JP2001271117A - 精錬剤の上吹き方法 - Google Patents
精錬剤の上吹き方法Info
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- JP2001271117A JP2001271117A JP2000086682A JP2000086682A JP2001271117A JP 2001271117 A JP2001271117 A JP 2001271117A JP 2000086682 A JP2000086682 A JP 2000086682A JP 2000086682 A JP2000086682 A JP 2000086682A JP 2001271117 A JP2001271117 A JP 2001271117A
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- Japan
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- refining agent
- molten steel
- vacuum
- refining
- vacuum chamber
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
- Y02P10/20—Recycling
Abstract
(57)【要約】
【課題】 精錬剤の反応効率の大きな上吹き方法を提供
する。 【解決手段】 真空脱ガス装置の真空槽内の溶鋼表面に
精錬剤を上吹きする精錬工程において、上吹き用ランス
の下端と真空槽内の溶鋼表面との鉛直距離Ｈが０．５〜
３．１ｍであり、真空槽内の真空度Ｐが１３．３〜１３
３００Pa、精錬剤供給速度Ｖが０．１〜４kg／（溶鋼質
量トン・min ）、精錬剤とともに真空槽内の溶鋼表面に
吹き付けられるキャリアーガスガス流量Ｑが０．３〜５
ｍ3 （標準状態）／min であり、前記Ｈ、ＰおよびＶが
下記（１）式を満足する。 【数５】
する。 【解決手段】 真空脱ガス装置の真空槽内の溶鋼表面に
精錬剤を上吹きする精錬工程において、上吹き用ランス
の下端と真空槽内の溶鋼表面との鉛直距離Ｈが０．５〜
３．１ｍであり、真空槽内の真空度Ｐが１３．３〜１３
３００Pa、精錬剤供給速度Ｖが０．１〜４kg／（溶鋼質
量トン・min ）、精錬剤とともに真空槽内の溶鋼表面に
吹き付けられるキャリアーガスガス流量Ｑが０．３〜５
ｍ3 （標準状態）／min であり、前記Ｈ、ＰおよびＶが
下記（１）式を満足する。 【数５】
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、真空脱ガス装置の
真空槽内の溶鋼表面に精錬剤を上吹きする方法に関し、
特に精錬剤の反応効率の大きな上吹き方法に関する。
真空槽内の溶鋼表面に精錬剤を上吹きする方法に関し、
特に精錬剤の反応効率の大きな上吹き方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】転炉で脱炭された溶鋼は、転炉から取鍋
へ移されガス吹き込み攪拌装置や真空脱ガス装置などで
２次精錬を行う。２次精錬の目的は、酸素、硫黄、窒
素、水素または炭素などの不純物の除去、溶鋼成分の微
調整、介在物の形態制御などがあり、最終製品の使用用
途に応じて、各種の２次精錬が施される。
へ移されガス吹き込み攪拌装置や真空脱ガス装置などで
２次精錬を行う。２次精錬の目的は、酸素、硫黄、窒
素、水素または炭素などの不純物の除去、溶鋼成分の微
調整、介在物の形態制御などがあり、最終製品の使用用
途に応じて、各種の２次精錬が施される。
【０００３】２次精錬では各種処理の効率向上によるコ
スト低減が求められている。例えば特開平７−７０６２
８号公報には、精錬剤の添加効率と脱ガス処理効率を向
上させる方法として、減圧下の溶鋼表面に精錬剤を上吹
きする方法が提案されている。
スト低減が求められている。例えば特開平７−７０６２
８号公報には、精錬剤の添加効率と脱ガス処理効率を向
上させる方法として、減圧下の溶鋼表面に精錬剤を上吹
きする方法が提案されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】この方法は、真空槽内
に設置した上吹きランスからキャリヤ−ガスをもちいて
溶鋼表面に精錬剤を吹き付け、精錬剤を溶鋼内に侵入さ
せ、精錬剤と溶鋼とを反応させるものである。
に設置した上吹きランスからキャリヤ−ガスをもちいて
溶鋼表面に精錬剤を吹き付け、精錬剤を溶鋼内に侵入さ
せ、精錬剤と溶鋼とを反応させるものである。
【０００５】従来、精錬剤の反応効率を上げるには、精
錬剤を多くすることと、上吹きランスと溶鋼表面との距
離が近いこととが精錬剤を溶鋼に効果的に侵入させるの
に有利とされてきた。しかし、必ずしも期待された効果
が得られないのが実状であった。
錬剤を多くすることと、上吹きランスと溶鋼表面との距
離が近いこととが精錬剤を溶鋼に効果的に侵入させるの
に有利とされてきた。しかし、必ずしも期待された効果
が得られないのが実状であった。
【０００６】本発明の目的は、２次精錬における精錬剤
の反応効率の大きな上吹き方法を提供することにある。
の反応効率の大きな上吹き方法を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】精錬剤を溶鋼に効果的に
侵入させるには、溶鋼表面に到達したときの精錬剤の鉛
直方向への速度が大きいことが重要である。この速度に
影響する因子として、（１）ランス−湯面間距離Ｈ、
（２）真空槽内の真空度Ｐ、（３）精錬剤供給速度Ｖ、
（４）キャリヤ−ガス流量が挙げられる。
侵入させるには、溶鋼表面に到達したときの精錬剤の鉛
直方向への速度が大きいことが重要である。この速度に
影響する因子として、（１）ランス−湯面間距離Ｈ、
（２）真空槽内の真空度Ｐ、（３）精錬剤供給速度Ｖ、
（４）キャリヤ−ガス流量が挙げられる。
【０００８】これらの各因子の影響を内容量：１８０質
量トンのＲＨ真空脱ガス装置を用いて、この真空槽内に
ＣａＯの精錬剤を上吹きすることにより調査し結果、そ
れぞれの因子に望ましい範囲があることが判明した。以
下にその望ましい範囲について述べる （１）ランス−
湯面間距離Ｈ：Ｈが０．５ｍ未満ではスプラッシュが多
くなりすぎ、連続操業が困難であり、Ｈが３．１ｍを越
えて高いと精錬剤が溶鋼まで到達できず、真空排気設備
に吸引される。従って、Ｈは０．５〜３．１ｍであるこ
とが望ましい。
量トンのＲＨ真空脱ガス装置を用いて、この真空槽内に
ＣａＯの精錬剤を上吹きすることにより調査し結果、そ
れぞれの因子に望ましい範囲があることが判明した。以
下にその望ましい範囲について述べる （１）ランス−
湯面間距離Ｈ：Ｈが０．５ｍ未満ではスプラッシュが多
くなりすぎ、連続操業が困難であり、Ｈが３．１ｍを越
えて高いと精錬剤が溶鋼まで到達できず、真空排気設備
に吸引される。従って、Ｈは０．５〜３．１ｍであるこ
とが望ましい。
【０００９】（２）真空槽内の真空度Ｐ：Ｐが１３３０
０Paを越えて大気圧側になると、ランスから吐出した精
錬剤とキャリヤ−ガスの速度が急速に低下し、溶鋼に深
く侵入することが困難となり、１３．３Pa未満となる
と、溶鋼に衝突した精錬剤により溶鋼が飛散してしま
い、連続操業が困難となる。従って、Ｐは１３．３〜１
３３００Paであることが望ましい。
０Paを越えて大気圧側になると、ランスから吐出した精
錬剤とキャリヤ−ガスの速度が急速に低下し、溶鋼に深
く侵入することが困難となり、１３．３Pa未満となる
と、溶鋼に衝突した精錬剤により溶鋼が飛散してしま
い、連続操業が困難となる。従って、Ｐは１３．３〜１
３３００Paであることが望ましい。
【００１０】（３）精錬剤供給速度Ｖ：Ｖが０．１kg／
（溶鋼質量トン・min ）未満となると、精錬剤の添加時
間が長くなりすぎ、溶鋼温度低下など操業上の問題が生
じ、４kg／（溶鋼質量トン・min ）を越えて高くしても
効果に差がない。従って、Ｖは０．１〜４kg／（溶鋼質
量トン・min ）であることが望ましい。
（溶鋼質量トン・min ）未満となると、精錬剤の添加時
間が長くなりすぎ、溶鋼温度低下など操業上の問題が生
じ、４kg／（溶鋼質量トン・min ）を越えて高くしても
効果に差がない。従って、Ｖは０．１〜４kg／（溶鋼質
量トン・min ）であることが望ましい。
【００１１】（４）キャリアーガス流量Ｑ： Ｑは０．
３ｍ3（標準状態）／min 未満では、ガス流速が遅すぎ
精錬剤を溶鋼に侵入させることができず精錬反応が進行
しないし、５ｍ3 （標準状態）／min を越えて高いと溶
鋼飛散が激しくなり操業管理上問題となる。従って、Ｑ
は０．３〜５ｍ3 （標準状態）／min であることが望ま
しい。
３ｍ3（標準状態）／min 未満では、ガス流速が遅すぎ
精錬剤を溶鋼に侵入させることができず精錬反応が進行
しないし、５ｍ3 （標準状態）／min を越えて高いと溶
鋼飛散が激しくなり操業管理上問題となる。従って、Ｑ
は０．３〜５ｍ3 （標準状態）／min であることが望ま
しい。
【００１２】以上から、Ｈ、Ｐ、ＶおよびＱの上下限が
明らかとなった。一方で、ＶおよびＱが一定条件下、Ｈ
とＰとの関係を脱硫率を指標として試験を行った。
明らかとなった。一方で、ＶおよびＱが一定条件下、Ｈ
とＰとの関係を脱硫率を指標として試験を行った。
【００１３】表１に上記試験の条件および結果を示す。
【００１４】
【表１】 表１の囲い部分のデータに示すように、それぞれが単純
に上下限を満足した場合、脱硫率は７０％以上を確保で
きるが、脱硫率は７０〜９８％と大きくばらつく結果と
なった。
に上下限を満足した場合、脱硫率は７０％以上を確保で
きるが、脱硫率は７０〜９８％と大きくばらつく結果と
なった。
【００１５】そこで、さらにＨ、Ｐ、ＶおよびＱを様々
に変化させ、脱硫率が高位安定する条件を試験調査探査
した。その結果、Ｑは前述した条件を満足していれば脱
硫率に影響がなく、脱硫率を高位安定させるには、Ｈお
よびＰと、Ｖとの関係を明確にすることが重要であるこ
とが判明した。
に変化させ、脱硫率が高位安定する条件を試験調査探査
した。その結果、Ｑは前述した条件を満足していれば脱
硫率に影響がなく、脱硫率を高位安定させるには、Ｈお
よびＰと、Ｖとの関係を明確にすることが重要であるこ
とが判明した。
【００１６】図１は、横軸：２．２×１０-4Ｐ＋０．９
Ｈ、縦軸：Ｖとし、脱硫率をパラメータとして整理した
グラフである。なお、図中の○は脱硫率：９０％以上、
●は脱硫率：９０％未満であったことを示し、実線は傾
き１の直線である。
Ｈ、縦軸：Ｖとし、脱硫率をパラメータとして整理した
グラフである。なお、図中の○は脱硫率：９０％以上、
●は脱硫率：９０％未満であったことを示し、実線は傾
き１の直線である。
【００１７】図１に示すように、２．２×１０-4Ｐ＋
０．９Ｈで示される値より、Ｖが大きい場合に、脱硫率
が９０％未満となることが判明した。これは以下の理由
によると推定できる。
０．９Ｈで示される値より、Ｖが大きい場合に、脱硫率
が９０％未満となることが判明した。これは以下の理由
によると推定できる。
【００１８】真空槽内の真空度Ｐおよびランス−湯面間
距離Ｈから計算される一定値に対し、精錬剤の添加速度
Ｖが大き過ぎると、溶鋼表面に到達した精錬剤が溶鋼に
侵入する前に、次の精錬剤が溶鋼表面に到達する。この
時、後に溶鋼に到達した精錬剤は、その前に到達した精
錬剤が存在するため溶鋼への侵入が阻害される。
距離Ｈから計算される一定値に対し、精錬剤の添加速度
Ｖが大き過ぎると、溶鋼表面に到達した精錬剤が溶鋼に
侵入する前に、次の精錬剤が溶鋼表面に到達する。この
時、後に溶鋼に到達した精錬剤は、その前に到達した精
錬剤が存在するため溶鋼への侵入が阻害される。
【００１９】上記現象が連続的に繰り返される結果、精
錬剤の溶鋼への侵入が困難となり、精錬剤の反応効率が
低下し、脱硫率が低下する。一方、図２は、横軸：７．
５×１０-6Ｐ＋０．０９Ｈ、縦軸：Ｖとし、脱硫率をパ
ラメータとして整理したグラフである。
錬剤の溶鋼への侵入が困難となり、精錬剤の反応効率が
低下し、脱硫率が低下する。一方、図２は、横軸：７．
５×１０-6Ｐ＋０．０９Ｈ、縦軸：Ｖとし、脱硫率をパ
ラメータとして整理したグラフである。
【００２０】なお、図中の○は脱硫率：９０％以上、●
は脱硫率：９０％未満であったことを示し、実線は傾き
１の直線である。図２に示すように、７．５×１０-6Ｐ
＋０．０９Ｈで示される値より、Ｖが小さい場合に、脱
硫率が９０％未満となることが判明した。これは以下の
理由によると推定できる。
は脱硫率：９０％未満であったことを示し、実線は傾き
１の直線である。図２に示すように、７．５×１０-6Ｐ
＋０．０９Ｈで示される値より、Ｖが小さい場合に、脱
硫率が９０％未満となることが判明した。これは以下の
理由によると推定できる。
【００２１】真空槽内の真空度Ｐおよびランス−湯面間
距離Ｈから計算される一定値に対し、精錬剤の添加速度
Ｖが小さ過ぎると、１単位当りの精錬剤が受けるエネル
ギ−が大きくなる。その結果、溶鋼に接触する前に飛散
し、精錬剤の溶鋼への侵入が困難となり精錬剤の反応効
率が低下し脱硫率が低下する。
距離Ｈから計算される一定値に対し、精錬剤の添加速度
Ｖが小さ過ぎると、１単位当りの精錬剤が受けるエネル
ギ−が大きくなる。その結果、溶鋼に接触する前に飛散
し、精錬剤の溶鋼への侵入が困難となり精錬剤の反応効
率が低下し脱硫率が低下する。
【００２２】本発明は、以上の知見に基づいてなされた
もので、その要旨は、下記のとおりである。真空脱ガス
装置の真空槽内の溶鋼表面に精錬剤を上吹きする精錬工
程において、上吹き用ランスの下端と真空槽内の溶鋼表
面との鉛直距離Ｈが０．５〜３．１ｍであり、真空槽内
の真空度Ｐが１３．３〜１３３００Pa、精錬剤供給速度
Ｖが０．１〜４kg／（溶鋼質量トン・min ）、精錬剤と
ともに真空槽内の溶鋼表面に吹き付けられるキャリアー
ガスガス流量Ｑが０．３〜５ｍ3 （標準状態）／minで
あり、前記Ｈ、ＰおよびＶが下記（１）式を満足するこ
とを特徴とする精錬剤の上吹き方法。
もので、その要旨は、下記のとおりである。真空脱ガス
装置の真空槽内の溶鋼表面に精錬剤を上吹きする精錬工
程において、上吹き用ランスの下端と真空槽内の溶鋼表
面との鉛直距離Ｈが０．５〜３．１ｍであり、真空槽内
の真空度Ｐが１３．３〜１３３００Pa、精錬剤供給速度
Ｖが０．１〜４kg／（溶鋼質量トン・min ）、精錬剤と
ともに真空槽内の溶鋼表面に吹き付けられるキャリアー
ガスガス流量Ｑが０．３〜５ｍ3 （標準状態）／minで
あり、前記Ｈ、ＰおよびＶが下記（１）式を満足するこ
とを特徴とする精錬剤の上吹き方法。
【００２３】
【数２】
【００２４】
【発明の実施の形態】以下、転炉とＲＨ真空脱ガス装置
とを用いて実施する場合を例に説明するが、本発明はこ
れに限定されるものではなく、例えばＤＨ真空脱ガス装
置のような他の真空脱ガス装置であってもよい。
とを用いて実施する場合を例に説明するが、本発明はこ
れに限定されるものではなく、例えばＤＨ真空脱ガス装
置のような他の真空脱ガス装置であってもよい。
【００２５】転炉処理された溶鋼を取鍋へ出鋼する。こ
の取鍋をＲＨ真空脱ガス装置へ移動し、真空脱ガス処理
行う。真空槽内に設けた上吹きランスから精錬剤を真空
槽内の溶鋼表面に下記の２条件を満足するように上吹き
する。
の取鍋をＲＨ真空脱ガス装置へ移動し、真空脱ガス処理
行う。真空槽内に設けた上吹きランスから精錬剤を真空
槽内の溶鋼表面に下記の２条件を満足するように上吹き
する。
【００２６】第１の上吹き条件は、前記の通り上吹き用
ランスの下端と真空槽内の溶鋼表面との鉛直距離Ｈが
０．５〜３．１ｍであり、真空槽内の真空度Ｐが１３．
３〜１３３００Pa、精錬剤供給速度Ｖが０．１〜４kg／
（溶鋼質量トン・min ）、精錬剤とともに真空槽内の溶
鋼表面に吹き付けられるキャリアーガスガス流量Ｑが
０．３〜５ｍ3 （標準状態）／min である。
ランスの下端と真空槽内の溶鋼表面との鉛直距離Ｈが
０．５〜３．１ｍであり、真空槽内の真空度Ｐが１３．
３〜１３３００Pa、精錬剤供給速度Ｖが０．１〜４kg／
（溶鋼質量トン・min ）、精錬剤とともに真空槽内の溶
鋼表面に吹き付けられるキャリアーガスガス流量Ｑが
０．３〜５ｍ3 （標準状態）／min である。
【００２７】キャリアーガスガスとしては、アルゴン、
ヘリウムまたは窒素等が使用できる。第２の上吹き条件
は、Ｐ、ＨおよびＶが下記式を満足することである。
ヘリウムまたは窒素等が使用できる。第２の上吹き条件
は、Ｐ、ＨおよびＶが下記式を満足することである。
【００２８】
【数３】 Ｐ、ＨおよびＶの内、どの因子を制御しても上記（１）
式を満足する範囲であればよく、例えば処理時間を短縮
することを優先すれば、Ｖを最大となるようにＰ、Ｈを
制御すればよいし、排気エネルギ−を節減したい場合、
Ｐを最大として、ＨおよびＶを制御すればよい。
式を満足する範囲であればよく、例えば処理時間を短縮
することを優先すれば、Ｖを最大となるようにＰ、Ｈを
制御すればよいし、排気エネルギ−を節減したい場合、
Ｐを最大として、ＨおよびＶを制御すればよい。
【００２９】本発明が適用できる精錬剤は、脱硫、脱
窒、脱炭、脱水素または介在物形態制御等を目的とする
ものである。脱硫用の精錬剤としては、例えばＣａＯ、
ＣａＯ−Ａｌ2 Ｏ3 またはＣａＯ−ＣａＦ2 等が使用で
きる。
窒、脱炭、脱水素または介在物形態制御等を目的とする
ものである。脱硫用の精錬剤としては、例えばＣａＯ、
ＣａＯ−Ａｌ2 Ｏ3 またはＣａＯ−ＣａＦ2 等が使用で
きる。
【００３０】脱窒用の精錬剤としては、例えばＣａＯ−
Ａｌ2 Ｏ3 またはＡｌ2 Ｏ3 −ＴｉＯ2 等が使用でき
る。脱水素用の精錬剤としては、例えばＣａＯまたはＣ
ａＯ−ＭｇＯ等が使用できる。
Ａｌ2 Ｏ3 またはＡｌ2 Ｏ3 −ＴｉＯ2 等が使用でき
る。脱水素用の精錬剤としては、例えばＣａＯまたはＣ
ａＯ−ＭｇＯ等が使用できる。
【００３１】脱炭用の精錬剤としては、例えばＦｅ2 Ｏ
3 またはＳｉＯ2 等が使用できる。介在物形態制御用の
精錬剤としては、例えば金属Ｃａ、金属Ｃａ含有ＣａＯ
またはＣａＯ−ＳｉＯ2 等が使用できる。
3 またはＳｉＯ2 等が使用できる。介在物形態制御用の
精錬剤としては、例えば金属Ｃａ、金属Ｃａ含有ＣａＯ
またはＣａＯ−ＳｉＯ2 等が使用できる。
【００３２】使用する精錬剤の粒径は、２mm以下が望ま
しい。その理由は、粒径が２mmを越えて大きいと精錬剤
と溶鋼との接触面積が小さくなるおそれがあり、精錬剤
の反応効率が低下するおそれがあるからである。
しい。その理由は、粒径が２mmを越えて大きいと精錬剤
と溶鋼との接触面積が小さくなるおそれがあり、精錬剤
の反応効率が低下するおそれがあるからである。
【００３３】上吹きに用いるランスの種類は、ストレー
トランス、ラバール型ランスまたは先細り型ランスなど
が使用できる。
トランス、ラバール型ランスまたは先細り型ランスなど
が使用できる。
【００３４】
【実施例１】転炉で脱炭した溶鋼質量１８０トンを、取
鍋内に出鋼し、取鍋をＲＨ真空脱ガス装置に移動し、真
空処理を開始した。
鍋内に出鋼し、取鍋をＲＨ真空脱ガス装置に移動し、真
空処理を開始した。
【００３５】上吹き用ランスの下端と真空槽内の溶鋼表
面との鉛直距離Ｈが０．７〜３．５ｍであり、真空槽内
の真空度Ｐが１３３〜３１９９Pa、精錬剤供給速度Ｖが
０．１５〜７kg／（溶鋼質量トン・min ）、精錬剤とと
もに真空槽内の溶鋼表面に吹き付けられるキャリアーガ
スガス流量Ｑが１〜８ｍ3 （標準状態）／min となる条
件で、真空槽内に設置した上吹きランスから精錬剤とし
てＣａＯ（粒径１mm以下）を真空槽内の溶鋼表面に吹き
付けて脱硫処理を行った。
面との鉛直距離Ｈが０．７〜３．５ｍであり、真空槽内
の真空度Ｐが１３３〜３１９９Pa、精錬剤供給速度Ｖが
０．１５〜７kg／（溶鋼質量トン・min ）、精錬剤とと
もに真空槽内の溶鋼表面に吹き付けられるキャリアーガ
スガス流量Ｑが１〜８ｍ3 （標準状態）／min となる条
件で、真空槽内に設置した上吹きランスから精錬剤とし
てＣａＯ（粒径１mm以下）を真空槽内の溶鋼表面に吹き
付けて脱硫処理を行った。
【００３６】吹き付けに用いたランスはストレートラン
スであり、キャリヤ−ガスはＡｒを使用した。ＣａＯの
上吹き総量が溶鋼１質量トン当たり１０kgとなるように
した。
スであり、キャリヤ−ガスはＡｒを使用した。ＣａＯの
上吹き総量が溶鋼１質量トン当たり１０kgとなるように
した。
【００３７】表２にＰ、Ｈ、ＱおよびＶの上吹き条件、
ならびに処理前後のＳ濃度を示す。
ならびに処理前後のＳ濃度を示す。
【００３８】
【表２】 なお、Ｐ、Ｈ、ＱおよびＶが同表に示す適正範囲であれ
ば（○）印を、適正範囲外であれば（×）印をそれぞれ
付けた。
ば（○）印を、適正範囲外であれば（×）印をそれぞれ
付けた。
【００３９】また、下限Ｖおよび上限Ｖは、下記式のＨ
およびＰから計算した数値である。
およびＰから計算した数値である。
【００４０】
【数４】 この下限Ｖ〜上限Ｖの適正範囲であれば（○）印を、適
正範囲外であれば（×）印をそれぞれ付けた。
正範囲外であれば（×）印をそれぞれ付けた。
【００４１】試験番号１〜８の本発明例は、Ｐ、Ｈ、Ｑ
およびＶの適正範囲を満足し、さらに上記式から計算で
きるＶの適正範囲も満足した結果、脱硫率が９０％以上
が得られた。
およびＶの適正範囲を満足し、さらに上記式から計算で
きるＶの適正範囲も満足した結果、脱硫率が９０％以上
が得られた。
【００４２】試験番号９〜１２の比較例１は、Ｐ、Ｈ、
ＱおよびＶの適正範囲を満足したが、上記式から計算で
きるＶの適正範囲から外れた結果、脱硫率が８０％以下
しか得られなかった。
ＱおよびＶの適正範囲を満足したが、上記式から計算で
きるＶの適正範囲から外れた結果、脱硫率が８０％以下
しか得られなかった。
【００４３】試験番号１３〜１８の比較例２は、Ｐ、
Ｈ、ＱおよびＶの適正範囲または、上記式から計算でき
るＶの適正範囲から一部外れた結果、脱硫率が４０％以
下しか得られなかった。
Ｈ、ＱおよびＶの適正範囲または、上記式から計算でき
るＶの適正範囲から一部外れた結果、脱硫率が４０％以
下しか得られなかった。
【００４４】
【発明の効果】本発明により、精錬剤の反応効率の大き
な上吹き方法を提供することが可能となり、例えば、脱
硫率を９０％以上にすることができる。
な上吹き方法を提供することが可能となり、例えば、脱
硫率を９０％以上にすることができる。
【図１】横軸：２．２×１０-4Ｐ＋０．９Ｈ、縦軸：Ｖ
とし、脱硫率をパラメータとして整理したグラフであ
る。
とし、脱硫率をパラメータとして整理したグラフであ
る。
【図２】横軸：７．５×１０-6Ｐ＋０．０９Ｈ、縦軸：
Ｖとし、脱硫率をパラメータとして整理したグラフであ
る。
Ｖとし、脱硫率をパラメータとして整理したグラフであ
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 樋口 善彦 大阪府大阪市中央区北浜４丁目５番33号 住友金属工業株式会社内 Ｆターム(参考） 4K013 BA02 BA05 BA09 BA11 BA14 CA01 CA02 CA12 CA15 CB04 CB09 CC04 CE01 CE02 CE05 CE07 CF13 EA02 EA03 EA04 EA05 EA09 EA25 FA04
Claims (1)
- 【請求項１】 真空脱ガス装置の真空槽内の溶鋼表面に
精錬剤を上吹きする精錬工程において、上吹き用ランス
の下端と真空槽内の溶鋼表面との鉛直距離Ｈが０．５〜
３．１ｍであり、真空槽内の真空度Ｐが１３．３〜１３
３００Pa、精錬剤供給速度Ｖが０．１〜４kg／（溶鋼質
量トン・min ）、精錬剤とともに真空槽内の溶鋼表面に
吹き付けられるキャリアーガスガス流量Ｑが０．３〜５
ｍ3 （標準状態）／min であり、前記Ｈ、ＰおよびＶが
下記（１）式を満足することを特徴とする精錬剤の上吹
き方法。 【数１】
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000086682A JP2001271117A (ja) | 2000-03-27 | 2000-03-27 | 精錬剤の上吹き方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000086682A JP2001271117A (ja) | 2000-03-27 | 2000-03-27 | 精錬剤の上吹き方法 |
Publications (1)
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| JP2001271117A true JP2001271117A (ja) | 2001-10-02 |
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| JP (1) | JP2001271117A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103225009A (zh) * | 2012-01-27 | 2013-07-31 | Jfe钢铁株式会社 | 高洁净度钢的熔炼方法 |
-
2000
- 2000-03-27 JP JP2000086682A patent/JP2001271117A/ja active Pending
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