JP2001290261A - 平版印刷版原版 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 赤外線レーザー露光により書き込み可能であ
り、高感度な画像記録ができ、汚れのない高画質の印刷
物が得られるサーマルタイプの平版印刷版原版を提供す
る。 【解決手段】 粗面化されたアルミニウム基体上に密度
が１０００〜３２００ｋｇ／ｍ³の無機皮膜を形成して
なる支持体上に、赤外線レーザ露光により書き込み可能
な記録層を設けてなることを特徴とする。この低密度皮
膜は陽極酸化処理により皮膜を設けた後、封孔処理を行
うことで形成することが好ましい。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、平版印刷版原版に
関するものであり、特に、光熱変換によってレーザー光
を熱に変換し、発生した熱により記録を行うヒートモー
ド型の感熱記録層を設けた平版印刷版原版に関するもの
である。

【０００２】

【従来の技術】近年、画像形成技術の発展に伴い、細く
ビームを絞ったレーザー光をその版面上に走査させ、文
字原稿、画像原稿などを直接版面上に形成させ、フイル
ム原稿を用いず直接製版させる技術が注目されている。
このような画像形成材料としては、感光層中に存在する
赤外線吸収剤がその光熱変換作用を発現し、露光により
発熱し、その熱により感光層の露光部分が可溶化し、ポ
ジ画像を形成する所謂サーマルタイプのポジ型平版印刷
版や、その熱により、ラジカル発生剤や酸発生剤がラジ
カルや酸を発生し、それによりラジカル重合反応や酸架
橋反応が進行して不溶化し、ネガ型画像を形成するサー
マルタイプのネガ型平版印刷版が挙げられる。

【０００３】このようなサーマルタイプの画像形成にお
いては、レーザー光照射によって感光層中で光熱変換物
質により熱が発生してその熱が画像形成反応を引き起こ
す。しかしながら、粗面化され陽極酸化皮膜を形成され
たアルミニウム支持体では、支持体の熱伝導率が感光層
に比べ極めて高いため、感光層支持体界面付近で発生し
た熱は画像形成に充分使用されないうちに支持体内部に
拡散してしまい、その結果感光層支持体界面では、ポジ
型感光層は分解反応が不十分となり、本来の非画像部分
に残膜が発生してしまうという低感度の問題を本質的に
抱えている。この問題に対処するため、ポジ型では感光
層支持体界面での感光層現像性を向上させるため下塗り
がいろいろ検討されており、一方ネガ型では後加熱によ
って露光部分を強制的に硬化させたり表面層が特に硬化
しやすいように感光層を調整することが試みられている
が、いずれにおいても十分満足のいくレベルには到達で
きていない。また、支持体或いは中間層として熱伝導性
の低い有機材料を使用することが検討されているが、有
機材料層を支持体に形成すると、断熱性は向上するもの
の、記録層との密着性や非画像部の親水性に関しては、
実用レベルには達し難いという問題があった。特に最近
の市場動向として、生産性の向上のため露光時間の短縮
化や、レーザーの長寿命化のためになるべく低出力で使
用したいなどの要求が強いため、レーザー光で直接製版
可能であり、発生した熱を効率よく画像形成反応に生か
し、非画像部のアルカリ性現像液に対する溶解性に優
れ、高感度化と残膜に起因する非画像部の汚れが抑制さ
れた平版印刷版原版が求められていた。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、赤外線レーザー露光により書き込み可能であり、高
感度であり、且つ、汚れのない高画質の印刷物が得られ
るサーマルタイプの平版印刷版原版を提供することにあ
る。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記目的を
達成すべく鋭意研究の結果、アルミニウム基体上に、低
密度の断熱性の高い無機皮膜を形成することで、上記課
題を解決し得ることを見出し、本発明を完成した。即
ち、本発明の平版印刷版原版は、粗面化されたアルミニ
ウム基体上に密度が１０００〜３２００ｋｇ／ｍ³の無
機皮膜を形成してなる支持体上に、赤外線レーザ露光に
より書き込み可能な記録層を設けてなることを特徴とす
る。また、必要に応じて、アルミニウム基体上に、１０
００〜３２００ｋｇ／ｍ³の無機皮膜を設けた後、封孔
処理を行い、記録層を形成してもよい。ここで、前記１
０００〜３２００ｋｇ／ｍ³の無機皮膜が陽極酸化皮膜
であることが好ましい態様である。この平版印刷版原版
に設けられる赤外線レーザで書き込み可能な記録層とし
ては、赤外線吸収剤、熱によって酸或いはラジカルを発
生する化合物、及び、酸或いはラジカルによって架橋を
形成したり、重合反応を起こす化合物、を含有するネガ
型の記録層、または、赤外線吸収剤、及び、熱によって
結合構造が解け、アルカリ水溶液等に可溶性となる化合
物を含有するポジ型の記録層が挙げられる。

【０００６】本発明の作用は明確ではないが、アルミニ
ウム（合金）基体上に密度が１０００〜３２００ｋｇ／
ｍ³の無機皮膜を形成することで、この密度が小さく、
内部に空隙部分を多数有する皮膜が断熱層として働くよ
うになり感光層支持体界面の熱伝達性を下げ、感度向上
につながったものと考えられる。本発明の好ましい態様
においては、さらに、皮膜表面の空隙部を封孔処理によ
り塞ぐことで、低密度皮膜の空気を保持する層が封孔に
より固定化されることになり、より一層の感度向上が達
成できる。このような構造の支持体では、断熱性に極め
て優れるため、感光層中の染料、バインダー等の親油成
分の残膜等も効果的に防ぐことができるという利点も有
する。また、印刷時にインクの空隙部への潜り込みを抑
制できるため、良好な汚れ性を提供できる利点をも有す
る。

【０００７】

【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。 ＜支持体＞本発明に用いられる支持体は、粗面化された
アルミニウム基体上に密度が１０００〜３２００ｋｇ／
ｍ³の無機皮膜（以下、適宜、低密度皮膜と称する）を
形成してなることを特徴とする。 （アルミニウム基体）支持体の基板となるアルミニウム
基体としては、寸度的に安定なアルミニウムを主成分と
する金属、即ち、アルミニウムまたはアルミニウム合金
からなる。以下、本発明でアルミニウム基体と称する場
合、不可避的不純物を含有する純アルミニウム板の他、
アルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金
板、又はアルミニウム（合金）がラミネートもしくは蒸
着されたプラスチックフィルム又は紙を包含するものと
する。また、本発明のアルミニウム基体として、さら
に、特公昭４８−１８３２７号に記載されているような
ポリエチレンテレフタレートフィルム上にアルミニウム
シートが結合された複合体シート等を用いることもでき
る。

【０００８】以下の説明において、上記に挙げたアルミ
ニウムまたはアルミニウム合金からなる基板をアルミニ
ウム基板と総称して用いる。前記アルミニウム合金に含
まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネ
シウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンな
どがあり、合金中の異元素の含有量は１０重量％以下で
ある。本発明では純アルミニウム板が好適であるが、完
全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難である
ので、僅かに異元素を含有するものでもよい。このよう
に本発明に基板として適用されるアルミニウム板は、そ
の組成が特定されるものではなく、従来より公知公用の
素材のもの、例えばＪＩＳ Ａ １０５０、ＪＩＳ Ａ
１１００、ＪＩＳ Ａ ３１０３、ＪＩＳ Ａ ３０
０５などの材料を適宜利用することが出来る。また、本
発明に用いられるアルミニウム基板の厚みは、およそ
０．１ｍｍ〜０．６ｍｍ程度である。この厚みは印刷機
の大きさ、印刷版の大きさ及びユーザーの希望により適
宜変更することができる。

【０００９】〔基板の粗面化処理〕 （砂目立て処理）アルミニウム板はより好ましい形状に
砂目立て処理させる。砂目立て処理方法は、特開昭５６
−２８８９３号に開示されているような機械的砂目立
て、化学的エッチング、電解グレインなどがある。さら
に塩酸または硝酸電解液中で電気化学的に砂目立てする
電気化学的砂目立て方法、及びアルミニウム表面を金属
ワイヤーでひっかくワイヤーブラシグレイン法、研磨球
と研磨剤でアルミニウム表面を砂目立でするボールグレ
イン法、ナイロンブラシと研磨剤で表面を砂目立てする
ブラシグレイン法のような機械的砂目立て法を用いるこ
とができ、上記砂目立て方法を単独あるいは組み合わせ
て用いることもできる。

【００１０】その中でも本発明に有用に使用される砂目
表面を作る方法は、塩酸または硝酸電解液中で化学的に
砂目たてする電気化学的方法であり、適する電流密度は
陽極時電気量５０Ｃ／ｄｍ²〜４００Ｃ／ｄｍ²の範囲で
ある。さらに具体的には、０．１〜５０％の塩酸または
硝酸を含む電解液中、温度２０〜１００℃、時間１秒〜
３０分、電流密度１００Ｃ／ｄｍ²〜４００Ｃ／ｄｍ²の
条件で直流又は交流を用いて行われる。電気化学的粗面
化は、表面に微細な凹凸を付与することが容易であるた
め、感光層と基板の密着を向上する上でも不可避であ
る。この粗面化により、平均直径約０．５〜２０μｍの
クレーターまたはハニカム状のピットをアルミニウム表
面に３０〜１００％の面積率で生成することが出来る。
ここで設けたピットは印刷版の非画像部の汚れにくさと
耐刷力を向上する作用がある。電気化学的処理では、十
分なピットを表面に設けるために必要なだけの電気量、
即ち電流と電流を流した時間の積が電気化学的粗面化に
おける重要な条件となる。より少ない電気量で十分なピ
ットを形成出来ることは、省エネの観点からも望まし
い。粗面化処理後の表面粗さとしてはＲａ＝０．２〜
０．７μｍが好ましい。

【００１１】（エッチング処理）このように砂目立て処
理したアルミニウム基板は、酸またはアルカリにより化
学的にエッチングされる。酸をエッチング剤として用い
る場合は、微細構造を破壊するのに時間がかかり、工業
的に本発明を適用するに際しては不利であるが、アルカ
リをエッチング剤として用いることにより改善できる。
本発明において好適に用いられるアルカリ剤は、苛性ソ
ーダ、炭酸ソーダ、アルミン酸ソーダ、メタケイ酸ソー
ダ、リン酸ソーダ、水酸化カリウム、水酸化リチウム等
を用い、濃度と温度の好ましい範囲はそれぞれ１〜５０
％、２０〜１００℃であり、Ａｌの溶解量が５〜２０ｇ
／ｍ³となるような条件が好ましい。エッチングのあと
表面に残留する汚れ（スマット）を除去するために酸洗
いが行われる。用いられる酸は硝酸、硫酸、リン酸、ク
ロム酸、フッ酸、ホウフッ化水素酸等が用いられる。特
に電気化学的粗面化処理後のスマット除去処理方法とし
ては、好ましくは特開昭５３−１２７３９号公報に記載
されているような５０〜９０℃の温度の１５〜６５重量
％の硫酸と接触させる方法及び特公昭４８−２８１２３
号公報に記載されているアルカリエッチングする方法が
挙げられる。

【００１２】＜１０００〜３２００ｋｇ／ｍ³の密度の
無機皮膜形成処理＞以上のようにして処理されたアルミ
ニウム基板上に低密度の断熱性に優れた皮膜を形成する
ためには、さらにシリカ、ソーダガラス、ホウ珪酸ガラ
ス等のガラス類による処理や陽極酸化皮膜形成処理が好
適に用いるられる。このうち、陽極酸化処理は、陽極酸
化条件の選択により、所定の空隙となるマイクロポアを
形成できる。陽極酸化条件やその後処理の条件によりマ
イクロポアの容積を制御することにより所望の低密度皮
膜を容易に形成しうる観点から好ましい。陽極酸化処理
はこの分野で従来より行われている方法で行うことがで
きる。具体的には、硫酸、リン酸、クロム酸、シュウ
酸、スルファミン酸、ベンゼンスルフォン酸等の単独あ
るいはこれらの二種以上を組み合わせて水溶液または非
水溶液中でアルミニウムに直流または交流を流すとアル
ミニウム支持体表面に陽極酸化皮膜を形成することがで
きる。

【００１３】この際、電解液中に少なくともＡｌ合金
板、電極、水道水、地下水等に通常含まれる成分はもち
ろん含まれても構わない。さらには第２、第３成分が添
加されていても構わない。ここでいう第２、３成分と
は、例えばＮａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｌｉ、Ｃａ、Ｔｉ、Ａｌ、
Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ等の金
属のイオン；アンモニウムイオン等の陽イオン；硝酸イ
オン、炭酸イオン、塩素イオン、リン酸イオン、フッ素
イオン、亜硫酸イオン、チタン酸イオン、ケイ酸イオ
ン、硼酸イオン等の陰イオン；等が挙げられ、その濃度
としては０〜１００００ｐｐｍ程度含まれても良い。

【００１４】陽極酸化処理の条件は使用される電解液に
よって種々変化するので一概に決定され得ないが、一般
的には電解液の濃度が１〜８０％、液温−５〜７０℃、
電流密度０．５〜６０Ａ／ｄｍ²、電圧１〜１００Ｖ、
電解時間１０〜２００秒の範囲が適当である。これらの
陽極酸化処理のうちでも特に英国特許第１，４１２，７
６８号明細書に記載されている、硫酸電解液中で高電流
密度で陽極酸化する方法が好ましい。本発明において
は、陽極酸化皮膜は０．５〜２０ｇ／ｍ²の範囲で形成
されることが好ましく、１ｇ／ｍ²以下であると版に傷
が入りやすく、２０ｇ／ｍ²以上は製造に多大な電力が
必要となり、経済的に不利である。好ましくは、１．０
〜１０ｇ／ｍ²である。更に好ましくは、１．５〜６ｇ
／ｍ²である。具体的な皮膜密度の制御方法としては、
電流密度を低くして、長時間陽極酸化を行うことで、小
さな空孔が多数形成され、良好な低密度皮膜が形成され
る傾向にある。また、電解液の温度を高くしたり、電解
液の濃度を高くすると、陽極酸化皮膜の表面に形成され
る空孔の直径が大きくなる傾向があることが知られてお
り、これと後述する封孔処理とを組み合わせて所望の密
度の皮膜を形成してもよい。また、陽極酸化処理後に酸
やアルカリ溶液でマイクロポアを溶解することにより、
一旦形成された陽極酸化皮膜を低密度化する方法を用い
ることもできる。なお、これらの制御方法については、
当業者が適宜選択することができる。

【００１５】上記の条件で、低密度皮膜を形成するが、
形成された皮膜の密度は、例えば、メイソン法（クロム
酸／燐酸混合液溶解による陽極酸化被膜重量法）による
重量測定と、断面をＳＥＭで観察して求めた膜厚から、
以下の式によって算出することができる。 密度（ｋｇ／ｍ³）＝（単位面積あたりの皮膜重量／膜
厚） ここで形成された皮膜の密度が１０００ｋｇ／ｍ³未満
では皮膜強度が低くなり、画像形成性や耐刷性などに悪
影響を及ぼす可能性があり、３２００ｋｇ／ｍ ³を超え
ると充分な断熱性が得られず、感度向上効果が低くな
る。

【００１６】（封孔処理：表面積調整のための処理）１
０００〜３２００ｋｇ／ｍ³の密度の皮膜を作成後、支
持体表面積を見掛けの表面積の１から３０倍にするため
の処理がなされる。ここでいう見掛けの表面積とは、例
えば１００ｍｍ×１００ｍｍの印刷版の場合、粗面化処
理及び陽極酸化処理が片面のみになされている場合には
１００００ｍｍ²をさし、両面とも処理されて両面とも
印刷版として使用される場合には２００００ｍｍ²を指
す。表面積を所望の値にする最も一般的な方法として特
開平４−１７６６９０、特願平１０−１０６８１９に記
載の加圧水蒸気や熱水による陽極酸化皮膜の封孔処理が
挙げられる。また珪酸塩処理、重クロム酸塩水溶液処
理、亜硝酸塩処理、酢酸アンモニウム塩処理、電着封孔
処理、トリエタノールアミン処理、炭酸バリウム塩処
理、極微量のリン酸塩を含む熱水処理等の公知の方法を
用いて行うこともできる。封孔処理皮膜は、例えば、電
着封孔処理をした場合にはポアの底部から形成され、ま
た、水蒸気封孔処理をした場合にはポアの上部から形成
され、封孔処理の仕方によって封孔処理皮膜の形成され
方は異なるが、いずれの封孔処理を行った場合において
も所望の表面積の範囲を満たす支持体が得られるように
封孔処理が行われる。その他にも表面積を範囲内のでき
れば方法は特に問わないが、例えば、溶液による浸漬処
理、スプレー処理、コーティング処理、蒸着処理、スパ
ッタリング、イオンプレーティング、溶射、鍍金等が挙
げられるが、特に限定されるものではない。

【００１７】具体的処理方法として、例えば、特開昭６
０−１４９４９１号公報に開示されている、少なくとも
１個のアミノ基と、カルボキシル基及びその塩の基並び
にスルホ基及びその塩の基からなる群から選ばれた少な
くとも１個の基とを有する化合物からなる層、特開昭６
０−２３２９９８号公報に開示されている、少なくとも
１個のアミノ基と少なくとも１個の水酸基を有する化合
物及びその塩から選ばれた化合物からなる層、特開昭６
２−１９４９４号公報に開示されているリン酸塩を含む
層、特開昭５９−１０１６５１ 号公報に開示されてい
るスルホ基を有するモノマー単位の少なくとも１種を繰
り返し単位として分子中に含む高分子化合物からなる層
等をコーティングによって設ける方法が挙げられる。

【００１８】また、カルボキシメチルセルロース、デキ
ストリン、アラビアガム、２−アミノエチルホスホン酸
などのアミノ基を有するホスホン酸類、置換基を有して
もよいフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アル
キルホスホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホス
ホン酸およびエチレンジホスホン酸などの有機ホスホン
酸、置換基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリ
ン酸、アルキルリン酸およびグリセロリン酸などの有機
リン酸エステル、置換基を有してもよいフェニルホスフ
ィン酸、ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸
およびグリセロホスフィン酸などの有機ホスフィン酸、
グリシンやβ−アラニンなどのアミノ酸類、およびトリ
エタノールアミンの塩酸塩などのヒドロキシル基を有す
るアミンの塩酸塩などから選ばれる化合物層を設ける方
法もある。

【００１９】封孔処理には、該不飽和基を有するシラン
カップリング剤を塗設処理しても良く、例えばＮ−３−
（アクリロキシ−２−ヒドロキシプロピル）−３−アミ
ノプロピルトリエトキシシラン、（３−アクリロキシプ
ロピル）ジメチルメトキシシラン、（３−アクリロキシ
プロピル）メチルジメトキシシラン、（３−アクリロキ
シプロピル）トリメトキシシラン、３−（Ｎ−アリルア
ミノ）プロピルトリメトキシシラン、アリルジメトキシ
シラン、アリルトリエトキシシラン、アリルトリメトキ
シシラン、３−ブテニルトリエトキシシラン、２−（ク
ロロメチル）アリルトリメトキシシラン、メタクリルア
ミドプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（３−メタクリ
キシ−２−ヒドロキシプロピル）−３−アミノプロピル
トリエトキシシラン、（メタクリロキシイメチル）ジメ
チルエトキシシラン、メタクリロキシメチルトリエトキ
シシラン、メタクリロキシメチルトリメトキシシラン、
メタクリロキシプロピルジメチルエトキシシラン、メタ
クリロキシプロピルジメチルメトキシシラン、メタクリ
ロキシプロピルメチルジエトキシシラン、メタクリロキ
シプロピルメチルジメトキシシラン、メタクリロキシプ
ロピルメチルトリエトキシシラン、メタクリロキシプロ
ピルメチルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピ
ルトリス（メトキシエトキシ）シラン、メトキシジメチ
ルビニルシラン、１−メトキシ−３−（トリメチルシロ
キシ）ブタジエン、スチリルエチルトリメトキシシラ
ン、３−（Ｎ−スチリルメチル−２−アミノエチルアミ
ノ）−プロピルトリメトキシシラン塩酸塩、ビニルジメ
チルエトキシシラン、ビニルジフェニルエトキシシラ
ン、ビニルメチルジエトキシシラン、ビニルメチルジメ
トキシシラン、Ｏ−（ビニロキシエチル）−Ｎ−（トリ
エトキシシリルプロピル）ウレタン、ビニルトリエトキ
シシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリ−ｔ
−ブトキシシラン、ビニルトリイソプロポキシシシラ
ン、ビニルトリフェノキシシラン、ビニルトリス（２−
メトキシエトキシ）シラン、ジアリルアミノプロピルメ
トキシシランを挙げることができる。これらのうち好ま
しくは、不飽和基の反応性が早いメタクリロイル基、ア
クリロイル基を含むカップリング剤が好ましいが、不飽
和基が２官能であればビニル基、アリル基であればかま
わない。

【００２０】その他にも特開平５−５０７７９に示すゾ
ルゲルコーティング処理、特開平５−２４６１７１に示
すホスホン酸類のコーティング処理、特開平６−２３４
２８４、特開平６−１９１１７３及び特開平６−２３０
５６３に記載のバックコート用素材をコーティングによ
り処理する方法、特開平６−２６２８７２に示すホスホ
ン酸類の処理、特開平６−２９７８７５に示すコーティ
ング処理、特開平１０−１０９４８０に記載の方法で陽
極酸化処理する方法、特願平１０−２５２０７８及び特
願平１０−２５３４１１に記載の浸漬処理方法等、何れ
の方法によっても良い。

【００２１】＜画像形成層＞以上のように作成された本
発明に係るアルミニウム支持体には必要に応じて以下の
画像形成層が形成される。本発明に用いられる画像形成
層は、赤外線レーザの照射により書き込み可能なもので
あれば、特に制限されない。このような、赤外線レーザ
露光により直接記録可能であり、露光部のアルカリ現像
液に対する溶解性が変化する感光層を以下、適宜、サー
マルタイプ感光層と称する。サーマルタイプのレーザー
直描型平版印刷版用感光層としては、公知のものを適用
することができ、例えば、特開平９−２２２７３７号、
特開平９−９０６１０号、特開平９−８７２４５号、特
開平９−４３８４５号、特開平７−３０６５２８号の各
公報、或いは本願出願人による特願平１０−２２９０９
９号、特願平１１−２４０６０１号の各明細書に記載の
感光層、記録層などが挙げられる。

【００２２】このようなサーマルタイプ感光層は、赤外
線吸収剤、水不溶性且つアルカリ水溶液可溶性高分子化
合物及びその他の任意成分を含有する。ポジ型の記録層
は、光照射や加熱により発生する酸や熱エネルギーその
ものにより、層を形成していた高分子化合物の結合が解
除されるなどの働きにより水やアルカリ水に可溶性とな
り、現像により除去されて非画像部を形成するものであ
る。ネガ型の記録層は、光照射や加熱により発生するラ
ジカル或いは酸が開始剤や触媒となり、記録層を構成す
る化合物が重合反応、架橋反応を生起し、硬化して画像
部を形成するものである。

【００２３】なお、本発明の記録層には、水不溶性、且
つ、アルカリ水可溶性の高分子が用いられるが、この高
分子化合物を、以下、適宜、単に「アルカリ水可溶性高
分子」と称する。本発明の記録層に好適な、このような
高分子化合物としては、高分子中の主鎖および／または
側鎖に酸性基を含有する単独重合体、これらの共重合体
またはこれらの混合物を用いることが好ましい。中で
も、下記（１）〜（６）に挙げる酸性基を高分子の主鎖
および／または側鎖中に有するものが、アルカリ性現像
液に対する溶解性の点、溶解抑制能発現の点で好まし
い。

【００２４】（１）フェノール基（−Ａｒ−ＯＨ） （２）スルホンアミド基（−ＳＯ₂ ＮＨ−Ｒ） （３）置換スルホンアミド系酸基（以下、「活性イミド
基」という。）〔−ＳＯ₂ ＮＨＣＯＲ、−ＳＯ₂ ＮＨＳ
Ｏ₂ Ｒ、−ＣＯＮＨＳＯ₂ Ｒ〕 （４）カルボン酸基（−ＣＯ₂ Ｈ） （５）スルホン酸基（−ＳＯ₃ Ｈ） （６）リン酸基（−ＯＰＯ₃ Ｈ₂ ）

【００２５】上記（１）〜（６）中、Ａｒは置換基を有
していてもよい２価のアリール連結基を表し、Ｒは、置
換基を有していてもよい炭化水素基を表す。

【００２６】上記（１）〜（６）より選ばれる酸性基を
有するアルカリ水可溶性高分子の中でも、（１）フェノ
ール基、（２）スルホンアミド基および（３）活性イミ
ド基を有するアルカリ水可溶性高分子が好ましく、特
に、（１）フェノール基または（２）スルホンアミド基
を有するアルカリ水可溶性高分子が、アルカリ性現像液
に対する溶解性、現像ラチチュード、膜強度を十分に確
保する点から最も好ましい。

【００２７】上記（１）〜（３）より選ばれるアルカリ
水可溶性高分子としては、例えば、以下のものを挙げる
ことができる。 （１）フェノール基を有するアルカリ水可溶性高分子と
しては、例えば、フェノールとホルムアルデヒドとの縮
重合体、ｍ−クレゾールとホルムアルデヒドとの縮重合
体、ｐ−クレゾールとホルムアルデヒドとの縮重合体、
ｍ−／ｐ−混合クレゾールとホルムアルデヒドとの縮重
合体、フェノールとクレゾール（ｍ−、ｐ−、またはｍ
−／ｐ−混合のいずれでもよい）とホルムアルデヒドと
の縮重合体等のノボラック樹脂、およびピロガロールと
アセトンとの縮重合体を挙げることができる。さらに、
フェノール基を側鎖に有する化合物を共重合させた共重
合体を挙げることもできる。或いは、フェノール基を側
鎖に有する化合物を共重合させた共重合体を用いること
もできる。

【００２８】アルカリ水可溶性高分子の重量平均分子量
は、５．０×１０²〜２．０×１０⁴で、数平均分子量が
２．０×１０² 〜１．０×１０⁴ のものが、画像形成性
の点で好ましい。また、これらの高分子を単独で用いる
のみならず、２種類以上を組み合わせて使用してもよ
い。組み合わせる場合には、米国特許第４１２３２７９
号明細書に記載されているような、ｔ−ブチルフェノー
ルとホルムアルデヒドとの縮重合体や、オクチルフェノ
ールとホルムアルデヒドとの縮重合体のような、炭素数
３〜８のアルキル基を置換基として有するフェノールと
ホルムアルデヒドとの縮重合体を併用してもよい。

【００２９】（２）スルホンアミド基を有するアルカリ
水可溶性高分子としては、例えば、スルホンアミド基を
有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成成分と
して構成される重合体を挙げることができる。上記のよ
うな化合物としては、窒素原子に少なくとも一つの水素
原子が結合したスルホンアミド基と、重合可能な不飽和
基と、を分子内にそれぞれ１以上有する化合物が挙げら
れる。中でも、アクリロイル基、アリル基、またはビニ
ロキシ基と、置換あるいはモノ置換アミノスルホニル基
または置換スルホニルイミノ基と、を分子内に有する低
分子化合物が好ましく、例えば、下記一般式１〜一般式
５で表される化合物が挙げられる。

【００３０】

【化１】

【００３１】〔式中、Ｘ¹ 、Ｘ² は、それぞれ独立に−
Ｏ−または−ＮＲ²⁷−を表す。Ｒ²¹、Ｒ²⁴は、それぞれ
独立に水素原子または−ＣＨ₃ を表す。Ｒ²²、Ｒ²⁵、Ｒ
²⁹、Ｒ ³²及びＲ³⁶は、それぞれ独立に置換基を有してい
てもよい炭素数１〜１２のアルキレン基、シクロアルキ
レン基、アリーレン基またはアラルキレン基を表す。Ｒ
²³、Ｒ²⁷及びＲ³³は、それぞれ独立に水素原子、置換基
を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、シク
ロアルキル基、アリール基またはアラルキル基を表す。
また、Ｒ²⁶、Ｒ³⁷は、それぞれ独立に置換基を有してい
てもよい炭素数１〜１２のアルキル基、シクロアルキル
基、アリール基、アラルキル基を表す。Ｒ ²⁸、Ｒ³⁰及び
Ｒ³⁴は、それぞれ独立に水素原子または−ＣＨ₃ を表
す。Ｒ³¹、Ｒ ³⁵は、それぞれ独立に単結合、または置換
基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキレン基、
シクロアルキレン基、アリーレン基またはアラルキレン
基を表す。Ｙ³ 、Ｙ⁴ は、それぞれ独立に単結合、また
は−ＣＯ−を表す。〕

【００３２】一般式１〜５で表される化合物のうち、本
発明のポジ型平版印刷用材料では、特に、ｍ−アミノス
ルホニルフェニルメタクリレート、Ｎ−（ｐ−アミノス
ルホニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−アミ
ノスルホニルフェニル）アクリルアミド等を好適に使用
することができる。

【００３３】（３）活性イミド基を有するアルカリ水可
溶性高分子としては、例えば、活性イミド基を有する化
合物に由来する最小構成単位を主要構成成分として構成
される重合体を挙げることができる。上記のような化合
物としては、下記構造式で表される活性イミド基と、重
合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ１以上有する
化合物を挙げることができる。

【００３４】

【化２】

【００３５】具体的には、Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニ
ル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニ
ル）アクリルアミド等を好適に使用することができる。

【００３６】ポジ型記録層に用いるアルカリ水可溶性高
分子を構成する、前記（１）〜（６）より選ばれる酸性
基を有する最小構成単位は、特に１種類のみである必要
はなく、同一の酸性基を有する最小構成単位を２種以
上、または異なる酸性基を有する最小構成単位を２種以
上共重合させたものを用いることもできる。共重合の方
法としては、従来知られている、グラフト共重合法、ブ
ロック共重合法、ランダム共重合法等を用いることがで
きる。

【００３７】前記共重合体は、共重合させる（１）〜
（６）より選ばれる酸性基を有する化合物が共重合体中
に１０モル％以上含まれているものが好ましく、２０モ
ル％以上含まれているものがより好ましい。１０モル％
未満であると、現像ラチチュードを十分に向上させるこ
とができない傾向がある。ネガ型の画像形成材料の記録
層に使用できる好ましい高分子としては、ヒドロキシ基
またはアルコキシ基が直接結合した芳香族炭化水素環を
側鎖又は主鎖に有するポリマーが挙げられる。アルコキ
シ基としては、感度の観点から、炭素数２０個以下のも
のが好ましい。また、芳香族炭化水素環としては、原料
の入手性から、ベンゼン環、ナフタレン環またはアント
ラセン環が好ましい。これらの芳香族炭化水素環は、ヒ
ドロキシ基またはアルコキシ基以外の置換基、例えば、
ハロゲン基、シアノ基等の置換基を有していても良い
が、感度の観点から、ヒドロキシ基またはアルコキシ基
以外の置換基を有さない方が好ましい。

【００３８】本発明において、好適に用いることができ
るバインダーポリマーは、下記一般式（III ）で表され
る構成単位を有するポリマー、又はノボラック樹脂等の
フェノール樹脂である。

【００３９】

【化３】

【００４０】式中、Ａｒ² は、ベンゼン環、ナフタレン
環またはアントラセン環を示す。Ｒ ⁴ は、水素原子また
はメチル基を示す。Ｒ⁵ は、水素原子または炭素数２０
個以下のアルコキシ基を示す。Ｘ1 は、単結合または、
Ｃ、Ｈ、Ｎ、Ｏ、Ｓより選ばれた１種以上の原子を含
み、かつ炭素数０〜２０個の２価の連結基を示す。ｋ
は、１〜４の整数を示す。

【００４１】まず、本発明において、好適に用いられる
一般式（III）で表される構成単位の例（［ＢＰ−１］
〜［ＢＰ−６］）を以下に挙げるが、本発明はこれに制
限されるものではない。

【００４２】

【化４】

【００４３】

【化５】

【００４４】これらの構成単位を有するポリマーは、対
応するモノマーを用い、従来公知の方法によりラジカル
重合することにより得られる。

【００４５】次に、ノボラック類について述べる。本発
明で好適に用いられるノボラック樹脂は、フェノールノ
ボラック、ｏ−、ｍ−、ｐ−の各種クレゾールノボラッ
ク、及びその共重合体、ハロゲン原子、アルキル基等で
置換されたフェノールを利用したノボラックが挙げられ
る。これらのノボラック樹脂の重量平均分子量は、好ま
しくは１０００以上であり、さらに好ましくは２０００
〜２万の範囲であり、数平均分子量は好ましくは１００
０以上であり、さらに好ましくは２０００〜１５０００
の範囲である。多分散度は１以上が好ましくは、さらに
好ましくは１．１〜１０の範囲である。

【００４６】本発明に係る記録層に含有される赤外線吸
収剤は、吸収した赤外線を熱に変換する機能を有してお
り、レーザ走査により光化学反応等が起こり、記録層の
現像液に対する溶解性が大きく増加する。本発明におい
て使用される赤外線吸収剤は、波長７６０ｎｍから１２
００ｎｍの赤外線を有効に吸収する染料又は顔料であ
る。好ましくは、波長７６０ｎｍから１２００ｎｍに吸
収極大を有する染料又は顔料である。染料としては、市
販の染料及び例えば「染料便覧」（有機合成化学協会編
集、昭和４５年刊）等の文献に記載されている公知のも
のが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ
染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アント
ラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染
料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、ス
クワリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体
等の染料が挙げられる。

【００４７】本発明において使用される顔料としては、
市販の顔料及びカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）便覧、
「最新顔料便覧」（日本顔料技術協会編、１９７７年
刊）、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年
刊）、「印刷インキ技術」ＣＭＣ出版、１９８４年刊）
に記載されている顔料が利用できる。これらの赤外線吸
収剤は、露光波長に対して光熱変換機能を有するもので
あればいずれも適用できるが、具体的には、例えば、本
願出願人による特開平１１−９８５号公報段落番号〔０
０３８〕〜〔００５０〕に記載のものを好適に適用でき
る。これらの染料又は顔料の添加量としては、記録層塗
布液の全固形分に対して、０．０１〜３０重量％程度で
あることが好ましい。

【００４８】さらに、特願平１０−２３７６３４号に記
載のアニオン性赤外線吸収剤も好適なものとして挙げる
ことができる。

【００４９】ネガ型記録層には、露光部におけるアルカ
リ水可溶高分子化合物のアルカリ水溶解性を低下させる
ために、光または熱により分解して酸を発生する酸発生
剤及び発生した酸により架橋反応を生起させ、バインダ
ー高分子を硬化させる酸架橋剤、或いは、光または熱に
よりラジカルを発生させる化合物及び発生したラジカル
により重合し、硬化する化合物等、を含有させる。

【００５０】本発明に係る記録層には、さらに必要に応
じてこれら以外に種々の公知の添加剤を併用することが
できる。これらの化合物を好適な溶媒に溶解して感光層
塗布液を調整し、先に述べた特定の表面積を有するアル
ミニウム支持体上に塗布することで、本発明の平版印刷
版原版を得ることができる。本発明に係る記録層の塗布
量（固形分）は用途によって異なるが、０．０１〜３．
０ｇ／ｍ²の範囲に調整される。塗布する方法として
は、種々の方法を用いることができるが、例えば、バー
コーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗
布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、
ロール塗布等を挙げることができる。塗布量が少なくな
るにつれて、見かけの感度は大になるが、感光層の被膜
特性は低下する。

【００５１】

【実施例】以下、実施例をもって本発明を説明するが、
本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 （実施例１〜３） ＜支持体の作成方法＞ （ａ）Ａｌを主とする金属として、Ｓｉ：０.０７％、
Ｆｅ：０．３０％、Ｃｕ：０.０１７％、Ｍｎ：０．０
０１％、Ｍｇ：０．００１％、Ｚｎ：０．００１％、Ｔ
ｉ：０．０３％、残部はＡｌｔｏ不可避不純物の合金を
用いて溶湯を調整し、溶湯処理、濾過を行った上で、厚
さ５００ｍｍ幅１２００ｍｍの鋳塊をＤＣ鋳造法で作成
し、表面を平均１０ｍｍ面削機で削り取った後、約５時
間５５０℃で均熱保持し、温度４００℃に下がったとこ
ろで、熱間圧延機を用いて厚さ２．７ｍｍの圧延板と
し、更に連続焼鈍機を使って熱処理を５００℃で行った
後、冷間圧延で、厚さ０．２４ｍｍに仕上げた。このア
ルミ板を幅１０３０ｍｍにした後、連続的に処理を行っ
た。

【００５２】（ｂ）アルミニウム板を苛性ソーダ濃度
２．６ｗｔ％、アルミニウムイオン濃度６．５ｗｔ％、
温度７０℃でスプレーによるエッチング処理を行い、ア
ルミニウム板を７ｇ／ｍ²溶解した。その後スプレーに
よる水洗をおこなった。 （ｃ）温度３０℃の硝酸濃度１ｗｔ％水溶液（アルミニ
ウムイオン０．５ｗｔ％含む）で、スプレーによるデス
マット処理を行い、その後スプレーで水洗した。前記デ
スマットに用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液中で交流を
用いて電気化学的な粗面化を行う工程の廃液を用いた。

【００５３】（ｄ）６０Ｈｚの交流電圧を用いて連続的
に電気化学的な粗面化処理を行った。この時の電解液
は、硝酸１ｗｔ％水溶液（アルミニウムイオン０．５ｗ
ｔ％、アンモニウムイオン０．００７ｗｔ％含む）、温
度５０℃であった。交流電源波形は図１に示した波形で
電流値がゼロからピークに達するまでの時間ＴＰが２ｍ
ｓｅｃ、ｄｕｔｙ比１：１，台形の短形波交流を用い
て、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理
を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。使用
した電解槽は図２に示すものを２個使用した。電流密度
は電流のピーク値で３０Ａ／ｄｍ²、電気量はアルミニ
ウム板が陽極時の電気量の総和で２７０Ｃ／ｄｍ²であ
った。補助陽極には電源から流れる電流の５％を分流さ
せた。その後、スプレーによる水洗を行った。

【００５４】（ｅ）アルミニウム板を苛性ソーダ濃度２
６ｗｔ％、アルミニウムイオン濃度６．５ｗｔ％でスプ
レーによるエッチング処理を７０℃でおこない、アルミ
ニウム板を０．２ｇ／ｍ²溶解し、前段の交流を用いて
電気化学的な粗面化をおこなったときに生成した水酸化
アルミニウムを主体とするスマット成分の除去と、生成
したピットのエッジ部分を溶解し、エッジ部分を滑らか
にした。その後スプレーで水洗した。 （ｆ）温度６０℃の硫酸濃度２５ｗｔ％水溶液（アルミ
ニウムイオンを０．５ｗｔ％含む）で、スプレーによる
デスマット処理をおこない、その後スプレーによる水洗
をおこないった。ここまでの基板を基板Ａとした。

【００５５】（ｇ）搬送式の陽極酸化装置を使って硫酸
濃度４５０ｇ／ｌ（アルミニウムイオンを０．５ｗｔ％
含む）、温度５０℃、電流密度２Ａ／ｄｍ²、処理時間
２００秒にて陽極酸化処理をおこなってから、スプレー
による水洗をおこなった。なお、陽極酸化条件を表１に
記載のように変えて行った。

【００５６】

【表１】

【００５７】ここで形成された低密度皮膜の密度は、メ
イソン法（クロム酸／リン酸混合液溶解による陽極酸化
皮膜重量法）及び断面をＳＥＭにより３箇所観察した結
果より、それぞれ１０箇所合計３０箇所から測定された
膜厚から求め、重量／膜厚を密度（ｋｇ／ｍ³）とし
た。測定結果を下記表２に示す。 （ｈ）つぎに、特許登録第２７９１７３０号公報記載の
封孔処理装置を使用して水蒸気封孔処理を１００℃、１
気圧、１０秒間にて封孔率＝｛（未封孔の比表面積−封
孔後の比表面積）／未封孔の表面積｝＊１００が９０％
となるように行った。 比表面積：実際に測定した表面積／見掛けの表面積 実際の表面積は、ユアサアイオニクス製カンタソーブに
て、ヘリウムと０．１％クリプトンの混合ガスの吸着量
から物理吸着を前提に算出した。

【００５８】（ｉ）つぎに、３号珪酸ソーダ１％水溶液
にて２０℃、１０秒間処理を行った。その後、スプレー
による水洗を行った。ここまでの基板を陽極酸化条件に
従い、それぞれ基板Ｂ−１〜基板Ｂ−３とする。

【００５９】（下塗り層の形成）前記基板Ｂ−１〜基板
Ｂ−３に下記下塗り液を塗布し、塗膜を８０℃で１５秒
間乾燥した。乾燥後の塗膜の被覆量は１５ｍｇ／ｍ²で
あった。

【００６０】（下塗り液） ・下記高分子化合物 ０．３ｇ ・メタノール １００ｇ ・水 １ｇ

【００６１】

【化６】

【００６２】次いで、下記の感光層塗布液１を調製し、
下塗りした基板に、この感光層塗布液１を塗布量が１．
０ｇ／ｍ²になるよう塗布し、実施例１〜３の平版印刷
版用原版を得た。

【００６３】 （感光層塗布液１） ・カプリン酸 ０．０３ ｇ ・下記特定の共重合体１ ０．７５ ｇ ・ｍ，ｐ―クレゾールノボラック ０．２５ ｇ （ｍ／ｐ比＝６／４、重量平均分子量３，５００、未反応 クレゾール０．５重量％含有） ・ｐ―トルエンスルホン酸 ０．００３ｇ ・テトラヒドロ無水フタル酸 ０．０３ ｇ ・シアニン染料Ａ（下記構造） ０．０１７ｇ ・ビクトリアピュアブルーＢＯＨの対イオンを ０．０１５ｇ １−ナフタレンスルホン酸アニオンにした染料 ・フッ素系界面活性剤 ０．０５ ｇ （メガフアックＦ−１７７、大日本インキ化学工業（株）製） ・γ−ブチルラクトン １０ ｇ ・メチルエチルケトン １０ ｇ ・１−メトキシ−２−プロパノール １ ｇ

【００６４】

【化７】

【００６５】〔特定の共重合体１の合成〕撹拌機、冷却
管及び滴下ロートを備えた５００ｍｌ三ツロフラスコに
メタクリル酸３１．０ｇ（０．３６モル）、クロロギ酸
エチル３９．ｌｇ（０．３６モル）及びアセトニトリル
２００ｍｌを入れ、氷水浴で冷却しながら混合物を撹拌
した。この混合物にトリエチルアミン３６．４ｇ（０．
３６モル）を約１時間かけて滴下ロートにより滴下し
た。滴下終了後、氷水浴をとり去り、室温下で３０分間
混合物を撹枠した。

【００６６】この反応混合物に、ｐ―アミノベンゼンス
ルホンアミド５１．７ｇ（０．３０モル）を加え、油浴
にて７０℃に温めながら混合物を１時間撹拌した。反応
終了後、この混合物を水１リットルにこの水を撹拌しな
がら投入し、３０分間得られた混合物を撹拌した。この
混合物をろ過して析出物を取り出し、これを水５００ｍ
ｌでスラリーにした後、このスラリーをろ過し、得られ
た固体を乾燥することによりＮ―（ｐ―アミノスルホニ
ルフェニル）メタクリルアミドの白色固体が得られた
（収量４６．９ｇ）。

【００６７】次に撹拌機、冷却管及び滴下ロートを備え
た２０ｍｌ三ツ口フラスコに、Ｎ−（ｐ−アミノスルホ
ニルフェニル）メタクリルアミド４．６１ｇ（０．０１
９２モル）、メタクリル酸エチル２．９４ｇ（０．０２
５８モル）、アクリロニトリル０．８０ｇ（０．０１５
モル）及びＮ，Ｎ―ジメチルアセトアミド２０ｇを入
れ、湯水浴により６５℃に加熱しながら混合物を撹拌し
た。この混合物に「Ｖ−６５」（和光純薬（株）製）
０．１５ｇを加え６５°Ｃに保ちながら窒素気流下２時
間混合物を撹拌した。この反応混合物にさらにＮ―（ｐ
−アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド４．６
１ｇ、メタクリル酸エチル２．９４ｇ、アクリロニトリ
ル０．８０ｇ、Ｎ，Ｎ―ジメチルアセトアミド及び「Ｖ
−６５」０．１５ｇの混合物を２時間かけて滴下ロート
により滴下した。滴下終了後さらに６５℃で２時間得ら
れた混合物を撹拌した。反応終了後メタノール４０ｇを
混合物に加え、冷却し、得られた混合物を水２リットル
にこの水を撹拌しながら投入し、３０分混合物を撹拌し
た後、析出物をろ過により取り出し、乾燥することによ
り１５ｇの白色固体を得た。ゲルパーミエーションクロ
マトグラフィーによりこの特定の共重合体１の重量平均
分子量（ポリスチレン標準）を測定したところ５３，０
００であった。

【００６８】＜感度の評価＞上記のように得られた平版
印刷版用原版を出力５００ｍＷ、波長８３０ｎｍ、ビー
ム径１７μｍ（１／ｅ²）の半導体レーザーを用いて主
操作速度５ｍ／秒にて露光した後、富士写真フイルム
（株）製ＰＳプロセッサー９００ＮＰ現像機を使用し
て、ＰＳ版用現像液ＬＨ−ＤＰ（１：７．８）水希釈液
で４５ｍｓ／ｃｍの電導度で現像した。

【００６９】上記のように画像形成した後、ベタ画像部
分に富士写真フイルム（株）製ポジ消去液ＲＰ−１Ｓを
のせ２５℃で１分間経ってから水洗いした消去部分と現
像処理による非画像部分とのバインダー残存量の違いを
２８０ｎｍでの拡散反射による吸光度の差として求めこ
れを残膜とした。残膜量が急激に増えていく直前の最低
の版面エネルギー量を感度とした。結果を前記表２に併
記する。

【００７０】＜汚れ性の評価＞上記のようにして画像形
成された平版印刷版をハイデルベルグ社製ＳＯＲ−Ｍ印
刷機にて１００枚印刷後印刷を停止し、３０分間放置す
る。その後、再度印刷機に取り付けて１００枚印刷し
た。その時の非画像部のインクの払われ方を観察し、以
下の基準により評価した。 ○：インクの払われ方が速い（汚れ難い） △：インクの払われ方がやや遅いが×程遅くはない ×：インクの払われ方が遅い（汚れ易い） 結果を表２に併記する。

【００７１】（実施例４）実施例３に用いた基板Ｂ−３
の製造工程において、封孔処理を行わなかった以外は同
様にして基板を作成し、実施例１と同様にして平版印刷
版原版を得て、実施例４とした。実施例１と同様の評価
を行い、結果を表２に示した。 （実施例５）実施例３に用いた基板Ｂ−３の製造工程に
おいて、基板Ａをスパッタリング装置でＳｉＯ₂をター
ゲット材として、雰囲気ガス：Ａｒ ５ｍｔｏｒｒ Ｒ
ｆ １ｋＷで２７分間スパッタリングして低密度皮膜を
形成し、陽極酸化処理を行わなかった他は、実施例３と
同様にして平版印刷版原版を得て、実施例５とした。実
施例１と同様の評価を行い、結果を表２に示した。

【００７２】（比較例１）基板Ａをスパッタリング装置
でＡｌ₂Ｏ₃をターゲット材として雰囲気ガス：Ａｒ ５
ｍ ｔｏｒｒ Ｒｆ １ＫＷで２７分間スパッタリング
して皮膜を形成し、陽極酸化処理を行わなかった他は、
実施例４と同様にして平版印刷版原版を得て、比較例１
とした。実施例１と同様の評価を行ったところ、皮膜の
密度は３９００ｋｇ／ｍ³であった。その他の評価結果
は表２に示した。 （比較例２）基板Ａを硫酸濃度１００ｇ／ｌ（アルミニ
ウムイオンを０．５ｗｔ％含む）、温度５０℃、電流密
度３０Ａ／ｄｍ²にて陽極酸化処理を行って基板を得た
他は、実施例４と同様にして平版印刷版原版を得て、比
較例２とした。実施例１と同様の評価を行ったところ、
皮膜の密度は３３００ｋｇ／ｍ³であった。その他の評
価結果は表２に示した。

【００７３】（比較例３）実施例１に用いた基板Ｂ−１
の製造工程において、電解温度を７０℃にしたことを除
いて実施例１と同様にして基板を得た他は、実施例１と
同様にして平版印刷版原版を得て、比較例３とした。実
施例１と同様の評価を行ったところ、皮膜の密度は９０
０ｋｇ／ｍ³であった。その他の評価結果は表２に示し
た。

【００７４】

【表２】

【００７５】表２の結果より明らかなように、アルミニ
ウム基板の表面に所定の密度の皮膜が形成された支持体
を用いた本発明の平版印刷版原版はいずれも感度に優
れ、汚れのない良好な印刷物が得られることがわかっ
た。一方、形成された皮膜密度が高すぎる比較例１、２
では支持体の断熱性が不充分となり、感度が低下した。
また、形成された皮膜密度が低すぎる比較例３では、感
度は良好であるものの印刷物に汚れが発生した。

【００７６】

【発明の効果】本発明の平版印刷版原版は、赤外線レー
ザーを用いてコンピュータ等のデジタルデータから直接
記録することができ、高感度で、非画像部の汚れの発生
がなく、高画質の印刷物が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の平版印刷版原版のアルミニウム支持
体の電気化学的粗面化に用いる交番波形電流波形図の一
例を示すグラフである。

【図２】 本発明の平版印刷版原版のアルミニウム支持
体の電気化学的粗面化に用いるラジアルドラムローラを
備えた装置の概略構成図である。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 粗面化されたアルミニウム基体上に密度
   が１０００〜３２００ｋｇ／ｍ³の無機皮膜を形成して
   なる支持体上に、赤外線レーザ露光により書き込み可能
   な記録層を設けてなることを特徴とする平版印刷版原
   版。
2. 【請求項２】 前記支持体が、粗面化されたアルミニウ
   ム基体上に、１０００〜３２００ｋｇ／ｍ³の無機皮膜
   を設けた後、封孔処理を行って得られることを特徴とす
   る請求項１に記載の平版印刷版原版。
3. 【請求項３】 前記１０００〜３２００ｋｇ／ｍ³の無
   機皮膜が、陽極酸化皮膜であることを特徴とする請求項
   １又は請求項２に記載の平版印刷版原版。