール
等）、有機高分子樹脂が塗布されている上記プラスチッ
クフィルム、顔料が分散されている上記プラスチックフ
ィルム、金属がラミネート又は蒸着された紙もしくは上
記プラスチックフィルム等が含まれる。

【００８４】好ましい基板としては、ポリエチレンテレ
フタレートフィルム、ポリカーボネートフィルム、アル
ミニウムあるいは鋼鈑あるいは親油性のプラスチックフ
ィルムがラミネートされているアルミニウムあるいは鋼
鈑が挙げられる。

【００８５】本発明に使用される好適なアルミニウム板
は、純アルミニウム板およびアルミニウムを主成分と
し、微量の異元素を含む合金板であり、更にはアルミニ
ウムの表面にはインキ受容性の高分子化合物が塗布され
ているかあるいはインキ受容性のプラスチックがラミネ
ートされているものである。アルミニウム合金に含まれ
る異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウ
ム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなどが
ある。合金中の異元素の含有量は高々１０重量％以下で
ある。しかし、本発明に適用されるアルミニウム板は、
従来より公知公用の素材のアルミニウム板をも適宜に利
用することができる。

【００８６】アルミニウム板を使用するに先立ちその表
面を粗面化することが好ましい。粗面化処理を行うこと
により、該基板上に有機高分子を含有する油性インキ受
容性層を塗布した場合、基板と油性インキ受容性層との
接着性が容易に確保できる。粗面化処理について、順次
説明する。粗面化処理に先だって、アルミニウム基板表
面の圧延油を除去するための例えば界面活性剤、有機溶
剤またはアルカリ性水溶液などによる脱脂処理が行われ
る。

【００８７】アルミニウム板の表面の粗面化処理は、種
々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化す
る方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法および
化学的に表面を選択溶解させる方法等が一般的である。
機械的粗面化方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨
法、ブラスト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用
いることができる。化学的粗面化方法としては、特開昭
５４−３１１８７号公報に記載されているような鉱酸の
アルミニウム塩の飽和水溶液に浸漬する方法が適してい
る。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸または硝
酸などの酸を含む電解液中で交流または直流により行う
方法がある。また、特開昭５４−６３９０２号に開示さ
れているように混合酸を用いた電解粗面化方法も利用す
ることができる。上記の如き方法による粗面化は、アル
ミニウム板の表面の中心線表面粗さ（Ｈａ）が０.３〜
１.０μｍとなるような範囲で施されることが好まし
い。

【００８８】粗面化されたアルミニウム板は必要に応じ
て水酸化カリウムや水酸化ナトリウムなどの水溶液を用
いてアルカリエッチング処理がされ、さらに中和処理さ
れた後、所望により耐摩耗性を高めるために陽極酸化処
理が施される。アルミニウム板の陽極酸化処理に用いら
れる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成する種々の
電解質の使用が可能で、一般的には硫酸、塩酸、蓚酸、
クロム酸あるいはそれらの混酸が用いられる。それらの
電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。
陽極酸化の処理条件は、用いる電解質により種々変わる
ので一概に特定し得ないが、一般的には電解質の濃度が
１〜８０重量％溶液、液温は５〜７０℃、電流密度５〜
６０Ａ／dｍ²、電圧１〜１００Ｖ、電解時間１０秒〜５
分の範囲であれば適当である。形成される酸化皮膜量
は、１.０〜５.０ｇ／ｍ²、特に１.５〜４.０ｇ／ｍ²で
あることが好ましい。

【００８９】また、本発明に係る支持体基板として、ポ
リエステル等の非導電性のものを用いる場合、基板の油
性インキ受容性層側または反対側、あるいは両側に、帯
電防止層を設けるのが好ましい。帯電防止層としては、
金属酸化物微粒子やマット剤を分散したポリマー層が使
用できる。本発明に用いられる金属酸化物粒子の材料と
しては、ＴｉＯ₂、ＺｎＯ、ＳｎＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｉｎ₂
Ｏ₃、ＭｇＯ、ＢａＯ、ＭｏＯ₃、Ｖ₂Ｏ₅及びこれらの複
合酸化物、及び／又はこれらの金属酸化物に更に異種原
子を含む金属酸化物を挙げることができる。これらは単
独で用いてもよく、混合して用いてもよい。金属酸化物
としては、ＴｉＯ₂、ＺｎＯ、ＳｎＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｉｎ
₂Ｏ₃、ＭｇＯが好ましい。異種原子を少量含む例として
は、ＺｎＯに対してＡｌあるいはＩｎ、ＳｎＯ₂に対し
てＳｂ、Ｎｂあるいはハロゲン元素、Ｉｎ₂Ｏ₃に対して
Ｓｎなどの異種原子を３０モル％以下、好ましくは１０
モル％以下の量をドープしたものを挙げることができ
る。金属酸化物粒子は、帯電防止層中に１０〜９０重量
％の範囲で含まれていることが好ましい。金属酸化物粒
子の粒子径は、平均粒子径が０．００１〜０．５μｍの
範囲が好ましい。ここでいう平均粒子径とは、金属酸化
物粒子の一次粒子径だけでなく高次構造の粒子径も含ん
だ値である。

【００９０】帯電防止層に用いることができるマット剤
としては、、好ましくは平均粒径が０．５〜２０μｍ、
より好ましくは平均粒径が１．０〜１５μｍの粒径を持
つ無機又は有機の粒子が挙げられる。無機粒子として
は、例えば、酸化ケイ素、酸化アルミ、酸化チタン、酸
化亜鉛等の金属酸化物、炭酸カルシウム、硫酸バリウ
ム、チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム等の金
属塩等が挙げられる。有機粒子としては、ポリメチルメ
タクリレート、ポリスチレン、ポリオレフィン及びそれ
らの共重合体の架橋粒子が挙げられる。マット剤は、帯
電防止層中に１〜３０重量％の範囲で含まれていること
が好ましい。

【００９１】帯電防止層に用いることができるポリマー
としては、例えば、ゼラチン、カゼイン等のタンパク
質、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセ
ルロース、アセチルセルロース、ジアセチルセルロー
ス、トリアセチルセルロース等のセルロース化合物、デ
キストラン、寒天、アルギン酸ソーダ、澱粉誘導体等の
糖類、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリア
クリル酸エステル、ポリメタクリル酸エステル、ポリス
チレン、ポリアクリルアミド、ポリビニルピロリドン、
ポリエステル、ポリ塩化ビニル、ポリアクリル酸、ポリ
メタクリル酸等の合成ポリマー等が挙げられる。ポリマ
ーは、帯電防止層中に１０〜９０重量％の範囲で含まれ
ていることが好ましい。

【００９２】本発明で使用する基板は、ブロッキング防
止の観点から、基板の裏面の最大粗さ深度（Ｒｔ）が少
なくとも１．２μｍ以上であることが好ましく、さら
に、基板の裏面（即ち、本発明の平版印刷版原版の裏
面）が本発明の平版印刷版原版の表面を滑るときの動摩
擦係数（μｋ）が２．６以下であることが好ましい。本
発明で用いられる上記の基板の厚みはおよそ０.０５mm
〜０.６mm程度、好ましくは０.１mm〜０.４mm、特に好
ましくは０.１５mm〜０.３mmである。

【００９３】本発明の印刷方法を適用し得る感熱性平版
印刷版原版は上記のような構成を有するものである。次
に、この平版印刷版原版の画像記録工程及び印刷工程に
ついて順次説明する。 〔画像記録工程〕本発明の方法に適用し得る平版印刷版
の代表的な例であるレーザー光により感熱的画像記録可
能な平版印刷原版においては、記録に用いられるレーザ
ー光エネルギーを本発明の平版印刷原版に含有される光
熱変換物質が吸収し、熱エネルギーに変換する。この熱
による作用に起因して、平版印刷原版のレーザー露光部
において、燃焼、融解、分解、気化、爆発等の化学反応
や物理変化が引き起こされ、結果として、親水性層が下
層より除去されるか、あるいは、除去可能な状態とな
る。本発明においては平版印刷原版を像様露光するのに
レーザー光が使用される。使用されるレーザーは親水性
層が除去されるか、あるいは、除去可能な状態となるの
に必要な露光量を与えるものであれば特に制限はなく、
Ａｒレーザー、炭酸ガスレーザーのごときガスレーザ
ー、ＹＡＧレーザーのような固体レーザー、そして半導
体レーザーなどが使用できる。通常、出力が５０ｍＷク
ラス以上のレーザーが必要となる。保守性、価格などの
実用的な面からは、半導体レーザーおよび半導体励起の
固体レーザー（ＹＡＧレーザーなど）が好適に使用され
る。これらのレーザーの記録波長は赤外線の波長領域で
あり、８００ｎｍから１１００ｎｍの発振波長を利用す
ることが多い。また、特開平６−１８６７５０号公報に
記載されているイメージング装置を用いて露光すること
も可能である。

【００９４】〔現像、印刷工程〕上記の方法で露光され
た平版印刷原版は、レーザー露光中にレーザー露光部
（画像部）の親水性層が除去されても良く、さらに、必
要な場合は、レーザー露光後に、レーザー露光部（画像
部）の親水性層を除去し、油性インキ受容性層を露出さ
せる。レーザー露光部の親水性層の除去は、例えば、吸
引、圧縮気体や圧縮液体の噴射、粘着シートの圧着・剥
離や処理液の存在下又は非存在下において、現像用パッ
ドや現像用ブラシ等の擦り部材により版面を擦ることに
より実施される。本発明において使用される処理液とし
ては、安全性、引火性及び親水性層表面親水性保持等の
観点から、水または水を主成分とする水溶液が好まし
く、単に水（水道水、純水、蒸留水等）や界面活性剤
（アニオン系、カチオン系、ノニオン系）の水溶液等が
使用可能である。また、処理液には、アルカリ性剤（例
えば、炭酸ナトリウム、トリエタノールアミン、ジエタ
ノールアミン、水酸化ナトリウム、ケイ酸塩類等）又は
酸性剤（例えば、リン酸、亜リン酸、メタリン酸、ピロ
リン酸、シュウ酸、リンゴ酸、酒石酸、ホウ酸、アミノ
酸類等）、公知の消泡剤や防腐剤を添加したものも使用
可能である。処理液の温度は、任意の温度で使用できる
が、好ましくは１０℃〜５０℃である。また、レーザー
露光部の親水性層の除去は、例えば、レーザー露光後の
平版印刷原版を何ら処理することなく、印刷機の版胴上
に装着し、印刷機上において、エマルジョンインキを版
上に供給することにより実施する、所謂機上現像とする
ことも可能である。また、本発明の平版印刷方法には、
公知のインキング装置を備えたオフセット方式の平版印
刷機が用いられることが好ましい。

【００９５】本発明の方法では、画像記録された平版印
刷版を印刷機に装着し、エマルジョンインキを用いて印
刷を開始すると、エマルジョンインキの親水性成分が露
出したゾル−ゲル親水性層に付着し、撥インキ領域（非
画像部）となる。また、露出した親油性層が親インキ領
域（画像部）を形成し、エマルジョンインキ中の油性イ
ンキ成分は、この油性インキ受容性層に着肉し、印刷が
開始される。

【００９６】

【実施例】以下、実施例により、本発明を詳細に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。 （実施例１） 〔基板の作成〕厚さ１８０μｍのポリエチレンテレフタ
レートの両面に、コロナ処理を施し、その処理面上に、
下記の塗布液を塗布、加熱乾燥（１８０℃、３０秒）
し、乾燥膜厚０．２ｇ／ｍ²の帯電防止層を形成した。 （帯電防止層塗布液） ・ アクリル樹脂水分散液 （ジュリマーＥＴ−４１０、固形分２０重量％、日本純薬（株）製） ２０ｇ ・ 酸化スズ−酸化アンチモン水分散物 （平均粒径：０．１μｍ、１７重量％） ３６ｇ ・ ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル （ノニポール１００、三洋化成工業（株）製） ０．６ｇ ・ アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸ナトリウム塩水溶液 （サンデットＢＬ、濃度４０重量％、三洋化成工業（株）製） ０．６ｇ ・ メラミン化合物 （スミテックスレジンＭ−３、有効成分濃度８０重量％、 住友化学工業（株）製） ０．２ｇ ・ ポリメタクリル酸樹脂粒子 （ＭＸ−５００、平均粒径５μｍ、綜研化学（株）製） ０．２ｇ ・水 ４２．４ｇ

【００９７】〔油性インキ受容性層の形成〕 （カーボンブラック分散液の作成）下記の混合液をペイ
ントシェーカーにて３０分間分散した後、ガラスビーズ
をろ別して、カーボンブラック分散液を作成した。 ・カーボンブラック（ＭＡ１００ 三菱化学（株）製） ４．０ｇ ・ソルスパースＳ２００００ （ＩＣＩ社製） ０．２７ｇ ・ソルスパースＳ１２０００ （ＩＣＩ社製） ０．２２ｇ ・プロピレングリコールモノメチルエーテル １０ｇ ・メチルエチルケトン １０ｇ ・ガラスビーズ １２０ｇ

【００９８】前記の帯電防止層下塗り済みポリエチレン
テレフタレート支持体上に、下記の塗布液を塗布し、加
熱乾燥（１２０℃、１分）することにより、乾燥重量
１．５ｇ／ｍ²の油性インキ受容性層を形成した。 （油性インキ受容性層塗布液１） ・上記のカーボンブラック分散液 ３０ｇ ・メタクリル酸メチル／アクリル酸メチル／メタクリル酸ヒド ロキシエチル＝６５／２０／１５モル比の共重合体 ５ｇ ・ポリウレタン樹脂 ５ｇ （ジフェニルメタンジイソシアネート／２，２−ジヒドロキシ メチル−１−プロピオン酸／ポリプロピレングリコール （Ｍｗ１０００）＝５０／３０／２０モル比の縮合反応物） ・チタンジイソプロポキサイドビス（２，４−ペンタジオネート） の７５％イソプロパノール溶液（チッソ（株）製ＡＫＴ８５５） １ｇ ・プロピレングリコールモノメチルエーテル ４０ｇ ・メチルエチルケトン ５０ｇ

【００９９】〔ゾル−ゲル親水性層の形成〕下記の塗布
液を前記油性インキ受容性層上に塗布し、加熱乾燥（１
００℃、１０分）することにより、乾燥重量２ｇ／ｍ²
の親水性層を形成し、平版印刷原版を得た。 （親水性層塗布液１） ・酸化チタン２０％／ポリビニルアルコール１０％水分散液 ８ｇ ［酸化チタン（和光純薬（株）製、ルチル型、平均粒径２００ｎｍ） ／ＰＶＡ１１７（クラレ（株）製）＝２／１重量比］ ・シリカゲル２０％水分散液 ４ｇ （スノーテックスＣ（日産化学工業（株）製、平均粒子径約１０ｎｍ） ・ゾル−ゲル調製液１（下記組成） ８ｇ ・水 ２０ｇ

【０１００】（ゾル−ゲル調製液１の作成）下記組成の
液を室温において、１時間熟成してゾルゲル調製液を作
成した。 ・テトラメトキシシラン １１．０ｇ ・エタノール ２０．７ｇ ・０．１規定 硝酸 ４．５ｇ

【０１０１】〔画像記録〕上記の平版印刷原版の親水性
層側からＣＲＥＯ社の４０Ｗトレンドセッター（４０Ｗ
の８３０ｎｍ半導体レーザーを搭載プレートセッター）
を用い、３００ｍＪ／ｃｍ²のエネルギーで画像露光を
行った。次いで、ＥＵ−３（富士写真フイルム（株）
製）の１０体積％水溶液を含ませた現像用パッドを用
い、画像露光された平版印刷原版の表面を擦り、レーザ
ー露光部の親水性層を除去し、画像部分において、油性
インキ受容性層を露出させ画像を形成した。

【０１０２】〔印刷評価〕次いで、上記の平版印刷版を
印刷機（ハイデルベルグＳＯＲ−Ｍ）に装着し、下記組
成のエマルジョンインキを用いて印刷したところ、２万
枚の非画像部の汚れ及び画像部のすぬけのない良好な印
刷物が得られた。 （エマルジョンインキ組成１） ［エマルジョンインキの調製］ （１）ワニスの調製 （以下、部は、重量部を示す。） ワニスＡ ：・マレイン化石油樹脂 （ネオポリマー１２０：日本石油（株）製） ４７部 ・スピンドル油 ５３部 ゲルワニスＢ：・ロジン変性フェノール樹脂 （タマノール３５４：荒川化学工業（株）製） ３４部 ・マシン油 ３１部 ・スピンドル油 ３１部 ・アルミニウムステアレート ４部 ワニスＣ ：・ギルソナイト ２５部 ・マシン油 ７５部

【０１０３】 （２）油性インキ成分の調製： ・カーボンブラッック １４部 ・炭酸カルシウム（白艶華ＤＤ：白石工業（株）製） ５部 ・ワニスＡ ２７部 ・ゲルワニスＢ ７部 ・ワニスＣ １１部 ・アマニ油 ４部 ・マシン油 ６部 ・スピンドル油 ２４部 ・シアニンブルー １部

【０１０４】 （３）親水性成分の調製： ・精製水 １０部 ・プロピレングリコール ５５部 ・グリセリン ３４部 ・界面活性剤（ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、 リポノックスＮＣＥ：ライオン油脂（株）製） １部 前記（２）項記載の油性インキ成分１００重量部と
（３）項記載の親水性成分７０重量部、を攪拌混合して
Ｗ／Ｏ型エマルジョンインキを調製した。

【０１０５】（実施例２） 〔アルミニウム基板の作成〕９９.５重量％アルミニウ
ムに、銅を０.０１重量％、チタンを０.０３重量％、鉄
を０.３重量％、ケイ素を０.１重量％含有するＪＩＳＡ
１０５０アルミニウム材の厚み０.２４ｍｍ圧延板を、
４００メッシュのパミストン（共立窯業製）の２０重量
％水性懸濁液と、回転ナイロンブラシ（６，１０−ナイ
ロン）とを用いてその表面を砂目立てした後、よく水で
洗浄した。これを１５重量％水酸化ナトリウム水溶液
（アルミニウム４.５重量％含有）に浸漬してアルミニ
ウムの溶解量が５g／ｍ²になるようにエッチングした
後、流水で水洗した。更に、１重量％硝酸で中和し、次
に０.７重量％硝酸水溶液（アルミニウム０.５重量％含
有）中で、陽極時電圧１０.５ボルト、陰極時電圧９．
３ボルトの矩形波交番波形電圧（電流比ｒ＝０.９０、
特公昭５８−５７９６号公報実施例に記載されている電
流波形）を用いて１６０クーロン／ｄｍ²の陽極時電気
量で電解粗面化処理を行った。

【０１０６】水洗後、３５℃の１０重量％水酸化ナトリ
ウム水溶液中に浸漬して、アルミニウム溶解量が１g／
ｍ²になるようにエッチングした後、水洗した。次に、
５０℃、３０重量％の硫酸水溶液中に浸漬し、デスマッ
トした後、水洗した。さらに、３５℃の硫酸２０重量％
水溶液（アルミニウム０.８重量％含有）中で直流電流
を用いて、多孔性陽極酸化皮膜形成処理を行った。即ち
電流密度１３A／ｄｍ²で電解を行い、電解時間の調節に
より陽極酸化皮膜重量２．７ｇ／ｍ²とした。この支持
体を水洗後、７０℃のケイ酸ナトリウムの０.２重量％
水溶液に３０秒間浸漬処理し、水洗乾燥した。以上のよ
うにして得られたアルミニウム基板は、マクベスＲＤ９
２０反射濃度計で測定した反射濃度は０.３０で、中心
線平均粗さは０.５８μｍであった。

【０１０７】〔油性インキ受容性層の作成〕上記、アル
ミニウム支持体上に、下記の油性インキ受容性層塗布液
を塗布、加熱乾燥（１００℃，１分）することにより、
乾燥塗布量２g／ｍ²の油性インキ受容性層を形成した。 （油性インキ受容性層塗布液２） ・エポキシ樹脂 ５ｇ （エピコート１０１０、油化シェルエポキシ（株）製） ・γ−ブチロラクトン ９.５ｇ ・乳酸メチル ３ｇ ・メチルエチルケトン ２２.５ｇ ・プロピレングリコールモノメチルエーテル ２２ｇ

【０１０８】〔ゾル−ゲル親水性層の形成〕下記成分を
含んだ混合物にガラスビーズ１０ｇを添加してペイント
シェーカーで１０分間攪拌後、ガラスビーズをろ別して
分散液を得た。ついで、この分散液を前記油性インキ受
容性層上に塗布し、加熱乾燥（１００℃、１０分）する
ことにより、乾燥重量２ｇ／ｍ²の親水性層を形成し、
平版印刷原版を得た。 （親水性層塗布液２） ・酸化チタン２０％／ポリビニルアルコール１０％水分散液 ８ｇ （酸化チタン（和光純薬（株）製、ルチル型、平均粒径２００ｎｍ） ／ＰＶＡ１１７（クラレ（株）製）＝２／１重量比） ・カーボンブラックにシリカ被覆した微粒子（粒径0.02μｍ) ２．１７ｇ ・ゾル−ゲル調製液１（上記組成） １６ｇ ・シリカゲル２０％水分散液 ４ｇ （スノーテックスＣ（日産化学工業（株）製、平均粒子径約１０ｎｍ） ・水 ７．４９ｇ

【０１０９】〔画像記録〕上記の平版印刷原版を実施例
１と同様にレーザー画像露光し、レーザー露光部の親水
性層を除去することにより、画像部分において、油性イ
ンキ受容性層を露出させ画像を形成した。 〔印刷評価〕次いで、上記の平版印刷版を実施例１と同
様に印刷したところ、２万枚の非画像部の汚れ及び画像
部のすぬけのない良好な印刷物が得られた。

【０１１０】（実施例３） 〔基板の作成〕厚さ１８０μｍのポリエチレンテレフタ
レートＡ４１００（東洋紡（株）製、片面易接着処理）
の易接着面と反対の側上に、実施例１と同様の帯電防止
層を形成した。

【０１１１】〔油性インキ受容性層の形成〕前記のポリ
エチレンテレフタレートの易接着面上に、下記の油性イ
ンキ受容性層塗布液を塗布、加熱乾燥（１００℃，１
分）することにより、乾燥塗布量約０．５g／ｍ²のイン
キ受容性表面を有する支持体を作成した。 （油性インキ受容性層塗布液３） ・Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド共重合体 （下記有機ポリマー） ３ｇ ・シリカゲル分散液 １０ｇ （Ｒ９７４、平均粒径１２ｎｍ、メチル被飾シリカゲルの３％メタ ノール液、日本アエロジル（株）製） ・γ−ブチロラクトン ９.５ｇ ・乳酸メチル ３ｇ ・メチルエチルケトン ２２.５ｇ ・プロピレングリコールモノメチルエーテル ２２ｇ

【０１１２】（油性インキ受容性層用有機ポリマーの合
成）攪拌機、冷却管、滴下ロートを備えた２００ml三ツ
口フラスコに、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフエニル）
メタクリルアミド４.６１g（０.０１９２mole）、メタ
クリル酸エチル２.９４g（０.０２５８mole）、アクリ
ロニトリル０.８０g（０.０１５mole）及びN,N−ジメチ
ルアセトアミド２０gを入れ、湯水浴により６５℃に加
熱しながら攪拌した。この混合物にＶ−６５（和光純薬
（株）製）０.１５gを加え６５℃に保ちながら窒素気流
下２時間攪拌した。この反応混合物にさらにＮ−（ｐ−
アミノスルホニルフエニル）メタクリルアミド４.６１
g、メタクリル酸エチル２.９４g、アクリロニトリル０.
８０g、N,N−ジメチルアセトアミド及びＶ−６５ ０.１
５gの混合物を２時間かけて滴下ロートにより滴下し
た。滴下終了後さらに６５℃で２時間攪拌した。反応終
了後メタノール４０gを加え冷却し、水2Ｌに攪拌下投入
し、３０分間攪拌した後ろ過乾燥する事により１５gの
白色固体を得た。ゲルパーミエーシヨンクロマトグラフ
イーによりこのＮ−（ｐ−アミノスルホニルフエニル）
メタクリルアミド共重合体の重量平均分子量（ポリスチ
レン標準）を測定したところ５３,０００であった。

【０１１３】〔ゾル−ゲル親水性層の形成〕下記の塗布
液を前記油性インキ受容性層上に塗布し、加熱乾燥（１
００℃、１０分）することにより、乾燥重量１ｇ／ｍ²
の親水性層を形成した。 （親水性層塗布液３） ・メタノールシリカ ９ｇ （日産化学製：１０ｎｍ〜２０ｎｍのシリカ粒子を３０重量％ 含有するメタノール溶液からなるコロイド） ・ゾル−ゲル調製液２（下記組成） １６ｇ ・メタノール １００ｇ ・乳酸メチル ５ｇ

【０１１４】（ゾル−ゲル調製液２の作成）下記組成の
液を室温において、１時間熟成してゾルゲル調製液を作
成した。 ・テトラメトキシシラン ４２．５ｇ ・メタノール ９ｇ ・水 ７３ｇ ・リン酸 ０．０６５ｇ

【０１１５】〔オーバーコート層の形成〕次いで、上記
親水性層上に、下記塗布液を塗布、加熱乾燥（１００
℃、２分）することにより、乾燥塗布重量０.６ｇ／ｍ²
のオーバーコート層を形成し、平版印刷原版を得た。 （オーバーコート層塗布液１） ・ポリアクリル酸（和光純薬（株）製、重量平均分子量２５,０００） １ｇ ・（Ｉ−３２）の赤外線吸収染料 ０.２ ｇ ・ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテール ０．０２５ｇ ・水 １９ｇ

【０１１６】〔画像記録及び印刷評価〕上記の平版印刷
原版のオーバーコート層側から実施例１と同様にレーザ
ー画像露光を行った。次いで、レーザー露光された平版
印刷原版をなんら処理することなく印刷機（ハイデルベ
ルグＳＯＲ−Ｍ）に装着し、エマルジョンインキ（組成
１）を用いて印刷したところ、刷り出し初期に、オーバ
ーコート層及びレーザー露光部の親水性層は速やかに印
刷機上において、版面より除去され、画像部分におい
て、油性インキ受容性層が露出し、２万枚の非画像部の
汚れ及び画像部のすぬけのない良好な印刷物が得られ
た。

【０１１７】（実施例４〜５）下記組成のエマルジョン
インキを用いる以外は、各々実施例１〜３と同様にし
て、印刷を実施したところ、２万枚の非画像部の汚れ及
び画像部のすぬけのない良好な印刷物が得られた。 ［エマルジョンインキの調製］ （エマルジョンインキ組成２） （１） ワニスの調製 （以下、部は、重量部を示す。） 以下の配合により、２００℃、１時間加熱ゲル化し、ゲルワニスＤを得た。 ロジン変性フェノール樹脂 （ヒタノール２７０Ｔ：日立化成（株）製） ４２部 低粘度アマニ油重合ワニス（２ポイズ） ３０部 スピンドル油 ２７部 エチルアセトアセト・アルミニウム・ジイソプロピレート １部

【０１１８】 （２）油性インキ成分の調製： ・ゲルワニスＤ ６６部 ・フタロシアニンブルー ２０部 ・低粘度アマニ油重合ワニス（２ポイズ） ５部 ・ポリエチレンワックスコンパウンド ３部 ・コバルトドライヤ １部 ・スピンドル油 ５部 （３）親水性成分の調製： ・エチレングリコール １００部

【０１１９】（２）油性インキ成分の調製で得られた油
性インキ成分１００重量部と（３）親水性成分の調製で
得られた親水性成分４５重量部とを攪拌混合してＷ／Ｏ
型エマルジョンインキを調製した。

【０１２０】（実施例７〜１２）エマルジョンインキの
親水性成分を下記表１の組成に変更した以外は、実施例
３と同様にして、印刷評価したところ、刷り出し初期
に、オーバーコート層及びレーザー露光部の親水性層は
速やかに印刷機上において、版面より除去され、画像部
分において、油性インキ受容性層が露出し、２万枚の非
画像部の汚れ及び画像部のすぬけのない良好な印刷物が
得られた。

【０１２１】

【表１】

【０１２２】（比較例１）湿し水不要平版印刷用インキ
であるアクアレスエコー墨ＬＺ（東洋インキ製造（株）
製）を印刷インキとして用いた以外は、実施例３と同様
にして印刷評価を行ったところ、非画像部が汚れ、良好
な印刷物を得ることができなかった。このように、エマ
ルジョンインキを用いず、油性インキで印刷を行なった
場合には、親水性層がインキを充分に反撥することがで
きず、非画像部が汚れ、良好な印刷物を得ることができ
なかった。

【０１２３】（比較例２）アルミニウム表面を非画像部
とする通常のＰＳ版（富士写真フイルム（株）製、Ｖ
Ｓ）を画像露光し、純正の現像処理を実施し得られた平
版印刷版を実施例１と同様に、エマルジョンインキ（組
成１）を用いて印刷したところ、非画像部におけるエマ
ルジョンインキ中の水以外の親水性成分に対する親和性
が不充分なことから、エマルジョンインキを用いた場合
においても、非画像部に地汚れが発生し、良好な印刷物
を得ることができなかった。

【０１２４】

【発明の効果】本発明の平版印刷方法の構成、即ち、非
画像部にゾル−ゲル変換により形成した無機マトリック
スを有する親水性層を備えた平版印刷版を、油性インキ
成分に水及び／又は多価アルコールを主成分とする親水
性成分を加え、乳化したエマルジョンインキを用いて印
刷する方法により、簡易に、安定した高品質の印刷物を
得ることが可能となった。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H113 AA01 BA06 BC02 DA03 DA07 DA15 DA25 DA26 DA36 DA38 DA53 DA57 DA60 DA62 2H114 AA05 AA22 AA23 AA24 BA01 DA03 DA08 DA25 DA26 DA35 DA52 DA56 DA59 DA73 DA78 EA04 FA16 GA34 GA38 4J039 AE11 BA04 BA35 BC07 BC19 BC50 BC63 BC64 BC68 BC72 BC73 BC75 BE01 BE02 CA06 DA02 EA21 EA44 GA02

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 平版印刷版原版に画像記録を行って、ゾ
   ル−ゲル変換により形成した無機マトリックスを有する
   親水性層からなる非画像部領域を形成し、その後、油性
   インキ成分に水及び／又は多価アルコールを主成分とす
   る親水性成分を加え、乳化して得られたエマルジョンイ
   ンキを用いて印刷することを特徴とする平版印刷方法。