JP2002029166A - 感熱性平版印刷版原版及び画像形成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 短時間での走査露光が可能で、レーザー露光
時、感熱層のアブレーション（飛散）が抑制され、現像
処理を行うことなく直接に印刷機に装着して印刷するこ
とが可能であり、耐刷性に優れ、非画像部の汚れがない
優れた品質の印刷物が得られる感熱性平版印刷版原版及
びその画像形成方法を提供する。 【解決手段】 熱可塑性または熱分解性表面を有するイ
ンク受容層上に、金属酸化物薄膜親水層、及び光熱変換
剤を含有する水溶性オーバーコート層を順次設けてな
る。ここで、金属酸化物薄膜親水層が画像形成に使用す
るレーザー光に対して透過性であり、レーザー露光によ
り露光部の光熱変換剤を含有する水溶性オーバーコート
層が発熱することで、インク受容層と金属酸化物薄膜親
水層間の密着が低下して、金属酸化物薄膜親水層が除去
可能となる態様が好ましい。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、現像不要で耐刷性
に優れたオフセット印刷用のダイレクト感熱性平版印刷
版原版及びその画像形成方法に関する。より詳しくは、
ディジタル信号に基づいた走査露光による画像記録が可
能であり、画像記録した平版印刷版を液体による現像工
程を経ることなしに、そのまま印刷機に装着し印刷する
ことが可能な平版印刷版原版及びそれを用いた画像形成
方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、平版印刷版は、印刷過程でイン
クを受容する親油性の画像部と湿し水を受容する親水性
の非画像部とからなる。このような平版印刷版として
は、従来から、親水性支持体上に親油性の感光性樹脂層
を設けたＰＳ版が広く用いられている。その製版方法と
して、通常は、リスフイルムなどの原画を通して露光を
行った後、非画像部を現像液によって溶解除去する方法
であり、この方法により所望の印刷版を得ている。従来
のＰＳ版に於ける製版工程は、露光の後、非画像部を溶
解除去する操作が必要であり、このような付加的な湿式
の処理を不要化又は簡易化することが、従来技術に対し
て改善が望まれてきた一つの課題である。特に近年は、
地球環境への配慮から湿式処理に伴って排出される廃液
の処分が産業界全体の大きな関心事となっているので、
この面での改善の要請は一層強くなっている。

【０００３】この要望に応じた簡易な製版方法の一つと
して、印刷版用原版の非画像部の除去を通常の印刷過程
の中で行えるような画像記録層を用い、露光後、印刷機
上で現像し、最終的な印刷版を得る方法が提案されてい
る。このような方法による平版印刷版の製版方式は機上
現像方式と呼ばれる。具体的方法としては、例えば、湿
し水やインク溶剤に可溶な画像記録層の使用、印刷機中
の圧胴やブランケット胴との接触による力学的除去を行
う方法等が挙げられる。しかしながら、従来の紫外線や
可視光を利用した画像記録材料を機上現像しようとする
場合、これらの画像形成材料は、露光後も、画像記録層
が定着されないため、例えば、印刷機に装着するまでの
間、原版を完全に遮光状態又は恒温条件で保存する、と
いった手間のかかる方法をとる必要があった。

【０００４】一方、近年のこの分野のもう一つの動向と
しては、画像情報をコンピュータを用いて電子的に処
理、蓄積、出力する、ディジタル化技術が広く普及して
きており、このような、ディジタル化技術に対応した、
新しい画像出力方式が種々実用されるようになってきて
いる。これに伴い、レーザ光のような高収斂性の輻射線
にディジタル化された画像情報を担持してこの光で原版
を走査露光し、リスフィルムを介することなく、直接印
刷版を製造するコンピュータ・トゥ・プレート技術が注
目されている。それに伴ってこの目的に適応した印刷版
用原版を得ることが重要な技術課題となっている。した
がって、製版作業の簡素化、乾式化、無処理化は、上記
した環境面と、ディジタル化への適合化の両面から、従
来にも増して、強く望まれるようになっている。

【０００５】デジタル化技術に組み込みやすい走査露光
による印刷版の製造方法として、最近、半導体レーザ、
ＹＡＧレーザ等の固体レーザで高出力のものが安価に入
手できるようになってきたことから、特に、これらのレ
ーザを画像記録手段として用いる製版方法が有望視され
るようになっている。従来方式の製版方法では、感光性
原版に低〜中照度の像様露光を与えて光化学反応による
原版面の像様の物性変化によって画像記録を行っている
が、高出力レーザを用いた高パワー密度の露光を用いる
方法では、露光領域に瞬間的な露光時間の間に大量の光
エネルギーが集中照射して、光エネルギーを効率的に熱
エネルギーに変換し、その熱により化学変化、相変化、
形態や構造の変化などの熱変化を起こさせ、その変化を
画像記録に利用する。つまり、画像情報はレーザー光な
どの光エネルギーによって入力されるが、画像記録は熱
エネルギーによる反応によって記録される。通常、この
ような高パワー密度露光による発熱を利用した記録方式
はヒートモード記録と呼び、光エネルギーを熱エネルギ
ーに変えることを光熱変換と呼んでいる。ヒートモード
記録手段を用いる製版方法の大きな長所は、室内照明の
ような通常の照度レベルの光では感光せず、また高照度
露光によって記録された画像は定着が必須ではないこと
にある。つまり、画像記録にヒートモード感材を利用す
ると、露光前には、室内光に対して安全であり、露光後
にも画像の定着は必須ではない。従って、例えば、ヒー
トモード露光により不溶化若しくは可溶化する画像記録
層を用い、露光した画像記録層を像様に除去して印刷版
とする製版工程を機上現像方式で行えば、現像（非画像
部の除去）は、画像露光後ある時間、たとえ室内の環境
光に暴露されても、画像が影響を受けないような印刷シ
ステムが可能となる。従ってヒートモード記録を利用す
れば、機上現像方式に望ましい平版印刷版原版を得るこ
とも可能となると期待される。

【０００６】ヒートモード記録に基づく平版印刷版の好
ましい製造法の一つとして、親水性の基板上に疎水性の
画像記録層を設け、画像状にヒートモード露光し、疎水
性層の溶解性・分散性を変化させ、必要に応じ、湿式現
像により非画像部を除去する方法が提案されている。こ
のような原版の例として、例えば、特公昭４６−２７９
１９号には、親水性支持体上に、熱により溶解性が向上
するいわゆるポジ作用を示す記録層、具体的には糖類や
メラミンホルムアルデヒド樹脂等の特定の組成を有する
記録層を設けた原版をヒートモード記録することによっ
て、印刷版を得る方法が開示されている。しかしなが
ら、開示された記録層はいずれも感熱性が十分でないた
め、ヒートモード走査露光に対しては、感度が不十分で
あった。また、露光前後の疎水性／親水性のディスクリ
ミネーション、即ち、溶解性の変化が小さいことも、実
用上問題であった。ディスクリミネーションが乏しけれ
ば、機上現像方式の製版を行うことは実質的に困難であ
る。

【０００７】特開平６−２３６３００号公報には、熱可
塑性を有する支持体上に、金属酸化物薄膜層が形成され
てなる平版印刷版が開示されている。この平版印刷版に
おいては、加熱部は支持体の表面が溶融すると同時に金
属酸化物薄膜層が破壊されて支持体と一体化するために
支持体表面が露出する旨の記載があるが、実際には金属
酸化物薄膜は完全には支持体に埋没することはなく、こ
のため、露光部、未露光部の疎水性・親水性のディスク
リミネーションは不充分であるという問題を有してい
た。

【０００８】また、ＷＯ９８／４０２１２号公報には、
遷移金属酸化物コロイドからなる親水層が、光熱変換剤
を含有するインキ受容性層を塗布した基板上に設けられ
た、現像することなしに製版することが可能な平版印刷
版原版が開示されている。これは、露光部において光熱
変換剤により発生した熱により、遷移金属酸化物コロイ
ドからなる親水層がアブレーション（飛散）して除去さ
れるものである。しかし、基板側に光熱変換剤が存在し
ているので、吸収光から変換した熱が基板側に発散し、
その為コロイドからなる親水層のアブレーションに有効
に利用することが出来ず、感度が低いという欠点を有し
ていた。その他特開昭５５−１０５５６０号公報やＷＯ
９４／１８００５号公報には、前記と同様にアブレーシ
ョンする親水層が、親油性の光熱変換層が塗布された基
板上に設けられた平版印刷版原版が開示されている。い
ずれも上記と同様な理由で低感度であった。

【０００９】ＷＯ９９／１９１４３号公報やＷＯ９９／
１９１４４公報には上記のアブレーションする感熱性平
版印刷版原版の感度が低いという欠点を改良する目的
で、上層のコロイドからなる親水層に光熱変換剤が添加
された平版印刷版原版が開示されている。感度は確かに
高感になったが、光熱変換剤が親水層に添加されたた
め、親水層の膜質が低下し耐刷力が低下したり、場合に
よっては親水層の親水性が損われ、印刷途中で非画像部
がインキで汚染される等の問題が新たに発生した。更
に、従来の感熱性平版印刷版原版では、親水層のアブレ
ーション（飛散）によって、レーザー露光装置や光源が
汚染されるため、これらの装置にアブレーションカス捕
捉装置を設ける必要があり、さらに捕捉装置を設けても
汚染を十分に取り除くことは困難であった。ヒートモー
ドの画像記録を利用する製版・印刷方法は、版下からフ
ィルムを介することなく直接に刷版を作ることができ、
したがって機上で製版することも可能であり、現像操作
を省くこともできるなどの利点を持ちながら、上記した
ような欠点を有している。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、従来
のレーザー露光を用いるヒートモードの製版方法の欠点
を解決することであり、すなわち、短時間での走査露光
が可能で、その上現像処理を行うことなく直接に印刷機
に装着して印刷することが可能であり、耐刷性にすぐ
れ、非画像部の汚れがない優れた品質の印刷物が得られ
る感熱性平版印刷版原版及びその画像形成法を提供する
ことにある。本発明の他の目的は、レーザー露光時、感
熱層のアブレーション（飛散）が抑制され、露光装置や
光源の汚染が少ない感熱性平版印刷版原版及びその画像
形成法を提供することにある。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記の課題
に対して親水層上の最表面層に光熱変換剤を含む水溶性
のオーバーコートを設けることで、耐刷力や印刷適性を
損うことなしに高感度が維持でき、かつ親水層のアブレ
ーション（飛散）を抑制し得ること発見し、さらに、オ
ーバーコート層で発生した熱を効率的に感熱層に伝達し
うる金属酸化物薄膜からなる親水層と組み合わせること
が効果の向上に有用であることを発見し、これらの発見
に基づいて発明を完成するに至った。すなわち、本発明
の感熱性平版印刷版原版は、熱可塑性または熱分解性表
面を有するインク受容層上に、金属酸化物薄膜親水層、
及び光熱変換剤を含有する水溶性オーバーコート層を順
次設けることを特徴とする。

【００１２】ここで、前記金属酸化物薄膜親水層を画像
形成に使用するレーザー光に対して透過性とすること
で、レーザー露光により露光部の光熱変換剤を含有する
水溶性オーバーコート層が発熱し、その熱が効率よく金
属酸化物薄膜親水層に伝わり、インク受容層と金属酸化
物薄膜親水層間の密着が低下して、金属酸物薄膜親水層
が除去可能となる。

【００１３】また、請求項３に係る本発明の感熱性平版
印刷版の画像形成方法は、熱可塑性または熱分解性表面
を有するインク受容層上に、画像形成に使用するレーザ
ー光に対して透過性である金属酸化物薄膜親水層、及び
光熱変換剤を含有する水溶性オーバーコート層を順次設
けた感熱性平版印刷版原版を、（ｉ）像様にレーザー露
光する工程と、（ii）露光部の水溶性オーバーコート層
が発熱し、その熱でインク受容層と金属酸化物薄膜親水
層間の密着が低下する工程と、（iii）水溶性オーバー
コート層及び密着が低下した部分の金属酸化物層を除去
する工程と、を含むことを特徴とする。

【００１４】本発明では、レーザー露光によるオーバー
コート層中の光熱変換剤の発熱によって、該層に隣接し
て存在する金属酸化物薄膜親水層に熱が効率よく伝わる
ことで、アブレーション（飛散）までには至らないもの
の、容易に除去される状態となり、更に熱的作用による
インク受容層表面の化学的あるいは物理的変化に起因す
る下層インク受容層との密着力低下により、インキ受容
層から容易に剥離し画像部が形成され、液体による現像
工程を経なくても、例えば、印刷機に取り付けられ、印
刷される際の応力や湿し水、インクなどの作用により親
水層の露光部の除去が可能となる。本発明では、上記の
如き現象を、親水層が「アブレーション的」に除去又は
剥離されると称する。

【００１５】本発明では、アブレーション的にインキ受
容層から剥離された金属酸化物薄膜親水層は、印刷前の
版面拭き、あるいは印刷機上で湿し水あるいはインキに
よって除去される。印刷機上での除去の場合、当然その
前に上層のオーバーコート層は湿し水によって除去され
るが、この除去時にアブレーション的に剥離した状態に
ある金属酸化物薄膜親水層が同時に除去されてもよい。
金属酸化物薄膜親水層が除去されることによって下層の
インキ受容層が現れ、画像部が形成される。また、未露
光部は親水性を保持したまま湿し水を受容し、インキを
反撥する領域となる。この様にして印刷機上で現像され
ると同時に印刷が可能になる。従来の平版印刷版のよう
な現像液による湿式処理を必要としない。すなわち無処
理で平版印刷版が作成される。

【００１６】また、露光後印刷機に取付けるまでの間、
印刷版は空気中に長時間放置されたり、インキの付着し
た手で取り扱われ、版上に親油性の物質が付着したりす
るが、本発明のごとく上層に水溶性のオーバーコート層
を設けることによって非画像部となる金属酸化物薄膜親
水層への親油性物質の付着が防止され、印刷時の汚れを
防止する。更にオーバーコート層に光熱変換剤を添加す
ることで、発生した熱を直接下層の親水層とインク受容
層に伝達が可能で、金属酸化物薄膜親水層で光熱変換し
た場合とほぼ同等の効率で発熱した熱を利用でき、さら
に金属酸化物薄膜親水層が塗布型親水層と比べ非常に薄
い膜であることから感度の低下はほとんど見られない。
この様に感度を維持したまま、金属酸化物薄膜親水層の
アブレーションも抑えることが可能である。アブレーシ
ョンを抑えることによって、レーザー露光装置や光源の
汚染がなくなり、装置に特別なアブレーションカスを集
塵する装置を取付ける必要がなくなる。この様に、オー
バーコート層を設けること、および親水層に金属酸化物
薄膜を用いることで無処理ダイレクト刷版が抱える基本
的な問題も同時に解決される。

【００１７】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、各層構成ついて順次、詳細に説明する。〔光熱変換
剤を含有する水溶性オーバーコート層〕本発明の平版印
刷版原版に設けられる光熱変換剤を含有する水溶性オー
バーコート層（以下、適宜、水溶性オーバーコート層或
いは単にオーバーコート層と称する）はその発熱機能に
より親水層のアブレーション的除去に有用な役割を果た
す。本発明に使用される水溶性オーバーコート層は版面
拭きや印刷機上の湿し水あるいはインクで容易に除去で
きるものであり、水溶性の有機又は無機の高分子化合物
から選ばれた樹脂と光熱変換剤を含有する。ここで用い
る水溶性の有機又は無機の樹脂としては、塗布乾燥によ
ってできた被膜がフィルム形成能を有するもので、具体
的には、ポリビニル酢酸（但し加水分解率６５％以上の
もの）、ポリアクリル酸及びそのアルカリ金属塩又はア
ミン塩、ポリアクリル酸共重合体及びそのアルカリ金属
塩又はアミン塩、ポリメタクリル酸及びそのアルカリ金
属塩又はアミン塩、ポリメタクリル酸共重合体及びその
アルカリ金属塩又はアミン塩、ポリアクリルアミドおよ
びその共重合体、ポリヒドロキシエチルアクリレート、
ポリビニルピロリドン及びその共重合体、ポリビニルメ
チルエーテル、ポリビニルメチルエーテル／無水マレイ
ン酸共重合体、ポリ−２−アクリルアミド−２−メチル
−１−プロパンスルホン酸及びそのアルカリ金属塩又は
アミン塩、ポリ−２−アクリルアミド−２−メチル−１
−プロパンスルホン酸共重合体及びそのアルカリ金属塩
又はアミン塩、アラビアガム、繊維素誘導体（例えば、
カルボキシメチルセルローズ、カルボキシエチルセルロ
ーズ、メチルセルローズ等）及びその変性体、ホワイト
デキストリン、プルラン、酵素分解エーテル化デキスト
リン等を挙げることができる。また、目的に応じて、こ
れらの樹脂を二種以上混合して用いることもできる。

【００１８】上記の水溶性樹脂と共に用いられる光熱変
換剤は露光に用いる光の波長、赤外線レーザの場合には
波長７００ｎｍ以上の光、を吸収して熱を発生する機能
を有する物質であれば特に制限はなく、公知の種々の顔
料や染料を用いる事ができる。顔料としては、市販の顔
料およびカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）便覧、「最新
顔料便覧」（日本顔料技術協会編、１９７７年刊）、
「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）、
「印刷インキ技術」ＣＭＣ出版、１９８４年刊）に記載
されている顔料が利用できる。顔料の種類としては、黒
色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑
色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合
色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾ
レーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロ
シアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレンおよ
びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン
系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔
料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔
料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、
無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。これら顔
料は表面処理をせずに用いてもよく、表面処理をほどこ
して用いてもよい。表面処理の方法には親水性樹脂や親
油性樹脂を表面コートする方法、界面活性剤を付着させ
る方法、反応性物質（例えば、シリカゾル、アルミナゾ
ル、シランカップリング剤やエポキシ化合物、イソシア
ネート化合物等）を顔料表面に結合させる方法等が考え
られる。上記の表面処理方法は、「金属石鹸の性質と応
用」（幸書房）、「印刷インキ技術」（ＣＭＣ出版、１
９８４年刊）および「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出
版、１９８６年刊）に記載されている。これらの顔料
中、赤外光又は近赤外光を吸収するものが、赤外光又は
近赤外光を発光するレーザでの利用に適する点で特に好
ましい。

【００１９】そのような赤外光又は近赤外光を吸収する
顔料としてはカーボンブラック、親水性樹脂でコートさ
れたカーボンブラックやシリカゾルで変性されたカーボ
ンブラックが好適に用いられる。これらの中でも特に水
溶性の樹脂と分散しやすく、かつ親水性を損わないもの
として、親水性樹脂やシリカゾルで表面がコートされた
カーボンブラックが有用である。顔料の粒径は０.０１
μｍ〜１μｍの範囲にあることが好ましく、０.０１μ
ｍ〜０.５μｍの範囲にあることが更に好ましい。顔料
を分散する方法としては、インク製造やトナー製造等に
用いられる公知の分散技術が使用できる。分散機として
は、超音波分散器、サンドミル、アトライター、パール
ミル、スーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパ
ーザー、ＫＤミル、コロイドミル、ダイナトロン、３本
ロールミル、加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、
「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に
記載がある。

【００２０】染料としては、市販の染料および文献（例
えば「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和４５年
刊）に記載されている公知のものが利用できる。具体的
には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染
料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボ
ニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン
染料などの染料が挙げられる。これらの染料中、赤外
光、もしくは近赤外光を吸収するものが、赤外光もしく
は近赤外光を発光するレーザでの利用に適する点で特に
好ましい。赤外光又は近赤外光を吸収する染料としては
例えば特開昭５８−１２５２４６号、特開昭５９−８４
３５６号、特開昭５９−２０２８２９号、特開昭６０−
７８７８７号等に記載されているシアニン染料、特開昭
５８−１７３６９６号、特開昭５８−１８１６９０号、
特開昭５８−１９４５９５号等に記載されているメチン
染料、特開昭５８−１１２７９３号、特開昭５８−２２
４７９３号、特開昭５９−４８１８７号、特開昭５９−
７３９９６号、特開昭６０−５２９４０号、特開昭６０
−６３７４４号等に記載されているナフトキノン染料、
特開昭５８−１１２７９２号等に記載されているスクワ
リリウム染料、英国特許４３４，８７５号記載のシアニ
ン染料、本願出願人が先に提出した特願２０００−６５
１６２号明細書の段落番号〔００４４〕〜〔００４９〕
に記載のシアニン染料や米国特許第４，７５６，９９３
号明細書中に式（Ｉ）、（II）として記載されている染
料を挙げることができる。

【００２１】

【化１】

【００２２】（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶
は置換又は未置換のアルキル基を表し、Ｚ¹及びＺ²は置
換もしくは未置換のフェニル基又はナフタレン基を表
す。Ｌは置換又未置換のメチン基でであり、置換基を有
する場合、該置換基は、炭素数８以下のアルキル基、ハ
ロゲン原子又はアミノ基であるか、該メチン基がその２
つのメチン炭素上の置換基が相互に結合して形成された
置換基を有していても良いシクロヘキセン環またはシク
ロペンテン環を含むものであってもよく、該置換基は炭
素数６以下のアルキル基またはハロゲン原子を表す。Ｘ
^-はアニオン基を表す。ｎは１又は２；そしてＲ¹、
Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｚ¹及びＺ²のうち少なくと
も一つは酸性基又は酸性基のアルカリ金属塩基又はアミ
ン塩基を有する置換基を示す。

【００２３】

【化２】

【００２４】（式中、Ｒ¹¹は置換もしくは未置換のアル
キル基、置換もしくは未置換のアリール基又は置換もし
くは未置換のヘテロ環基を表し、Ｒ¹²及びＲ¹⁵は水素原
子又は水素原子の代りに置換できる基を表し、Ｒ¹³及び
Ｒ¹⁴は水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは未置換の
アルコキシ基又は置換もしくは未置換のアルキル基を表
す。但し、Ｒ¹³及びＲ¹⁴は同時に水素原子ではない。Ｒ
¹⁶及びＲ¹⁷は置換もしくは未置換のアルキル基、置換も
しくは未置換のアリール基、アシル基又はスルホニル基
を表す。Ｒ¹⁶とＲ¹⁷は互いに結合して非金属５員環もし
くは６員環を形成していてもよい。） また、染料として米国特許第５，１５６，９３８号記載
の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特許
第３，８８１，９２４号記載の置換されたアリールベン
ゾ（チオ）ピリリウム塩、特開昭５７−１４２６４５号
（米国特許第４，３２７，１６９号）記載のトリメチン
チアピリリウム塩、特開昭５８−１８１０５１号、同５
８−２２０１４３号、同５９−４１３６３号、同５９−
８４２４８号、同５９−８４２４９号、同５９−１４６
０６３号、同５９−１４６０６１号に記載されているピ
リリウム系化合物、特開昭５９−２１６１４６号記載の
シアニン染料、米国特許第４，２８３，４７５号に記載
のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平５−１３５
１４号、同５−１９７０２号公報に開示されているピリ
リウム化合物、エポリン社製Ｅｐｏｌｉｇｈｔ III−１
７８、Ｅｐｏｌｉｇｈｔ III−１３０、Ｅｐｏｌｉｇｈ
ｔ III−１２５等は特に好ましく用いられる。これらの
染料中、特に好ましいものは上記の式（Ｉ）の水溶性の
シアニン染料である。下記に具体的な化合物〔例示化合
物（Ｉ−１）〜（Ｉ−３２）〕を列記するが、本発明は
これらに制限されるものではない。

【００２５】

【化３】

【００２６】

【化４】

【００２７】

【化５】

【００２８】

【化６】

【００２９】

【化７】

【００３０】

【化８】

【００３１】

【化９】

【００３２】

【化１０】

【００３３】顔料又は染料は、オーバーコート層の全固
形分中の１〜７０重量％、好ましくは２〜５０重量％、
染料の場合、特に好ましくは２〜３０重量％、顔料の場
合、特に好ましくは２０〜５０重量％の割合である。顔
料又は染料の添加量が上記範囲より少なすぎると感度が
低くなり、また上記範囲より多すぎると層の均一性が失
われ、層の耐久性が悪くなる。その他、オーバーコート
層には塗布の均一性を確保する目的で、水溶液塗布の場
合には主に非イオン系界面活性剤が添加される。この様
な非イオン界面活性剤の具体例としては、ソルビタント
リステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビ
タントリオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリ
オキシエチレンノニルフェニルエーテル等を挙げること
が出来る。上記非イオン界面活性剤のオーバーコート層
の全固形物中に占める割合は、０.０５〜５重量％が好
ましく、より好ましくは１〜３重量％である。

【００３４】本発明に用いるオーバーコート層の厚みは
０.０５μｍから４.０μmが好ましく、更に好ましい範
囲は０.１μｍから１.０μｍである。厚すぎると、印刷
時オーバーコート層を除去するのに時間がかかり、また
多量に溶けだした水溶性樹脂が湿し水に影響を与え、印
刷時ローラストリップが発生したり、インキが画像部に
着肉しない等の悪影響が出てくる。また薄すぎると皮膜
性が損なわれる場合がある。

【００３５】〔金属酸化物薄膜親水層〕本発明に使用さ
れる金属酸化物薄膜親水層に用いられる金属は、ｄ−ブ
ロック（遷移）金属、ｆ−ブロック（ランタノイド）金
属、アルミニウム、インジウム、鉛、スズ、又は珪素、
あるいはこれらいずれかの混合物である。特に好ましく
はチタン、ジルコニウム、アルミニウム、珪素である。
これらの金属酸化物薄膜は、画像露光に用いられる光を
吸収せず、これらの光に対して透過性であることが好ま
しい。具体的には、赤外線レーザで画像露光する場合に
は、波長７２０ｎｍ以上の光に対して透過性であること
が好ましい。これは、露光波長に吸収を有する場合、金
属薄膜に急激な温度上昇がおこり、アブレーションを引
き起こす要因となりやすいためである。本発明ではこの
親水層に隣接するオーバーコート層の発熱により、アブ
レーションを起こすことなくアブレーション的な親水層
の剥離を可能とする点に特徴があるため、親水層自体に
光に対する吸収能を担持させる必要はなく、却って前記
したような問題が生じやすくなる。

【００３６】したがって、これらの金属酸化物が低酸化
度である場合、露光に用いるレーザー波長領域に吸収を
持ち、アブレーション的吸収を引き起こす可能性が高ま
るため、好ましくなく、高酸化度の金属酸化物であるこ
とが好ましく、完全に酸化されていることが特に好まし
い。金属酸化物の酸化度は、金属酸化物親水層形成時の
雰囲気ガス中における酸素分圧の制御等の方法により容
易に調整することができる。また、露光波長に対する吸
収の有無は、分光光度計による吸光度の測定により確認
することができる。この方法により測定された露光波長
に対する吸光度が０．１以下である場合、本発明では露
光波長に対して透過性であるとする。

【００３７】金属酸化物薄膜形成には、真空蒸着法、ス
パッタ法、イオンプレーティング法などのＰＶＤ法（物
理蒸着法）あるいはＣＶＤ法（化学蒸着法）など公知の
方法を適宜用いることができる。例えば、真空蒸着法に
おいては、加熱方式としては、抵抗加熱、高周誘導加
熱、電子ビーム加熱等を用いることができる。また、反
応性ガスとして、酸素を導入したり、オゾン添加、イオ
ンアシスト等の手段を用いた反応性蒸着を用いても良
い。スパッタ法を用いる場合は、ターゲット材料として
純金属または目的とする酸化物を用いることができ、純
金属を用いる時は反応性ガスとして酸素を導入する。ス
パッタ電源としては、直流電源、パルス型直流電源、高
周波電源を用いることができる。

【００３８】上記の方法による薄膜形成に先だって、イ
ンク受容性層との密着性を向上させるため、基体加熱等
による基体脱ガス処理やインク受容性表面への真空グロ
ー処理を施してもよい。例えば、真空グロー処理におい
ては、１〜１０ｍｔｏｒｒ程度の圧力下で基体に高周波
を印加してグロー放電を形成させ、発生したプラズマに
よる基板処理を行うことができる。また、印加電圧を上
げたり、酸素や窒素などの反応性ガスを導入するとより
効果を向上させることも可能である。金属酸化物薄膜層
の厚みは、１０ｎｍ〜３０００ｎｍが好ましい。さらに
好ましくは２０〜１５００ｎｍである。薄すぎると、親
水層の耐久性が劣り、印刷時の耐刷力が劣る。また厚す
ぎると、親水層をアブレーション的に下層のインキ受容
層から剥離させるのに多大なエネルギーを要し、レーザ
ーで露光する場合、長時間の描画時間が必要になり、低
感度化と、平版印刷版原版を製造する際の生産性低下の
観点から好ましくない。

【００３９】〔熱可塑性または熱分解性表面を有するイ
ンク受容層〕本発明の平版印刷版原版において、熱可塑
性または熱分解性表面を有するインク受容層（以下、適
宜、単にインク受容層と称する）は、前記親水層が除去
されたのちに印刷版表面に露出してインク受容性の画像
部領域を形成する。本発明に使用するインキ受容性層
は、支持体等の基板上に直接塗布されて形成されてもよ
く、基板自体が熱可塑性または熱分解性を有する場合は
基板自体がインク受容性層の機能を兼ねることもでき
る。

【００４０】基板としては、平版印刷版に必要な強度、
耐久性等の物性を備え、寸度的に安定な板状物を適宜選
択して用いることができ、紙、親油性のプラスチック
（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレ
ン等）がラミネートされた紙、金属板（例えば、アルミ
ニウム、亜鉛、銅、ニッケル、ステンレス鋼板等）、プ
ラスチックフィルム（例えば、二酢酸セルロース、三酢
酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロー
ス、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリ
プロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール
等）、インキ受容性の有機高分子樹脂が塗布されている
上記プラスチックフィルム等が例示される。好ましい基
板としては、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポ
リカーボネイトフィルム、アルミニウム、鋼鈑、親油性
のプラスチックフィルムがラミネートされているアルミ
ニウムあるいは鋼鈑が挙げられる。

【００４１】本発明に使用される好適なアルミニウム板
は、純アルミニウム板およびアルミニウムを主成分と
し、微量の異元素を含む合金板であり、更にはアルミニ
ウムの表面にはインキ受容性の高分子化合物が塗布され
ているかあるいはインキ受容性のプラスチックがラミネ
ートされているものである。アルミニウム合金に含まれ
る異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウ
ム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなどが
ある。合金中の異元素の含有量は高々１０重量％以下で
ある。しかし、本発明に適用されるアルミニウム板は、
従来より公知公用の素材のアルミニウム板をも適宜に利
用することができる。

【００４２】アルミニウム板を使用するに先立ちその表
面を粗面化することが好ましい。粗面化処理を行うこと
により、該基板上に有機高分子を含有するインキ受容層
を塗布した場合、基板とインク受容層との接着性が容易
に確保できる。粗面化処理について、順次説明する。粗
面化処理に先だって、アルミニウム基板表面の圧延油を
除去するための例えば界面活性剤、有機溶剤またはアル
カリ性水溶液などによる脱脂処理が行われる。

【００４３】アルミニウム板の表面の粗面化処理は、種
々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化す
る方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法および
化学的に表面を選択溶解させる方法等が一般的である。
機械的粗面化方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨
法、ブラスト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用
いることができる。化学的粗面化方法としては、特開昭
５４−３１１８７号公報に記載されているような鉱酸の
アルミニウム塩の飽和水溶液に浸漬する方法が適してい
る。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸または硝
酸などの酸を含む電解液中で交流または直流により行う
方法がある。また、特開昭５４−６３９０２号に開示さ
れているように混合酸を用いた電解粗面化方法も利用す
ることができる。上記の如き方法による粗面化は、アル
ミニウム板の表面の中心線表面粗さ（Ｈａ）が０.３〜
１.０μｍとなるような範囲で施されることが好まし
い。

【００４４】粗面化されたアルミニウム板は必要に応じ
て水酸化カリウムや水酸化ナトリウムなどの水溶液を用
いてアルカリエッチング処理がされ、さらに中和処理さ
れた後、所望により耐摩耗性を高めるために陽極酸化処
理が施される。アルミニウム板の陽極酸化処理に用いら
れる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成する種々の
電解質の使用が可能で、一般的には硫酸、塩酸、蓚酸、
クロム酸あるいはそれらの混酸が用いられる。それらの
電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。
陽極酸化の処理条件は、用いる電解質により種々変わる
ので一概に特定し得ないが、一般的には電解質の濃度が
１〜８０重量％溶液、液温は５〜７０℃、電流密度５〜
６０Ａ／dｍ²、電圧１〜１００Ｖ、電解時間１０秒〜５
分の範囲であれば適当である。形成される酸化皮膜量
は、１.０〜５.０ｇ／ｍ²、特に１.５〜４.０ｇ／ｍ²で
あることが好ましい。

【００４５】本発明で用いられる上記の基板の厚みはお
よそ０.０５mm〜０.６mm程度、好ましくは０.１mm〜０.
４mm、特に好ましくは０.１５mm〜０.３mmである。

【００４６】本発明の基板の表面にインキ受容層として
塗布される有機高分子としては、溶媒に可溶であり、か
つ親油性の被膜形成能を有するものである。更には、熱
可塑性また熱分解性を有するものである。有用な有機高
分子としては、ポリエステル、ポリウレタン、ポリウレ
ア、ポリイミド、ポリシロキサン、ポリカーボネート、
フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、フェノール・ホルムア
ルデヒド樹脂、アルキルフェノール・ホルムアルデヒド
樹脂、ポリビニルアセテート、アクリル樹脂及びその共
重合体、ポリビニルフェノール、ポリビニルハロゲン化
フェノール、メタクリル樹脂及びその共重合体、アクリ
ルアミド共重合体、メタクリルアミド共重合体、ポリビ
ニルフォルマール、ポリアミド、ポリビニルブチラー
ル、ポリスチレン、セルロースエステル樹脂、ポリ塩化
ビニルやポリ塩化ビニリデン等を挙げることができる。
その他、フェノール、クレゾール（ｍ−クレゾール、ｐ
−クレゾール、ｍ／ｐ混合クレゾール）、フェノール／
クレゾール（ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、ｍ／ｐ
混合クレゾール）、フェノール変性キシレン、ｔｅｒｔ
−ブチルフェノール、オクチルフェノール、レゾルシノ
ール、ピロガロール、カテコール、クロロフェノール
（ｍ−Ｃｌ、ｐ−Ｃｌ）、ブロモフェノール（ｍ−Ｂ
ｒ、ｐ−Ｂｒ）、サリチル酸、フロログルシノールなど
のホルムアルデヒドとの縮合のノボラック樹脂及びレゾ
ール樹脂、さらに上記フェノール類化合物とアセトンと
の縮合樹脂などが有用である。

【００４７】その他の好適な高分子化合物として、以下
（１）〜（１２）に示すモノマーをその構成単位とする
通常１万〜２０万の分子量を持つ共重合体を挙げること
ができる。 （１）芳香族水酸基を有するアクリルアミド類、メタク
リルアミド類、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エ
ステル類およびヒドロキシスチレン類、例えばＮ−（４
−ヒドロキシフェニル）アクリルアミドまたはＮ−（４
−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミド、ｏ−、ｍ−
およびｐ−ヒドロキシスチレン、ｏ−、ｍ−およびｐ−
ヒドロキシフェニルアクリレートまたはメタクリレー
ト、（２）脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類
およびメタクリル酸エステル類、例えば、２−ヒドロキ
シエチルアクリレートまたは２−ヒドロキシエチルメタ
クリレート、（３）アクリル酸メチル、アクリル酸エチ
ル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル
酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸シクロヘキ
シル、アクリル酸オクチル、アクリル酸フェニル、アク
リル酸ベンジル、アクリル酸−２−クロロエチル、アク
リル酸４−ヒドロキシブチル、グリシジルアクリレー
ト、Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレートなどの（置
換）アクリル酸エステル、

【００４８】（４）メタクリル酸メチル、メタクリル酸
エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、
メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリ
ル酸シクロヘキシル、メタクリル酸オクチル、メタクリ
ル酸フェニル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−
２−クロロエチル、メタクリル酸４−ヒドロキシブチ
ル、グリシジルメタクリレート、Ｎ−ジメチルアミノエ
チルメタクリレートなどの（置換）メタクリル酸エステ
ル、（５）アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−メ
チロールアクリルアミド、Ｎ−メチロールメタクリルア
ミド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−エチルメタクリ
ルアミド、Ｎ−ヘキシルアクリルアミド、Ｎ−ヘキシル
メタクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミ
ド、Ｎ−シクロヘキシルメタクリルアミド、Ｎ−ヒドロ
キシエチルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルアク
リルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−フェニ
ルメタクリルアミド、Ｎ−ベンジルアクリルアミド、Ｎ
−ベンジルメタクリルアミド、Ｎ−ニトロフェニルアク
リルアミド、Ｎ−ニトロフェニルメタクリルアミド、Ｎ
−エチル−Ｎ−フェニルアクリルアミドおよびＮ−エチ
ル−Ｎ−フェニルメタクリルアミドなどのアクリルアミ
ドもしくはメタクリルアミド、

【００４９】（６）エチルビニルエーテル、２−クロロ
エチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテ
ル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、
オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテルなど
のビニルエーテル類、（７）ビニルアセテート、ビニル
クロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル
などのビニルエステル類、（８）スチレン、メチルスチ
レン、クロロメチルスチレンなどのスチレン類、（９）
メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビ
ニルケトン、フェニルビニルケトンなどのビニルケトン
類、（１０）エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブ
タジエン、イソプレンなどのオレフィン類、（１１）Ｎ
−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾール、４−ビ
ニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル
など、

【００５０】（１２）Ｎ−（ｏ−アミノスルホニルフェ
ニル）アクリルアミド、Ｎ−（ｍ−アミノスルホニルフ
ェニル）アクリルアミド、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニル
フェニル）アクリルアミド、Ｎ−〔１−（３−アミノス
ルホニル）ナフチル〕アクリルアミド、Ｎ−（２−アミ
ノスルホニルエチル）アクリルアミドなどのアクリルア
ミド類、Ｎ−（ｏ−アミノスルホニルフェニル）メタク
リルアミド、Ｎ−（ｍ−アミノスルホニルフェニル）メ
タクリルアミド、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニ
ル）メタクリルアミド、Ｎ−〔１−（３−アミノスルホ
ニル）ナフチル〕メタクリルアミド、Ｎ−（２−アミノ
スルホニルエチル）メタクリルアミドなどのメタクリル
アミド類、また、ｏ−アミノスルホニルフェニルアクリ
レート、ｍ−アミノスルホニルフェニルアクリレート、
ｐ−アミノスルホニルフェニルアクリレート、１−（３
−アミノスルホニルフェニルナフチル）アクリレートな
どのアクリル酸エステル類などの不飽和スルホンアミ
ド、ｏ−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、ｍ
−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、ｐ−アミ
ノスルホニルフェニルメタクリレート、１−（３−アミ
ノスルホニルフェニルナフチル）メタクリレートなどの
メタクリル酸エステル類などの不飽和スルホンアミド。

【００５１】また、本発明に用いられる熱分解性の高分
子としてニトロセルロースや「J. Imaging Sci.,P59-64
,30(2), (1986)（Frechetら）」や「Polymers in Ele
ctronics （Symposium Series,P11, 242, T.Davidson,E
d., ACS Washington,DC(1984)（Ito,Willson）」、「Mi
croelectronic Engineering,P3-10,13(1991)（E. Reich
manis,L.F.Thompson）」に記載のいわゆる「化学増幅
系」に使用されるバインダー等が挙げられるがこれに限
定されるものではない。これらのバインダーは単独で用
いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。また、
高分子化合物中にレーザー記録感度を向上させるため
に、加熱により分解しガスを発生する公知の化合物を添
加することができる。この場合にはインク受容層表面の
急激な体積膨張によりレーザー記録感度が向上でき、こ
れらの添加剤の例としては、ジニチロペンタメチレンテ
トラミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジニトロソ
テレフタルアミド、ｐ−トルエンスルホニルヒドラジ
ド、４、４−オキシビス（ベンゼンスルホニルヒドラジ
ド）、ジアミドベンゼン等が挙げられる。これらインク
受容層として用いられる有機高分子の軟化点は８０℃滋
養であることが好ましい。より好ましくは１１０℃以上
である。軟化点が８０℃未満であると外的圧力による感
じあの変形量が大きいため、金属酸化物薄膜親水層に傷
が入りやすく、印刷物に汚れを生じる原因となりやす
い。

【００５２】また、レーザー記録感度を向上させるため
に、各種のヨードニウム塩、スルフォニウム塩、フォス
フォニウムトシレート、オキシムスルフォネート、ジカ
ルボジイミドスルフォネート、トリアジン等、加熱によ
り分解し酸性化合物を生成する熱酸発生剤の公知の化合
物を添加剤として使用することができる。これらを化学
増幅系バインダーと併用することにより、インク受容層
の構成物質となる化学増幅系バインダーの分解温度を大
きく低下させ、結果としてレーザー記録感度を向上させ
ることが可能である。

【００５３】これらの有機高分子を適当な溶媒に溶解さ
せて、基板上に塗布乾燥させインキ受容層を基板上に設
けることができる。有機高分子単独を溶媒に溶解させ用
いることもできるが、通常は架橋剤、接着助剤、着色
剤、無機あるいは有機の微粒子、塗布面状改良剤あるい
は可塑剤と共に用いる。その他、このインキ受容層に
は、感度を高めるための光熱変換剤や露光後のプリント
アウト画像を形成させるための加熱発色系あるいは消色
系が添加されてもよい。接着助剤としては、上記のジア
ゾ樹脂が基板及び親水層との接着に優れるが、この他に
シランカップリング剤、イソシアネート化合物、チタン
系カップリング剤も有用である。

【００５４】着色剤としては、通常の染料や顔料が用い
られるが、特にローダミン６Ｇ塩化物、ローダミンＢ塩
化物、クリスタルバイオレット、マラカイトグリーンシ
ュウ酸塩、オキサジン４パークロレート、キニザリン、
２−（α−ナフチル）−５−フェニルオキサゾール、ク
マリン−４が挙げられる。他の染料として具体的には、
オイルイエロー＃１０１、オイルイエロー＃１０３、オ
イルピンク＃３１２、オイルグリーンＢＧ、オイルブル
ーＢＯＳ、オイルブルー＃６０３、オイルブラックＢ
Ｙ、オイルブラックＢＳ、オイルブラックＴ−５０５
（以上、オリエント化学工業（株）製）、ビクトリアピ
ュアブルー、クリスタルバイオレット（ＣＩ４２５５
５）、メチルバイオレット（ＣＩ４２５３５）、エチル
バイオレット、メチレンブルー（ＣＩ５２０１５）、パ
テントピュアブルー（住友三国化学社製）、ブリリアン
トブルー、メチルグリーン、エリスリシンＢ、ベーシッ
クフクシン、ｍ−クレゾールパープル、オーラミン、４
−ｐ−ジエチルアミノフェニルイミナフトキノン、シア
ノ−ｐ−ジエチルアミノフェニルアセトアニリドなどに
代表されるトリフェニルメタン系、ジフェニルメタン
系、オキサジン系、キサンテン系、イミノナフトキノン
系、アゾメチン系またはアントラキノン系の染料あるい
は特開昭６２−２９３２４７号公報、特願平７−３３５
１４５号公報に記載されている染料を挙げることができ
る。上記色素は、インキ受容層中に添加される場合は受
容層の全固形分に対し、通常約０.０２〜１０重量％、
より好ましくは約０.１〜５重量％の割合である。

【００５５】更に塗布面状改良剤としてよく知られた化
合物であるフッ素系界面活性剤やシリコン系界面活性剤
も用いることができる。具体的にはパーフルオロアルキ
ル基やジメチルシロキサン基を有する界面活性剤が塗布
面上を整えることで有用である。本発明のインキ受容層
中には必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可
塑剤が加えられる。例えば、ポリエチレングリコール、
クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブ
チル、フクル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン
酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチ
ル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸又
はメタクリル酸のオリゴマー及びポリマー等が用いられ
る。

【００５６】本発明のインキ受容層中には露光したとき
画像部と非画像部を鮮明にするため発色系又は消色系の
化合物が添加されることが好ましい。例えば、ジアゾ化
合物やジフェニルヨードニウム塩のような熱酸発生剤と
共にロイコ染料（ロイコマラカイトグリーン、ロイコク
リスタルバイオレット、クリスタルバイオレットのラク
トン体等）やＰＨ変色染料（例えば、エチルバイオレッ
ト、ビクトリアプアーブルーＢＯＨ等の染料）が用いら
れる。その他、ＥＰ８９７１３４号明細書に記載されて
いるような、酸発色染料と酸性バインダーの組合わせも
有効である。この場合、加熱によって染料を形成してい
る会合状態の結合が切れ、ラクトン体が形成して有色か
ら無色に変化する。これらの発色系或いは消色系の化合
物の添加割合は受容層中の全量に対し１０重量％以下好
ましくは５重量％以下である。

【００５７】更に、本発明のインキ受容層には感熱感度
を高めるために、前記光熱変換剤として例示した赤外線
吸収性の染料や顔料を添加してもよい。インク受容層に
添加する場合には、親油性の染料や顔料も用いることが
できる。その添加割合は、インキ受容層の全量に対し、
１重量％〜２０重量％が好適で、より好ましくは５重量
％〜１５重量％である。

【００５８】また、本発明の基板として、ポリエステル
等の非導電性のものを用いる場合、インキ受容層には基
体の帯電を防止する目的で金属微粒子やポリマー微粒子
を添加しても良い。本発明に用いられる金属酸化物粒子
の材料としては、ＴｉＯ₂、ＺｎＯ、ＳｎＯ₂、Ａｌ
₂Ｏ₃、Ｉｎ₂Ｏ₃、ＭｇＯ、ＢａＯ、ＭｏＯ₃、Ｖ₂Ｏ₅及
びこれらの複合酸化物、及び／又はこれらの金属酸化物
に更に異種原子を含む金属酸化物を挙げることができ
る。これらは単独で用いてもよく、混合して用いてもよ
い。金属酸化物としては、ＺｎＯ、ＳｎＯ₂、Ａｌ
₂Ｏ₃、Ｉｎ₂Ｏ₃、ＭｇＯが好ましく、更にはＺｎＯ、Ｓ
ｎＯ₂、Ｉｎ₂Ｏ₃が好ましく、ＳｎＯ₂が特に好ましい。
異種原子を少量含む例としては、ＺｎＯに対してＡｌあ
るいはＩｎ、ＳｎＯ₂に対してＳｂ、Ｎｂあるいはハロ
ゲン元素、Ｉｎ₂Ｏ₃に対してＳｎなどの異種原子を３０
モル％以下、好ましくは１０モル％以下の量をドープし
たものを挙げることができる。異種原子の添加量が３０
モル％を超える場合はプラスチックフイルム支持体とイ
ンク受容層との密着性が低下してしまう。

【００５９】金属酸化物粒子は、インク受容層中に高分
子に対して１０〜１０００重量％の範囲で含まれている
ことが好ましく、更に１００〜８００重量％の範囲が好
ましい。１０重量％未満の場合は充分なプラスチックフ
イルム支持体とインク受容層との密着性が得られず、１
０００重量％を超えた場合は金属酸化物粒子の下塗り層
からの脱落を防止することができない。金属酸化物粒子
の粒子径は、平均粒子径が０．００１〜０．５μｍの範
囲が好ましく、更に０．００３〜０．２μｍの範囲が好
ましい。ここでいう平均粒子径とは、金属酸化物粒子の
一次粒子径だけでなく高次構造の粒子径も含んだ値であ
る。本発明に用いることができるポリマー微粒子として
は、好ましくは平均粒径が０．５〜２０μｍ、より好ま
しくは平均粒径が１．０〜１５μｍの粒径を持つポリメ
チルメタクリレート、ポリスチレン、ポリオレフィン及
びそれらの共重合体の架橋粒子が挙げられる。また、こ
の帯電防止層がインク受容性層中に設けられた場合は金
属酸化物薄膜層との密着性が向上する効果もあり好まし
いが、これに限定されるものではなく、帯電防止層は基
板の下に設けられても良く、インク受容層と基板の間、
基板の両面、インク受容層と基板の下の両方であっても
良い。

【００６０】上記インキ受容層を塗布する溶媒としては
アルコール類（メタノール、エタノール、プロピルアル
コール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、
プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、エチ
レングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコ
ールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチ
ルエーテル等）、エーテル類（テトラヒドロフラン、エ
チレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコ
ールジメチルエーテル、テトラヒドロピラン等）、ケト
ン類（アセトン、メチルエチルケトン、アセチルアセト
ン等）、エステル類（酢酸メチル、エチレングリコール
モノメチルモノアセテート等）、アミド類（ホルムアミ
ド、Ｎ−メチルホルムアミド、ピロリドン、Ｎ−メチル
ピロリドン等）、ガンマーブチロラクトン、乳酸メチ
ル、乳酸エチル等を用いることができる。これらの溶媒
は単独あるいは混合状態で使用される。塗布液を調製す
る場合、溶媒中の上記インキ受容層構成成分（添加剤を
含む全固形分）の濃度は、好ましくは１〜５０重量％で
ある。その他、上記のような有機溶媒からの塗布ばかり
でなく、水性エマルジョンからも被膜を形成させること
ができる。この場合の濃度は５重量％から５０重量％が
好ましい。

【００６１】本発明でのインキ受容層の塗布乾燥後の厚
みは、特に限定的ではないが０.１μｍ以上あればよ
い。金属板上に設ける場合には断熱層としての役目をも
有するので０.５μｍ以上が望ましい。インキ受容層が
薄すぎると発熱した熱が金属板の方に発散し、感度が低
下する。その上親水性の金属板の場合には、インキ受容
層に耐摩耗性が要求されるため、耐刷力を確保できなく
なる。親油性のプラスチックフィルムを基板として使用
する場合には、インキ受容層は上層との接着層としての
役目を果せればよいので、その塗布量は金属板の時より
少なくてもよく、０.０５μｍ以上が好ましい。

【００６２】次に、この感熱性平版印刷版原版の画像形
成方法（製版方法）について説明する。この平版印刷版
原版は、例えば、熱記録ヘッド等により直接画像様に感
熱記録を施したり、波長７００〜１２００ｎｍの赤外線
を放射する固体レーザー又は半導体レーザー、キセノン
放電灯などの高照度フラッシュ光や赤外線ランプ露光な
どの光熱変換型の露光も用いることができる。画像の書
き込みは、面露光方式、走査方式のいずれでもよい。前
者の場合は、赤外線照射方式や、キセノン放電灯の高照
度の短時間光を原版上に照射して光・熱変換によって熱
を発生させる方式である。赤外線灯などの面露光光源を
使用する場合には、その照度によっても好ましい露光量
は変化するが、通常は、印刷用画像で変調する前の面露
光強度が０．１〜１０Ｊ／ｃｍ²の範囲であることが好
ましく、０．１〜１Ｊ／ｃｍ²の範囲であることがより
好ましい。支持体が透明である場合は、支持体の裏側か
ら支持体を通して露光することもできる。その露光時間
は、０.０１〜１ｍｓｅｃ．、好ましくは０.０１〜０.
１ｍｓｅｃ．の照射で上記の露光強度が得られるように
露光照度を選択するのが好ましい。照射時間が長い場合
には、熱エネルギーの生成速度と生成した熱エネルギー
の拡散速度の競争関係から露光強度を増加させる必要が
生じる。

【００６３】後者の場合には、赤外線成分を多く含むレ
ーザー光源を使用して、レーザービームを画像で変調し
て原版上を走査する方式が行われる。レーザー光源の例
として、半導体レーザー、ヘリウムネオンレーザー、ヘ
リウムカドミウムレーザー、ＹＡＧレーザーを挙げるこ
とができる。レーザー出力が０．１〜３００Ｗのレーザ
ーで照射をすることができる。また、パルスレーザーを
用いる場合には、ピーク出力が１０００Ｗ、好ましくは
２０００Ｗのレーザーを照射するのが好ましい。この場
合の露光量は、印刷用画像で変調する前の面露光強度が
０．１〜１０Ｊ／ｃｍ²の範囲であることが好ましく、
０．３〜１Ｊ／ｃｍ²の範囲であることがより好まし
い。

【００６４】本発明の印刷用原版は、画像露光された印
刷用原版をそれ以上の処理なしに印刷機に装着すること
ができる。インキと水を用いて印刷を開始すると、オー
バーコート層は湿し水によって除去されると同時に露光
部の親水層も除去される。その下のインキ受容層にイン
キが着肉し印刷が開始される。

【００６５】

【実施例】以下、実施例により、本発明を詳細に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。 （実施例１）厚さ１８８μmのポリエステル基板（品
名：Ａ４１００、東洋紡績製、表面易接着処理）上に、
下記の塗布液をワイヤーバーコート法により塗布し、１
００℃で１２０秒間乾燥して乾燥重量で１ｇ／ｍ²にな
るようインク受容性層を形成した。 ＜インク受容性層塗布液＞ ・ポリメタクリル酸メチル ７重量部 （重量平均分子量３５，０００、アルドリッチ製） ・フッ素系界面活性剤 ０．０４重量部 （メガファックＦ−１７７、大日本インキ化学工業（株）製） ・トルエン ９３重量部

【００６６】次にインク受容層上にバッチ式スパッタ成
膜装置（芝浦エレテック製 ＣＦＳ−１０−ＥＰ７０）
を用い、下記条件で厚さ２０ｎｍになるよう酸化チタン
を成膜し、金属酸化物薄膜層を形成した。 ターゲット材：純チタン（純度４Ｎ） 雰囲気 ：ガス流量比でアルゴン／酸素＝６０／４０の混合ガス 成膜時圧力 ：２．７ｍｔｏｒｒ パワー ：ＤＣ１ｋＷ（電源は芝浦エレテック製、 ＳＰＳ−２ＨＳＤＣ−４Ａ）

【００６７】なお、成膜前には基板表面を下記条件でグ
ロー処理した。 雰囲気 ：アルゴン 処理時圧力 ：５．０ｍｔｏｒｒ パワー ：Ｒｆ３ｋＷ （電源は日本電子製ＪＲＦ−３０００） 時間 ：２．５分

【００６８】成膜終了後真空チャンバーを大気リーク
し、分光光度計で波長８３０ｎｍの吸光度を測定して
０．１未満であることを確認した。また、得られた酸化
チタン薄膜親水層の硬度を測定したところ、モース硬さ
で６であった。続いて、下記のオーバーコート層塗布液
を金属酸化物薄膜層上にワイヤーバーコート法により塗
布し、１００℃で１２０秒間乾燥して乾燥重量で０．６
ｇ／ｍ ²になるようオーバーコート層を形成し、感熱性
平版印刷版原版を作成した。

【００６９】 ＜オーバーコート層塗布液＞ ・アクリル酸ホモポリマー（重量平均分子量２５,０００） の５％溶液 ２０重量部 ・前記水溶性シアニン染料（例示化合物：Ｉ−３１） ０．２重量部 ・ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテール ０．０２５重量部 ・精製水 ８０重量部

【００７０】上記のようにして得られた平版印刷版原版
を富士写真フイルム製のレーザー露光機（ＴＩ−７４０
０ＣＴＰ）を用いて露光し、画像形成した。画像形成し
た原版をリョービ製の印刷機３２００ＣＣＤに取り付け
印刷したところ１０，０００部の汚れのない良好な印刷
物が得られた。

【００７１】（実施例２）実施例１において、インク受
容層の形成に用いたポリメタクリル酸メチルの代わりに
ポリメタクリル酸イソプロピル（重量平均分子量１０
０，０００、アルドリッチ製）を、トルエンの代わりに
メチルエチルケトンを用いた他は実施例１と同様にして
平版印刷版原版を得て実施例２とした。得られた平版印
刷版原版を実施例１と同様の操作を行い、製版、印刷を
行ったところ１０，０００部の汚れのない良好な印刷物
が得られた。 （実施例３）実施例１において、インク受容層の形成に
用いたポリメタクリル酸メチルの代わりにポリメタクリ
ル酸ブチル（重量平均分子量３３８，０００、アルドリ
ッチ製）を、トルエンの代わりにメチルエチルケトンを
用いた他は実施例１と同様にして平版印刷版原版を得て
実施例３とした。得られた平版印刷版原版を実施例１と
同様の操作を行い、製版、印刷を行ったところ１０，０
００部の汚れのない良好な印刷物が得られた。

【００７２】（実施例４）実施例１において、インク受
容層の形成に用いたポリメタクリル酸メチルの代わりに
ポリαメチルスチレン（重量平均分子量１，３００、ア
ルドリッチ製）を、トルエンの代わりにメチルエチルケ
トンを用いた他は実施例１と同様にして平版印刷版原版
を得て実施例４とした。得られた平版印刷版原版を実施
例１と同様の操作を行い、製版、印刷を行ったところ
５，０００部の汚れのない良好な印刷物が得られた。 （実施例５）実施例１において、インク受容層の形成に
用いたポリメタクリル酸メチルの代わりにポリ塩化ビニ
ル（アルドリッチ製）を、トルエンの代わりにテトラヒ
ドロフランを用いた他は実施例１と同様にして平版印刷
版原版を得て実施例５とした。得られた平版印刷版原版
を実施例１と同様の操作を行い、製版、印刷を行ったと
ころ１０，０００部の汚れのない良好な印刷物が得られ
た。

【００７３】（実施例６）実施例１において、インク受
容層の形成に用いたポリメタクリル酸メチルの代わりに
ビニロール９２００（主成分ニトロセルロース、昭和高
分子製）を、トルエンの代わりにメチルエチルケトンを
用いた他は実施例１と同様にして平版印刷版原版を得て
実施例６とした。得られた平版印刷版原版を実施例１と
同様の操作を行い、製版、印刷を行ったところ１０，０
００部の汚れのない良好な印刷物が得られた。 （実施例７）実施例１において、インク受容層の形成に
用いたポリメタクリル酸メチルの代わりにビニロール２
４００（ニトリルゴム／フェノール樹脂、昭和高分子
製）を、トルエンの代わりにメチルエチルケトンを用い
た他は実施例１と同様にして平版印刷版原版を得て実施
例７とした。得られた平版印刷版原版を実施例１と同様
の操作を行い、製版、印刷を行ったところ１０，０００
部の汚れのない良好な印刷物が得られた。

【００７４】（実施例８）実施例１において、インク受
容層の形成に用いたポリメタクリル酸メチルの代わりに
ＰＲ−５１８１５（フェノール樹脂、住友デュレス製）
を、トルエンの代わりにメチルエチルケトンを用いた他
は実施例１と同様にして平版印刷版原版を得て実施例８
とした。得られた平版印刷版原版を実施例１と同様の操
作を行い、製版、印刷を行ったところ１０，０００部の
汚れのない良好な印刷物が得られた。 （実施例９）実施例１において、インク受容層の形成に
用いたポリメタクリル酸メチルの代わりにＮ２３０４
（ポリウレタン、日本ポリウレタン製）を、トルエンの
代わりにメチルエチルケトンを用いた他は実施例１と同
様にして平版印刷版原版を得て実施例９とした。得られ
た平版印刷版原版を実施例１と同様の操作を行い、製
版、印刷を行ったところ１０，０００部の汚れのない良
好な印刷物が得られた。

【００７５】（実施例１０）実施例１において、インク
受容層の形成に用いたポリメタクリル酸メチルの代わり
にエピコート１０１０（エポキシ樹脂、油化シェルエポ
キシ製）を、トルエンの代わりにメチルエチルケトンと
プロピレングリコールモノメチルエーテルの１：１の混
合溶媒を用いた他は実施例１と同様にして平版印刷版原
版を得て実施例１０とした。得られた平版印刷版原版を
実施例１と同様の操作を行い、製版、印刷を行ったとこ
ろ１０，０００部の汚れのない良好な印刷物が得られ
た。

【００７６】（実施例１１）実施例１において、インク
受容層塗布液として、下記方法で合成したＮ−（ｐ−ア
ミノスルホニルフエニル）メタクリルアミド共重合体３
ｇをγ−ブチロラクトン９.５ｇ／乳酸メチル３ｇ／メ
チルエチルケトン２２.５ｇ／プロピレングリコールモ
ノメチルエーテル２２ｇの混合溶液に溶解したものを用
いた他は、実施例１と同様にして平版印刷版原版を得て
実施例１１とした。得られた平版印刷版原版を実施例１
と同様の操作を行い、製版、印刷を行ったところ１０，
０００部の汚れのない良好な印刷物が得られた。 〔Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフエニル）メタクリルア
ミド共重合体の合成〕攪拌機、冷却管、滴下ロートを備
えた２００ml三ツ口フラスコに、Ｎ−（ｐ−アミノスル
ホニルフエニル）メタクリルアミド４.６１g（０.０１
９２mole）、メタクリル酸エチル２.９４g（０.０２５
８mole）、アクリロニトリル０.８０g（０.０１５mol
e）及びN,N−ジメチルアセトアミド２０gを入れ、湯水
浴により６５℃に加熱しながら攪拌した。この混合物に
Ｖ−６５（和光純薬（株）製）０.１５gを加え６５℃に
保ちながら窒素気流下２時間攪拌した。この反応混合物
にさらにＮ−（ｐ−アミノスルホニルフエニル）メタク
リルアミド４.６１g、メタクリル酸エチル２.９４g、ア
クリロニトリル０.８０g、N,N−ジメチルアセトアミド
及びＶ−６５ ０.１５gの混合物を２時間かけて滴下ロ
ートにより滴下した。滴下終了後さらに６５℃で２時間
攪拌した。反応終了後メタノール４０gを加え冷却し、
水2Ｌに攪拌下投入し、３０分間攪拌した後ろ過乾燥す
る事により１５gの白色固体を得た。ゲルパーミエーシ
ヨンクロマトグラフイーによりこのＮ−（ｐ−アミノス
ルホニルフエニル）メタクリルアミド共重合体の重量平
均分子量（ポリスチレン標準）を測定したところ５３,
０００であつた。

【００７７】（実施例１２）実施例１において、金属酸
化物薄膜親水層に用いた酸化チタンの代わりに、アルゴ
ン雰囲気下でアルミナターゲット材と高周波電源を用い
てアルミナをスパッタ成膜して金属酸化物薄膜親水層と
した他は実施例１と同様にして平版印刷版原版を得て実
施例１２とした。酸化アルミニウム薄膜親水層の波長８
３０ｎｍに対する吸光度は０．１以下であり、その硬度
を測定したところ、モース硬さで９であった。得られた
平版印刷版原版を実施例１と同様の操作を行い、製版、
印刷を行ったところ１５，０００部の汚れのない良好な
印刷物が得られた。 （実施例１３）実施例１において金属酸化物薄膜親水層
に用いた酸化チタンの代わりに、アルゴン雰囲気下で酸
化ケイ素ターゲット材と高周波電源を用いて酸化ケイ素
をスパッタ成膜して金属酸化物薄膜親水層とした他は実
施例１と同様にして平版印刷版原版を得て実施例１３と
した。酸化ケイ素薄膜親水層の波長８３０ｎｍに対する
吸光度は０．１以下であり、その硬度を測定したとこ
ろ、モース硬さで７であった。得られた平版印刷版原版
を実施例１と同様の操作を行い、製版、印刷を行ったと
ころ１５，０００部の汚れのない良好な印刷物が得られ
た。

【００７８】（実施例１４）実施例１において、インク
受容層塗布液として、以下に記載のインク受容性層塗布
液２を用いた他は、実施例１と同様にして平版印刷版原
版を得て実施例１４とした。得られた平版印刷版原版を
実施例１と同様の操作を行い、製版、印刷を行ったとこ
ろ１０，０００部の汚れのない良好な印刷物が得られ
た。 ＜インク受容性層塗布液２＞ ・ポリエステル系ラテックス、ＡＡ−６４ ５重量部 （ＮＳＣ（株）製、固形分３０重量％） ・酸化スズ−酸化アンチモン水分散物 １５重量部 （平均粒径：０．１μｍ、１７重量％） ・ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル ２．０重量部 （エマルゲン９１１、花王（株）製、１０重量％） ・蒸留水 ８０重量部

【００７９】（実施例１５）実施例１において、オーバ
ーコート層塗布液に用いた水溶性シアニン染料（例示化
合物：Ｉ−３１）の代わりに水溶性シアニン染料（例示
化合物：Ｉ−３２）を用いてオーバーコート層を形成し
た他は実施例１と同様にして平版印刷版原版を得て実施
例１５とした。得られた平版印刷版原版を実施例１と同
様の操作を行い、製版、印刷を行ったところ１０，００
０部の汚れのない良好な印刷物が得られた。

【００８０】（実施例１６）実施例１において、オーバ
ーコート層塗布液に代えて下記のオーバーコート層塗布
液２を用いてオーバーコート層を形成した他は実施例１
と同様にして平版印刷版原版を得て実施例１６とした。

【００８１】 ＜オーバーコート層塗布液２＞ ・アクリル酸ホモポリマー（重量平均分子量２５,０００） の５％溶液 ２０重量部 ・前記水溶性シアニン染料（例示化合物：Ｉ−３２） ０．１重量部 ・ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテール ０．０２５重量部 ・精製水 ８０重量部 得られた平版印刷版原版を実施例１と同様の操作を行
い、画像形成を行ったところ、感度が若干低下してお
り、実施例１に比較して画像形成に余分な時間を要し、
このため生産性がやや低下した。現像、印刷を実施例１
と同様に行なったところ、１０，０００部の汚れのない
良好な印刷物が得られた。

【００８２】（実施例１７）実施例１のポリエステル基
板の代わりに、下記の様に作成したアルミニウム基板を
用いた他は実施例１と同様にして平版印刷版原版を得て
実施例１７とした。得られた平版印刷版原版を実施例１
と同様の操作を行い、製版、印刷を行ったところ１０，
０００部の汚れのない良好な印刷物が得られた。 〔アルミニウム基板の製造〕９９.５重量％アルミニウ
ムに、銅を０.０１重量％、チタンを０.０３重量％、鉄
を０.３重量％、ケイ素を０.１重量％含有するＪＩＳＡ
１０５０アルミニウム材の厚み０.２４ｍｍ圧延板を、
４００メッシュのパミストン（共立窯業製）の２０重量
％水性懸濁液と、回転ナイロンブラシ（６，１０−ナイ
ロン）とを用いてその表面を砂目立てした後、よく水で
洗浄した。これを１５重量％水酸化ナトリウム水溶液
（アルミニウム４.５重量％含有）に浸漬してアルミニ
ウムの溶解量が５g／ｍ²になるようにエッチングした
後、流水で水洗した。更に、１重量％硝酸で中和し、次
に０.７重量％硝酸水溶液（アルミニウム０.５重量％含
有）中で、陽極時電圧１０.５ボルト、陰極時電圧９．
３ボルトの矩形波交番波形電圧（電流比ｒ＝０.９０、
特公昭５８−５７９６号公報実施例に記載されている電
流波形）を用いて１６０クローン／ｄｍ²の陽極時電気
量で電解粗面化処理を行った。

【００８３】水洗後、３５℃の１０重量％水酸化ナトリ
ウム水溶液中に浸漬して、アルミニウム溶解量が１g／
ｍ²になるようにエッチングした後、水洗した。次に、
５０℃、３０重量％の硫酸水溶液中に浸漬し、デスマッ
トした後、水洗した。さらに、３５℃の硫酸２０重量％
水溶液（アルミニウム０.８重量％含有）中で直流電流
を用いて、多孔性陽極酸化皮膜形成処理を行った。即ち
電流密度１３A／ｄｍ²で電解を行い、電解時間の調節に
より陽極酸化皮膜重量２．７ｇ／ｍ²とした。この支持
体を水洗後、７０℃のケイ酸ナトリウムの０.２重量％
水溶液に３０秒間浸漬処理し、水洗乾燥した。以上のよ
うにして得られたアルミニウム基板は、マクベスＲＤ９
２０反射濃度計で測定した反射濃度は０.３０で、中心
線平均粗さは０.５８μｍであった。

【００８４】（比較例１）実施例１において、オーバー
コート層を形成しなかった他は、実施例１と同様にし
て、感熱性平版印刷版原版を得て比較例１とした。これ
を実施例１と同様の操作を行って画像形成したところ、
金属酸化物薄膜親水層は露光に用いるレーザーを吸収し
ないため、画像形成されなかった。

【００８５】（比較例２）実施例１において設けた金属
酸化物薄膜親水層の代わりに、下記の方法でインク受容
層上にシリカゾルゲル親水性層を設けた他は、実施例１
と同様にして、感熱性平版印刷版原版を得て比較例２と
した。２−ヒドロキシエチルメタクリレートホモポリマ
ー（重量平均分子量２５０，０００）のエチレングリコ
ールモノメチルエーテル１０％溶液１ｇ、メタノールシ
リカ（日産化学製：１０ｎｍ〜２０ｎｍのシリカ粒子を
３０重量％含有するメタノール溶液からなるコロイド）
３ｇ及びメタノール１６ｇからなる溶液を、上記のイン
キ受容層を塗布した基板上に塗布液量２４ｍｌ／ｍ²に
なるよう塗布した。１００℃、１分間乾燥させ、乾燥塗
布重量約１ｇ／ｍ²の三次元架橋した親水層を形成し
た。この感熱性平版印刷版原版を実施例１と同様な方法
で画像形成し、印刷したところ、非画像部の性能は問題
なかったが、親水層が厚みのある塗布膜で形成されてい
ることから、印刷機上で除去された親水性層のカスが版
上に残るため印刷物に素抜けが観察された。

【００８６】上記、実施例の各平版印刷版原版は、イン
ク受容層、金属酸化物薄膜親水層、オーバーコート層を
種々に変えても、いずれも短時間での走査露光が可能
で、その上現像処理を行うことなく直接に印刷機に装着
して印刷することが可能であり、優れた印刷物が多数枚
得られ耐刷性に優れていた。また、得られた印刷版は、
汚れも少なく、印刷機上で除去される部分の物質量が少
ないため印刷品質に与える影響が極めて小さいことがわ
かった。また、製版中の観察によっても、レーザー露光
時、感熱層のアブレーション（飛散）が抑えられ、露光
装置や光源の汚染は確認されず、アブレーションが有効
に回避されてることがわかった。

【００８７】

【発明の効果】本発明の平版印刷版原版を用いることに
より、短時間での走査露光が可能で、露光時のアブレー
ションが有効に抑制され、その上現像処理を行うことな
く直接に印刷機に装着して印刷することが可能であり、
耐刷性にすぐれ、汚れがない優れた品質の印刷物が多数
枚得られる。また、本発明の感熱性平版印刷版原版の画
像形成法によれば、レーザー露光時のアブレーションが
抑制され、露光装置や光源の汚染を生じることなく、耐
刷性にすぐれ、汚れがない優れた品質の印刷物が多数枚
得られる平版印刷版を、得ることが可能となった。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H025 AA12 AB03 AC08 AD01 BH02 DA01 DA03 DA36 DA40 FA10 2H084 AA14 AA32 AE05 BB04 CC05 2H096 AA06 BA20 CA20 EA04 EA23 2H114 AA04 AA22 AA24 BA01 DA08 DA26 DA49 DA52 DA56 DA73 DA78 EA01 EA03 EA04 FA16 GA34 GA38

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 熱可塑性または熱分解性表面を有するイ
   ンク受容層上に、金属酸化物薄膜親水層、及び光熱変換
   剤を含有する水溶性オーバーコート層を順次設けた感熱
   性平版印刷版原版。
2. 【請求項２】 前記金属酸化物薄膜親水層が画像形成に
   使用するレーザー光に対して透過性であり、レーザー露
   光により露光部の光熱変換剤を含有する水溶性オーバー
   コート層が発熱することで、インク受容層と金属酸化物
   薄膜親水層間の密着が低下して、金属酸化物薄膜親水層
   が除去可能となる請求項１に記載の感熱性平版印刷版原
   版。
3. 【請求項３】 熱可塑性または熱分解性表面を有するイ
   ンク受容層上に、画像形成に使用するレーザー光に対し
   て透過性である金属酸化物薄膜親水層、及び光熱変換剤
   を含有する水溶性オーバーコート層を順次設けた感熱性
   平版印刷版原版を、（ｉ）像様にレーザー露光する工程
   と、（ii）露光部の水溶性オーバーコート層が発熱し、
   その熱でインク受容層と金属酸化物薄膜親水層間の密着
   が低下する工程と、（iii）水溶性オーバーコート層及
   び密着が低下した部分の金属酸化物層を除去する工程
   と、を含む感熱性平版印刷版の画像形成方法。