JP2001063238A - 平版印刷版用原板 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 アルカリ現像液を要しない簡易な製版方法
で、しかも画像部と非画像部の識別性が十分に維持され
た優れた画質の印刷版を作りうる平版印刷用原板を提供
する。また、短時間での走査露光ののちに現像処理を行
うことなく直接に印刷機に装着して製版することが可能
であり、網点再現性が良く耐刷性にすぐれ、印刷面上の
印刷汚れも少ない平版印刷版を提供する。 【解決手段】 金属支持体上に、インキ感脂性層と、金
属あるいは金属化合物を含む親水性層とを順次有し、前
記インキ感脂性層の中心線平均表面粗さが０．３〜１．
５μｍの範囲にする平版印刷版用原板。また、その印刷
版用原板に、像様のレーザー光の照射によって画像を記
録し、照射面を印刷用インキに接触させて、画像領域が
インキを受け入れた印刷面を形成させて印刷を行う平版
印刷版の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、一般印刷分野、と
りわけ平版印刷、特に簡易に印刷版を製作できる新規な
平版印刷版用原板に関するものである。その中でも、レ
ーザー光に基づいた走査露光による画像記録も可能であ
り、且つ現像することなくそのまま印刷機に装着し印刷
することも可能な平版印刷版用原板に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、平版印刷版は、印刷過程でイン
クを受容する親油性の画像部と湿し水を受容する親水性
の非画像部とからなる。このような平版印刷版用原板と
しては、従来から親水性支持体上に親油性の感光性樹脂
層を設けたＰＳ版が広く用いられている。その製版方法
として、通常はリスフイルムなどの画像を通して露光を
行った後、非画像部を現像液によって溶解除去する方法
であり、この方法により所望の印刷版を得ている。

【０００３】従来のＰＳ版に於ける製版行程は、露光し
た後非画像部を溶解除去する操作が必要であり、このよ
うな付加的な湿式の処理を不要化又は簡易化すること
が、従来技術に対して改善が望まれてきた一つの課題で
ある。特に近年は、地球環境への配慮から湿式処理に伴
って排出される廃液の処分が産業界全体の大きな関心事
となっているので、この面での改善の要請は一層強くな
っている。

【０００４】この要望に応じた簡易な製版方法の一つと
して、印刷版用原板の非画像部の除去を通常の印刷過程
の中で行えるような画像記録層を用い、露光した後印刷
機上で現像し最終的な印刷版を得る方法が提案されてい
る。このような方法による平版印刷版の製版方式は機上
現像方式と呼ばれる。具体的方法としては、例えば湿し
水やインク溶剤に可溶な画像記録層の使用、印刷機中の
圧胴やブランケット胴との接触による力学的除去を行う
方法等が挙げられる。しかしながら、機上現像方式の大
きな問題は、印刷用原板は露光後も、画像記録層が定着
されないため、例えば、印刷機に装着するまでの間、原
板を完全に遮光状態又は恒温条件で保存する、といった
手間のかかる方法をとる必要があった。

【０００５】一方、近年のこの分野のもう一つの動向と
しては、画像情報をコンピュータを用いて電子的に処
理、蓄積、出力する、ディジタル化技術が広く普及して
きており、このようなディジタル化技術に対応した、新
しい画像出力方式が種々実用されるようになってきてい
る。これに伴い、レーザ光のような高収斂性の輻射線に
ディジタル化された画像情報を担持してこの光で原板を
走査露光し、リスフィルムを介することなく、直接印刷
版を製造するコンピュータ・トゥ・プレート技術が注目
されている。それに伴ってこの目的に適応した印刷版用
原板を得ることが重要な技術課題となっている。したが
って、製版作業の簡素化、乾式化、無処理化は、上記し
た環境面と、ディジタル化への適合化の両面から、従来
にも増して、強く望まれるようになっている。

【０００６】この要請に対して、無処理型印刷版作成方
法の一つにジルコニアセラミックに活性光を照射して照
射部を親水性化することを利用した印刷版作製方法が特
開平９−１６９０９８号で開示されている。しかし、ジ
ルコニアの光感度は小さく、かつ疎水性から親水性への
光変換効果が不十分のため画像部と非画像部の識別性が
不足している。

【０００７】さらに、酸化チタンも活性光の照射によっ
て表面が親水性になることが判り、この現象の簡易な印
刷原板へのに適用が提示された。一般的に酸化チタン皮
膜は、真空蒸着法、化学的蒸着法、スパッタリング法、
ＣＶＤ法などの気相法、スピンコート法、ディッピング
法等の液相法、溶射法や固相反応を用いた固相法などの
皮膜生成方法が知られているが、従来から知られている
これらの方法で得た酸化チタン皮膜は、前記の各方法よ
りは優れた画像形成特性を示すものの、なお画像部と非
画像との識別性を更に向上させることが望まれた。

【０００８】デジタル化技術に組み込みやすい走査露光
による印刷版の製造方法の別の一つとして、最近、半導
体レーザ、ＹＡＧレーザ等の固体レーザで高出力のもの
が安価に入手できるようになってきたことから、特に、
これらのレーザを画像記録手段として用いる製版方法が
有望視されるようになっている。従来方式の製版方法で
は、感光性原板に低〜中照度の像様露光を与えて光化学
反応による原板面の像様の物性変化によって画像記録を
行っているが、高出力レーザを用いた高パワー密度の露
光を用いる方法では、露光領域に瞬間的な露光時間の間
に大量の光エネルギーを集中照射して、光エネルギーを
効率的に熱エネルギーに変換し、その熱により化学変
化、相変化、あるいは形態や構造の変化などの物理変化
を起こさせ、その変化を画像記録に利用する。つまり、
画像情報はレーザー光などの光エネルギーによって入力
されるが、画像記録は熱エネルギーによる反応によって
記録される。通常、このような高パワー密度露光による
発熱を利用した記録方式はヒートモード記録と呼び、光
エネルギーを熱エネルギーに変えることを光熱変換と呼
んでいる。

【０００９】ヒートモード記録手段を用いる製版方法の
大きな長所は、室内照明のような通常の照度レベルの光
では感光せず、また高照度露光によって記録された画像
は定着が必須ではないことにある。つまり、画像記録に
ヒートモード感材を利用すると、露光前には、室内光に
対して安全であり、露光後にも画像の定着は必須ではな
い。従って、例えば、ヒートモード露光により不溶化若
しくは可溶化する画像記録層を用い、露光した画像記録
層を像様に除去して印刷版とする製版工程を機上現像方
式で行えば、現像（非画像部の除去）は、画像露光後あ
る時間、たとえ室内の環境光に暴露されても、画像が影
響を受けないような印刷システムが可能となる。従って
ヒートモード記録を利用すれば、機上現像方式に望まし
い平版印刷版用原板を得ることも可能となると期待され
る。

【００１０】ヒートモード記録に基づく平版印刷版の好
ましい製造法の一つとして、親水性の基板上に疎水性の
画像記録層を設け、画像状にヒートモード露光し、疎水
性層の溶解性・分散性を変化させ、必要に応じ、湿式現
像により非画像部を除去する方法が提案されている。こ
のような原板の例として、例えば、特公昭４６ー２７９
１９号には、親水性支持体上に、熱により溶解性が向上
するいわゆるポジ作用を示す記録層、具体的には糖類や
メラミンホルムアルデヒド樹脂等の特定の組成を有する
記録層を設けた原板をヒートモード記録することによっ
て、印刷版を得る方法が開示されている。

【００１１】しかしながら、開示された記録層はいずれ
も感熱性が十分でないため、ヒートモード走査露光に対
しては、感度がはなはだ不十分であった。また、露光前
後の疎水性／親水性のディスクリミネーション、即ち、
溶解性の変化が小さいことも、実用上問題であった。デ
ィスクリミネーションが乏しければ、機上現像方式の製
版を行うことは実質的に困難である。

【００１２】親水性の下層の上に親油性の金属又は有機
硫黄化合物の表面層を設けて、その親油性の層に画像状
のレーザー光照射を行ってヒートモードで画像記録を行
う製版印刷方法は特開昭５２−３７１０４号、特開平３
−１９７１９２号、特開平７−１８４８号の各公報など
に開示されている。これらは、それぞれ前記したヒート
モードの製版・印刷方法の利点を有するものであるが、
レーザー照射光に対するヒートモードの感度に関して
は、なお十分ではなく、さらに高感度化して、それによ
り画像部と非画像部の識別効果を高めることが望まれて
いる。

【００１３】また、従来のヒートモードのポジ方式の印
刷原板には別の大きな問題として非画像部における残膜
と呼ばれる欠陥を伴うものがある。即ち、ヒートモード
ポジ型原板においては、ヒートモード露光時の熱の発生
は記録層中の光吸収物質の光吸収に基くものであるた
め、熱の発生量は記録層表面で大きく、支持体近傍では
小さいことが多い。このため、記録層の支持体近傍での
露光による溶解性変化が少なく、親水化の程度が減少し
てしまうことである。その結果、本来、親水性表面を提
供すべき露光部において、しばしば、疎水性の膜が除去
されきれずに残膜となることがある。このような、残膜
は、印刷物に印刷汚れを引き起こすのでその点の改良が
必要である。

【００１４】前記した活性光の照射による画像記録及び
ヒートモードの画像記録を利用する製版・印刷方法は、
いずれも版下からフィルムを介することなく直接に刷版
を作ることができ、したがって機上で製版することも可
能であり、現像操作を省くこともできるなどの利点を持
ちながら、上記した感度の不足や、画像記録層の表面と
底部での感度の相違などの弱点を有している。これらの
弱点は基本的には画像部と非画像部との識別性の不足に
起因して生じる欠陥であり、また印刷品質や耐刷性に直
結する欠陥でもある。したがって活性光の照射、ヒート
モードの光照射のいずれの画像記録を利用する製版・印
刷方法も、印刷品質と耐刷性の両面を向上させるための
基本的な方策は、識別性を向上させることに尽きるとも
いえるのが、現状である。

【００１５】

【発明が解決しようとする課題】更に、インキ感脂性層
（親油層）の上層に親水層を設け、レーザー露光等によ
り親水層を飛散して除去されたり、または擦傷されたり
すること（アブレーションともいう）により画像形成さ
せる場合、インキ感脂性層と親水層との間の密着力が劣
るため耐刷性が劣るという問題点があった。従って、本
発明の目的は、アルカリ現像液を要しない簡易な製版方
法で、しかも画像部と非画像部の識別性が十分に維持さ
れた優れた画質の印刷版を作りうる平版印刷用原板を提
供することである。本発明のさらなる目的は、レーザー
露光を用いる製版方式の前記した欠陥を解決することで
あり、すなわち、短時間での走査露光ののちに現像処理
を行うことなく直接に印刷機に装着して製版することが
可能であり、網点再現性が良く、耐刷性に優れ、印刷面
上の印刷汚れも少ない平版印刷版用原板を提供すること
にある。

【００１６】

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記の目的
を達成すべく金属支持体の表面粗さ等を鋭意検討した結
果、インキ感脂性層の表面粗さを特定の範囲に限定し、
このインキ感脂性層上に親水性層を形成した場合に、耐
刷性を向上させることができ、画像部の再現性も良好で
あること見出し本発明を完成させるに至った。すなわ
ち、本発明は、下記の通りである。

【００１７】（１） 金属支持体上に、インキ感脂性層
と金属あるいは金属化合物を含む親水性層とを順次有す
る平版印刷版用原板において、前記インキ感脂性層の中
心線平均表面粗さが０．３〜１．５μｍの範囲にするこ
とを特徴とする平版印刷版用原板。

【００１８】（２） 前記金属あるいは金属化合物を含
む親水性層の表面に、珪酸塩あるいはホスホン酸化合物
で親水化処理を施したことを特徴とする前記（１）に記
載の平版印刷版用原板。

【００１９】（３） 前記金属支持体を粗面化処理を施
したことを特徴とする前記（１）または（２）に記載の
平版印刷版用原板。

【００２０】（４） 前記金属支持体を陽極酸化処理を
施したことを特徴とする前記（１）〜（３）のいずれか
に記載の平版印刷版用原板。

【００２１】本発明の平版印刷版用原板は、金属支持体
の上に、インキ感脂層を設け、更にその層上にレーザー
露光によりアプレーション可能な親水性層を設ける。こ
の親水性層の表面にレーザー光を像様照射すると、光の
照射を受けた部分が熱による破壊（アブレーション）を
生じ、下層のインキ感脂性層の親油性の表面が露出して
インキ受容領域を形成し、光の照射を受けなかった親水
性層表面がインキを受容しない平版印刷画面が形成さ
れ、印刷面を構成させることができる。したがって、本
発明の平版印刷版用原板は、ヒートモード記録法を用い
て、現像処理をすることなく簡易な方法でダイレクト製
版が可能である。つまり、このようにして得られた平版
印刷用原板はレーザー光に基づいた走査露光により十分
な感度の画像記録も可能であり、且つ現像することなく
そのまま印刷機に装着し印刷することも可能である。本
発明は、インキ感脂性層の表面を上記特定の表面粗さの
範囲に限定することにより、支持体とインキ感脂性層と
の間及びインキ感脂性層と親水性層との間の密着力が向
上し耐刷力を向上させることができる。また、印刷した
場合に画像部の再現性も良好なことから鮮明な印刷物も
得られる。特にインキ感脂性層上の親水性層の表面に珪
酸塩あるいはホスホン酸化合物で親水化処理を行うこと
により、印刷枚数を増やしても印刷時に汚れが生じない
耐刷性の優れた平版印刷版が得られる。

【００２２】

【発明の実施の形態】以下、本発明のポジ型感光性平版
印刷版について、支持体、インキ感脂性層、金属あるい
は金属化合物を含む親水性層、珪酸塩あるいはホスホン
酸化合物で親水化処理の順に詳しく説明する。まず、本
発明の平版印刷版用原板に使用される支持体およびその
処理に関して説明する。 〔支持体および基板の作製〕本発明の平版印刷版用原板
の支持体としては、金属支持体、例えば、アルミニウム
板、亜鉛板、ステンレス板、クローム処理鋼板等が挙げ
られれるが、中でもアルミニウム板を用いるのがより好
ましい。

【００２３】（アルミニウム板）本発明において用いら
れるアルミニウム板は、純アルミニウムまたはアルミニ
ウムを主成分とし微量の異原子を含むアルミニウム合金
等の板状体である。この異原子には、ケイ素、鉄、マン
ガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニ
ッケル、チタン等がある。合金組成としては、１０重量
％以下の異原子含有率が適当である。本発明に好適なア
ルミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋な
アルミニウムは、精錬技術上製造が困難であるため、で
きるだけ異原子を含まないものがよい。また、上述した
程度の異原子含有率のアルミニウム合金であれば、本発
明に使用し得る素材ということができる。本発明に使用
されるアルミニウム板は、その組成が特に限定されるも
のではなく、従来公知、公用の素材のものを適宜利用す
ることができる。好ましい素材として、ＪＩＳ Ａ１０
５０、同１１００、同１２００、同３００３、同３１０
３、同３００５材が挙げられる。本発明において用いら
れるアルミニウム板の厚さは、約０．１mm〜０．６mm程
度が適当である。アルミニウム板を粗面化処理するに先
立ち、表面の圧延油を除去するための、例えば界面活性
剤またはアルカリ性水溶液で処理する脱脂処理が必要に
応じて行われる。

【００２４】（粗面化処理および陽極酸化処理）上記の
ようなアルミニウム板は、一般にまずその表面が粗面化
処理される。この粗面化処理の方法としては、機械的に
粗面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方
法および化学的に表面を選択溶解させる方法がある。機
械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラ
スト研磨法、バフ研磨法などと称せられる公知の方法を
用いることができる。例えば、ブラシの毛長を長くする
と粗さが粗くなる傾向がある。また、電気化学的な粗面
化法としては、塩酸または硝酸電解液中で交流または直
流により行う方法があり、例えば、電解グレインの電気
量を多くすることにより、粗さを大きくすることもでき
る。また、特開昭５４−６３９０２号公報に開示されて
いるような両者を組み合わせた方法も利用することがで
きる。本発明では粗面化されたアルミニウム支持体の表
面粗さの数値範囲は中心線平均粗さが０．３〜１．６μ
ｍであり、好ましくは０．６〜１．１μｍである。この
ように粗面化されたアルミニウム板は、必要に応じてア
ルカリエッチング処理および中和処理された後、表面の
保水性や耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理が施され
る。アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質
としては多孔質酸化皮膜を形成するものならばいかなる
ものでも使用することができ、一般には硫酸、リン酸、
蓚酸、クロム酸あるいはそれらの混酸が用いられる。そ
れらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決めら
れる。陽極酸化の処理条件は用いる電解質により種々変
わるので一概に特定し得ないが、一般的には電解質の濃
度が１〜８０％溶液、液温は５〜７０℃、電流密度５〜
６０Ａ／ｄｍ² 、電圧１〜１００Ｖ、電解時間１０秒〜
５分の範囲にあれば適当である。

【００２５】陽極酸化皮膜の量は１．０ｇ／ｍ² 以上が
好適であるが、より好ましくは２．０〜６．０ｇ／ｍ²
の範囲である。陽極酸化皮膜が１．０ｇ／ｍ² 未満であ
ると耐刷性が不十分であったり、平版印刷版の非画像部
に傷が付き易くなって、印刷時に傷の部分にインキが付
着するいわゆる「傷汚れ」が生じ易くなる。なお、この
ような陽極酸化処理は平版印刷版の支持体の印刷に用い
る面に施されるが、電気力線の裏回りにより、裏面にも
０．０１〜３ｇ／ｍ² の陽極酸化皮膜が形成されるのが
一般的である。

【００２６】（酸性水溶液処理）本発明においては、上
記陽極酸化処理されたアルミニウム支持体を、水酸化ア
ルミニウムの形成を抑制し、アルミニウム支持体上への
付着を抑制し、外観故障をなくすために、ｐＨ１．５〜
５、好ましくは２〜４の酸性水溶液による処理が施され
る。ｐＨが１．５より低いと陽極酸化皮膜が溶解し、陽
極酸化皮膜の孔径拡大に伴う汚れ性能の劣化が生じ易く
なる。また。ｐＨが５より高いと、酸化皮膜の形成の防
止ができず、酸化アルミニウム起因の外観故障も抑制す
ることができない。温度は１０℃〜４０℃、好ましくは
１５℃〜３０℃の範囲が適当である。温度が４０℃より
高いと、陽極酸化皮膜が溶解し易くなり、孔径拡大に伴
う汚れ性能の劣化が生じ易くなる。また、１０℃より低
くしても、水酸化アルミニウムの形成の抑制効果は変化
しないが、冷却するためのコストがががり望ましくな
い。時間は０．５〜１２０秒間、好ましくは３〜２０秒
間処理することが適当である。

【００２７】次に、本発明の平版印刷版用原板を構成す
る各層に関して説明する。 〔インキ感脂性層〕本発明の平版印刷用原板に用いられ
るインキ感脂性層（親油層）は親油性を示し、インキの
感脂性が高いものを使うことができる。例えばポリスチ
レン、ポリ−α−メチルスチレン、などのスチレン樹脂
あるいはスチレン共重合体樹脂、ポリ酢酸ビニル、ポリ
塩化ビニル、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアクリ
ル酸エステル類及びポリビニルホルマール、ポリビニル
ブチラール、エチルセルロース、ヒドロキシセルロー
ス、酢酸セルロース、セルロースアセテートプロピオネ
ート等のセルロース誘導体、ポリメタクリル酸エチル、
ポリメタクリル酸ブチルなどのアクリル酸樹脂またはメ
タクリル酸樹脂、ロジン、ロジン変性マレイン酸樹脂、
重合ロジンなどのロジンエステル樹脂などの各種樹脂が
好適である。

【００２８】また、アルカリ水に可溶性の樹脂を用いる
こともできる。例えば、この性質を有するものとして、
ノボラック樹脂がある。フェノールホルムアルデヒド樹
脂、ｍ−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、ｐ−クレゾ
ールホルムアルデヒド樹脂、ｍ−／ｐ−混合クレゾール
ホルムアルデヒド樹脂、フェノール／クレゾール（ｍ
−、ｐ−、ｏ−またはｍ−／ｐ−／ｏ−混合のいずれで
もよい）混合ホルムアルデヒド樹脂などのクレゾールホ
ルムアルデヒド樹脂などが挙げられる。これらのアルカ
リ性可溶性高分子化合物は、重量平均分子量が５００〜
１００，０００のものが好ましい。その他、レゾール型
のフェノール樹脂類も好適に用いられ、フェノール／ク
レゾール（ｍ−、ｐ−、ｏ−またはｍ−／ｐ−／ｏ−混
合のいずれでもよい）混合ホルムアルデヒド樹脂が好ま
しく、特に特開昭６１−２１７０３４号公報に記載され
ているフェノール樹脂類が好ましい。

【００２９】また、フェノール変性キシレン樹脂、ポリ
ヒドロキシスチレン、ポリハロゲン化ヒドロキシスチレ
ン、特開昭５１−３４７１１号公報に開示されているよ
うなフェノール性水酸基を含有するアクリル系樹脂、特
開平２−８６６号公報に記載のスルホンアミド基を有す
るビニル樹脂やウレタン樹脂、特開平７−２８２４４
号、特開平７−３６１８４号、特開平７−３６１８５
号、特開平７−２４８６２８号、特開平７−２６１３９
４号、特開平７−３３３８３９号公報などに記載の構造
単位を有するビニル樹脂など種々のアルカリ可溶性の高
分子化合物を含有させることができる。特にビニル樹脂
においては、以下に示す（１）〜（４）のアルカリ可溶
性基含有モノマーから選ばれる少なくとも１種を重合成
分として有する皮膜形成性樹脂が好ましい。

【００３０】（１）Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）ア
クリルアミドまたはＮ−（４−ヒドロキシフェニル）メ
タクリルアミド、ｏ−、ｍ−またはｐ−ヒドロキシスチ
レン、ｏ−またはｍ−ブロモ−ｐ−ヒドロキシスチレ
ン、ｏ−またはｍ−クロル−ｐ−ヒドロキシスチレン、
ｏ−、ｍ−またはｐ−ヒドロキシフェニルアクリレート
またはメタクリレート等の芳香族水酸基を有するアクリ
ルアミド類、メタクリルアミド類、アクリル酸エステル
類、メタクリル酸エステル類およびビドロキシスチレン
類、（２）アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無
水マレイン酸およびそのハーフエステル、イタコン酸、
無水イタコン酸およびそのハーフエステルなどの不飽和
カルボン酸、

【００３１】（３）Ｎ−（ｏ−アミノスルホニルフェニ
ル）アクリルアミド、Ｎ−（ｍ−アミノスルホニルフェ
ニル）アクリルアミド、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフ
ェニル）アクリルアミド、Ｎ−〔１−（３−アミノスル
ホニル）ナフチル〕アクリルアミド、Ｎ−（２−アミノ
スルホニルエチル）アクリルアミドなどのアクリルアミ
ド類、Ｎ−（ｏ−アミノスルホニルフェニル）メタクリ
ルアミド、Ｎ−（ｍ−アミノスルホニルフェニル）メタ
クリルアミド、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）
メタクリルアミド、Ｎ−〔１−（３−アミノスルホニ
ル）ナフチル〕メタクリルアミド、Ｎ−（２−アミノス
ルホニルエチル）メタクリルアミドなどのメタクリルア
ミド類、また、ｏ−アミノスルホニルフェニルアクリレ
ート、ｍ−アミノスルホニルフェニルアクリレート、ｐ
−アミノスルホニルフェニルアクリレート、１−（３−
アミノスルホニルフェニルナフチル）アクリレートなど
のアクリル酸エステル類などの不飽和スルホンアミド、
ｏ−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、ｍ−ア
ミノスルホニルフェニルメタクリレート、ｐ−アミノス
ルホニルフェニルメタクリレート、１−（３−アミノス
ルホニルフェニルナフチル）メタクリレートなどのメタ
クリル酸エステル類などの不飽和スルホンアミド、
（４）トシルアクリルアミドのように置換基があっても
よいフェニルスルホニルアクリルアミド、およびトシル
メタクリルアミドのような置換基があってもよいフェニ
ルスルホニルメタクリルアミド。

【００３２】さらに、これらのアルカリ可溶性基含有モ
ノマーの他に以下に記す（５）〜（１４）のモノマーを
共重合した皮膜形成性樹脂が好適に用いられる。（５）
脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類およびメタ
クリル酸エステル類、例えば、２−ヒドロキシエチルア
クリレートまたは２−ヒドロキシエチルメタクリレー
ト、（６）アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アク
リル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミ
ル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸シクロヘキシル、
アクリル酸オクチル、アクリル酸フェニル、アクリル酸
ベンジル、アクリル酸−２−クロロエチル、アクリル酸
４−ヒドロキシブチル、グリシジルアクリレート、Ｎ−
ジメチルアミノエチルアクリレートなどの（置換）アク
リル酸エステル、（７）メタクリル酸メチル、メタクリ
ル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチ
ル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタ
クリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸オクチル、メタ
クリル酸フェニル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル
酸−２−クロロエチル、メタクリル酸４−ヒドロキシブ
チル、グリシジルメタクリレート、Ｎ−ジメチルアミノ
エチルメタクリレートなどの（置換）メタクリル酸エス
テル、

【００３３】（８）アクリルアミド、メタクリルアミ
ド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−メチロールメ
タクリルアミド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−エチ
ルメタクリルアミド、Ｎ−ヘキシルアクリルアミド、Ｎ
−ヘキシルメタクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアク
リルアミド、Ｎ−シクロヘキシルメタクリルアミド、Ｎ
−ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエ
チルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ
−フェニルメタクリルアミド、Ｎ−ベンジルアクリルア
ミド、Ｎ−ベンジルメタクリルアミド、Ｎ−ニトロフェ
ニルアクリルアミド、Ｎ−ニトロフェニルメタクリルア
ミド、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアクリルアミドおよび
Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルメタクリルアミドなどのアク
リルアミドもしくはメタクリルアミド、（９）エチルビ
ニルエーテル、２−クロロエチルビニルエーテル、ヒド
ロキシエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテ
ル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、
フェニルビニルエーテルなどのビニルエーテル類、

【００３４】（１０）ビニルアセテート、ビニルクロロ
アセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニルなどの
ビニルエステル類、（１１）スチレン、α−メチルスチ
レン、メチルスチレン、クロロメチルスチレンなどのス
チレン類、（１２）メチルビニルケトン、エチルビニル
ケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン
などのビニルケトン類、（１３）エチレン、プロピレ
ン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレンなどのオレ
フィン類、（１４）Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニル
カルバゾール、４−ビニルピリジン、アクリロニトリ
ル、メタクリロニトリルなど。

【００３５】これらのアルカリ可溶性高分子化合物は、
重量平均分子量が５００〜５００，０００のものが好ま
しい。このようなアルカリ可溶性高分子化合物は１種類
あるいは２種類以上を組み合せて使用してもよい。ま
た、かかる高分子化合物の感光性組成物中に占める割合
は、８０重量％以下が適当であり、好ましくは３０〜８
０重量％、より好ましくは５０〜７０重量％である。こ
の範囲であると現像性および耐刷性の点で好ましい。

【００３６】さらに、米国特許第４，１２３，２７９号
明細書に記載されているように、ｔ−ブチルフェノール
ホルムアルデヒド樹脂、オクチルフェノールホルムアル
デヒド樹脂のような、炭素数３〜８のアルキル基を置換
基として有するフェノールとホルムアルデヒドとの縮合
物あるいはこれらの縮合物のｏ−ナフトキノンジアジド
スルホン酸エステル（例えば特開昭６１−２４３４４６
号に記載のもの）を併用することは画像の感脂性を向上
させる上で好ましい。

【００３７】また、上記インキ感脂性樹脂には顔料や染
料を添加して用いることもできる。顔料としては、無機
系顔料や有機系顔料を使用できる。特に使用するレーザ
ーの波長に吸収を持つ顔料が好適である。好ましい無機
系顔料としてはカーボンブラック、酸化チタン、酸化カ
ルシウム、チッ化チタン、酸化亜鉛などを使用できる。
また、好ましい有機系顔料としては、グリーンゴール
ド、ローダミンキレートなどが挙げられる。これらの中
でも着色顔料をインキ感脂性層に加えておくと加熱によ
り親水性層をアブレートして除去し易い。

【００３８】また、染料を添加することもできる。レー
ザー光を熱に変換できる物質の例としては、カーボンブ
ラック、可視光線、近赤外線、赤外線を吸収する染料、
もしくは、顔料、金属などがある。それぞれ使用するレ
ーザー光を吸収できれば特に制限はない。顔料および染
料の平均粒径は１〜１０μｍの範囲の好ましくは１〜５
μｍの顔料を添加することが望ましい。次に赤外線レー
ザーを用いる場合の色素を例に挙げる。シアニン色素、
スクワリリウム色素、メチン系色素、ナフトキノン系色
素、キノンイミン系色素、キノンジイミン系色素、ピリ
リウム塩系色素、ナフトキノン系色素、フタロシアニン
系色素、ナフトロシアニン系色素、ジチオール金属錯体
色素、アントラキノン系色素、アゾ系色素、トリスアゾ
系色素、アミニウム塩系色素などが挙げられる。

【００３９】また着色用に染料を添加することもでき
る。画像の着色剤として前記上記特開平５−３１３３５
９号公報に記載の染料以外に他の染料を用いることがで
きる。塩形成性有機染料を含めて好適な染料として油溶
性染料および塩基染料を挙げることができる。具体的に
は、オイルグリーンＢＧ、オイルブルーＢＯＳ、オイル
ブルー＃６０３、（以上、オリエント化学工業株式会社
製）、ビクトリアピュアブルーＢＯＨ、ビクトリアピュ
アブルーＮＡＰＳ、エチルバイオレット６ＨＮＡＰＳ
（以上、保土谷化学工業（株）製）、ローダミンＢ（Ｃ
１４５１７０Ｂ）、マラカイトグリーン（Ｃ１４２００
０）、メチレンブルー（Ｃ１５２０１５）等を挙げるこ
とができる。

【００４０】また、塗布性を良化するために界面活性剤
を添加することもできる。インキ感脂性層塗液中には、
塗布性を良化するための界面活性剤、例えば、特開昭６
２−１７０９５０号公報に記載されているようなフッ素
系界面活性剤を添加することができる。好ましい添加量
は、全インキ感脂性層組成物の０．０１〜１重量％であ
り、さらに好ましくは０．０５〜０．５重量％である。

【００４１】インキ感脂性層の厚みは０．０５〜５μｍ
にする事が好適である。好ましくは０．１〜２μｍであ
る。特に好ましくは０．５〜１μｍである。厚みは破面
をＳＥＭで観察し、１０カ所を平均した。本発明ではイ
ンク感脂性層の表面粗さの数値範囲は中心線平均粗さが
０．３〜１．５μｍであり、好ましくは０．５〜１．０
μｍである。０．３μｍ未満ではインキ感脂性層と親水
性層との密着不良が生じ耐刷性が不足する。１．５μｍ
を超えて粗くなると汚れやすくなり、共に不適ある。

【００４２】〔金属あるいは金属化合物を含む親水性
層〕上記のようにして金属支持体上に形成されたインキ
感脂性層の表面に、以下の金属あるいは金属化合物を含
む親水性層が形成される。金属及び金属化合物として
は、親水性で硬く更にレーザー波長に吸収を持つものが
好適である。金属としては、遷移金属、インジウム、ス
ズ、アンチモン、タリウム、テルル、鉛、ビスマス、ア
ルミニウム、ガリウム、ゲルマニウム、テルルなどの金
属あるいはこれらの合金が望ましい。遷移金属とは原子
番号２１から３０のスカンジウムから亜鉛、原子番号３
９から４８のイットリウムからカドミウム、原子番号７
２から８０のハフニウムから水銀、原子番号５７から７
１のランタノイド系希土類金属などの任意の遷移金属の
化合物を用いることができる。なお、一般に亜鉛、カド
ミウム、水銀は電子殻がとりうる構造が多いので遷移金
属に含ませる場合と含ませない場合があるが、本発明で
はこれらの元素も本発明の効果が認められるので遷移金
属に含めている。上記の具体例の中でも、チタン、亜
鉛、鉄、コバルト、ニッケル、銅、スズ、テルル、イン
ジウム、バナジウム、ビスマスが望ましい。特に５００
℃以下の融点のスズ、テルル、ビスマス、亜鉛が望まし
い。金属層の膜厚は１００Å〜１μｍが望ましい。中で
も５００Å〜５０００Åが特に望ましい。金属層は真空
蒸着、スパッタリング、ＣＶＤ、めっきで設けることが
できる。

【００４３】また、金属化合物は酸化物、チッ化物、ケ
イ化物、ホウ化物、炭化物などを総称して言い、レーザ
ー光の波長に吸収を持つ金属を含む化合物なら何でも良
い。また、単体のみではなく混合物でも良い。酸化チタ
ン、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、酸化バナジウ
ム、酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化モリブデン、酸化
タングステン、酸化クロムなどがあげられる。また、チ
ッ化チタン、チッ化ジルコニウム、チッ化ハフニウム、
チッ化バナジウム、チッ化ニオブ、チッ化タンタル、チ
ッ化モリブデン、チッ化タングステン、チッ化クロム、
チッ化珪素、チッ化ホウ素などがあげられる。また、ケ
イ化チタン、ケイ化ジルコニウム、ケイ化ハフニウム、
ケイ化バナジウム、ケイ化ニオブ、ケイ化タンタル、ケ
イ化モリブデン、ケイ化タングステン、ケイ化クロムな
どがあげられる。ホウ化チタン、ホウ化ジルコニウム、
ホウ化ハフニウム、ホウ化バナジウム、ホウ化ニオブ、
ホウ化タンタル、ホウ化モリブデン、ホウ化タングステ
ン、ホウ化クロムなどがあげられる。また、炭化チタ
ン、炭化ジルコニウム、炭化ハフニウム、炭化バナジウ
ム、炭化ニオブ、炭化タンタル、炭化モリブデン、炭化
タングステン、炭化クロムなどが挙げられる。金属化合
物形成には陽極酸化、蒸着、ＣＶＤ、ゾルゲル、スパッ
タリング法、イオンプレーティング法、拡散法などを適
宜用いることができる。中でも陽極酸化法により酸化物
を形成することが望ましい。厚みは１００Å〜１０μｍ
が好適である。望ましくは５００Å〜５μｍである。特
に望ましくは１０００Å〜１μｍである。本発明では金
属あるいは金属化合物を含む親水性層の表面粗さの数値
範囲は中心線平均粗さが０．３〜１．５μｍであり、好
ましくは０．５〜１．０μｍである。

【００４４】（親水化処理方法）上記金属あるいは金属
化合物層の親水性を強化する意味で次にあげる親水化処
理を施すことが望ましい。米国特許第２７１４０６６号
及び第３１８１４６１号公報に開示されているアルカリ
金属シリケートまたは特公昭３６−２２０６３号公報に
開示されているフッ化ジルコニウム酸カリウム及び米国
特許第４１５３４６１号公報に開示されているようなポ
リビニルホスホン酸で処理する方法がある。あるいは特
開平９−２４４２２７号に開示されている燐酸塩と無機
フッ素化合物を含む水溶液処理する方法を用いることが
できる。また、特開平１０−２５２０７８号及び１０−
２６３４１１号に開示されているチタンとフッ素を含む
水溶液で処理する方法を用いることができる。中でもア
ルカリ金属珪酸塩やポリビニルホスホン酸処理が好適で
ある。

【００４５】本発明の親水化処理に用いられるアルカリ
金属珪酸塩としては、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、
珪酸リチウムなどが使用される。この親水化処理は、ア
ルカリ金属珪酸塩が０．０１〜３０重量％、好ましくは
０．０１〜１０重量％、特に好ましくは０．０５〜３重
量％で。２５℃でのｐＨが１０〜１３であるアルカリ金
属珪酸塩水溶液に、金属あるいは金属化合物を含む親水
性層を４〜８０℃で０．５〜１２０秒間、好ましくは２
〜３０秒間浸漬する方法により、Ｓｉ原子の付着量が上
記特定量となるようアルカリ金属珪酸塩濃度、処理温
度、処理時間等の処理条件を適宜選択して、好ましく行
うことができる。この親水化処理を行うに当たり、アル
カリ金属珪酸塩水溶液のｐＨが１０より低いと液はゲル
化し、１３．０より高いと金属あるいは金属化合物が溶
解されてしまうので、この点注意を要する。本発明の親
水化処理においては、必要に応じ、アルカリ金属珪酸塩
水溶液のｐＨを高く調整するために水酸化物を配合する
ことができ、その水酸化物としては水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、水酸化リチウムなどが挙げられる。ま
た、必要に応じ、アルカリ金属珪酸塩水溶液にアルカリ
土類金属塩もしくは第ＩＶＢ族金属塩を配合してもよ
い。このアルカリ土類金属塩としたは、硝酸カルシウ
ム、硝酸ストロンチウム、硝酸マグネシウム、硝酸バリ
ウムのような硝酸塩や、これらのアルカリ土類金属の硫
酸塩、塩酸塩、燐酸塩、酢酸塩、蓚酸塩、ホウ酸塩など
の水溶性の塩が挙げられる。第ＩＶＢ族金属塩として
は、四塩化チタン、三塩化チタン、フッ化チタンカリウ
ム、蓚酸チタンカリウム、硫酸チタン、四沃化チタン、
塩化酸化ジルコニウム、二酸化ジルコニウム、オキシ塩
化ジルコニウム、四塩化ジルコニウムなどを挙げること
ができる。アルカリ土類金属塩もしくは第ＩＶＢ族金属
塩は単独または２以上組み合わせて使用することができ
る。これらの金属塩の好ましい使用量範囲は０．０１〜
１０重量％であり、さらに好ましい範囲は０．０５〜
５．０重量％である。ポリビニルホスホン酸処理に用い
られる水溶液としては濃度が０．０１〜１０重量％、望
ましくは０．１から５重量％、更に望ましくは０．２か
ら２．５重量％、温度が１０℃から７０℃で望ましくは
３０℃から６０℃であり、この水溶液に０．５秒から１
０分、より望ましくは１秒から３０秒処理を行うのが適
当である。

【００４６】（製版方法）次に、この平版印刷版用原板
の製版方法について説明する。この平版印刷版用原板
は、例えば、熱記録ヘッドなどにより直接画像様に感熱
記録を施したり、波長７６０〜１２００ｎｍの赤外線を
放射する固体レーザー又は半導体レーザー、あるいは赤
外線灯を用いたり、あるいはキセノン放電灯などによる
高照度の紫外線又は可視光線のフラッシュ露光を行うな
どの方法で画像露光される。

【００４７】画像の書き込みは、面露光方式、走査方式
のいずれでもよい。前者の場合は、赤外線照射方式や、
キセノン放電灯の高照度の短時間光を原板上に照射して
光・熱変換によって熱を発生させる方式である。赤外線
灯などの面露光光源を使用する場合には、その照度によ
っても好ましい露光量は変化するが、通常は、印刷用画
像で変調する前の面露光強度が０．１〜１０J/cm² の範
囲であることが好ましく、０．３〜１J/cm² の範囲であ
ることがより好ましい。その露光時間は、０．０１〜１
ｍｓｅｃ、好ましくは０．０１〜０．１ｍｓｅｃの照射
で上記の露光強度が得られるように露光照度を選択する
のが好ましい。照射時間が長区しても、照射部の温度上
昇は、熱エネルギーの生成速度と生成した熱エネルギー
の拡散速度の競争関係によるので、露光照度を下げるこ
とには限度があり、照射時間と照度との間に相反則は成
り立たない。

【００４８】後者の場合には、赤外線成分を多く含むレ
ーザー光源を使用して、レーザービームを画像で変調し
て原板上を走査する方式が行われる。レーザー光源の例
として、半導体レーザー、ヘリウムネオンレーザー、ヘ
リウムカドミウムレーザー、ＹＡＧレーザーを挙げるこ
とができる。ピーク出力が１０００Ｗ、好ましくは２０
００Ｗのレーザーを照射するのが好ましい。この場合の
露光量は、印刷用画像で変調する前の面露光強度が０．
１〜１０J/cm² の範囲であることが好ましく、０．３〜
１J/cm² の範囲であることがより好ましい。

【００４９】画像露光された平版印刷版用原板は、露光
後に水現像し、更に必要であればガム引きを行ったの
ち、印刷機に版を装着し印刷を行うこともできる。ま
た、露光後ただちに（現像工程を経ずに）印刷機に版を
装着し印刷を行うこともできる。この場合は、湿し水等
により、加熱部あるいは露光部が膨潤し、印刷初期に膨
潤部が除去され、平版印刷版が形成される。即ち、本発
明の平版印刷版用原板を使用する製版方法では、特に現
像処理を経ることなく平版印刷版を製版し得る。本発明
における水現像とは、水或いは水を主成分とするｐＨ２
以上の現像液により現像することを指す。水現像を行う
場合も、現像処理を行わない場合も、露光後に加熱処理
を行うことが記録時の感度向上の観点から好ましい。加
熱処理の条件は、８０〜１５０℃の範囲内で１０秒〜５
分間行うことが好ましい。即ち、この加熱処理を施すこ
とにより、レーザー照射時、記録に必要なレーザーエネ
ルギーを減少させることができる。

【００５０】このような処理によって得られた本発明の
平版印刷版用原板は水現像されるかあるいは現像工程を
経ずにそのままオフセット印刷機等にかけられ、多数枚
の印刷に用いられる。

【００５１】

【実施例】以下、実施例により、本発明を詳細に説明す
るが、本発明の範囲はこれらによって限定されるもので
はない。 （実施例１）板厚０．２４ｍｍのＪＩＳ Ａ１０５０ア
ルミニウム板の表面を８号ナイロンブラシと４００メッ
シュのパミストンの水懸濁液を用い砂目立てした後、よ
く水で洗浄した。１０％水酸化ナトリウムに７０℃で６
０秒間浸せきしてエッチングした後、流水で水洗後、２
０％硝酸で中和洗浄、水洗した。これをＶ_A ＝１２．７
Ｖの条件下矩形波の交番波形電流を用いて１％硝酸水溶
液中で２３０クーロン／ｄｍ² の陽極時電気量で電解粗
面化処理を行った後、３０％の硫酸水溶液中で浸せきし
５５℃で２分間浸せきし、デスマット処理してから水洗
した。ひきつづいて１０％、５０℃の硫酸電解液で３０
Ａ／ｄｍ² で陽極酸化被膜量が２ｇ／ｍ ² となるように
陽極酸化し、水洗し、基板を作成した。前記基板に下記
処方Ａの溶液を乾燥後の厚さが１μｍとなるようにイン
キ感脂性層を塗布、乾燥し、基板Ａを作成し、その表面
粗さ（Ｒａ）を測定したところ０．５μｍであった。

【００５２】 （処方Ａ） 1,2-ジアゾナフトキノン-5- スルホニルクロリドと ピロガロール−アセトン樹脂とのエステル化物 （米国特許第3635709 号明細書の実施例１に記載 されているもの） ：０．７ｇ ノボラック樹脂 ：１．９ｇ ビクトリアピュアブルーＢＯＨ ：０．１ｇ （保土谷化学製の対アニオンを１−ナフタレンスルホン酸に変えた染料） Ｆ１７５ＰＦ（フッ素系界面活性剤） ：０．０６ｇ （大日本インキ化学工業製） メチルエチルケトン ：１０ｇ

【００５３】上記基板Ａにスズを５００Åの厚さに真空
蒸着した。次いで３号ケイ酸Ｎａ２．５％溶液に３０
℃、１２秒浸漬してから水洗し、平版印刷版用原板（Ａ
−１）を作製した。

【００５４】（実施例２）上記処方Ａの溶液を乾燥後の
厚さが０．５μｍになるようにインキ感脂性層を塗布
し、表面粗さ（Ｒａ）を０．８μｍにした以外は実施例
１の基板Ａと同様にして基板Ｂを作成した。その上層に
スパッタリングにて炭化チタンを１０００Åの厚みに形
成し、３号ケイ酸Ｎａ２．５％溶液に５０℃、２０秒浸
漬してから水洗、乾燥し、平版印刷版用原板（Ａ−２）
を作製した。

【００５５】（実施例３）処方Ａ溶液の乾燥後の層の厚
さを０．１μｍになるようにインキ感脂性層を塗布し、
表面粗さ（Ｒａ）を１．０μｍにした以外は実施例１と
同様にして基板Ｃを作製した。更にスパッタリングにて
チッ化チタンを１０００Åの厚みに形成し、３号ケイ酸
Ｎａ２．５％溶液に５０℃、２０秒浸漬してから水洗、
乾燥し、平版印刷版用原板（Ａ−３）を作製した。

【００５６】（実施例４）処方Ａ溶液の乾燥後の厚さが
４μｍになるようにインキ感脂性層を塗布し、表面粗さ
（Ｒａ）を０．３μｍにした以外は実施例１で作成した
基板Ａと同様にして基板Ｃを作製した。スパッタリング
にて酸化チタンを１０００Åの厚みに形成し、３号ケイ
酸Ｎａ２．５％溶液に６０℃、１２秒浸せきしてから水
洗、乾燥し、平版印刷版用原板（Ａ−４）を作製した。

【００５７】（実施例５）ブラシ号数を３２号ブラシに
した以外は実施例３と同様にし、表面粗さ（Ｒａ）が
１．５μｍになるように基板Ｄを作成した。基板Ｄにス
パッタリングにてチッ化アルミニウムを１０００Åの厚
みに形成し、ポリビニルホスホン酸１％溶液に６０℃、
１２秒浸漬してから水洗、乾燥し、平版印刷版用原板
（Ａ−５）を作製した。

【００５８】（実施例６）実施例１で作製した基板Ａの
代わりに下記処方Ｂの溶液を塗布、乾燥し、基板Ｅを作
製した。その表面粗さ（Ｒａ）を測定したところ０．５
μｍであった。

【００５９】 （処方Ｂ） 1,2-ジアゾナフトキノン-5- スルホニルクロリドと ピロガロール−アセトン樹脂とのエステル化物 （米国特許第3635709 号明細書の実施例１に記載 されているもの） ：２ｇ ポリウレタン樹脂 ：５ｇ スチレン−無水マレイン酸共重合体の ｎ−ヘキサノールによるハーフエステル ：０．１ｇ ビクトリアピュアブルーＢＯＨ ：０．１８ｇ （保土谷化学製の対アニオンを１−ナフタレンスルホン酸に変えた 染料） [C₆F₁₇CH₂CH₂O]_1.7[POOH]_1.3で表される化合物 ：０．０１５ｇ メガファックＦ−１７７ ：０．０６ｇ １−メトキシ ２−プロパノール ：２０ｇ メタノール ：４０ｇ メチルエチルケトン ：４０ｇ イオン交換水 ：１ｇ 基板Ｅに実施例１と同様にスズを蒸着し基板（Ａ−６）
を作製した。

【００６０】（実施例７）実施例６のスズの代わりに鉄
を蒸着し、１号ケイ酸Ｋ２．５％溶液に３０℃、１２秒
浸漬してから水洗、乾燥した以外は実施例１と同じ方法
で、平版印刷版用原板（Ａ−７）を作製した。

【００６１】（実施例８）実施例１で作製した基板Ａの
処方Ａの代わりに下記処方Ｃの溶液を０．５μｍの厚さ
になるように塗布、乾燥した以外は実施例１と同じ方法
で、基板Ｆを作製した。その表面粗さを測定したところ
０．８μｍであった。

【００６２】（処方Ｃ） ポリエステル樹脂 ：２０ｇ カーボンブラック ：１ｇ 微粉末シリカ ：１ｇ メチルエチルケトン ：１０ｇ トルエン ：１ｇ 基板Ｆにスパッタリングで炭化チタンを１０００Åの厚
みに形成し、３号ケイ酸Ｎａ２．５％溶液に６０℃、１
２秒浸漬してから水洗、乾燥し、平版印刷版用原板（Ａ
−８）を作製した。

【００６３】（実施例９）実施例８の炭化チタンの代わ
りにチッ化ホウ素の薄膜をスパッタリングで形成させた
以外は実施例８と同様に作成し、基板（Ａ−９）を作製
した。

【００６４】（実施例１０）市販のステンレス板に処方
Ｃの溶液を０．５μｍになるように塗布、乾燥した後、
真空蒸着で鉄を１０００Åの厚みに形成し、３号ケイ酸
Ｎａ２．５％溶液に６０℃、１２秒浸漬してから水洗、
乾燥し、平版印刷版用原板（Ａ−１０）を作製した。

【００６５】（実施例１１）市販の０．２４ｍｍのチタ
ン板を硫酸１０％溶液中、５Ａ／ｄｍ² 、１２０秒陽極
酸化処理を行った後、処方Ｃの厚さを１μｍになるよう
に塗布・乾燥した後、スパッタリングでチッ化チタン薄
膜を１０００Åの厚みに形成し、３号ケイ酸Ｎａ２．５
％溶液に６０℃、１２秒浸漬してから水洗、乾燥し、平
版印刷版用原板（Ａ−１１）を作製した。

【００６６】（実施例１２）基板Ａの陽極酸化処理を行
わなかったこと以外は、実施例４と同様にして平版印刷
版用原板（Ａ−１２）を作製した。

【００６７】（比較例１）実施例１の粗面化処理を行わ
なかったこと以外は、平版印刷版用原板（Ａ−１）と同
様に比較例１の平版印刷版用原板を作製した。表面粗さ
（Ｒａ）を測定したところ０．２μｍであった。

【００６８】（比較例２）表面粗さ（Ｒａ）を１．８μ
ｍにした以外は実施例６と同様にして基板を作製した。
その後、実施例１と同様にスズを５００Åの厚みに真空
蒸着して、比較例２の平版印刷版用原板を作製した。

【００６９】上記実施例で作成した平版印刷版用原板
（Ａ−１）〜（Ａ−１１）および比較例１〜２の平版印
刷版用原板に次の条件でＹＡＧレーザーを照射した後、
（株）富士写真フイルム社製ＧＵ−７をＧ８００Ｈで塗
布して平版印刷版を作製した。

【００７０】 レーザーパワー： ０．７Ｗ ビーム半径 ： ３５μｍ 走査速度 ： １２ｍ／ｓｅｃ

【００７１】（印刷性評価）この様にしてレーザー照射
により画像形成した各平版印刷版用原板を後処理するこ
となく印刷機にかけて印刷を行った。印刷機としてはハ
リス菊半単色機（ハリス（株）製）を用い、インキとし
てＧｅｏｓ墨（大日本インキ化学工業（株）製）、湿し
水としてＩＰＡ：１０％＋ＥＵ−３：１％を用いて、上
質紙上に印刷を行った。その結果、非画像部には汚れが
なく、また、画像部には着肉した鮮明な印刷物を多数枚
印刷することができた。耐刷性は印刷枚数で評価した。
印刷枚数の多い方が耐刷性があることを意味する。結果
を表１に示した。いずれの平版印刷版も表１に示した印
刷枚数まで鮮明な印刷物を得ることができた。しかし、
比較例１は耐刷性が極端に劣る結果であった。また、網
点再現性は印刷したときの網点再現性を以下のように評
価したところ、概ね良好な結果が得られたが、比較例２
のみが網点再現性が劣る結果であった。

【００７２】網点再現性 ○：網点再現性が良好。 △：×よりは良好だが、○よりは劣る。 ×：網点再現性が劣る。 汚れ性 ○：汚れ性良好。 △：×よりは良好だが、○よりは劣る。 ×：汚れ性劣る。

【００７３】

【表１】

【００７４】表１から明らかなように、本発明にかかわ
る各実施例の平版印刷版用原板は印刷汚れ、網点再現
性、耐刷性について、それぞれ満足すべき結果を得た
が、各比較例の平版印刷用原版は、何らかの性質におい
て不満足なものであった。

【００７５】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の平版印刷
版用原板の製造方法は、金属支持体上に、インキ感脂層
を設け、更にその層上にレーザー露光によりアブレーシ
ョン可能な親水性層を設けることにより、レーザー光の
像様照射によるアブレーションによって非照射部がイン
キを受容しない平版印刷画面が形成される。従って、本
発明はヒートモード記録法を用いて現像処理をすること
なく簡易な方法でダイレクト製版が可能で、かつ印刷面
の鮮明性が保たれた平版印刷が可能である。また、機上
製版も可能である。更に、本発明によれば、インキ感脂
性層の表面粗さを０．３〜１．５μｍの範囲にすること
により耐刷性を向上できる。更には陽極酸化膜を設ける
と耐刷性が向上し、また、インキ感脂層上に金属又は金
属化合物層（親水性層）を設けることにより耐刷性をよ
り向上できる。また、親水性層上に珪酸塩あるいはホス
ホン酸化合物で親水化処理することにより、印刷枚数を
増やしても汚れることなく印刷でき、網点再現性、耐刷
性および印刷汚れに優れた平版印刷用原版を提供すると
いう効果を奏する。

フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H025 AA01 AA12 AB03 AC08 AD03 BH01 DA03 DA36 DA40 FA10 2H096 AA06 BA20 CA05 CA20 EA04 EA23 2H114 AA04 AA22 AA27 BA01 DA03 DA05 DA25 DA26 DA28 DA35 DA49 DA56 DA73 DA78 EA01 EA03 EA05 FA16 GA03 GA05 GA08 GA09 GA34 GA38

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 金属支持体上に、インキ感脂性層と、金
   属あるいは金属化合物を含む親水性層とを順次有し、前
   記インキ感脂性層の中心線平均表面粗さが０．３〜１．
   ５μｍの範囲にすることを特徴とする平版印刷版用原
   板。
2. 【請求項２】 前記金属あるいは金属化合物を含む親水
   性層の表面に、珪酸塩あるいはホスホン酸化合物で親水
   化処理を施したことを特徴とする請求項１に記載の平版
   印刷版用原板。