JP2001296186A

JP2001296186A - 温度測定装置及び方法

Info

Publication number: JP2001296186A
Application number: JP2000113332A
Authority: JP
Inventors: Hiroyuki Mori; 宏幸森
Original assignee: Tokyo Electron Ltd
Current assignee: Tokyo Electron Ltd
Priority date: 2000-04-14
Filing date: 2000-04-14
Publication date: 2001-10-26

Abstract

(57)【要約】【課題】長期に渡って使用しても高精度な温度測定を
行うことができる温度測定装置及び方法を提供する。【解決手段】温度測定装置１００は，測温抵抗体１０
２をフッ素樹脂からなるコーティング部材１０５で被覆
し，このコーティング部材１０５の周囲をフッ素樹脂か
らなる二重チューブ１０６により隙間をもって囲んで外
部から保護し，二重チューブ１０６を石英ガラス管１０
１内に挿入して測温抵抗体１０２を洗浄槽６０内のＡＰ
Ｍ中に入れている。二重チューブ１０６に，石英ガラス
管１０１の先端部内にＮ_２ガスを供給するＮ_２ガス供給
チューブ１１１が接続されている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は，測定対象物として
例えば処理液等の温度を測定する温度測定装置及び方法
に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体デバイスの製造工程では，半導体
ウェハ（以下，「ウェハ」という。）を所定の薬液や純
水等の洗浄液によって洗浄し，ウェハの表面に付着した
パーティクル，有機汚染物，金属不純物等のコンタミネ
ーションを除去する洗浄装置が使用されている。その中
でも洗浄液が充填された洗浄槽内に，ウェハを浸漬させ
て洗浄処理を行うウェット型の洗浄装置は広く普及して
いる。

【０００３】かかる洗浄装置において，好適な洗浄処理
を実施するためには洗浄槽内の洗浄液が所定温度である
ことが好ましい。そこで，洗浄処理中においては，所定
温度に調整された洗浄液を洗浄槽内に供給し続けると共
に，使い古された洗浄液を洗浄槽内からオーバーフロー
させ，洗浄槽内を所定温度に調整された洗浄液に置換し
ている。さらに洗浄槽に温度測定装置を設置して洗浄液
の温度の状態を監視し，液温の低下や過熱を未然に防ぐ
ようにしている。

【０００４】かかる温度測定装置は，洗浄液の温度を測
定するための測温抵抗体と，洗浄槽に取り付けられた耐
薬品性がある石英ガラス管とを備え，測温抵抗体を石英
ガラス管内に挿入している。ここで，物理的衝撃から保
護できるように，測温抵抗体をＳＵＳ製のコーティング
部材で被覆し，さらにコーティング部材の周囲を保護チ
ューブで隙間をもって囲んでいる。高精度な温度測定が
行えるように，測温抵抗体には，例えば電気抵抗の温度
依存性を利用した白金（Ｐｔ）等の金属材料が使用さ
れ，測温抵抗体の電気抵抗値から洗浄槽内の洗浄液の温
度を測定する。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら，長期に
渡って温度測定装置を使用すると，保護チューブ内の水
蒸気が，周囲の温度変化により結露する場合や，保護チ
ューブ内に薬液雰囲気が浸入し，直接又は前記結露によ
り生じた水滴に溶け込んで，側温抵抗体を被覆するＳＵ
Ｓ製のコーティング部材を腐食させる場合があり，温度
測定を良好に行えないおそれがある。

【０００６】従って，本発明の目的は，長期に渡って使
用しても高精度な温度測定を行うことができる温度測定
装置及び方法を提供する。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に，請求項１の発明は，温度を測定する装置であって，
測定対象物の温度を測定するための測温体と，前記測温
体を被覆する樹脂からなる被覆部材と，前記被覆部材の
周囲を隙間をもって囲んで外部から保護する保護部材と
を備えていることを特徴とする，温度測定装置を提供す
る。

【０００８】請求項１に記載の温度測定装置によれば，
測定対象物として例えば処理槽内に充填された処理液
を，測温体により測定する。即ち，例えば測温体をフッ
素樹脂からなる被覆部材で被覆し，この被覆部材の周囲
を保護部材により隙間をもって囲んで外部から保護し，
保護部材ごと測温体を処理液中に入れる。保護部材内の
気体は，保護部材の壁部を通して処理液と熱的に接触す
ることにより，処理液と同じ温度になる。測温体により
気体の温度を測定することで，処理液の温度を測定す
る。この場合，測温体を耐腐食性が高いフッ素樹脂から
なる被覆部材で被覆しているので，例えば薬液による汚
染や，周囲の温度変化に伴って結露により発生する液滴
（水滴等）による腐食を防止することができる。従っ
て，長期に渡って使用しても高精度な温度測定を行うこ
とができる。また，装置構成を複雑化することなく，汚
染等を防止することができる。

【０００９】請求項２の発明は，温度を測定する装置で
あって，測定対象物の温度を測定するための測温体と，
前記測温体を被覆する被覆部材と，前記被覆部材の周囲
を隙間をもって囲んで外部から保護する保護部材と，前
記保護部材内に気体を供給する気体供給手段とを備えて
いることを特徴とする，温度測定装置を提供する。

【００１０】請求項２に記載の温度測定装置によれば，
測定対象物として例えば処理槽内に充填された処理液
を，測温体により測定する。即ち，例えば測温体を被覆
部材で被覆し，この被覆部材の周囲を保護部材により隙
間をもって囲んで外部から保護し，保護部材ごと測温体
を処理液中に入れる。また，気体供給手段により保護部
材内の隙間に気体（例えばエア，Ｎ_２ガス）を供給す
る。気体は保護部材内で流動する。気体の流動により，
保護部材内で蒸気を結露させない。また，気体は，流動
中に保護部材の壁部を通して処理液と熱的に接触するこ
とにより，処理液と同じ温度になる。測温体により気体
の温度を測定することで，処理液の温度を測定する。こ
の場合，保護部材内に気体を供給しているので，保護部
材内を乾燥させた状態にすることができ，液滴（水滴
等）の発生を未然に防いで測温体の腐食を防止すること
ができる。従って，長期に渡って使用しても高精度な温
度測定を行うことができる。

【００１１】請求項２に記載の温度測定装置において，
請求項３に記載したように，前記被覆部材が，樹脂から
なることが好ましい。例えば被覆部材が，耐腐食性が高
いフッ素樹脂からなれば，薬液による汚染を防止するこ
とができる。

【００１２】請求項４に記載したように，前記保護部材
は，複数の管を隙間をもって重ねた構造であることが好
ましい。かかる構成によれば，保護部材は，例えば処理
槽に取り付けられた石英ガラス管と，フッ素樹脂からな
る多重チューブとを有している。多重チューブの最も内
側に，被覆部材により被覆された測温体を配置し，多重
チューブごと測温体を石英ガラス管内に挿入する。この
ような多重チューブは，処理液の浸入を抑え，測温体を
外部雰囲気や処理液から幾重にも保護することができ
る。また，多重チューブは，配設するときの物理的衝撃
から測温体を従来よりも確実に保護することができ，さ
らに測定体に接続された例えば電気コードの断線を防ぐ
ことができる。

【００１３】請求項５に記載したように，前記測温体を
囲む最も内側にある管に排気口を設け，前記最も内側に
ある管以外の管の何れか一つに給気口を設けても良い。
かかる構成によれば，給気口により保護部材内に気体を
供給し，排気口により，この気体を排気する。ここで，
測温体を囲む最も内側にある管に排気口を設けているの
で，保護部材内に供給された気体を排気する際に，被覆
部材により被覆された測温体の周囲に気体を通過させる
ことができる。従って，測温体に対して気体の温度を確
実に伝えることができ，温度測定を安定して行うことが
できる。

【００１４】請求項６の発明は，温度を測定する方法で
あって，測定対象物と気体を熱的に接触させ，該気体の
温度を該測定対象物の温度と同じにする工程と，その
後，前記気体の温度を測定することで，前記測定対象物
の温度を測定する工程とを備えていることを特徴とす
る，温度測定方法を提供する。

【００１５】請求項６に記載の温度測定方法において，
請求項７に記載したように，前記気体の温度を該測定対
象物の温度と同じにする工程に際し，前記気体を流動さ
せることが好ましい。請求項８に記載したように，前記
気体の流動により，前記気体中の蒸気を結露させないこ
とが好ましい。

【００１６】

【発明の実施の形態】以下，添付図面を参照しながら本
発明の好ましい実施の形態を説明する。図１は，本実施
の形態にかかる温度測定装置１００を備えた洗浄装置１
の斜視図である。この洗浄装置１は，キャリアＣ単位で
の基板としてのウェハＷの搬入，ウェハＷの洗浄，ウェ
ハＷの乾燥，キャリアＣ単位でのウェハＷの搬出までを
一貫して行うように構成されている。

【００１７】この洗浄装置１において，搬入・取出部２
は，洗浄前のウェハＷを２５枚収納したキャリアＣを搬
入しウェハＷを洗浄に移行させるまでの動作を行う。即
ち，搬入ステージ５に載置されたキャリアＣを移送装置
６によってローダ７へ例えば２個ずつ搬送し，このロー
ダ７でキャリアＣからウェハＷを取り出す構成になって
いる。

【００１８】洗浄乾燥処理部１０には，搬入・取出部２
側から順に，ウェハＷを搬送する搬送装置３０のウェハ
チャック３０ａ，３０ａを洗浄および乾燥するためのウ
ェハチャック洗浄・乾燥装置１１，各種の薬液や純水等
の洗浄液を用いてウェハＷを洗浄する各ウェハ洗浄装置
１２〜１９，搬送装置３３のウェハチャック３３ａ，３
３ａを洗浄および乾燥するためのウェハチャック洗浄・
乾燥装置２０，および，ウェハ洗浄装置１２〜１９で洗
浄されたウェハＷを，例えばイソプロピルアルコール
（ＩＰＡ）蒸気を用いて乾燥させる乾燥装置２１が配列
されている。さらに洗浄乾燥処理部１０の前面側（図１
における手前側）には，搬送装置３０，３１，３２，３
３が配列されている。

【００１９】一般的な洗浄プロセスに従い，薬液洗浄と
リンス洗浄とが交互に行えるようにウェハ洗浄装置１
２，１４，１６，１８は薬液洗浄を行うように構成さ
れ，ウェハ洗浄装置１３，１５，１７，１９はリンス洗
浄を行うように構成されている。一例として，ウェハ洗
浄装置１２では，硫酸成分を主体とした洗浄液であるＳ
ＰＭ（Ｈ_２ＳＯ_４／Ｈ_２Ｏ_２の混合液）を用いたＳＰＭ
洗浄を行って，ウェハＷの表面に付着している有機汚染
物等の不純物質を除去する。また，ウェハ洗浄装置１４
では，例えばアンモニア成分を主体とした洗浄液である
ＡＰＭ（ＮＨ_４ＯＨ／Ｈ_２Ｏ_２／Ｈ_２Ｏの混合液）を用
いたＳＣ１洗浄を行って，ウェハＷの表面に付着してい
る有機汚染物，パーティクル等の不純物質を除去する。
また，ウェハ洗浄装置１６では，塩酸成分を主体とした
洗浄液であるＨＰＭ（ＨＣｌ／Ｈ_２Ｏ _２／Ｈ_２Ｏの混合
液）を用いたＳＣ２洗浄を行って，ウェハＷの表面に付
着している金属イオン等を除去する。また，ウェハ洗浄
装置１８では，フッ酸成分を主体とした洗浄液であるＤ
ＨＦ（ＨＦ／Ｈ_２Ｏの混合液）を用いたＤＨＦ洗浄を行
って，ウェハＷの表面に形成された酸化膜等を除去す
る。また，ウェハ洗浄装置１３，１５，１７，１９で
は，純水を用いてウェハＷのリンス洗浄を行う。

【００２０】なお，以上の配列や各ウェハ洗浄装置１２
〜１９の組合わせは，ウェハＷに対する洗浄処理の種類
によって任意に組み合わせることができる。例えば，あ
る洗浄装置を減じたり，逆にさらに他の種類の薬液を用
いてウェハＷを薬液洗浄するウェハ洗浄装置を付加して
もよい。

【００２１】装填・搬出部５０は，洗浄乾燥処理部１０
で洗浄，乾燥された２５枚のウェハＷをキャリアＣに装
填後キャリアＣ単位で搬出する。即ち，アンローダ５１
によって，洗浄後のウェハＷが収納されたキャリアＣ
を，移送装置（図示せず）によって，搬出部５２にまで
搬送する構成になっている。

【００２２】次に，本形態にかかる温度測定装置１００
について，所定温度（例えば８０℃）に調整されたＡＰ
Ｍを用いてＳＣ１洗浄を行うウェハ洗浄装置１４に取り
付けられた場合を例にとって説明する。

【００２３】図２及び図３に示すように，ウェハ洗浄装
置１４は，ＳＣ１洗浄を行う洗浄槽６０を備え，この洗
浄槽６０は，ウェハＷを収納するのに充分な大きさを有
する箱形の内槽６１と外槽６２から構成されている。内
槽６１内には，ウェハＷを保持するためのウェハガイド
６３が設置されている。ウェハガイド６３には，３本の
平行な保持部材６３ａ，６３ｂ，６３ｃが水平姿勢で装
着され，これら保持部材６３ａ〜ｃにより５０枚のウェ
ハＷを等間隔で配列させた状態で保持するようになって
いる。

【００２４】内槽６１と外槽６２との間には，洗浄中に
ＡＰＭを循環させる循環回路６５が接続されている。こ
の循環回路６５の入口は開閉弁６６を介して外槽６２の
底面に接続されている。循環回路６５には，ポンプ６
７，ダンパ６８，ヒータ６９，フィルタ７０が順に配列
されている。循環回路６５の出口は，内槽６２の下方に
対をなして配置されたジェットノズル（図示せず）に接
続されている。

【００２５】開閉弁６６を開くことによって，内槽６１
から外槽６２にオーバーフローしたＡＰＭを，循環回路
６５に流入させ，ポンプ６７の稼働によって，ダンパ６
８，ヒータ６９，フィルタ７０の順に流し，温度調整及
び清浄化した後，ジェットノズルを経て再び内槽６１内
に供給するようになっている。このように，ＡＰＭの再
利用を図り，その消費量を節約している。なお，循環回
路６５には，開閉弁７１を介してドレイン管７２が接続
されており，外槽６２内のＡＰＭを排液するようになっ
ている。同様に，内槽６１の底部に，開閉弁７３を介し
てドレイン管７４が接続されている。

【００２６】ＡＰＭを洗浄槽６０に補充する補充機構８
０が設けられている。補充機構８０は，例えば空の洗浄
槽６０内にＡＰＭを最初に充填したり，足りなくなった
ＡＰＭを洗浄槽６０内に適宜補充するように構成されて
いる。

【００２７】補充機構８０は，アンモニア補充系８１
と，過酸化水素水補充系８２と，純水補充系８３と，コ
ントローラ８４とを備えている。アンモニア補充系８１
には，所定濃度に調整されたアンモニア水溶液（ＮＨ_４
ＯＨ）を貯蔵したタンク８５と，ポンプ８６とが設けら
れている。過酸化水素水補充系８２には，所定濃度に調
整された過酸化水素水（Ｈ_２Ｏ_２）を貯蔵したタンク８
７と，ポンプ８８が設けられている。純水補充系８３に
は，純水（ＤＩＷ）を貯留したタンク８９と，タンク８
９内の純水を加熱するヒータ９０と，弁９１とが設けら
れている。コントローラ８４は，ポンプ８６，８８の稼
働率，ヒータ９０の加熱量及び弁９１の開度を制御する
ように構成されている。コントローラ８４の制御によ
り，アンモニア水溶液，過酸化水素水，純水をそれぞれ
所定の液量ずつ供給し，所定温度，所定の成分比率のＡ
ＰＭを洗浄槽６０に補充するようになっている。なお，
コントローラ８４は，循環回路６５のヒータ６９にも接
続され，ヒータ６９の加熱量も制御するようになってい
る。

【００２８】次いで，図３〜５に示すように，温度測定
装置１００は，洗浄槽６０に取り付けられた石英ガラス
管１０１内に，測温体としての測温抵抗体１０２を挿入
している。

【００２９】測温抵抗体１０２には，例えば温度変化に
伴い電気抵抗値が変化する極細線の白金（Ｐｔ）等の金
属材料が用いられている。極細の白金線が断線しないよ
うに例えばセラミックで封入している測温抵抗体１０２
には，電気コード１０３が接続され，電気コード１０３
は，前記コントローラ８４に通じている。従って，電気
コード１０３により測温抵抗体１０２の電気抵抗値をコ
ントローラ８４に入力してＡＰＭの温度を測定するよう
になっている。

【００３０】外部に露出させた状態で測温抵抗体１０２
を石英ガラス管１０１内に挿入すると，ＡＰＭ雰囲気等
により汚染されるので，測温抵抗体１０２を，材質がフ
ッ素樹脂［例えばＦＥＰ（テトラフルオロエチレン・ヘ
キサフルオロプロピレン共重合体）］からなる被覆部材
としてのコーティング部材１０５により被覆している。
さらにコーティング部材１０５及び電気コード１０３の
周囲を，隙間をもって二重チューブ１０６により囲んで
いる。二重チューブ１０６は，外側チューブ１０７と，
外側チューブ１０７の内側に隙間をもって配置された内
側チューブ１０８とを有している。図５に示すように，
内側チューブ１０８の先端部は外側チューブ１０７から
露出し，後述するＮ_２ガスを内部に取り込めるようにな
っている。石英ガラス管１０１と，二重チューブ１０６
は，測温抵抗体１０２をＡＰＭ等から保護するための保
護部材（保護管）として機能する。

【００３１】図４に示すように，石英ガラス管１０１の
上部には，収縮チューブ１０９が設けられている。収縮
チューブ１０９に熱を加えると，その体積と形態が収縮
し，石英ガラス管１０１の上部の形態及び石英ガラス管
１０１の上端開口部から突き出ている外側チューブ１０
７の形態に沿って密着し，石英ガラス管１０１と外側チ
ューブ１０７の隙間を塞ぎ，石英ガラス管１０１の内部
雰囲気が外部に拡散するのを防ぐようになっている。

【００３２】図６に示すように，外側チューブ１０７
に，前述したＮ_２ガス（気体）を供給する給気口１１０
が形成されている。この供気口１１０に，二重チューブ
１０６内にＮ_２ガスを供給する気体供給手段としてのＮ
_２ガス供給チューブ１１１が接続されている。二重チュ
ーブ１０６とＮ_２ガス供給チューブ１１１の接続部分を
ブロック１１２で囲み，Ｎ_２ガスを漏れなく二重チュー
ブ１０６内に送り込むと共に，Ｎ_２ガスの外部拡散を防
いでいる。

【００３３】図７に示すように，側温抵抗体１０２のあ
る端部とは逆側の二重チューブ１０６の基端部には，収
縮チューブ１１３が設けられている。収縮チューブ１１
３は，二重チューブ１０６の基端部の形態に沿って密着
し，図示の如く外側チューブ１０７の出口を塞ぐように
なる。一方，内側チューブ１０８の出口１１５は，塞が
れずに開口している。このため，出口１１５から電気コ
ード１０３が露出し，出口１１５は，Ｎ_２ガスを排気す
る排気口として機能する。

【００３４】図５〜７に示すように，供給されたＮ_２ガ
スは，外側チューブ１０７と内側チューブ１０８の隙間
を流動し，その後に石英ガラス管１０１の先端部に流
れ，パージを行う。パージを行ったＮ_２ガスは，内側チ
ューブ１０８内を通って出口１１５に流れ，大気に開放
される。このように，Ｎ_２パージが行われる石英ガラス
管１０１の先端部では，常に湿気を除去して蒸気が溜ま
らないようにしている。

【００３５】同様に純水タンク８９にも石英ガラス管１
０１が取り付けられている。この石英ガラス管１０１内
に，コーティング部材１０５により被覆された測温抵抗
体１０２を，二重チューブ１０６により保護した状態で
挿入している。

【００３６】次に，以上のように構成された洗浄装置１
で行われる処理について説明する。まず，図示しない搬
送ロボットが未だ洗浄されていないウェハＷを例えば２
５枚ずつ収納したキャリアＣを搬入・取出部２の搬入ス
テージ５に複数載置する。そして，この搬入・取出部２
によって，例えばキャリアＣ２個分の５０枚のウェハＷ
をキャリアＣから取り出し，搬送装置３０が，ウェハＷ
を５０枚単位で一括して把持する。そして，それらウェ
ハＷを搬送装置３１，３２，３３に引きつきながら，各
ウェハ洗浄装置１２〜１９に順次搬送する。こうして，
ウェハＷの表面に付着しているパーティクル等の不純物
質を除去する洗浄を行う。

【００３７】ここで，ＡＰＭ（ＮＨ_４ＯＨ／Ｈ_２Ｏ_２／
Ｈ_２Ｏの混合液）を用いてＳＣ１洗浄を行うウェハ洗浄
装置１４に取り付けられた温度測定装置１００の作用に
ついて説明する。ＡＰＭが充填された洗浄槽６０内にウ
ェハＷを搬入してＳＣ１洗浄を行う。洗浄中は，循環回
路６５により洗浄槽６０内のＡＰＭを循環させて温調及
び浄化を行い，洗浄槽６０内を，常に所定温度に調整さ
れ，かつ清められたＡＰＭにより充填する。

【００３８】この場合，測温抵抗体１０２をフッ素樹脂
からなるコーティング部材１０５で被覆し，このコーテ
ィング部材１０５の周囲を同じくフッ素樹脂からなる二
重チューブ１０６により隙間をもって囲んで外部から保
護し，この二重チューブ１０６を石英ガラス管１０１内
に挿入することにより，測温抵抗体１０２を洗浄槽６０
内のＡＰＭ中に入れている。図５に示すように，Ｎ_２ガ
ス供給チューブ１１１によりＮ_２ガスを石英ガラス管１
０１の先端部内に断続的又は連続的に供給し，Ｎ_２パー
ジを行う。Ｎ_２ガスの流動により，石英ガラス管１０１
内で蒸気を結露させない。また，二重チューブ１０６と
石英ガラス管１０１の隙間を流動している間や石英ガラ
ス管１０１の先端部内でパージしている間，Ｎ_２ガスを
石英ガラス管１０１の壁部を通してＡＰＭと熱的に接触
させ，Ｎ_２ガスの温度をＡＰＭと同じ温度にする。その
後，Ｎ_２ガスを，内側チューブ１０８を通して大気に開
放する。一方，測温抵抗体１０２によりＮ_２ガスの温度
を測定することで，ＡＰＭの温度を測定する。ここで，
内側チューブ１０８に排気口としての開口１１５を設け
ているので，Ｎ_２ガス気体を排気する際に，コーティン
グ部材１０５により被覆された測温抵抗体１０２の周囲
にＮ_２ガスを通過させることができる。従って，測温抵
抗体１０２に対してＮ_２ガスの温度を確実に伝えること
ができ，ＡＰＭの温度測定を安定して行うことができ
る。

【００３９】洗浄槽６０に装着された測温抵抗体１０２
の電気抵抗値からＡＰＭの温度を測定し，その測定値に
基づいてコントローラ８４が，ヒータ６９の加熱をフィ
ードバック制御する。また，純水タンク８９に装着され
た測温抵抗体１０２の電気抵抗値から純水の温度を測定
し，その測定値に基づいてコントローラ８４が，ヒータ
９０の加熱をフィードバック制御し，純水を所定温度に
温調しておく。以後，未洗浄のウェハＷをウェハ洗浄装
置１４に搬入する都度，ＳＣ１洗浄を繰り返して行い，
測温抵抗体１０２を長期に渡って使用する。

【００４０】かかる温度測定装置１００によれば，耐腐
食性が高く，熱伝導率が良好なフッ素樹脂からなるコー
ティング部材１０５により測温抵抗体１０２を被覆し，
さらには同じくフッ素樹脂からなる二重チューブ１０６
によりコーティング部材１０５の周囲を隙間をもって囲
んでいるので，ＡＰＭの浸入を抑えて汚染を防止するこ
とができる。また，石英ガラス管１０１の先端部にＮ_２
ガスを供給してＮ_２パージを行っているので，石英ガラ
ス管１０１の先端部を乾燥させた状態にすることができ
る。このため，水滴等の液滴が発生することを未然に防
ぎ，測温抵抗体１０２の腐食を防止することができる。
同様に純水タンク８９の測温抵抗体１０２の汚染や腐食
を防止することができる。従って，長期に渡って使用し
ても高精度な温度測定を行うことができる。このよう
に，製品寿命が長い測温抵抗体１０２を使用することで
ランニングコストを低減することができる。さらに，装
置を停止させて測温抵抗体１０２の交換を行うメンテナ
ンス機会が減るので，装置を継続的に稼働することが可
能となり，生産性を高めることができる。

【００４１】しかも，二重チューブ１０６は，配設する
ときの物理的衝撃から測温抵抗体１０２を従来よりも確
実に保護することができ，さらに側温抵抗体１０２に接
続された電気コード１０３の断線を防ぐことができる。
また，側温抵抗体１０２側へのＡＰＭ雰囲気の浸入をよ
り確実に防止することができる。なお，二重チューブ１
０６に限らすに，三重，四重チューブを用いて，物理的
衝撃の更なる緩和を図り，測温抵抗体１０２をＡＰＭ雰
囲気から幾重に保護しても良い。

【００４２】二重チューブに石英ガラス管に挿入した場
合について説明したが，石英ガラス管を介さずに二重チ
ューブを洗浄槽内や純水タンク８９等に直接挿入しても
良い。図８及び図９に示すように，二重チューブ１２０
の内側チューブ１２１の先端部は，外側チューブ１２２
に覆われ，この外側チューブ１２２の先端部は塞がれて
いる。内側チューブ１２１と外側チューブ１２２の隙間
に供給されたＮ_２ガスは，外側チューブ１２２の先端部
内でパージを行い，内側チューブ１２１内を通って大気
に開放される。なお，図４，５及び図８，９において，
略同一の機能及び構成を有する構成要素については，同
一符号を付することにより，重複説明を省略する。

【００４３】かかる構成によれば，石英ガラス管１０１
がない分だけ，二重チューブ１２０中のＮ_２ガスに純水
等の液体の温度が伝わり易くなり，より正確な温度測定
を行うことができる。

【００４４】また，図１０及び図１１に示すように，石
英ガラス管１０１や二重チューブ１０６内に結露する心
配がない場合（温度変化が小さい場合等），石英ガラス
管１０１内でＮ_２パージを行わずに，測温抵抗体１０２
を薬液の雰囲気が進入しても腐食の心配がないコーティ
ング部材１３０で被覆し，その周囲を隙間をもって保護
チューブ１３１で保護するだけでも良い。この場合，保
護チューブ１３１には，Ｎ_２ガス供給チューブ１１１が
接続されておらず，その分だけ，構成を簡素化すること
ができる。

【００４５】なお，本発明の実施の形態の一例ついて説
明したが，本発明はこの例に限らず種々の態様を取りう
るものである。例えばウェハＷの洗浄に限定されずに，
ＬＣＤ基板，ＣＤ基板，プリント基板，セラミック基板
等を処理液により処理する槽に，液面検出装置を取り付
けても良い。また，処理液の温度測定に限らず，ガスや
固体の温度測定にも適用可能である。

【００４６】

【発明の効果】請求項１〜５に記載の温度測定装置によ
れば，測温体の汚染や腐食を防止することができるの
で，長期に渡って使用しても高精度な温度測定を行うこ
とができる。その結果，このような温度測定装置が取り
付けられた処理装置は，ランニングコストに優れ，生産
性が高くなる。また，請求項１の温度測定装置によれ
ば，簡易な構成で済む。

【００４７】特に請求項４によれば，処理液の浸透を抑
え，測温体を外部雰囲気や処理液から幾重にも保護する
ことができる。また，配設時の物理的衝撃を緩和するこ
とができる。請求項５によれば，測温体に対して気体の
温度を確実に伝え，安定した温度測定を行うことができ
る。

【００４８】請求項６〜８に記載の温度測定方法によれ
ば，測温体の汚染や腐食を防止することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本実施の形態にかかる温度測定装置を備えた洗
浄装置の斜視図である。

【図２】ウェハ洗浄装置の回路図である。

【図３】ウェハ洗浄装置に取り付けられた温度測定装置
の構成を示す説明図である。

【図４】図３の温度測定装置の構成要素である，石英ガ
ラス管，二重チューブ，コーティング部材等の構成を示
す説明図である。

【図５】石英ガラス管の先端部を拡大して示した断面説
明図である。

【図６】二重チューブとＮ_２ガス供給チューブとの接続
部分を拡大して示した断面説明図である。

【図７】二重チューブに収縮チューブが密着した様子を
示す説明図である。

【図８】温度測定装置の構成要素の変形例であって，Ｄ
ＨＦ中に直接二重チューブを挿入した場合における各構
成要素の構成を示す説明図である。

【図９】図８中の二重チューブの先端部を拡大して示し
た断面説明図である。

【図１０】温度測定装置の構成要素の他の変形例であっ
て，Ｎ_２ガスを供給しない場合における各構成要素の構
成を示す説明図である。

【図１１】図１０中の二重チューブの先端部を拡大して
示した断面説明図である。

【符号の説明】

１洗浄装置１２，１３，１４，１５，１６，１７，１８，１９ウ
ェハ洗浄装置６０洗浄槽１０１石英ガラス管１０２測温抵抗体１０５コーティング部材１０６二重チューブ１１０供気口１１１Ｎ_２ガス供給チューブ１１５出口Ｗウェハ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】温度を測定する装置であって，測定対象
物の温度を測定するための測温体と，前記測温体を被覆
する樹脂からなる被覆部材と，前記被覆部材の周囲を隙
間をもって囲んで外部から保護する保護部材とを備えて
いることを特徴とする，温度測定装置。
【請求項２】温度を測定する装置であって，測定対象
物の温度を測定するための測温体と，前記測温体を被覆
する被覆部材と，前記被覆部材の周囲を隙間をもって囲
んで外部から保護する保護部材と，前記保護部材内に気
体を供給する気体供給手段とを備えていることを特徴と
する，温度測定装置。
【請求項３】前記被覆部材が，樹脂からなることを特
徴とする，請求項２に記載の温度測定装置。
【請求項４】前記保護部材は，複数の管を隙間をもっ
て重ねた構造であることを特徴とする，請求項１，２又
は３に記載の温度測定装置。
【請求項５】前記測温体を囲む最も内側にある管に排
気口を設け，前記最も内側にある管以外の管の何れか一
つに給気口を設けたことを特徴とする，請求項４に記載
の温度測定装置。
【請求項６】温度を測定する方法であって，測定対象
物と気体を熱的に接触させ，該気体の温度を該測定対象
物の温度と同じにする工程と，その後，前記気体の温度
を測定することで，前記測定対象物の温度を測定する工
程とを備えていることを特徴とする，温度測定方法。
【請求項７】前記気体の温度を前記測定対象物の温度
と同じにする工程に際し，前記気体を流動させることを
特徴とする，請求項６に記載の温度測定方法。
【請求項８】前記気体の流動により，前記気体中の蒸
気を結露させないことを特徴とする，請求項６又は７に
記載の温度測定方法。