JP2001284684A - ガイドレーザ装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ガイド光軸をレーザ光軸に容易に一致させる
ことのできるガイドレーザ装置を提供する。 【解決手段】 可視のガイドレーザ光(28)を発振するガ
イドレーザ(17)と、ガイドレーザ光(28)を反射して不可
視レーザ装置(1)のレーザ光軸(10)にガイドレーザ光(2
8)のガイド光軸を一致させるガイドミラー(26)とを備え
たガイドレーザ装置において、ガイドミラー(26)をレー
ザチャンバ(2)よりも前方に配置し、レーザ光軸(10)上
に配置されたガイドミラー(26)をレーザ光軸(10)上から
退避させる退避機構(18,19,27,29)と、ガイドミラー(2
6)をレーザ光軸(10)上に復帰させる際に、ガイド光軸が
レーザ光軸(10)に再現性よく一致するように位置決めす
る位置決め機構(3)とを備えている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、不可視レーザ光を
発振する不可視レーザ装置のガイドレーザ装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】エキシマレーザ等の、不可視の波長域に
あるレーザ光を発振するレーザ装置においては、レーザ
光が見えないため、そのレーザ光軸に加工機等のレーザ
外部の装置の光軸を合わせることが困難である。そのた
め、レーザ光軸に光軸を一致させたＨｅ−Ｎｅレーザや
半導体レーザ等の可視レーザ光をガイドレーザ光とし
て、外部の装置の光軸合わせを行なうことが知られてい
る。

【０００３】図５は、特開平３−１８５８８６号公報に
開示された技術の一例であり、以下図５に基づいて従来
技術を説明する。図５においてレーザ光１１は、レーザ
媒質であるレーザガスを封入したレーザチャンバ２内で
放電によって発振する。そして、フロントウィンドウ７
及びリアウィンドウ９を通過してフロントミラー８とリ
アミラー６６との間で往復し、フロントウィンドウ７を
通って外部に出射する。出射したレーザ光１１は、エキ
シマレーザ装置１の前方に設置された、例えばステッパ
等の加工機１５に入射し、加工用光源となる。

【０００４】エキシマレーザ装置１は、例えばレーザ定
盤５３上に設置されている。レーザ定盤５３には、可視
光を発振する半導体レーザ等の小型のガイドレーザ１７
と、ガイドレーザ１７から発振したガイドレーザ光２８
を反射するガイドミラー２６，２６とが設置されてい
る。ガイドレーザ光２８は、リアミラー６６を透過して
レーザチャンバ２内を通過し、フロントウィンドウ７か
ら出射する。このガイドレーザ光２８のガイド光軸をレ
ーザ光１１のレーザ光軸１０に一致させてフロントウィ
ンドウ７から出射し、ガイドレーザ光２８によって加工
機１５の光軸合わせを行なっている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来技術には、次に述べるような問題がある。即ち、近年
エキシマレーザ等のレーザを微細加工の光源として使用
するために、その波長を狭帯域化する技術が知られてい
る。これは例えば、リアミラー６６の代わりにグレーテ
ィング等を配置するものであり、このような場合にはグ
レーティングがガイドレーザ光２８を透過しないため、
ガイドレーザ光２８を後方からレーザチャンバ２内に入
れることができなくなる。そのため、加工機１５の光軸
合わせが非常に困難になる。また、ガイド光軸をレーザ
光軸１０に合わせた後、エキシマレーザ装置１を運搬す
る際に、ガイド光軸がレーザ光軸１０からずれてしまう
ことがある。これにより、加工機１５の光軸合わせが不
正確となってしまうという問題がある。

【０００６】さらに、従来技術ではガイドミラー２６を
リアミラー６６の後方に配置しているので、ガイドレー
ザ光２８がリアミラー６６、リアウィンドウ９、レーザ
チャンバ２、及びフロントミラー８を通過する。ガイド
レーザ光２８はレーザ光１１とは波長が異なるため、こ
れら多数の光学部品によってレーザ光１１と異なる向き
に進行方向を曲げられる。従って、ガイドミラー２６の
調整時に、予期した方向と異なる方向にガイドレーザ光
２８が動き、光軸合わせが非常にやりにくいという問題
がある。また、リアミラー６６やフロントミラー８等の
光学部品を交換した際に、これを正確に元通りに再装着
することは、非常に困難である。従って、これによって
ガイド光軸がレーザ光軸１０及び加工機１５の光軸から
ずれてしまい、再度合わせるためには、多大な手間を要
する。さらには、レーザチャンバ２を交換したり、レー
ザチャンバ２内のレーザガス圧を変化させたりした場合
にも、レーザチャンバ２がガイドレーザを元の方向と異
なる方向に屈折させるため、ガイドレーザ光２８の進行
方向がずれてしまうという問題がある。

【０００７】また、レーザチャンバ２のガス圧やガスの
種類が変化するとガイドレーザ光２８がずれてしまうた
め、加工機１５の光軸合わせを行なう場合には、常にレ
ーザチャンバ２内にレーザガスを所定の圧力で封止しな
ければならず、レーザガスが無駄になる。さらに、レー
ザ発振時に放電が起きると、内部のレーザガスの圧力や
屈折率が変動するので、これもガイドレーザ光２８がず
れる原因となる。

【０００８】本発明は、上記の問題に着目してなされた
ものであり、ガイド光軸がレーザ光軸からずれないよう
にしたガイドレーザ装置を提供することを目的としてい
る。

【０００９】

【課題を解決するための手段、作用及び効果】上記の目
的を達成するために、本発明は、ガイドレーザ装置にお
いて、ガイドレーザ光を反射するガイドミラーをレーザ
チャンバよりも前方に配置している。

【００１０】これにより、レーザチャンバの交換を行な
ったりレーザガスの圧力を変化させるような場合に、レ
ーザチャンバよりも前方にガイドミラーがあるので、ガ
イド光軸がずれることがない。従って、例えば外部に加
工機があるような場合に、ガイド光軸と加工機の光軸と
がずれることがない。従って、レーザ光を再度発振させ
る際に、このガイド光軸にレーザ光軸を合わせれば加工
機の光軸と一致するので、光軸合わせが非常に簡単にな
る。さらに、レーザチャンバの後ろからガイドレーザ光
を通す必要がなくなるため、狭帯域化のためにグレーテ
ィング等の光学部品を配置することが可能となり、狭帯
域化されたレーザ装置に対してもこのガイドレーザ装置
を使用することが可能となる。

【００１１】また、本発明は、ガイドミラーをレーザ光
軸上から退避させる退避機構と、ガイドミラーをレーザ
光軸上に復帰させる際に、ガイド光軸がレーザ光軸に再
現性よく一致するように位置決めする位置決め機構とを
備えている。

【００１２】これにより、退避機構によってガイドミラ
ーをレーザ光軸上から退避させられるので、ガイドミラ
ーをレーザ光軸上から外す際に手間がいらず、例えば外
部の加工機と光軸合わせをした後にすぐにレーザ光を発
振できる。また、ガイドミラーをレーザ光軸上に復帰さ
せる際に、ガイド光軸がレーザ光軸に再現性よく一致す
るので、レーザ光軸とガイド光軸とを合わせ直す必要が
なく、調整の手間がかからない。

【００１３】また、本発明は、このガイドレーザ装置を
不可視レーザ装置から取り外す際に、ガイド光軸をレー
ザ光軸に再現性よく一致するように位置決めする位置決
め機構を備えている。

【００１４】即ち、ガイドレーザ装置を不可視レーザ装
置から取り外せるようになっているので、例えば測定器
をガイドレーザ装置を取り外した場所に設置することが
でき、余分なスペースが不要となって、不可視レーザ装
置がコンパクトになる。また、ガイドレーザ光が必要に
なった場合にはガイドレーザ装置をすぐに再現性良く復
帰させることが可能であり、しかもその際にガイド光軸
をレーザ光軸に合わせ直す必要がなく、手間がかからな
い。

【００１５】また、このようなガイドレーザ装置を不可
視レーザ装置に備えるようにすれば、不可視レーザ装置
の立ち上げが迅速化し、稼働率が高くなる。また、例え
ばガイドレーザ光を使用して加工機の光軸合わせを行な
うような場合にも、すぐに加工機の光軸が合うので、加
工機の稼働率も高くなる。

【００１６】

【発明の実施の形態】以下、図を参照しながら、本発明
に係る実施形態を詳細に説明する。尚、実施形態におい
て、前記従来技術の説明に使用した図と同一の要素には
同一符号を付し、重複説明は省略する。

【００１７】図１は、実施形態に係る、エキシマレーザ
装置を例にとった構成図を示している。図１においてエ
キシマレーザ装置１は、レーザ媒質であるレーザガスを
封入したレーザチャンバ２と、レーザチャンバ２内で放
電を起こしてレーザガスを励起する放電電極５，５と、
このレーザチャンバ２から発振されるレーザ光１１の波
長を制御して狭帯域化する狭帯域化ユニット２０とを備
えている。レーザチャンバ２の内部には、レーザガスと
して例えばフッ素（Ｆ2）、クリプトン（Ｋｒ）、及び
ネオン（Ｎｅ）が所定の圧力比で封入されている。

【００１８】レーザチャンバ２内で放電によって発振し
たレーザ光１１は、リアウィンドウ９から後方（図中左
方）に出射し、レーザチャンバ２の外部後方に設けられ
た狭帯域化ユニット２０に入射する。レーザ光１１は、
その内部で図示しないプリズムによってビーム幅を広げ
られ、グレーティングによって発振波長を制御（狭帯域
化）される。狭帯域化されたレーザ光１１は、レーザチ
ャンバ２に再入射してフロントウィンドウ７及びフロン
トミラー８を出射し、波長・パワー測定装置３７に入射
する。そして、図示しないビームスプリッタによって光
の一部を取り出され、波長及びパワーを測定される。波
長・パワー測定装置３７を出たレーザ光１１は、前方に
設置されたガイドレーザ装置３８を通過してエキシマレ
ーザ装置１から出射し、その前方に設置された例えばス
テッパ等の加工機１５に入射し、加工用光源となる。

【００１９】ガイドレーザ装置３８は、ガイド定盤４４
上に装着され、ガイドカバー３９に覆われている。そし
てその内部に、可視光を発振する半導体レーザ等の小型
のガイドレーザ１７と、そのガイドレーザ１７から発振
したガイドレーザ光２８を反射するガイドミラー２６と
を備えている。狭帯域化ユニット２０、レーザチャンバ
２、波長・パワー測定装置３７、及びガイド定盤４４
は、いずれもレーザ定盤５３上に固定されており、レー
ザカバー１６によって周囲を覆われている。

【００２０】ガイドレーザ１７は、レーザステージ４８
上に搭載されており、発振するガイドレーザ光２８のガ
イド光軸の方向を調整できるようになっている。また、
ガイドミラー２６はガイドステージ１４上に搭載されて
いる。図２に、ガイドステージ１４の構成の一例を示
す。ガイドステージ１４は、ガイドミラー２６をＸＹ方
向に水平微動させるＸＹステージ５２と、ガイドミラー
２６をその中心を通る垂直軸を回転中心として円周方向
に回転させる回転ステージ５１と、ガイドミラー２６の
あおり角度を変更するあおりステージ５０とを備えてい
る。これらの各ステージ５０，５１，５２及びレーザス
テージ４８を調整することにより、ガイドミラー２６か
ら出射するガイドレーザ光２８のガイド光軸を自在に変
更できるようになっている。そして、ガイドステージ１
４の各ステージ５０，５１，５２には、ガイドミラー２
６を調整後にその回転角度やあおり角度を固定するため
の固定具５８が設けられている。固定具５８は、例えば
プレート４９をボルト５７，５７等でステージ５０，５
２にネジ止めするようなもので、ステージ５０，５２の
調整機構を固定し、調整後にガイド光軸が動かないよう
にしている。また、図示はしていないが、レーザステー
ジ４８にもこのような固定具が設けられている。

【００２１】図１に示すように、ガイドステージ１４は
リニアステージ２７上に搭載されている。リニアステー
ジ２７は、レーザ光軸１０に対して略垂直に設置された
ガイドレール１８上に載置され、ガイド定盤４４上に突
出した位置決め用のガイドピン３に当接している。レー
ル１８と平行に設置されたボールネジ１９を、ガイドカ
バー３９の外側に設けられた外部つまみ２９を介して回
転させることにより、リニアステージ２７をガイドレー
ル１８に沿って移動させることが可能である。レーザカ
バー１６には、この外部つまみ２９に手が届くように、
開口部６５が設けられている。レーザ光１１の発振時に
は、外部つまみ２９を回転させてリニアステージ２７を
レーザ光軸１０に対して垂直方向（図中下方向）に動か
し、ガイドミラー２６をレーザ光軸１０から退避させ
る。これにより、レーザ光１１はガイドミラー２６に遮
られることなく、加工機１５に到達する。そして、再度
ガイドレーザ光２８を用いて加工機１５の光軸合わせを
する際には、外部つまみ２９を反対方向に回転させてリ
ニアステージ２７をレーザ光軸１０上に復帰させ、ガイ
ドピン３に当接させる。これにより、ガイドミラー２６
は再現性よく元の位置に位置決めされ、レーザ光軸１０
とガイド光軸とが精度よく一致する。

【００２２】また、このようなガイドレーザ装置３８
は、レーザ定盤５３に対して位置決め再現性よく取着自
在となっている。ガイドレーザ装置３８の取付部を、図
３に示す。図３において、レーザ定盤５３には、２本の
位置決めピン５５Ａ，５５Ｂが突出している。ガイド定
盤４４はピン孔５４を備えており、レーザ定盤５３から
突出した一方の位置決めピン５５Ａが挿入されている。
ガイド定盤４４は、一方の位置決めピン５５Ａをピン孔
５４に挿入した状態で、ガイド定盤４４の一面に研磨加
工によって設けられた当て面６４を他方の位置決めピン
５５Ｂに押し当てて位置決めされ、ブラケット５６を介
してレーザ定盤５３にボルト５７等によって固定されて
いる。

【００２３】そして、エキシマレーザ装置１の波長やビ
ームプロファイル、或いはパワー等を精密に測定するよ
うな場合には、このガイドレーザ装置３８をレーザ定盤
５３から取り外し、精密測定用の測定装置を設置する。
そして、ガイドレーザ装置３８を再度取り付ける際に
は、位置決めピン５５Ｂにガイド定盤４４を押し当てる
ことにより、レーザ光軸１０とガイド光軸とを再現性よ
く一致させることが可能である。

【００２４】次に、ガイドレーザ光２８のガイド光軸
を、レーザ光軸１０に一致させるための手段について図
４を用いて説明する。図４において、エキシマレーザ装
置１の前方には、中央にピンホール４７Ａ，４７Ｂ，４
７Ｃを有するピンホール板３５Ａ，３５Ｂ，３５Ｃを、
所定距離ずつ間隔をあけてベース４５に縦方向に３枚
（２枚でも可）並べた、軸合わせ装置４６が設置されて
いる。ピンホール板３５Ａ，３５Ｂ，３５Ｃは、ベース
４５に対してそれぞれ取り外し自在に固定されており、
また図示しない調整機構により、レーザ光軸１０と垂直
方向に微動可能である。この軸合わせ装置４６の各ピン
ホール４７Ａ，４７Ｂ，４７Ｃをレーザ光軸１０に合わ
せるためには、まず軸合わせ装置４６の前２列のピンホ
ール板３５Ａ，３５Ｂを外し、最後列のピンホール板３
５Ｃの手前に紫外線が当たると変色する感光紙３６を貼
りつける。そして、ガイドミラー２６を退避させ、軸合
わせ装置４６にレーザ光１１を数パルス発振させると、
感光紙３６のレーザ光１１の当たったところがビーム断
面形状に変色する。その変色した領域の中心に、最後列
のピンホール４７を配置することにより、最後列のピン
ホール板３５の位置合わせを行なう。次に、第２列のピ
ンホール板３５を軸合わせ装置４６に取り付けて、この
ピンホール板３５に貼った感光紙３６にレーザ光１１を
照射し、同様にこのピンホール板３５の位置合わせを行
ない、最後に第１列のピンホール板３５の位置合わせを
行なう。これにより、すべてのピンホール４７が一直線
に配置され、しかもレーザ光軸１０に一致する。

【００２５】そして、ガイドミラー２６をレーザ光軸１
０上に復帰させ、ガイドレーザ１７を発振させて、ガイ
ドステージ１４及びレーザステージ４８を調整して、ガ
イド光軸をすべてのピンホール４７Ａ，４７Ｂ，４７Ｃ
に一致させる。これにより、レーザ光軸１０とガイド光
軸とが一致する。そして、固定具５８によってガイドス
テージ１４及びレーザステージ４８を固定する。そし
て、軸合わせ装置４６をエキシマレーザ装置１から外
し、ガイドレーザ光２８を発振させて、可視のガイドレ
ーザ光２８を見ながら目視によって加工機１５の位置合
わせを行なう。

【００２６】以上説明したように、本実施形態によれ
ば、ガイドレーザ光２８を反射するガイドミラー２６
を、レーザチャンバ２の前方に配置している。これによ
り、狭帯域化のための光学部品としてガイドレーザ光２
８を透過しないグレーティング２３等を配置したとして
も、ガイドレーザ光２８をレーザ光軸１０に合わせるこ
とが可能であり、狭帯域化された不可視レーザ装置に対
しても、加工機１５の光軸合わせが容易となる。また、
固定具５８をステージ１４，４８に備えているので、エ
キシマレーザ装置１を運搬する際にガイド光軸がレーザ
光軸１０からずれてしまうことがなく、常に正確な光軸
合わせが可能である。

【００２７】また、ガイドレーザ光２８が光学部品を通
過しないので、ガイドレーザ光２８が曲げられず、ガイ
ドミラー２６の調整時に予期した方向と異なる方向にガ
イドレーザ光２８が動くようなことがなく、調整が容易
である。さらに、リアミラー６６やフロントミラー８等
の光学部品を交換しても、ガイド光軸が加工機１５の光
軸と常に一致している。また、レーザチャンバ２を交換
したり、レーザチャンバ２内のレーザガス圧を変化させ
たりした場合にも、ガイドレーザ光２８がレーザチャン
バ２内を通らないので、ガイド光軸は常に一定である。
従って、レーザ光軸１０が変化しても、このガイド光軸
にレーザ光軸１０を合わせ直すことにより、レーザ光軸
１０を加工機１５の光軸に容易に合わせることが可能で
ある。さらに、光軸合わせの際にも、レーザチャンバ２
中にレーザガスを封入したり放電させたりする必要がな
い。

【００２８】また、ガイドミラー２６をレーザ光軸１０
上から退避させるためにリニアステージ２７を備えてお
り、しかもこのリニアステージ２７をガイドレール１
８，ボールネジ１９、及び外部つまみ２９により、外部
から動かせるようにしている。これらの退避機構によ
り、レーザ光１１の発振時には容易にガイドミラー２６
をレーザ光軸１０から退避させて、レーザ光１１をすぐ
に発振させることができる。また、レーザ光軸１０から
外したガイドミラー２６を再現性よく元の位置に復帰さ
せるために、ガイドピン３等からなる位置決め機構を備
えている。これにより、ガイドミラー２６をレーザ光軸
１０から退避させてレーザ光１１を発振させた後に、再
度ガイドレーザ光２８による光軸合わせを行なうような
場合にも、ガイド光軸をレーザ光軸１０に合わせ直す必
要がなく、加工機１５の光軸合わせを素早く行なうこと
ができる。

【００２９】また、ガイドレーザ１７と、これを反射し
てガイド光軸をレーザ光軸１０に合わせるためのガイド
ミラー２６とを、ガイド定盤４４の上に搭載して一体化
している。これにより、計測装置を別途設置してレーザ
光１１の特性の精密測定を行なうような場合にも、ガイ
ドレーザ装置３８を取り外すことができ、スペースが低
減される。また、ガイド定盤４４をレーザ定盤５３に対
して位置決めするために、位置決めピン５５やピン孔５
４等の位置決め機構を備えている。これにより、ガイド
レーザ装置３８を取り外しても再現性よく戻すことが可
能であり、ガイド光軸をレーザ光軸１０に合わる手間が
不要である。

【００３０】尚、本実施形態では、ガイドミラー２６を
リニアステージ２７上に搭載し、このリニアステージ２
７によってレーザ光軸１０上から退避させるように説明
したが、これに限られるものではない。例えば、伸縮自
在のシリンダを使用してもよいし、ミラーを可倒式とし
て、倒すことによってレーザ光軸１０から外してもよ
い。或いは、ガイドミラー２６を水平に退避させるので
はなく、垂直方向に退避させてもよい。さらに、ガイド
ミラー２６をレーザ光軸１０上から退避させる際に、外
部つまみ２９を介して手動で行なうように説明したが、
勿論モータ等を使用して自動的に行なってもよく、この
モータを動かすためのスイッチがレーザカバー１６の外
部にあると尚よい。或いはこのモータを、レーザの発振
をコントロールする、図示しないレーザコントローラの
指示に従って駆動するようにしてもよい。

【００３１】また本実施形態では、レーザ光軸１０から
外したガイドミラー２６を再現性よく元の位置に戻すた
めの位置決め機構としてガイドピン３を例に取って説明
したが、これに限られるものではなく、例えば位置決め
用のボールが窪みに収まるようなものでもよい。また、
不可視レーザ装置を、エキシマレーザ装置を狭帯域化し
たものについて説明したが、狭帯域化したレーザに限ら
れるものではない。さらには、エキシマレーザ装置に限
られるものではなく、パルス発振レーザに限られるわけ
でもない。即ち、不可視のレーザ光を発振する不可視レ
ーザ装置すべてに応用可能である。

【００３２】また、本実施形態ではガイドミラー２６を
波長・パワー測定装置３７よりも前方に配置したが、こ
の場所が最適であるとはいえ、これに限られるものでは
ない。即ち、レーザチャンバ２より前方のレーザ光軸１
０上に配置するならばどこに配置してもよく、例えばレ
ーザチャンバ２とフロントミラー８との間に配置しても
よい。これにより、ガイドレーザ光２８によって加工機
１５の光軸合わせを行なった後、レーザ光１１を発振さ
せる際には速やかに退避でき、しかも再現性よく戻すこ
とができる。そして、フロントミラー８を取り外す際に
は、狭帯域化ユニット２０を動かさずにフロントミラー
８を取り外し、再装着した際にはフロントミラー８の傾
きのみを調整してレーザ光１１を発振させるようにすれ
ば、フロントミラー８を元の傾きに戻すことは容易であ
り、レーザ光軸１０を容易にガイド光軸に合わせ直すこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施形態に係るガイドレーザを使用したエキシ
マレーザ装置の構成図。

【図２】ガイドステージの一例を示す構成図。

【図３】ガイドレーザ装置の取付部を示す構造図。

【図４】ガイド光軸をレーザ光軸に一致させるための説
明図。

【図５】従来技術に係るガイドレーザを使用したエキシ
マレーザ装置の構成図。

【符号の説明】

１：エキシマレーザ装置、２：レーザチャンバ、５：放
電電極、７：フロントウィンドウ、８：フロントミラ
ー、９：リアウィンドウ、１０：レーザ光軸、１１：レ
ーザ光、１４：ガイドステージ、１５：加工機、１６：
レーザカバー、１７：ガイドレーザ、１８：レール、１
９：ボールネジ、２０：狭帯域化ユニット、２６：ガイ
ドミラー、２７：リニアステージ、２８：ガイドレーザ
光、２９：外部つまみ、３５：ピンホール板、３６：感
光紙、３７：波長・パワー測定装置、３８：ガイドレー
ザ装置、３９：ガイドカバー、４４：ガイド定盤、４
５：ベース、４６：軸合わせ装置、４７：ピンホール、
４８：レーザステージ、４９：プレート、５０：あおり
ステージ、５１：回転ステージ、５２：ＸＹステージ、
５３：レーザ定盤、５４：ピン孔、５５：位置決めピ
ン、５６：ブラケット、５７：ボルト、５８：固定具、
６４：当て面、６５：開口部、６６：リアミラー。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 可視のガイドレーザ光(28)を発振するガ
   イドレーザ(17)と、 ガイドレーザ光(28)を反射して、不可視レーザ光(11)の
   レーザ光軸(10)にガイドレーザ光(28)のガイド光軸を一
   致させるガイドミラー(26)とを備えたガイドレーザ装置
   において、 ガイドミラー(26)をレーザチャンバ(2)よりも前方に配
   置したことを特徴とするガイドレーザ装置。
2. 【請求項２】 請求項１記載のガイドレーザ装置におい
   て、 不可視レーザ光(11)のレーザ光軸(10)上に配置されたガ
   イドミラー(26)を、レーザ光軸(10)上から退避させる退
   避機構(18,19,27,29)と、 ガイドミラー(26)をレーザ光軸(10)上に復帰させる際
   に、ガイド光軸がレーザ光軸(10)に再現性よく一致する
   ように位置決めする位置決め機構(3)とを備えたことを
   特徴とするガイドレーザ装置。
3. 【請求項３】 請求項２記載のガイドレーザ装置におい
   て、 前記ガイドレーザ装置(38)を不可視レーザ装置(1)から
   取り外す際に、ガイド光軸がレーザ光軸(10)に再現性よ
   く一致するように位置決めする位置決め機構(54,55,64)
   を備えたことを特徴とするガイドレーザ装置。