JP2001291695A - 基板処理装置 - Google Patents
基板処理装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 より確実に処理液の流量を安定化する。
【解決手段】 給水管１４を通じて純水を処理槽１２に
供給しつつミキシングバルブ１８に接合した薬液供給管
２０〜２２を介して薬液を給水管１４に合流させるよう
にした。各薬液供給管２０〜２２は、上流端をそれぞれ
異なる種類の薬液を貯留した薬液タンクに接続した。ま
た、各薬液供給管２０〜２２には、それぞれ開閉バルブ
２４，バッファタンク２６およびマスフローコントロー
ラ２８を上流側から順に介設した。また、不活性ガス
（Ｎ２）の供給源に接続されたガス供給管３０を上記バ
ッファタンク２６に接続し、このガス圧により薬液を供
給するようにした。
供給しつつミキシングバルブ１８に接合した薬液供給管
２０〜２２を介して薬液を給水管１４に合流させるよう
にした。各薬液供給管２０〜２２は、上流端をそれぞれ
異なる種類の薬液を貯留した薬液タンクに接続した。ま
た、各薬液供給管２０〜２２には、それぞれ開閉バルブ
２４，バッファタンク２６およびマスフローコントロー
ラ２８を上流側から順に介設した。また、不活性ガス
（Ｎ２）の供給源に接続されたガス供給管３０を上記バ
ッファタンク２６に接続し、このガス圧により薬液を供
給するようにした。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハや液
晶用ガラス基板等の基板を処理する基板処理装置に関す
るものである。
晶用ガラス基板等の基板を処理する基板処理装置に関す
るものである。
【０００２】
【従来の技術】従来から、半導体ウエハ等の基板を処理
槽内の処理液に浸漬して処理する基板処理装置として、
処理槽内に純水を供給する給水管を設けるとともに、こ
の給水管に対して複数の薬液供給管を接合し、処理中
は、給水管内の純水に薬液供給管を通じて選択的に薬液
を供給して（合流させ）所定濃度の薬液を調製しつつ処
理槽に供給し、あるいは薬液の供給を停止して純水のみ
を処理槽に供給することにより、薬液や純水（以下、処
理液という）を処理槽に貯留しつつオーバーフローさせ
るようにした装置が知られている。
槽内の処理液に浸漬して処理する基板処理装置として、
処理槽内に純水を供給する給水管を設けるとともに、こ
の給水管に対して複数の薬液供給管を接合し、処理中
は、給水管内の純水に薬液供給管を通じて選択的に薬液
を供給して（合流させ）所定濃度の薬液を調製しつつ処
理槽に供給し、あるいは薬液の供給を停止して純水のみ
を処理槽に供給することにより、薬液や純水（以下、処
理液という）を処理槽に貯留しつつオーバーフローさせ
るようにした装置が知られている。
【０００３】この種の装置において、複数の処理槽を有
する装置では、各処理槽に対応するように薬液供給管を
分岐させることにより、一つの薬液供給管で複数の処理
槽へ薬液を供給することが行われている。
する装置では、各処理槽に対応するように薬液供給管を
分岐させることにより、一つの薬液供給管で複数の処理
槽へ薬液を供給することが行われている。
【０００４】このような装置では、各処理槽に対する薬
液の供給の有無等により、例えば図３（ａ）に示すよう
に分岐部分より上流部の薬液供給管の薬液に圧力変動が
生じ、その影響で薬液供給管を通じて供給される薬液の
流量が変動する場合があり、そのため、一般には、分岐
部分より下流の各薬液供給管にマスフローコントローラ
（以下、マスフローと略す）を介設することにより、上
記のような薬液の流量変動を防止するようにしている。
液の供給の有無等により、例えば図３（ａ）に示すよう
に分岐部分より上流部の薬液供給管の薬液に圧力変動が
生じ、その影響で薬液供給管を通じて供給される薬液の
流量が変動する場合があり、そのため、一般には、分岐
部分より下流の各薬液供給管にマスフローコントローラ
（以下、マスフローと略す）を介設することにより、上
記のような薬液の流量変動を防止するようにしている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、マスフ
ローを介設した場合でも、圧力変動による影響を完全に
除去できない場合もあり、このような場合には、依然と
して薬液の流量に変動が生じることとなる（図３（ｂ）
参照）。
ローを介設した場合でも、圧力変動による影響を完全に
除去できない場合もあり、このような場合には、依然と
して薬液の流量に変動が生じることとなる（図３（ｂ）
参照）。
【０００６】また、マスフローの性能は、例えば、その
構造、組立て精度あるいはメーカー等により差があり、
単に薬液供給管にマスフローを介設するだけでは、薬液
の流量変動を防止する上で必ずしも充分ではない。
構造、組立て精度あるいはメーカー等により差があり、
単に薬液供給管にマスフローを介設するだけでは、薬液
の流量変動を防止する上で必ずしも充分ではない。
【０００７】本発明は、上記問題を解決するためになさ
れたものであり、より確実に処理液の流量を安定化する
ことができる基板処理装置を提供することを目的として
いる。
れたものであり、より確実に処理液の流量を安定化する
ことができる基板処理装置を提供することを目的として
いる。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は、処理液供給源に接続された処理液供給管
を通じて、基板を処理するための基板処理部に処理液を
供給する基板処理装置において、処理液供給管の途中に
処理液を貯留するタンクを介設し、このタンクに貯留さ
れた処理液の液面に気体圧を作用させることにより処理
液を給送するとともに、処理液供給管における上記タン
クの下流側にマスフローコントローラを介設したもので
ある（請求項１）。
に、本発明は、処理液供給源に接続された処理液供給管
を通じて、基板を処理するための基板処理部に処理液を
供給する基板処理装置において、処理液供給管の途中に
処理液を貯留するタンクを介設し、このタンクに貯留さ
れた処理液の液面に気体圧を作用させることにより処理
液を給送するとともに、処理液供給管における上記タン
クの下流側にマスフローコントローラを介設したもので
ある（請求項１）。
【０００９】この装置によれば、タンク上流側において
処理液に圧力変動が生じた場合でも、処理液がタンクに
貯留されることにより圧力変動の伝達が遮断される。そ
のため、マスフローコントローラへは圧力変動を伴わな
い安定した圧力の処理液が流通することとなり、処理液
流量の安定性が高まる。
処理液に圧力変動が生じた場合でも、処理液がタンクに
貯留されることにより圧力変動の伝達が遮断される。そ
のため、マスフローコントローラへは圧力変動を伴わな
い安定した圧力の処理液が流通することとなり、処理液
流量の安定性が高まる。
【００１０】なお、基板処理部に給水管を通じて純水を
供給するとともに、上記処理液供給管として薬液を供給
する薬液供給管をこの給水管に接合するようにすれば
（請求項２）、一定濃度の薬液を適切に調整しつつ基板
処理部に供給することができる。
供給するとともに、上記処理液供給管として薬液を供給
する薬液供給管をこの給水管に接合するようにすれば
（請求項２）、一定濃度の薬液を適切に調整しつつ基板
処理部に供給することができる。
【００１１】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態について図面
を用いて説明する。
を用いて説明する。
【００１２】図１は、本発明に係る基板処理装置の一の
実施の形態を概略的に示している。この図に示す基板処
理装置１０は、単一の処理槽に各種薬液や純水を順次貯
留しながら、半導体ウエハ等の基板Ｗをこの処理液に浸
漬して表面処理を行う、いわゆるワンバス方式の基板処
理装置であって、基板処理部である処理槽１２と、これ
に対する処理液の給排系とを備えている。
実施の形態を概略的に示している。この図に示す基板処
理装置１０は、単一の処理槽に各種薬液や純水を順次貯
留しながら、半導体ウエハ等の基板Ｗをこの処理液に浸
漬して表面処理を行う、いわゆるワンバス方式の基板処
理装置であって、基板処理部である処理槽１２と、これ
に対する処理液の給排系とを備えている。
【００１３】処理槽１２は、例えば断面矩形の箱型に形
成されているとともに、その開口周囲に液受け部１２ａ
が設けられ、その全体は例えばＰＴＦＥ（ポリテトラフ
ロロエチレン）、ＰＶＤＦ（フッ化ビニリデン）等の耐
侵食性に優れた材料から構成されている。
成されているとともに、その開口周囲に液受け部１２ａ
が設けられ、その全体は例えばＰＴＦＥ（ポリテトラフ
ロロエチレン）、ＰＶＤＦ（フッ化ビニリデン）等の耐
侵食性に優れた材料から構成されている。
【００１４】処理槽１２には、処理液の給排系を構成す
る給水管１４及び排液管１６がそれぞれ接続されてい
る。
る給水管１４及び排液管１６がそれぞれ接続されてい
る。
【００１５】給水管１４は、その上流端側が図外の機械
式ポンプを介して純水供給源となる純水の貯留タンクに
接続される一方、下流端が処理槽１２の底部に接続され
て処理槽１２内に連通している。そして、給水管１４に
は開閉バルブ１７、ミキシングバルブ１８および三方バ
ルブ１９がその上流側から順に介設されるとともに、上
記ミキシングバルブ１８に並設された開閉バルブ１８ａ
〜１８ｃにそれぞれ薬液供給管２０，２１，２２の下流
端が接続され、これら薬液供給管２０，２１，２２の上
流端がそれぞれ異なる種類の薬液を貯留した図外の薬液
タンクに至っている。すなわち、給水管１４の開閉バル
ブ１７が開かれた状態でミキシングバルブ１８の開閉バ
ルブ１８ａ〜１８ｃのうちのいずれかの開閉バルブが開
かれることにより、給水管１４を通じて給送される純水
に一種類の薬液が混入されて処理槽１２に給送される一
方、全ての開閉バルブ１８ａ〜１８ｃが閉じられること
により、純水のみが処理槽１２に給送されるようになっ
ている。これにより給水管１４が純水及び薬液の供給通
路として共通化されている。
式ポンプを介して純水供給源となる純水の貯留タンクに
接続される一方、下流端が処理槽１２の底部に接続され
て処理槽１２内に連通している。そして、給水管１４に
は開閉バルブ１７、ミキシングバルブ１８および三方バ
ルブ１９がその上流側から順に介設されるとともに、上
記ミキシングバルブ１８に並設された開閉バルブ１８ａ
〜１８ｃにそれぞれ薬液供給管２０，２１，２２の下流
端が接続され、これら薬液供給管２０，２１，２２の上
流端がそれぞれ異なる種類の薬液を貯留した図外の薬液
タンクに至っている。すなわち、給水管１４の開閉バル
ブ１７が開かれた状態でミキシングバルブ１８の開閉バ
ルブ１８ａ〜１８ｃのうちのいずれかの開閉バルブが開
かれることにより、給水管１４を通じて給送される純水
に一種類の薬液が混入されて処理槽１２に給送される一
方、全ての開閉バルブ１８ａ〜１８ｃが閉じられること
により、純水のみが処理槽１２に給送されるようになっ
ている。これにより給水管１４が純水及び薬液の供給通
路として共通化されている。
【００１６】同図に示すように、薬液供給管２０の途中
には、それぞれ開閉バルブ２４，バッファタンク２６お
よびマスフローコントローラ２８（以下、マスフロー２
８と略す）が上流側から順に介設されている。また、上
流端が図外の不活性ガス（当実施の形態では窒素
［Ｎ２］）の供給源に接続されたガス供給管３０が上記
バッファタンク２６に接続されるとともに、このガス供
給管３０に開閉バルブ３２が介設されている。なお、同
図では、一の薬液供給管２０の構成のみ図示している
が、他の薬液供給管２１，２２についても同様の構成を
有している。
には、それぞれ開閉バルブ２４，バッファタンク２６お
よびマスフローコントローラ２８（以下、マスフロー２
８と略す）が上流側から順に介設されている。また、上
流端が図外の不活性ガス（当実施の形態では窒素
［Ｎ２］）の供給源に接続されたガス供給管３０が上記
バッファタンク２６に接続されるとともに、このガス供
給管３０に開閉バルブ３２が介設されている。なお、同
図では、一の薬液供給管２０の構成のみ図示している
が、他の薬液供給管２１，２２についても同様の構成を
有している。
【００１７】一方、上記排水管１６は、その上流端が処
理槽１２の液受け部１２ａに接続される一方、下流端が
図外の廃液タンクに接続されている。また、排水管１６
には、その途中に分岐管１６ａが設けられ、この分岐管
１６ａが給水管１４の三方バルブ１９に接続されてい
る。すなわち、処理槽１２から液受け部１２ａにオーバ
ーフローした純水、あるいは薬液（以下、特に区別する
場合を除き処理液という）を排水管１６を介して廃液タ
ンクに導入しつつ、例えば、処理槽１２内の処理液を全
て排出する必要がある場合には、三方バルブ１９を切替
えることにより、給水管１４、三方バルブ１９、分岐管
１６ａ及び排水管１６を介して処理槽１２内の処理液を
廃液タンクに導入するようになっている。
理槽１２の液受け部１２ａに接続される一方、下流端が
図外の廃液タンクに接続されている。また、排水管１６
には、その途中に分岐管１６ａが設けられ、この分岐管
１６ａが給水管１４の三方バルブ１９に接続されてい
る。すなわち、処理槽１２から液受け部１２ａにオーバ
ーフローした純水、あるいは薬液（以下、特に区別する
場合を除き処理液という）を排水管１６を介して廃液タ
ンクに導入しつつ、例えば、処理槽１２内の処理液を全
て排出する必要がある場合には、三方バルブ１９を切替
えることにより、給水管１４、三方バルブ１９、分岐管
１６ａ及び排水管１６を介して処理槽１２内の処理液を
廃液タンクに導入するようになっている。
【００１８】以上のように構成された基板処理装置１０
では、各薬液供給管２０〜２２のバッファタンク２６に
一定量の薬液が貯留された状態で処理が開始される。
では、各薬液供給管２０〜２２のバッファタンク２６に
一定量の薬液が貯留された状態で処理が開始される。
【００１９】例えば、まず、各薬液供給管２０〜２２の
開閉バルブ２４、各ガス供給管３０の開閉バルブ３２お
よびミキシングバルブ１８の各開閉バルブ１８ａ〜１８
ｃが閉じられ、給水管１４を通じて処理槽１２に純水の
みが給送されつつ液受け部１２ａにオーバーフローさせ
られる。これにより処理槽１２内に純水の上昇流が形成
され、この状態で基板Ｗが処理槽１２内に浸漬させられ
ることにより、基板Ｗに対して水洗処理が施される。
開閉バルブ２４、各ガス供給管３０の開閉バルブ３２お
よびミキシングバルブ１８の各開閉バルブ１８ａ〜１８
ｃが閉じられ、給水管１４を通じて処理槽１２に純水の
みが給送されつつ液受け部１２ａにオーバーフローさせ
られる。これにより処理槽１２内に純水の上昇流が形成
され、この状態で基板Ｗが処理槽１２内に浸漬させられ
ることにより、基板Ｗに対して水洗処理が施される。
【００２０】こうして一定時間だけ水洗処理が施される
と、次に、いずれかの薬液供給管２０〜２２のバッファ
タンク２６に接続されたガス供給管３０の開閉バルブ３
２が開かれるとともに、ミキシングバルブ１８の開閉バ
ルブ１８ａ〜１８ｃのうちこの薬液供給管２０〜２２に
対応する開閉バルブ１８ａ〜１８ｃが開かれることによ
り給水管１４に薬液が導入される。すなわち、開閉バル
ブ３２が開かれることによりバッファタンク２６に貯留
された薬液の液面に窒素Ｎ２の圧力が作用し、該圧力に
応じた流量で給水管１４に薬液が導入される。これによ
り、所定濃度の薬液が調製されつつ処理槽１２に給送さ
れ、基板Ｗに対して薬液による処理が施されることとな
る。この際、マスフロー２８を介して薬液が供給される
ことにより流量が上記圧力に応じた一定値に保たれ、そ
の結果、所定濃度の薬液が適切に調製されることとな
る。
と、次に、いずれかの薬液供給管２０〜２２のバッファ
タンク２６に接続されたガス供給管３０の開閉バルブ３
２が開かれるとともに、ミキシングバルブ１８の開閉バ
ルブ１８ａ〜１８ｃのうちこの薬液供給管２０〜２２に
対応する開閉バルブ１８ａ〜１８ｃが開かれることによ
り給水管１４に薬液が導入される。すなわち、開閉バル
ブ３２が開かれることによりバッファタンク２６に貯留
された薬液の液面に窒素Ｎ２の圧力が作用し、該圧力に
応じた流量で給水管１４に薬液が導入される。これによ
り、所定濃度の薬液が調製されつつ処理槽１２に給送さ
れ、基板Ｗに対して薬液による処理が施されることとな
る。この際、マスフロー２８を介して薬液が供給される
ことにより流量が上記圧力に応じた一定値に保たれ、そ
の結果、所定濃度の薬液が適切に調製されることとな
る。
【００２１】こうして、以後、各薬液供給管２０〜２２
のバッファタンク２６に接続されたガス供給管３０の開
閉バルブ３２が順次選択的に開かれるとともに、その薬
液供給管２０〜２２に対応する開閉バルブ１８ａ〜１８
ｃが開かれることにより異なる処理液が処理槽１２内に
供給され、これにより基板Ｗに対して複数種類の処理液
による処理が順次施される。なお、このときも、処理槽
１２に連続的に薬液が供給されて液受け部１２ａにオー
バーフローすることによって処理残渣等が処理槽１２外
へと導出される。また、各薬液供給管２０〜２２におい
てバッファタンク２６内の薬液が所定量以下まで消費さ
れると、ガス供給管３０の開閉バルブ３２が閉じられた
状態で薬液供給管２０の開閉バルブ２４が開かれ、これ
によりバッファタンク２６内に薬液が導入されてタンク
内の薬液が補われる。
のバッファタンク２６に接続されたガス供給管３０の開
閉バルブ３２が順次選択的に開かれるとともに、その薬
液供給管２０〜２２に対応する開閉バルブ１８ａ〜１８
ｃが開かれることにより異なる処理液が処理槽１２内に
供給され、これにより基板Ｗに対して複数種類の処理液
による処理が順次施される。なお、このときも、処理槽
１２に連続的に薬液が供給されて液受け部１２ａにオー
バーフローすることによって処理残渣等が処理槽１２外
へと導出される。また、各薬液供給管２０〜２２におい
てバッファタンク２６内の薬液が所定量以下まで消費さ
れると、ガス供給管３０の開閉バルブ３２が閉じられた
状態で薬液供給管２０の開閉バルブ２４が開かれ、これ
によりバッファタンク２６内に薬液が導入されてタンク
内の薬液が補われる。
【００２２】すべての薬液による処理が終了すると、再
び純水のみが処理槽１２に供給されて基板Ｗに対して水
洗処理が施され、一定時間水洗処理が行われると、処理
槽１２への純水の供給が停止され、基板Ｗが処理槽１２
から取り出されて基板処理装置１０による基板Ｗの処理
が完了する。
び純水のみが処理槽１２に供給されて基板Ｗに対して水
洗処理が施され、一定時間水洗処理が行われると、処理
槽１２への純水の供給が停止され、基板Ｗが処理槽１２
から取り出されて基板処理装置１０による基板Ｗの処理
が完了する。
【００２３】以上説明した基板処理装置１０によれば、
薬液の供給に際し、薬液供給管２０〜２２にマスフロー
２８を介設しているので、薬液供給管２０〜２２を介し
て処理槽１２に供給する薬液の流量変動を有効に防止す
ることができる。
薬液の供給に際し、薬液供給管２０〜２２にマスフロー
２８を介設しているので、薬液供給管２０〜２２を介し
て処理槽１２に供給する薬液の流量変動を有効に防止す
ることができる。
【００２４】特に、上記の装置では、薬液供給源から供
給される薬液を一旦バッファタンク２６に貯留した後に
マスフロー２８を介して供給するようにしているので、
例えば、薬液供給源から供給される薬液に圧力変動が生
じていても、薬液がバッファタンク２６に貯留されるこ
とで圧力変動の伝達が遮断される。そのため、マスフロ
ー２８へは、圧力変動を伴わない安定した圧力の薬液が
流通し、これによりマスフロー２８通過後の薬液の流量
が確実に安定することとなる。例えば、図２（ａ）〜
（ｃ）は、それぞれ、薬液供給管２０におけるバッファ
タンク２６上流側の薬液の圧力、バッファタンク２６と
マスフロー２８の間の薬液の圧力およびマスフロー２８
とミキシングバルブ１８の間の薬液の流量をそれぞれ示
しているが、これらの図からも、バッファタンク２６上
流側で生じている圧力変動の伝達が遮断されて圧力変動
を伴わない安定した圧力の薬液がマスフロー２８に流通
し、その結果、マスフロー２８通過後の薬液の流量が安
定している様子がわかる。
給される薬液を一旦バッファタンク２６に貯留した後に
マスフロー２８を介して供給するようにしているので、
例えば、薬液供給源から供給される薬液に圧力変動が生
じていても、薬液がバッファタンク２６に貯留されるこ
とで圧力変動の伝達が遮断される。そのため、マスフロ
ー２８へは、圧力変動を伴わない安定した圧力の薬液が
流通し、これによりマスフロー２８通過後の薬液の流量
が確実に安定することとなる。例えば、図２（ａ）〜
（ｃ）は、それぞれ、薬液供給管２０におけるバッファ
タンク２６上流側の薬液の圧力、バッファタンク２６と
マスフロー２８の間の薬液の圧力およびマスフロー２８
とミキシングバルブ１８の間の薬液の流量をそれぞれ示
しているが、これらの図からも、バッファタンク２６上
流側で生じている圧力変動の伝達が遮断されて圧力変動
を伴わない安定した圧力の薬液がマスフロー２８に流通
し、その結果、マスフロー２８通過後の薬液の流量が安
定している様子がわかる。
【００２５】従って、上記装置１０によると、従来のこ
の種の装置のように、薬液供給管にマスフローを介設し
ていながらも薬液流量に変動が生じるということがな
く、また、構造、組立て精度あるいはメーカー等により
マスフローの性能に多少の差がある場合であっても、薬
液の流量変動を有効に防止することができる。
の種の装置のように、薬液供給管にマスフローを介設し
ていながらも薬液流量に変動が生じるということがな
く、また、構造、組立て精度あるいはメーカー等により
マスフローの性能に多少の差がある場合であっても、薬
液の流量変動を有効に防止することができる。
【００２６】なお、上記実施の形態の装置では、薬液供
給管２０〜２２の構成について本発明を適用している
が、例えば、給水管１４の構成について本発明を適用す
るようにしてもよい。すなわち、給水管１４における開
閉バルブ１７の上流側にバッファタンクを設け、このタ
ンクに純水を一旦貯留しつつこのタンク内へ不活性ガス
を供給することにより純水を処理槽１２に供給するよう
にしてもよい。このようにすれば、薬液のみならず純水
の流量変動をも有効に防止することができ、一定濃度の
薬液をより適切に調整することができる。
給管２０〜２２の構成について本発明を適用している
が、例えば、給水管１４の構成について本発明を適用す
るようにしてもよい。すなわち、給水管１４における開
閉バルブ１７の上流側にバッファタンクを設け、このタ
ンクに純水を一旦貯留しつつこのタンク内へ不活性ガス
を供給することにより純水を処理槽１２に供給するよう
にしてもよい。このようにすれば、薬液のみならず純水
の流量変動をも有効に防止することができ、一定濃度の
薬液をより適切に調整することができる。
【００２７】また、上記の実施の形態では、本発明を、
基板Ｗを処理液に浸漬して表面処理を行う基板処理装置
のうち、いわゆるワンバス方式の基板処理装置に適用し
ているが、本発明は、ワンバス方式の基板処理装置以外
に、異なる処理液を貯留した複数の処理槽に順次基板Ｗ
を移し替えながら浸漬するタイプの基板処理装置にも適
用可能である。また、このように基板Ｗを処理液に浸漬
して表面処理を行うタイプの基板処理装置以外に、基板
Ｗを搬送しながら該基板Ｗに処理液をスプレーして表面
処理等を行う、いわゆるスプレー方式の基板処理装置に
ついても勿論適用可能である。要は、処理液供給源に接
続された処理液供給管を通じて基板処理部に処理液を供
給する基板処理装置であれば、本発明を適用することが
できる。
基板Ｗを処理液に浸漬して表面処理を行う基板処理装置
のうち、いわゆるワンバス方式の基板処理装置に適用し
ているが、本発明は、ワンバス方式の基板処理装置以外
に、異なる処理液を貯留した複数の処理槽に順次基板Ｗ
を移し替えながら浸漬するタイプの基板処理装置にも適
用可能である。また、このように基板Ｗを処理液に浸漬
して表面処理を行うタイプの基板処理装置以外に、基板
Ｗを搬送しながら該基板Ｗに処理液をスプレーして表面
処理等を行う、いわゆるスプレー方式の基板処理装置に
ついても勿論適用可能である。要は、処理液供給源に接
続された処理液供給管を通じて基板処理部に処理液を供
給する基板処理装置であれば、本発明を適用することが
できる。
【００２８】
【発明の効果】以上説明したように、本発明は、処理液
供給管の途中に処理液を貯留するタンクを介設し、この
タンクに貯留された処理液の液面に気体圧を作用させる
ことにより処理液を給送するとともに、処理液供給管に
おける上記タンクの下流側にマスフローコントローラを
介設したので、タンク上流側において処理液に圧力変動
が生じた場合でも、処理液がタンクに貯留されることに
圧力変動の伝達が遮断されて解消される。そのため、マ
スフローコントローラへは圧力変動を伴わない比較的安
定した圧力の処理液が流通することとなり、その結果、
薬液流量をより安定化させることができる。
供給管の途中に処理液を貯留するタンクを介設し、この
タンクに貯留された処理液の液面に気体圧を作用させる
ことにより処理液を給送するとともに、処理液供給管に
おける上記タンクの下流側にマスフローコントローラを
介設したので、タンク上流側において処理液に圧力変動
が生じた場合でも、処理液がタンクに貯留されることに
圧力変動の伝達が遮断されて解消される。そのため、マ
スフローコントローラへは圧力変動を伴わない比較的安
定した圧力の処理液が流通することとなり、その結果、
薬液流量をより安定化させることができる。
【００２９】特に、基板処理部に給水管を通じて純水を
供給するとともに、上記処理液供給管として薬液を供給
する薬液供給管をこの給水管に接合するようにすれば、
一定濃度の薬液を適切に調整しつつ基板処理部に供給す
ることができる。
供給するとともに、上記処理液供給管として薬液を供給
する薬液供給管をこの給水管に接合するようにすれば、
一定濃度の薬液を適切に調整しつつ基板処理部に供給す
ることができる。
【図１】本発明に係る基板処理装置の一の実施の形態を
示す全体構成図である。
示す全体構成図である。
【図２】薬液供給管を通じて供給される薬液の圧力変動
および流量の変動を説明する図である。
および流量の変動を説明する図である。
【図３】従来装置における薬液供給管での薬液の圧力変
動とマスフローコントローラ通過後の流量の変動を説明
する図である。
動とマスフローコントローラ通過後の流量の変動を説明
する図である。
１０ 基板処理装置 １２ 処理槽 １４ 給水管 １６ 排液管 １６ａ 分岐管 １７，１８ａ〜１８ｃ，２４，３２ 開閉バルブ １８ ミキシングバルブ １９ 三方バルブ ２０，２１，２２ 薬液供給管 ２６ バッファタンク ２８ マスフローコントローラ ３０ ガス供給管 Ｗ 基板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 杉本 賢司 京都市上京区堀川通寺之内上る４丁目天神 北町１番地の１ 大日本スクリーン製造株 式会社内 Ｆターム(参考） 3B201 AA03 AB01 BB04 BB92 BB93 CB12 5F043 EE02 EE07 EE27 EE31
Claims (2)
- 【請求項１】 処理液供給源に接続された処理液供給管
を通じて、基板を処理するための基板処理部に処理液を
供給する基板処理装置において、上記処理液供給管の途
中に処理液を貯留するタンクを介設し、このタンクに貯
留された処理液の液面に気体圧を作用させることにより
処理液を給送するとともに、上記処理液供給管における
上記タンクの下流側にマスフローコントローラを介設し
たことを特徴とする基板処理装置。 - 【請求項２】 上記基板処理部に給水管を通じて純水を
供給するとともに、上記処理液供給管として薬液を供給
する薬液供給管をこの給水管に接合したことを特徴とす
る請求項１記載の基板処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000106413A JP2001291695A (ja) | 2000-04-07 | 2000-04-07 | 基板処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000106413A JP2001291695A (ja) | 2000-04-07 | 2000-04-07 | 基板処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001291695A true JP2001291695A (ja) | 2001-10-19 |
Family
ID=18619583
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000106413A Abandoned JP2001291695A (ja) | 2000-04-07 | 2000-04-07 | 基板処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001291695A (ja) |
-
2000
- 2000-04-07 JP JP2000106413A patent/JP2001291695A/ja not_active Abandoned
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040520 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040622 |
|
| A762 | Written abandonment of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A762 Effective date: 20040820 |