JP2001288191A - チオファン類の製造方法 - Google Patents
チオファン類の製造方法Info
- Publication number
- JP2001288191A JP2001288191A JP2000098711A JP2000098711A JP2001288191A JP 2001288191 A JP2001288191 A JP 2001288191A JP 2000098711 A JP2000098711 A JP 2000098711A JP 2000098711 A JP2000098711 A JP 2000098711A JP 2001288191 A JP2001288191 A JP 2001288191A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- general formula
- aromatic hydrocarbon
- atom
- solvent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 工業的に有利に一般式（２）
（式中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ同一または相異なっ
て、水素原子、アルキル基、置換基を有していてもよい
アリール基、アシル基、アルケニルメチル基または置換
基を有していてもよいベンジル基を表わし、Ｙは酸素原
子または硫黄原子を表わし、Ｚは末端にカルボキシル基
もしくはアルコキシ基を有するアルキル基を表わす。）
で示されるチオファン類を製造する方法を提供する。 【解決手段】一般式（１） （式中、Ｒ1、Ｒ2、ＹおよびＺは上記と同一の意味を表
わす。）で示される化合物を、有機溶媒に可溶なパラジ
ウム触媒の存在下、芳香族炭化水素系溶媒中または芳香
族炭化水素系溶媒と水の混合溶媒中、水素で接触還元す
ることを特徴とする一般式（２）で示されるチオファン
類の製造方法。
て、水素原子、アルキル基、置換基を有していてもよい
アリール基、アシル基、アルケニルメチル基または置換
基を有していてもよいベンジル基を表わし、Ｙは酸素原
子または硫黄原子を表わし、Ｚは末端にカルボキシル基
もしくはアルコキシ基を有するアルキル基を表わす。）
で示されるチオファン類を製造する方法を提供する。 【解決手段】一般式（１） （式中、Ｒ1、Ｒ2、ＹおよびＺは上記と同一の意味を表
わす。）で示される化合物を、有機溶媒に可溶なパラジ
ウム触媒の存在下、芳香族炭化水素系溶媒中または芳香
族炭化水素系溶媒と水の混合溶媒中、水素で接触還元す
ることを特徴とする一般式（２）で示されるチオファン
類の製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、チオファン類の製
造方法に関する。
造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般式（２） （式中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ同一または相異なっ
て、水素原子、アルキル基、置換基を有していてもよい
アリール基、アシル基、アルケニルメチル基または置換
基を有していてもよいベンジル基を表わし、Ｙは酸素原
子または硫黄原子を表わし、Ｚは末端にカルボキシル基
もしくはアルコキシ基を有するアルキル基を表わす。）
で示されるチオファン類は、例えばビオチン（ビタミン
Ｈ）等の製造中間体として重要である。
て、水素原子、アルキル基、置換基を有していてもよい
アリール基、アシル基、アルケニルメチル基または置換
基を有していてもよいベンジル基を表わし、Ｙは酸素原
子または硫黄原子を表わし、Ｚは末端にカルボキシル基
もしくはアルコキシ基を有するアルキル基を表わす。）
で示されるチオファン類は、例えばビオチン（ビタミン
Ｈ）等の製造中間体として重要である。
【０００３】かかる一般式（２）で示されるチオファン
類の製造方法としては、例えば一般式（１） （式中、Ｒ1、Ｒ2、ＹおよびＺは上記と同一の意味を表
わす。）で示される化合物を、アルコール類と水の混合
溶媒中、有機溶媒に可溶なパラジウム触媒の存在下、水
素で接触還元する方法が知られている（特開平７―２３
３１７１号公報）。
類の製造方法としては、例えば一般式（１） （式中、Ｒ1、Ｒ2、ＹおよびＺは上記と同一の意味を表
わす。）で示される化合物を、アルコール類と水の混合
溶媒中、有機溶媒に可溶なパラジウム触媒の存在下、水
素で接触還元する方法が知られている（特開平７―２３
３１７１号公報）。
【０００４】しかしながら、アルコール溶媒は、次工程
において、反応に悪影響を及ぼすため、かかる方法で得
られた一般式（２）で示されるチオファン類について、
アルコール系溶媒を問題ない程度に除去するため、例え
ばアルコール系溶媒と共沸する溶媒の共存下に除去操作
を行なう等煩雑な操作を行なう必要があり、工業的な製
造方法という観点からは、必ずしも十分満足し得るもの
とは言えなかった。
において、反応に悪影響を及ぼすため、かかる方法で得
られた一般式（２）で示されるチオファン類について、
アルコール系溶媒を問題ない程度に除去するため、例え
ばアルコール系溶媒と共沸する溶媒の共存下に除去操作
を行なう等煩雑な操作を行なう必要があり、工業的な製
造方法という観点からは、必ずしも十分満足し得るもの
とは言えなかった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】このような状況のも
と、本発明者は、より容易に、かつ、工業的に有利に一
般式（２）で示されるチオファン類を製造する方法につ
いて、鋭意検討したところ、次工程に比較的影響の少な
く、除去も容易な芳香族炭化水素系溶媒中で、一般式
（１）で示される化合物を水素で接触還元することによ
り、一般式（２）で示されるチオファン類が収率よく得
られることを見出し、本発明に至った。
と、本発明者は、より容易に、かつ、工業的に有利に一
般式（２）で示されるチオファン類を製造する方法につ
いて、鋭意検討したところ、次工程に比較的影響の少な
く、除去も容易な芳香族炭化水素系溶媒中で、一般式
（１）で示される化合物を水素で接触還元することによ
り、一般式（２）で示されるチオファン類が収率よく得
られることを見出し、本発明に至った。
【０００６】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、一
般式（１） （式中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ同一または相異なっ
て、水素原子、アルキル基、置換基を有していてもよい
アリール基、アシル基、アルケニルメチル基または置換
基を有していてもよいベンジル基を表わし、Ｙは酸素原
子または硫黄原子を表わし、Ｚは末端にカルボキシル基
もしくはアルコキシ基を有するアルキル基を表わす。）
で示される化合物を、有機溶媒に可溶なパラジウム触媒
の存在下、芳香族炭化水素系溶媒中または芳香族炭化水
素系溶媒と水の混合溶媒中、水素で接触還元することを
特徴とする一般式（２） （式中、Ｒ1、Ｒ2、ＹおよびＺは上記と同一の意味を表
わす。）で示されるチオファン類の製造方法を提供する
ものである。
般式（１） （式中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ同一または相異なっ
て、水素原子、アルキル基、置換基を有していてもよい
アリール基、アシル基、アルケニルメチル基または置換
基を有していてもよいベンジル基を表わし、Ｙは酸素原
子または硫黄原子を表わし、Ｚは末端にカルボキシル基
もしくはアルコキシ基を有するアルキル基を表わす。）
で示される化合物を、有機溶媒に可溶なパラジウム触媒
の存在下、芳香族炭化水素系溶媒中または芳香族炭化水
素系溶媒と水の混合溶媒中、水素で接触還元することを
特徴とする一般式（２） （式中、Ｒ1、Ｒ2、ＹおよびＺは上記と同一の意味を表
わす。）で示されるチオファン類の製造方法を提供する
ものである。
【０００７】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
まず、一般式（１） （式中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ同一または相異なっ
て、水素原子、アルキル基、置換基を有していてもよい
アリール基、アシル基、アルケニルメチル基または置換
基を有していてもよいベンジル基を表わし、Ｙは酸素原
子または硫黄原子を表わし、Ｚは末端にカルボキシル基
もしくはアルコキシ基を有するアルキル基を表わす。）
で示される化合物について説明する。
まず、一般式（１） （式中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ同一または相異なっ
て、水素原子、アルキル基、置換基を有していてもよい
アリール基、アシル基、アルケニルメチル基または置換
基を有していてもよいベンジル基を表わし、Ｙは酸素原
子または硫黄原子を表わし、Ｚは末端にカルボキシル基
もしくはアルコキシ基を有するアルキル基を表わす。）
で示される化合物について説明する。
【０００８】アルキル基としては、例えばメチル基、エ
チル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル
基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチ
ル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、イソオクチル
基等の炭素数１〜８の直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキ
ル基が挙げられる。
チル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル
基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチ
ル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、イソオクチル
基等の炭素数１〜８の直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキ
ル基が挙げられる。
【０００９】置換基を有していてもよいアリール基のア
リール基としては、例えばフェニル基、１−ナフチル
基、２−ナフチル基等が挙げられ、置換基としては、例
えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピ
ル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル
基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基等の炭素数１
〜６の直鎖状もしくは分枝鎖状の低級アルキル基、例え
ばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプ
ロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ
−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ヘキソキシ
基等の炭素数１〜６の直鎖状もしくは分枝鎖状の低級ア
ルコキシ基、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、
ヨウ素原子等のハロゲン原子等が挙げられる。
リール基としては、例えばフェニル基、１−ナフチル
基、２−ナフチル基等が挙げられ、置換基としては、例
えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピ
ル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル
基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基等の炭素数１
〜６の直鎖状もしくは分枝鎖状の低級アルキル基、例え
ばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプ
ロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ
−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ヘキソキシ
基等の炭素数１〜６の直鎖状もしくは分枝鎖状の低級ア
ルコキシ基、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、
ヨウ素原子等のハロゲン原子等が挙げられる。
【００１０】かかる置換基を有していてもよいアリール
基としては、例えばフェニル基、トリル基、クロロフェ
ニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、メチルナフ
チル基、メトキシナフチル基等が挙げられる。
基としては、例えばフェニル基、トリル基、クロロフェ
ニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、メチルナフ
チル基、メトキシナフチル基等が挙げられる。
【００１１】アシル基としては、例えばアセチル基、プ
ロピオニル基、ブチリル基、バレリル基等の炭素数２〜
６のアシル基が挙げられ、アラルキル基としては、例え
ばベンジル基等が挙げられる。
ロピオニル基、ブチリル基、バレリル基等の炭素数２〜
６のアシル基が挙げられ、アラルキル基としては、例え
ばベンジル基等が挙げられる。
【００１２】また、Ｚは末端にカルボキシル基もしくは
アルコキシ基を有するアルキル基を表わし、例えばカル
ボキシメチル基、カルボキシエチル基、カルボキシプロ
ピル基、メトキシメチル基、メトキシエチル基、メトキ
シプロピル基、エトキシメチル基、エトキシエチル基、
エトキシプロピル基等が挙げられる。
アルコキシ基を有するアルキル基を表わし、例えばカル
ボキシメチル基、カルボキシエチル基、カルボキシプロ
ピル基、メトキシメチル基、メトキシエチル基、メトキ
シプロピル基、エトキシメチル基、エトキシエチル基、
エトキシプロピル基等が挙げられる。
【００１３】かかる一般式（１）で示される化合物とし
ては、例えば３，４−（１’，３’−ジベンジル−２’
−ケトイミダゾリド）−２−（ω−エトキシプロピリデ
ン）チオファン、３，４−（１’，３’−ジベンジル−
２’−ケトイミダゾリド）−−（ω−エトキシプロピリ
デン）チオファン、３，４−（１’，３’−ジベンジル
−２’−ケトイミダゾリド）−２−（ω−カルボキシブ
チリデン）チオファン等が挙げられる。
ては、例えば３，４−（１’，３’−ジベンジル−２’
−ケトイミダゾリド）−２−（ω−エトキシプロピリデ
ン）チオファン、３，４−（１’，３’−ジベンジル−
２’−ケトイミダゾリド）−−（ω−エトキシプロピリ
デン）チオファン、３，４−（１’，３’−ジベンジル
−２’−ケトイミダゾリド）−２−（ω−カルボキシブ
チリデン）チオファン等が挙げられる。
【００１４】かかる一般式（１）で示される化合物は、
光学異性体が存在するが、本発明には、いずれか一方の
光学異性体、光学異性体の等量混合物であるラセミ体お
よびいずれか一方の光学異性体が過剰の混合物のいずれ
も用いることができる。
光学異性体が存在するが、本発明には、いずれか一方の
光学異性体、光学異性体の等量混合物であるラセミ体お
よびいずれか一方の光学異性体が過剰の混合物のいずれ
も用いることができる。
【００１５】有機溶媒に可溶なパラジウム触媒として
は、例えば酢酸パラジウム、プロピオン酸パラジウム、
ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、
ジ−μ−クロロビス（η−アリル）パラジウム、ジクロ
ロ（η−１，５−シクロオクタジエン）パラジウム、ジ
クロロ（η−２，５−ノルボルナジエン）パラジウム、
ジクロロビス（アセトニトリル）パラジウム、ジクロロ
ビス（ベンゾニトリル）パラジウム、ジクロロビス
（Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）パラジウム、ビス
（アセチルアセトナト）パラジウム、ビス（ジメチルグ
リオキシマト）パラジウム等が挙げられ、特に酢酸パラ
ジウムが好適である。
は、例えば酢酸パラジウム、プロピオン酸パラジウム、
ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、
ジ−μ−クロロビス（η−アリル）パラジウム、ジクロ
ロ（η−１，５−シクロオクタジエン）パラジウム、ジ
クロロ（η−２，５−ノルボルナジエン）パラジウム、
ジクロロビス（アセトニトリル）パラジウム、ジクロロ
ビス（ベンゾニトリル）パラジウム、ジクロロビス
（Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）パラジウム、ビス
（アセチルアセトナト）パラジウム、ビス（ジメチルグ
リオキシマト）パラジウム等が挙げられ、特に酢酸パラ
ジウムが好適である。
【００１６】かかる有機溶媒に可溶なパラジウム触媒の
使用量は、一般式（１）で示される化合物に対して、パ
ラジウム金属換算で、通常０．０５モル％以上、好まし
くは０．４モル％以上である。上限は特に限定されない
が、経済的な面を考慮すると、実用的には１モル％以下
である。
使用量は、一般式（１）で示される化合物に対して、パ
ラジウム金属換算で、通常０．０５モル％以上、好まし
くは０．４モル％以上である。上限は特に限定されない
が、経済的な面を考慮すると、実用的には１モル％以下
である。
【００１７】本発明の接触還元反応における水素圧は、
通常５０〜１００００ｋＰａ、好ましくは４００〜３０
００ｋＰａの範囲であり、還元反応温度は、それが低い
と、反応速度が小さくなり、それが高いと、触媒活性が
低下するため、通常３０〜７０℃、好ましくは、４０〜
６０℃の範囲である。
通常５０〜１００００ｋＰａ、好ましくは４００〜３０
００ｋＰａの範囲であり、還元反応温度は、それが低い
と、反応速度が小さくなり、それが高いと、触媒活性が
低下するため、通常３０〜７０℃、好ましくは、４０〜
６０℃の範囲である。
【００１８】本発明に用いられる芳香族炭化水素系溶媒
としては、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等が挙
げられ、なかでもトルエンが好ましく用いられる。かか
る芳香族炭化水素系溶媒と水との混合溶媒を用いる場合
の水の使用量は、芳香族炭化水素系溶媒に対して、通常
０．０１〜１０重量倍、好ましくは０．０５〜５重量倍
である。
としては、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等が挙
げられ、なかでもトルエンが好ましく用いられる。かか
る芳香族炭化水素系溶媒と水との混合溶媒を用いる場合
の水の使用量は、芳香族炭化水素系溶媒に対して、通常
０．０１〜１０重量倍、好ましくは０．０５〜５重量倍
である。
【００１９】還元反応終了後、例えば反応混合物に吸着
剤を加えて吸着処理を行なうことにより、パラジウム触
媒を系外に除去することができる。
剤を加えて吸着処理を行なうことにより、パラジウム触
媒を系外に除去することができる。
【００２０】吸着剤としては、例えば、活性炭、活性白
土、ケイソウ土、シリカゲル、アルミナ等が挙げられ、
活性炭が好ましく用いられる。吸着剤の使用量は、パラ
ジウム触媒に対して、通常０．１重量倍以上、好ましく
は１重量倍以上である。上限は特に限定されないが、操
作性、経済性等を考慮すると、実用的には５０重量倍以
下である。
土、ケイソウ土、シリカゲル、アルミナ等が挙げられ、
活性炭が好ましく用いられる。吸着剤の使用量は、パラ
ジウム触媒に対して、通常０．１重量倍以上、好ましく
は１重量倍以上である。上限は特に限定されないが、操
作性、経済性等を考慮すると、実用的には５０重量倍以
下である。
【００２１】かかる吸着処理において、凝集剤を併用し
てもよく、凝集剤としては、例えばアルミニウム、マグ
ネシウム、ナトリウム、カリウム、鉄等の金属のハロゲ
ン化物、硝酸塩および硫酸塩等の電解質、イオン交換樹
脂、キレート樹脂、高分子凝集剤等が挙げられ、その使
用量は特に制限されないが、あまり多すぎると経済的に
不利になるため、実用的には、用いたパラジウム触媒に
対して、１０重量倍以下である。
てもよく、凝集剤としては、例えばアルミニウム、マグ
ネシウム、ナトリウム、カリウム、鉄等の金属のハロゲ
ン化物、硝酸塩および硫酸塩等の電解質、イオン交換樹
脂、キレート樹脂、高分子凝集剤等が挙げられ、その使
用量は特に制限されないが、あまり多すぎると経済的に
不利になるため、実用的には、用いたパラジウム触媒に
対して、１０重量倍以下である。
【００２２】吸着剤、凝集剤を反応混合物に添加する温
度は、通常０〜１００℃、好ましくは３０〜７０℃であ
る。なお、反応混合物を還元反応温度よりも高温に加熱
した後に上記した吸着剤の添加操作を行なうことによ
り、さらにパラジウム触媒を効率よく除去することがで
きる。また、かかる吸着処理を、水素加圧下で行なって
もよい。
度は、通常０〜１００℃、好ましくは３０〜７０℃であ
る。なお、反応混合物を還元反応温度よりも高温に加熱
した後に上記した吸着剤の添加操作を行なうことによ
り、さらにパラジウム触媒を効率よく除去することがで
きる。また、かかる吸着処理を、水素加圧下で行なって
もよい。
【００２３】上記操作後、通常濾過処理することによ
り、パラジウム触媒を吸着剤等とともに系外に除去する
ことができ、除去後の反応混合物から溶媒を除去するこ
とにより目的とする一般式（２） （式中、Ｒ1、Ｒ2、ＹおよびＺは上記と同一の意味を表
わす。）で示されるチオファン類を取り出すことができ
る。
り、パラジウム触媒を吸着剤等とともに系外に除去する
ことができ、除去後の反応混合物から溶媒を除去するこ
とにより目的とする一般式（２） （式中、Ｒ1、Ｒ2、ＹおよびＺは上記と同一の意味を表
わす。）で示されるチオファン類を取り出すことができ
る。
【００２４】かかる一般式（２）で示されるチオファン
類としては、例えば３，４−（１’，３’−ジベンジル
−２’−ケトイミダゾリド）−２−（ω−メトキシプロ
ピル）チオファン、３，４−（１’，３’−ジベンジル
−２’−ケトイミダゾリド）−２−（ω−エトキシプロ
ピル）チオファン、３，４−（１’，３’−ジベンジル
−２’−ケトイミダゾリド）−２−（ω−カルボキシブ
チル）チオファン等が挙げられる。
類としては、例えば３，４−（１’，３’−ジベンジル
−２’−ケトイミダゾリド）−２−（ω−メトキシプロ
ピル）チオファン、３，４−（１’，３’−ジベンジル
−２’−ケトイミダゾリド）−２−（ω−エトキシプロ
ピル）チオファン、３，４−（１’，３’−ジベンジル
−２’−ケトイミダゾリド）−２−（ω−カルボキシブ
チル）チオファン等が挙げられる。
【００２５】
【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳細に説
明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものでは
ない。なお、分析は、高速液体クロマトグラフィにより
行なった。
明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものでは
ない。なお、分析は、高速液体クロマトグラフィにより
行なった。
【００２６】実施例１ ３，４−（１’，３’−ジベンジル−２’−ケトイミダ
ゾリド）−２−（ω−エトキシプロピリデン）チオファ
ンのトルエン溶液１３８ｇ（含量：３６．２重量％）に
水５ｇおよび酢酸パラジウム０．３５ｇを加え、水素圧
２０ｋｇｆ／ｃｍ2（１９６１ｋＰａ相当）、内温５５
℃で３時間接触還元した。窒素置換した後、水素圧１５
ｋｇｆ／ｃｍ2（１４７１ｋＰａ相当）、内温８０℃
で、１時間保温した後、冷却し、トルエン１４０ｇおよ
び活性炭２．８６ｇ（ｄｒｙ）を加え、内温４０℃で２
時間保温後、触媒を濾過した。濾液の色相はガードナー
スケールで６であった（反応混合物の色相は、ガードナ
ースケールで１６）。得られた濾液を減圧濃縮し、３，
４−（１’，３’−ジベンジル−２’−ケトイミダゾリ
ド）−２−（ω−エトキシプロピル）チオファンを油状
物として得た（純度：９８重量％）。
ゾリド）−２−（ω−エトキシプロピリデン）チオファ
ンのトルエン溶液１３８ｇ（含量：３６．２重量％）に
水５ｇおよび酢酸パラジウム０．３５ｇを加え、水素圧
２０ｋｇｆ／ｃｍ2（１９６１ｋＰａ相当）、内温５５
℃で３時間接触還元した。窒素置換した後、水素圧１５
ｋｇｆ／ｃｍ2（１４７１ｋＰａ相当）、内温８０℃
で、１時間保温した後、冷却し、トルエン１４０ｇおよ
び活性炭２．８６ｇ（ｄｒｙ）を加え、内温４０℃で２
時間保温後、触媒を濾過した。濾液の色相はガードナー
スケールで６であった（反応混合物の色相は、ガードナ
ースケールで１６）。得られた濾液を減圧濃縮し、３，
４−（１’，３’−ジベンジル−２’−ケトイミダゾリ
ド）−２−（ω−エトキシプロピル）チオファンを油状
物として得た（純度：９８重量％）。
【００２７】
【発明の効果】本発明の製造方法よれば、ビオチン等の
製造中間体として有用なチオファン類を工業的に有利に
製造することができる。
製造中間体として有用なチオファン類を工業的に有利に
製造することができる。
Claims (1)
- 【請求項１】一般式（１） （式中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ同一または相異なっ
て、水素原子、アルキル基、置換基を有していてもよい
アリール基、アシル基、アルケニルメチル基または置換
基を有していてもよいベンジル基を表わし、Ｙは酸素原
子または硫黄原子を表わし、Ｚは末端にカルボキシル基
もしくはアルコキシ基を有するアルキル基を表わす。）
で示される化合物を、有機溶媒に可溶なパラジウム触媒
の存在下、芳香族炭化水素系溶媒中または芳香族炭化水
素系溶媒と水の混合溶媒中、水素で接触還元することを
特徴とする一般式（２） （式中、Ｒ1、Ｒ2、ＹおよびＺは上記と同一の意味を表
わす。）で示されるチオファン類の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000098711A JP2001288191A (ja) | 2000-03-31 | 2000-03-31 | チオファン類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000098711A JP2001288191A (ja) | 2000-03-31 | 2000-03-31 | チオファン類の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001288191A true JP2001288191A (ja) | 2001-10-16 |
Family
ID=18613168
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000098711A Pending JP2001288191A (ja) | 2000-03-31 | 2000-03-31 | チオファン類の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001288191A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007009222A (ja) * | 2003-05-20 | 2007-01-18 | Mitsubishi Plastics Ind Ltd | 脂肪族ポリエステル系樹脂反射フィルム及び反射板 |
| CN114797827A (zh) * | 2022-05-19 | 2022-07-29 | 西安凯立新材料股份有限公司 | D-生物素中间体合成用钯催化剂及其制备方法和应用 |
-
2000
- 2000-03-31 JP JP2000098711A patent/JP2001288191A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007009222A (ja) * | 2003-05-20 | 2007-01-18 | Mitsubishi Plastics Ind Ltd | 脂肪族ポリエステル系樹脂反射フィルム及び反射板 |
| JP4550787B2 (ja) * | 2003-05-20 | 2010-09-22 | 三菱樹脂株式会社 | 脂肪族ポリエステル系樹脂反射フィルム及び反射板 |
| CN114797827A (zh) * | 2022-05-19 | 2022-07-29 | 西安凯立新材料股份有限公司 | D-生物素中间体合成用钯催化剂及其制备方法和应用 |
| CN114797827B (zh) * | 2022-05-19 | 2024-01-23 | 西安凯立新材料股份有限公司 | D-生物素中间体合成用钯催化剂及其制备方法和应用 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN108610304B (zh) | 一种二芳并磺内酰胺类化合物的合成方法 | |
| JP5899204B2 (ja) | キラルなβ−アミノカルボキサミド誘導体の製造方法 | |
| EP1669359B1 (en) | A process for the preparation of olanzapine and an intermediate therefor | |
| JPS6154795B2 (ja) | ||
| JP4356060B2 (ja) | 光学活性１−保護インドリン−２−カルボン酸誘導体の製造方法および光学活性インドリン−２−カルボン酸誘導体の製造方法 | |
| JP5880226B2 (ja) | 重合性化合物の製造方法 | |
| JP2001288191A (ja) | チオファン類の製造方法 | |
| CN115215796B (zh) | 一种3-酰基喹啉类化合物的合成方法 | |
| Obijalska et al. | Enantioselective additions of (trifluoromethyl) trimethylsilane to α-imino ketones derived from aryl glyoxals | |
| CN102791661B (zh) | 二氟环丙烷化合物的制造方法 | |
| JPH05255204A (ja) | アミン類の製造法 | |
| CN102822161A (zh) | 制造光学活性n-单烷基-3-羟基-3-芳基丙胺化合物的方法 | |
| JP4104871B2 (ja) | 光学活性１，１’−ビ−２−ナフトール類の精製方法 | |
| Uehara et al. | Planar chiral organosulfur cycles | |
| JPH07330776A (ja) | ビオチン誘導体の製造法 | |
| KR102221534B1 (ko) | 치환된 감마 락탐의 합성을 위한 공정 | |
| JP2001288190A (ja) | チオファン誘導体の製造方法 | |
| CN110590641B (zh) | 一种3-羟基异吲哚-1-酮系列化合物的绿色制备方法 | |
| CN114349699B (zh) | 一种(r)-2-(4-甲氧苄基)-4-亚甲基-1-对甲苯磺酰基吡咯烷的合成方法 | |
| CN114213373B (zh) | 二苯并呋喃类衍生物的合成方法 | |
| JP4664903B2 (ja) | ４，１０β−ジアセトキシ−２α−ベンゾイルオキシ−５β，２０−エポキシ−１，１３α−ジヒドロキシ−９−オキソ−１９−ノルシクロプロパ［ｇ］タキサ−１１−エンの製造方法 | |
| AU2003215528A1 (en) | Method for manufacture of sertindole | |
| JPH07233171A (ja) | チオファン誘導体の製造法 | |
| CN116023331A (zh) | 一种3-（二氟甲基）-1-甲基-1h-吡唑-4-羧酸的合成方法 | |
| JP4937442B2 (ja) | ５−フルオロオキシインドールの製造法 |