JP2001291751A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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JP2001291751A
JP2001291751A JP2000105357A JP2000105357A JP2001291751A JP 2001291751 A JP2001291751 A JP 2001291751A JP 2000105357 A JP2000105357 A JP 2000105357A JP 2000105357 A JP2000105357 A JP 2000105357A JP 2001291751 A JP2001291751 A JP 2001291751A
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pads
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Eiji Kawai
英次 川井
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Abstract

(57)【要約】 【課題】不正コピー、不正使用を確実に排除する。 【解決手段】ICチップの外周部には入出力データ用の
パッド部20が設けられ、このパッド部はICチップ内
部に設けられた回路素子部14との間のデータ授受を行
うI/Oパッド22と、テスト用パッド24とで構成さ
れる。テスト用パッドはICチップ生成用の半導体ウエ
ハーをダイシングする前の隣接ICチップに対する検査
用パッドとして使用される。テスト用パッドは、隣接I
Cチップ内に配置されたテスト制御用ブロック30や、
メモリ制御用ブロック32に対するデータ入力用パッド
として使用される。半導体ウエハーがダイシングされる
前は隣接ICチップの内部回路素子とテスト用パッドと
が配線層40a,40bによって接続されている。した
がってダイシングすることによって、隣接ICチップの
内部回路素子と、テスト用パッドとが電気的に分断され
るので、不正コピーはもちろんのこと、内部回路の解
析、セキュリティー情報の解析などが不可能になる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は半導体装置、特に
集積化された半導体装置に関する。詳しくは、半導体装
置の入出力用インタフェースであるパッド部に、ICチ
ップ内部に設けられた回路素子部との間のデータ授受を
行うパッドの他に、テスト用パッドを設け、このテスト
用パッドを、ICチップ生成用の半導体ウエハーをダイ
シングする前の隣接ICチップに対する検査用パッドと
して使用することによって、ダイシングされた後の半導
体装置に設けられたこれらパッド部から、内部回路構成
の解析やデータの書き込みを不可能にし、安全性、信頼
性を高めたものである。
【0002】
【従来の技術】多数の回路素子がチップ上に大規模集積
化された半導体装置(ICチップ)としては、LSIや
VLSI等が知られている。このような半導体装置は、
図8に示すようにチップ12の大部分がトランジスタな
どの回路素子が集積化された回路素子部14として構成
され、この内部の回路素子部14を取り囲むように周囲
には、回路素子部14とのデータ授受を行う入出力用イ
ンタフェースとして機能するパッド部20が設けられて
いる。
【0003】このパッド部20をさらに詳細に説明する
と、図9のような構造となっている。このパッド部20
は多数のI/Oパッド(I/Oセル)22で構成され
る。I/Oパッド22としては、入力用インタフェース
としてのパッド、出力用インタフェースとしてのパッ
ド、さらには入出力兼用インタフェースとしてのパッド
などがあり、以下ではこれらを総称して使用している。
【0004】I/Oパッド22は、チップ12上に形成
された静電破壊防止用のアンプ26と、外部とのコンタ
クトをとるコンタクト部(接点部)28とで構成され
る。複数のI/Oパッド22の中には、回路素子部14
の機能を検査したりするためのテスト用パッド24と、
それに対応した回路素子部14にはテスト制御用ブロッ
ク(テスト制御回路)30,メモリ制御用ブロック(メ
モリ制御回路)32およびこのメモリ制御用ブロック3
2からのデータを記憶するメモリブロック(この例では
フラッシュメモリ)34が集積化されている。
【0005】そして、テスト制御用ブロック30に対し
ては、一対のデータ入出力として使用される一対のテス
ト用パッド24Tが設けられ、またメモリ制御ブロック
32にも一対のデータ入出力として使用される一対のテ
スト用パッド24Mが設けられている。
【0006】半導体ウエハー上に形成された多数のIC
チップに対して、良品、不良品を判別するため、半導体
ウエハーをダイシングする前に、このテスト用パッド2
4を使用して各種のテストが行われる。さらに特殊なI
Dコードなどをメモリブロック34に書き込むような処
理も行っている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】ところで、音楽、映
画、ゲームなどのコンテンツデータを再生する機器など
に組み込まれる半導体装置(ICチップ)には、正規コ
ンテンツの不正利用やハードウエアの不正解析、不正な
作成を防御するために、上述したメモリブロック34に
セキュリティプログラムや、ユニークなIDコードなど
のデータを格納する場合が増えている。
【0008】ところがこのように半導体チップ内にセキ
ュリティデータを埋め込んでも、不正行為者(いわゆる
海賊業者)はハードウエアを解体したり、上述したテス
ト用パッド24を使用してメモリブロック34の内容を
解析して、格納されたセキュリティデータなどを読み出
すような不正行為を行っているのが現状である。
【0009】これに対し正規のハードメーカや半導体メ
ーカなどは不正解析行為の検出策として、電源電圧の異
常や、不正読み出しクロックなどを検出したとき、内部
回路をロックしてしまう仕組みを組み込んだり、専用の
メタル層でチップ表面をマスクして、外部から解析でき
ないような対タンパー策を講じている。
【0010】しかしながら、これらの対タンパー策は適
応時こそ有効で、これによって海賊業者の不正コピー活
動は一時的には低下するものの、ある一定の解析期間を
経ると再び不正コピーが横行してしまう。更に別の対タ
ンパー策が講じられることによって、しばらく対タンパ
ー策が有効となるが、いずれまた不正コピーされてしま
うといったことの繰り返しで、いわゆるいたちごっこ状
態になっているのが現状である。つまり、不正コピー、
不正使用に対する有効、確実な防御手段とはなっていな
い。
【0011】そこで、この発明はこのような従来の課題
を解決したものであって、ICチップとしてダイシング
された後は、このICチップの内部解析を不可能にして
不正コピーや不正使用されないようにした半導体装置を
提案するものである。
【0012】
【課題を解決するための手段】上述した課題を解決する
ため、この発明に係る半導体装置では、ICチップから
なる半導体装置であって、ICチップの外周部には入出
力データ用のパッド部が設けられ、このパッド部はIC
チップ内部に設けられた回路素子部との間のデータ授受
を行うパッドと、テスト用パッドとで構成され、このテ
スト用パッドは、上記ICチップ生成用の半導体ウエハ
ーをダイシングする前の隣接ICチップに対する検査用
パッドとして使用されるようになされたことを特徴とす
る。
【0013】この発明では、半導体チップに設けられた
テスト用パッドを、ICチップ生成用の半導体ウエハー
をダイシングする前の隣接ICチップに対する検査用パ
ッドとして使用する。自らのテスト用パッドとしてでは
なく、隣接ICチップに対するテスト用パッドとして設
ける。したがって半導体ウエハーをダイシングする前
は、隣接するICチップに設けられたテスト用パッドを
使用して、自らを検査することになる。また、このテス
ト用パッドを使用してセキュリティーデータなどを自身
のメモリブロックに書き込む。
【0014】半導体ウエハーをダイシングした後は、自
身に対するテスト用パッドを持たないために、回路素子
部をテスト信号によって検査したり、セキュリティーデ
ータを解析することができない。したがって半導体装置
であるこのICチップの解析が不可能になる。これによ
って不正コピーや不正使用などからこの半導体装置を確
実に防御できる。
【0015】
【発明の実施の形態】続いてこの発明に係る半導体装置
の一実施の形態を説明する。この発明では、LSIなど
のICチップ内に組み込まれたセキュリティー回路や、
データの流れなどを半導体ウエハーの製造時にはテスト
できるが、実装され市場に出回ってからはその解析を不
可能にするものである。
【0016】また、セキュリティーに関するIDデータ
を半導体製造時には書き込めるが、市場ではIDデータ
の書き込みや書き換えを不可能にするものである。その
ための構成を以下に説明する。
【0017】図1はLSIのウエハー製造工程(前工
程)完成時のウエハー状態の例を示したものである。6
〜12インチ径で数百ミクロンオーダー厚の薄い、例え
ばシリコンウエハー16上に多数のICチップ(半導体
装置)10が規則的に作り込まれている。この状態のま
まLSIテスターにて1個1個のICチップをテストし
て良品、不良品を選別する。
【0018】この後、図2に示すように各チップ縦横の
エッジライン(スクライブライン)18に沿って切れ目
を入れて個々のチップに切り離すダイシング作業を行
い、不良品は破棄され、良品のみがパッケージ工程など
の後工程へと送られる。
【0019】図3はダイシングされる前の半導体ウエハ
ー16内の一部を拡大したものである。全く同じICチ
ップ10が規則正しく配列して作りこまれている。図3
において、トランジスタやゲート、フリップフロップな
どの論理回路素子を集積化した半導体チップ10におけ
る回路素子部14の周囲は、数百ミクロン程度の幅を有
する枠状のパッド部(斜線図示)20となされている。
【0020】ICチップ10間の境界はスクライブライ
ン18であり、半導体ウエハー16をダイシングすると
きにはこのスクライブライン18に沿ってカットされ
る。ダイシング前は全てのICチップ10が繋がってい
る。
【0021】したがってダイシングした後のICチップ
10単体は図4のような構造となる。ここで、回路素子
部14の周囲に形成されたこのパッド部20にあって、
説明の都合上、左右のパッド部を20Aa,20Abと
し、上下のパッド部を20Ac,20Adとする。
【0022】なお、半導体ウエハー状態でICチップ1
0をテストするときは、このパッド部20にLSIテス
ターのプローブ針を直接あてて電気的な接続を行いなが
ら、データの供給および取り出しを行う。また、ICチ
ップ10を基体にパッケージングするときは、ICチッ
プ10を基体にマウントした後で、パッド部20と基体
側に設けられたリード端子や半田ボールなどとの間を、
金線ワイヤーやタブ配線などの接続材料を使用してボン
ディングする。その後シーリングして周知の例えばFP
(Flat Package)タイプの半導体装置となる。
【0023】図5は、隣接するICチップ10A,10
B間の特にパッド部20(20A,20B)の詳細を示
すもので、パッド部20A,20Bのそれぞれには従来
と同様に多数のI/Oパッド22(22A,22B)と
数個のテスト用パッド24(24A,24B)が設けら
れる。ここに、この発明ではこのテスト用パッド24
を、ICチップ生成用の半導体ウエハー16をダイシン
グする前の隣接ICチップに対する検査用パッドとして
使用する。自らのテスト用パッドとしてではなく、隣接
ICチップに対するテスト用パッドとして設ける。
【0024】このことを図5を参照してさらに詳細に説
明する。図5の実施の形態では、右側のICチップ10
Bのパッド部20Bに、左側のICチップ10Aに対す
るテスト用パッド24Bが設けられている。
【0025】そのため、まずパッド部20Bの中に、通
常のI/Oパッド22Bの他に、テスト用パッド24B
(24Bm,24Bt)が設けられる。この例では、従
来例と同様に4つのI/Oパッドでテスト用パッド24
Bを構成した場合である。テスト用パッド24Bは何れ
も自身のICチップ10Bに対する入力専用のパッドと
して構成され、それぞれコンタクト部28と静電破壊防
止用のアンプ26が設けられている。
【0026】また、このテスト用パッド24Bが、この
例では左側に隣接するICチップ10Aと電気的に接続
できるようにするため、隣接するI/Oパッド24Bの
間に、この例では帯状をなす4つの配線領域36bが設
けられ、ここに配線層40bが形成される。配線層40
bはパッド部20や回路素子部14の内部回路形成と同
時に形成される。ICチップ10B内ではアンプ26と
配線層40bとが接続され、配線層40bの末端はスク
ライブライン18まで到達している。
【0027】一方、ICチップ10Bのパッド部20B
のテスト用パッド24Bが形成された部分に対応した領
域に位置する、隣接するICチップ10Aのパッド部2
0Aには、通常のI/Oパッド22Aが形成される。そ
して、配線領域36bに対向する部分は同様な配線領域
36aとなされ、ここに配線層40aが設けられる。こ
の4本の配線層40aは回路素子部14内に設けられた
この例ではテスト制御用ブロック30と、メモリ制御用
ブロック32に対するデータ入力線として使用される。
【0028】ICチップ10A側に形成された配線層4
0aは、内部回路素子部14の動作の安定性を確保する
ためにプルアップ若しくはプルダウンされる。この例で
は抵抗器42を介してプルアップされた例を示す。抵抗
器42は回路素子部14に置いても、パッド部20の配
線領域36a,36bに置いてもどちらでもよい。
【0029】両ICチップ10A,10Bの隣接するパ
ッド部20A,20Bの配線領域36a,36bに設け
られた配線層40a,40bは互いにスクライブライン
18を介して接続される。つまり、ダイシングする前は
配線層40a,40bは互いに接続された状態にある。
【0030】したがって半導体ウエハー16をダイシン
グした後のICチップ10単体では図6のようになる。
この実施の形態では左右に位置するパッド部20Aa,
20Abのうち、左側に位置するパッド部20Abに配
線層40bを含めたテスト用パッド24が設けられ、右
側に位置するパッド部20Aaには配線層40aのみが
設けられることになる。テスト用パッド24の形成位置
は上下のパッド部20Ac,20Adであってもよい。
【0031】このように隣接するICチップのテスト用
としてテスト用パッド24が、それぞれのICチップに
設けられて半導体ウエハー16が構成される。
【0032】さて、このように構成された半導体装置1
0の使用例を以下に説明する。まず、図5のように半導
体ウエハー16をダイシングする前に、ICチップ10
Aに対するテスト回路として機能する4つのテスト用パ
ッド24Bを使用し、これにプローブ針を当てて、IC
チップ10Aを様々なテストモードに設定することがで
きる。入力する信号によって、ICチップ10Aを色々
な態様に設定して、このICチップ10Aが良品であ
か、不良品であるかの選別を行う。
【0033】その後スクライブライン18に沿ってIC
チップ10Aと10Bとが切り離される。したがってダ
イシングされてからではパッド部20を用いてICチッ
プ10Aのテストを行うのは不可能になる。可能であっ
たとしても、ICチップ10Aにはテスト用パッドが存
在しないので、このテスト用バッドを使用してテストモ
ードを実行することができない。これは配線層40aに
プローブ針を当てるのが極めて困難であるからである。
当然、メモリブロック34内に書き込まれているセキュ
リティ用のIDデータの読み出しも不可能なるか、また
は極めて困難になる。
【0034】次に、ICチップ10A内のメモリ制御用
ブロック32に対しては、同様に半導体ウエハーをダイ
シングする前に、ICチップ10Bに設けられたテスト
用パッド24Bmを使って制御する。つまりICチップ
10A内のメモリブロック(不揮発性メモリ)34の特
定のエリアに対して2つのテスト用パッド24Btを使
用してデータを書き込み、これをテスト用制御ブロック
30に与える信号で所期の動作をするかどうか確認す
る。
【0035】またセキュリティシステムで重要な個別の
IDコードなどをこのテスト用パッド24tを使って書
き込む。この書き込み処理はウエハーテスト工程で行
う。この時点であればこのテスト用パッド24Btを制
御してどんなIDコードでも書き込むことができる。し
かし、半導体ウエハー16をダイシングしてしまってか
らでは永遠に書き込みができなくなる。ダイシングによ
ってICチップ10Aと10Bが切り離され、配線層4
0aと40bとがスクライブライン18で切断されてし
まうからである。
【0036】これによってメモリブロック34の特定エ
リアへのデータ書き込みは不可能になり、またプルアッ
プ抵抗器42によって、配線層40aがプルアップされ
てしまうので、データの読み出しもできなくなる。こう
して市場に出てからはセキュリティー内容の解析、デー
タの読み出し、IDコードの書き換え等の不正行為がで
きなくなる。
【0037】上述した配線層40aの幅やピッチは、1
μm以下と極めて細いことから、上述したようにダイシ
ングされて切断された後の配線層40aを用いて、ここ
にプローブ針を当てて測定することは不可能である。ま
た、他のI/Oパッドを使用してもテスト制御用ブロッ
ク30やメモリ制御用ブロック32とは全く接続されて
いないので、これらにデータを供給したり、これらより
データを読み出すことは不可能に近い。これで、このI
Cチップである半導体装置10の安全性が確実となる。
【0038】図7はこの発明の他の実施の形態を示すも
ので、この例ではパッド部20に設けられる配線領域を
省いた場合である。この場合には、テスト用パッド24
として使用される領域内を通過して配線層を形成するこ
とができる。こうすることで、多数のI/Oパッドを備
えることができるようなる。
【0039】隣接チップ用のテスト用パッドをI/Oパ
ッドエリアではなく回路素子部14の内部に配置するこ
ともでき、この場合にはパッド数のオーバーヘッドなし
にパッド部を構成できるから、多ピン化への悪影響を防
止できる。また、たとえ当該ICチップが不良品であっ
てもデザインルールの緩いI/Oパッドエリアが不良で
ある確率は極めて低いので、不良チップのエリア・リソ
ースも良品テストのために有効活用できることになる。
【0040】なお、図1のように半導体ウエハーの端部
に位置するICチップには上述したテスト用パッドを追
加できないことも考えられるが、この場合には隣接する
ICチップでのテスト用パッドの形成位置を上下のパッ
ド部などに移し替えるなどの工夫をすればよい。
【0041】
【発明の効果】以上説明したようにこの発明では、IC
チップ生成用の半導体ウエハーをダイシングする前の隣
接ICチップに対する検査用パッドとして使用されるテ
スト用パッドを、パッド部に設けたものである。つま
り、自身のテスト用としてではなく隣接するICチップ
のテスト用として使用するパッドを設けたものである。
【0042】したがってこの発明によれば、少なくとも
以下のような特徴を有する。 (1)LSIなどの半導体装置の製造時には通常通りの
テストが行えるが、市場に出てからの不正な回路解析な
どは実質不可能になり、海賊行為を確実に防止すること
ができる。 (2)この特徴を達成するためには、レイアウト設計上
でパッド部の構成として僅かな工夫をするだけで済むの
で、製造時には特に新たな製造工程が追加されるような
ことはない。したがって製造コストが嵩むようなことも
ない。 (3)個別にメモリブロックなどにIDコードを書き込
むような場合にも、内蔵メモリセルとしては通常のメモ
リが使えるので、コストアップに繋がる特殊なICチッ
プを使用する必要がなくなる。
【0043】したがってこの発明は、LSIやVLSI
などの半導体装置の不正コピーや不正使用を確実に防止
できる特徴を有する。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明に係る半導体装置を製造する半導体ウ
エハーを示す平面図である。
【図2】半導体ウエハーのダイシング状態を示す説明図
である。
【図3】ダイシングされる前のこの発明を適用した一実
施の形態を示すICチップの一部拡大図である。
【図4】ダイシング後のICチップの拡大図である。
【図5】ICチップに設けられたパッド部の拡大図(ダ
イシング前)である。
【図6】ICチップに設けられたパッド部の拡大図(ダ
イシング後)である。
【図7】この発明に係る半導体装置の他の実施の形態を
示すICチップの要部拡大図である。
【図8】ICチップの説明図である。
【図9】このICチップのパッド部の構造を示す一部の
平面図である。
【符号の説明】
10・・・半導体装置(ICチップ)、14・・・内部
回路素子部、16・・・半導体ウエハー、20・・・パ
ッド部、22・・・I/Oパッド、24・・・テスト用
パッド、36a,36b・・・配線領域、40a,40
b・・・配線層、30・・・テスト制御用ブロック、3
2・・・・メモリ制御用ブロック、34・・・メモリブ
ロック、42・・・プルアップ抵抗器
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2G032 AA00 AK01 AK11 AL00 4M106 AA01 AB07 AC02 AC05 AD02 BA01 CA16 CA26 DA20 5F038 BE05 BH13 CA13 DF04 DF10 DT03 DT04 DT15 EZ19 EZ20 9A001 BB05 HH34 JJ48 KK37 KK54 LL03

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ICチップからなる半導体装置であっ
    て、 ICチップの外周部には入出力データ用のパッド部が設
    けられ、 このパッド部はICチップ内部に設けられた回路素子部
    との間のデータ授受を行うパッドと、テスト用パッドと
    で構成され、 このテスト用パッドは、上記ICチップ生成用の半導体
    ウエハーをダイシングする前の隣接ICチップに対する
    検査用パッドとして使用されるようになされたことを特
    徴とする半導体装置。
  2. 【請求項2】 上記テスト用パッドは、上記隣接ICチ
    ップ内に配置されたテスト制御用ブロック回路に対する
    データ入力用パッドであることを特徴とする請求項1記
    載の半導体装置。
  3. 【請求項3】 上記テスト用パッドは、上記隣接ICチ
    ップ内に配置されたメモリ制御用ブロック回路に対する
    データ入力用パッドであることを特徴とする請求項1記
    載の半導体装置。
  4. 【請求項4】 上記テスト用パッドには、上記隣接IC
    チップの内部回路素子に対してデータ供給を行う回路部
    が設けられたことを特徴とする請求項1記載の半導体装
    置。
  5. 【請求項5】 上記回路部は、静電破壊防止用のアンプ
    であることを特徴とする請求項4記載の半導体装置。
  6. 【請求項6】 半導体ウエハーがダイシングされる前
    は、上記隣接ICチップの内部回路素子と上記テスト用
    パッドとが配線層によって接続されていることを特徴と
    する請求項1記載の半導体装置。
  7. 【請求項7】 上記配線層は、ダイシングラインを跨ぐ
    ように上記パッド部に形成されたことを特徴とする請求
    項6記載の半導体装置。
  8. 【請求項8】 上記配線層は、プルアップ又はプルダウ
    ンされたことを特徴とする請求項6記載の半導体装置。
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