JP2001267232A

JP2001267232A - 露光装置および露光方法

Info

Publication number: JP2001267232A
Application number: JP2000079067A
Authority: JP
Inventors: Hiroyuki Hotsuchi; 弘之發智
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 2000-03-21
Filing date: 2000-03-21
Publication date: 2001-09-28

Abstract

(57)【要約】【課題】露光プロセスを繰り返していく過程におい
て、より繊細にエラー判断を行ない、露光装置固有の特
性ばらつきを小さくし、ウエハの重ね合わせ精度やスル
ープットの限界性能を向上させ、メンテナンス回数を減
らし、製品不良率を低減するために、制御パラメータを
適正な値に自動調整する露光装置および露光方法を提供
することにある。【解決手段】マスクのパターンを基板上に投影するこ
とによって基板を露光する露光装置において、基板を露
光処理する際の露光装置の稼動情報を取得する計測装置
と、計測装置により取得された稼動情報を格納する格納
装置と、計測装置により取得された稼動情報と格納装置
に格納された稼動情報とを比較する比較手段と、比較手
段による比較結果に基づいて、稼動情報が適正か否かを
判別する判別手段とを備える。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造装置に
関し、特にウエハ等の半導体基板上にレチクルまたはマ
スク等に形成された回路パターンを転写する露光装置お
よび露光方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、半導体デバイスや液晶デバイスの
製造工程に含まれるリソグラフィ工程に用いる露光装置
において、露光装置を制御するために種々の制御パラメ
ータが用いられている。これらの制御パラメータは、出
荷時あるいは調整時に装置仕様を満足するように露光装
置に固有の値が設定される。例えば、液晶ディスプレイ
用露光装置の露光プロセスに関連する制御パラメータの
場合は、その液晶ディスプレイ用露光装置の露光プロセ
スに応じて制御パラメータが設定され、その値を不変の
固定値として使用している。すなわち、従来の露光装置
において、過去に計測したデータを蓄積して利用し、性
能向上やエラー判別のためにフィードバックするような
インテリジェントな制御システムは存在しなかった。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
ようにして制御パラメータを用いるのは、同一機種の露
光装置は同一の性能を有していること、また、露光装置
の性能に経時変化が起こらないこと等が前提条件であ
る。ところが、実際には、同一機種の露光装置であって
も、露光装置毎に組み立て調整等に起因する若干のばら
つきが生じるため、その装置仕様の値には、必ず所定の
マージンが必要であった。そのため、エラー判別の許容
値にもある程度のマージンが必要となり、エラーの判断
基準を厳しくすることは出来なかった。

【０００４】その一方で、１回の露光プロセスは、１ロ
ット２５枚単位として数ロット連続して処理され、同一
の露光プロセスにおいては、ほぼ同じような傾向のアラ
イメント信号やフォーカス信号等が得られていた。

【０００５】そのため、露光装置に何らかの不具合が発
生し、僅かな変化が生じた場合でも、エラー判別の許容
値内であればエラーが検出されることがなかった。ま
た、長期間での経時変化により露光装置の性能のずれ等
が累積していくが、これらを露光装置上では全てをモニ
タしているわけではないため、定期的なメンテナンスを
行なわなければならない。制御パラメータは、１つでも
適正ではない値が入力されていれば、露光装置の性能に
重大な影響を与え、不良なウエハ焼付け等の原因になる
ため、このメンテナンスにより適正な値に変更していか
なければならない。特に近年は、半導体の微細化が進む
とともに、露光装置の高精度化が要求され、制御パラメ
ータの数もさらに増加してきており、適正ではない制御
パラメータが誤って入力されてしまう可能性も高くなっ
てきている。

【０００６】本発明の目的は、露光プロセスを繰り返し
ていく過程において、より繊細にエラー判断を行ない、
露光装置固有の特性ばらつきを小さくし、ウエハの重ね
合わせ精度やスループット（単位時間内に処理できる基
板等のワーク数量）の限界性能を向上させ、メンテナン
ス回数を減らし、製品不良率を低減するために、制御パ
ラメータを適正な値に自動調整していくことができる露
光装置および露光方法を提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は、上記課題を解
決するため、露光装置に搭載され主に計測機能を有する
ユニットから過去に得られたデータ、例えば、アライメ
ント計測結果、フォーカス計測結果等をデータベースに
蓄積しておき、これらの計測結果を利用して制御パラメ
ータ（設定パラメータ）の最適化、各計測結果のエラー
判別、経時変化の発生の判断等を行なう手段を採用し
た。

【０００８】すなわち、本発明の一態様によれば、本発
明の露光装置は、マスクのパターンを基板上に投影する
ことによって上記基板を露光する露光装置において、上
記基板を露光処理する際の上記露光装置の稼動情報を取
得する計測装置と、以前の露光処理時において上記計測
装置により取得された稼動情報を格納する格納装置と、
次に露光処理する基板に対して上記計測装置により取得
された稼動情報と上記格納装置に格納された稼動情報と
を比較する比較手段と、上記比較手段による比較結果に
基づいて、次に露光処理する基板に対して得られた稼動
情報が適正か否かを判別する判別手段とを備える。

【０００９】また、本発明の一態様によれば、本発明の
露光方法は、マスクのパターンを基板上に投影すること
によって上記基板を露光する露光方法において、第１の
基板を露光処理する際の稼動情報を取得し、上記取得さ
れた稼動情報を露光処理した装置内のデータベース上に
蓄積し、上記第１の基板の露光処理後、第２の基板を同
一の装置で露光処理する際に、取得された稼動情報と上
記データベース上に蓄積された複数の移動情報とを比較
し、上記比較した結果に基づいて上記第２の基板に対し
て得られた稼動情報が適正か否かを判別する。

【００１０】また、好適には、上記稼動情報は、上記基
板上に形成されたマークの位置計測時、又は上記基板の
面位置計測時の位置情報の少なくとも一方を含むことが
望ましい。

【００１１】また、好適には、上記位置情報は、上記基
板の位置計測値、又は上記基板の位置計測時における検
出信号の特性に関する情報の少なくとも一方を含むこと
が望ましい。

【００１２】また、好適には、上記比較手段あるいは上
記比較工程は、上記計測装置により取得された最新の稼
動情報と上記格納装置に既に格納されている過去の稼動
情報とを統計的に比較することが望ましい。

【００１３】また、好適には、上記比較結果が適正では
ないと判別された時に、上記基板の位置情報を再度取得
することが望ましい。また、好適には、上記比較結果が
適正ではないと判別された時に、上記計測装置又は上記
露光装置の動作パラメータを補正する制御手段をさらに
有することが望ましい。

【００１４】また、好適には、上記格納装置あるいは上
記格納工程は、上記基板の露光プロセスに対応して上記
稼動情報を格納することが望ましい。また、好適には、
上記計測装置は、上記マーク上に照射したレーザー光の
走査によって生じた反射光を検出することにより上記マ
ークの位置を計測する第１の計測手段と、上記マーク上
にハロゲン光を照射し、上記マークを画像情報として取
り込み、画像処理により上記マークの位置を計測する第
２の計測手段と、周波数の僅かに異なるレーザー光を２
方向から回折格子状の上記マークに照射し、２つの回折
光を干渉させ、その位相から上記マークの位置を計測す
る第３の計測手段との少なくとも１つを備えることが望
ましい。

【００１５】また、好適には、上記比較結果が適正では
ないと判別された時に、さらに、上記稼動情報を取得す
るための動作パラメータを補正することが望ましい。こ
れにより、露光装置が露光プロセスを繰り返していく過
程において、制御パラメータを適正な値に自動調整して
いくことができるので、より精密なエラー検出を行なう
ことができ、不良製品を減少することができる。また、
経時時間を検出することができ、メンテナンスの時期を
適正に判断することができる。また、アライメント計測
時間やフォーカス計測時間等の処理時間を検出し、最適
な精度と処理時間で露光を行なうことができる。

【００１６】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を、図
面を参照しながら詳細に説明する。図１は、本発明の実
施の形態における露光装置の概略図である。

【００１７】図１において、露光装置１は、露光装置本
体部２と、処理装置３と、格納装置４とを備える。上記
露光装置本体部２は、露光光学系２１と、制御手段２２
と、計測装置２３と、パラメータテーブル２４と、比較
手段２５と、判別手段２６と、報知手段２７とを備え
る。上記処理装置３は、稼動情報取得手段３１と、アプ
リケーション手段３２と、制御部３３と、データ入出力
手段３４とを備える。

【００１８】露光光学系２１は、レチクルやワーキング
マスク等に形成された回路パターンをマザーマスクやウ
エハ上に投影し、露光する。計測装置２３は、１つまた
は複数の計測部を有し、各計測部は、露光光学系２１が
備えるウエハステージの位置座標、ウエハステージ上に
載置されたウエハ上のウエハマークの位置情報、露光光
学系２１の周辺の大気圧等の各種の稼動情報を計測す
る。制御手段２２は、パラメータテーブル２４に格納さ
れている制御パラメータに基づいて、露光光学系２１に
より実行される露光プロセス等や計測装置２３により実
行される計測を制御し、また、計測した情報（稼動情
報）に基づいてパラメータテーブル２４を更新する。比
較手段２５は、稼動情報取得手段３１が取得した稼動情
報とパラメータテーブル２４に格納されている稼動情報
とを比較する。判別手段２６は、比較手段２５による比
較結果に基づいて、計測装置２３が取得した稼動情報が
適正か否かを判別する。報知手段２７は、判別手段２６
が判別した結果を報知する。

【００１９】稼動情報取得手段３１は、計測装置２３が
計測した稼動情報を制御手段２２を介して取得し、デー
タ入出力手段３４を介して格納装置４に格納する。アプ
リケーション手段３２は、１つまたは複数のデータベー
スアプリケーションを有し、各データベースアプリケー
ションは、格納装置４に格納されている稼動情報を統計
処理等して、その処理結果を露光光学系２１により実行
される露光プロセス等のための制御パラメータとして反
映させる。制御部３３は、稼動情報取得手段３１、アプ
リケーション手段３２及びデータ入出力手段３４を制御
する。データ入出力手段３４は、稼動情報取得手段３１
が取得した稼動情報を格納装置４に格納し、また、アプ
リケーション手段３２が行う統計処理等のために格納装
置４から稼動情報を読み出す。

【００２０】上述のような構成の露光装置１において、
アプリケーション手段３２は、格納装置４に格納されて
いる、例えば、過去５０個のデータの平均値と標準偏差
σとを求め、露光装置本体部２へ送信する。露光装置本
体部２は、これらの送信されてきた平均値と標準偏差σ
とをパラメータテーブル２４に格納する。そして、露光
プロセスの過程において、判別手段２６は、計測手段２
３が計測したデータが“外れ値" か否かを判断する。そ
の判断の例としては、“平均値±（３σ＋マージン）"
の範囲から外れた場合を“外れ値" とする。なお、マー
ジンとは、外部より任意に与えられる数値である。ま
た、上述した平均値と標準偏差σの代わりに相関係数ｃ
を用い、“外れ値" か否かの判断として、“ｃ²＞４／
（データ数＋２）" を用いることもできる。

【００２１】また、例えば、後述するＬＩＡ系計測部、
ＬＳＡ系計測部またはＦＩＡ系計測部が行なうウエハア
ライメント計測においては、アライメント信号を計測す
るデータとし、上記平均値と標準偏差σの代わりに信号
波形のノイズ振幅（信号の平坦部分における一定間隔で
の信号データの最大値と最小値との差）を求めることも
できる。また、信号波形の強度（信号強度：信号波形に
適当な数値フィルタリング処理を行ない、その最大値と
最小値との差）や信号波形の対称性を用いることもでき
る。

【００２２】図２及び図３を参照しながら、ウエハアラ
イメントのためのウエハマークの計測を例として、稼動
情報の取得について説明する。図２は、本発明を適用す
るのに好適な露光装置本体部の概略構成図である。

【００２３】図２において、露光装置本体部２が備える
露光光学系は、メインコンデンサーレンズＣＬと、レチ
クルステージＲＳと、投影レンズＰＬとウエハステージ
ＷＳとを備える。レチクルステージＲＳは、レチクルＲ
を載置し、レチクルＲ上のパターン領域ＰＡの中心が投
影レンズＰＬの光軸ＡＸに一致するように２次元移動す
る。ウエハステージＷＳは、ウエハＷを載置し、また、
レーザ干渉計ＬＧからのレーザ光を反射する移動鏡ＭＲ
を備え、レーザ干渉計ＬＧが移動鏡ＭＲで反射したレー
ザ光を検出することにより取得したウエハステージＷＳ
の位置情報に基づき、ウエハ駆動部ＭＴにより２次元移
動する。

【００２４】上述のような構成の露光光学系において、
不図示の露光用照明装置から発生された照明光ＩＬは、
メインコンデンサーレンズＣＬを介してレチクルＲ上で
集光され、パターン領域ＰＡ上に形成された回路パター
ンを投影レンズＰＬを介してウエハＷに転写することに
より露光プロセスが実行される。

【００２５】また、露光措置本体部２が備える計測装置
は、ＬＩＡ系計測部と、ＬＳＡ系計測部とＦＩＡ系計測
部とを備える。ＬＩＡ系計測部は、レーザ光源４１と、
偏光ビームスプリッター４２と、ミラーＭ１と、ＬＩＡ
光学系５と、ビームスプリッター７と、偏光ビームスプ
リッター８ｙ、８ｘ（不図示）と、対物レンズ１０ｙ、
１０ｘ（不図示）と、ミラーＭＹ１、ＭＸ１（不図
示）、ＭＹ２、ＭＸ２（不図示）とを備える。

【００２６】レーザ光源４１から発生した照明光ＡＬ
は、偏光ビームスプリッター４２に至り、Ｐ偏光成分か
らなるＬＩＡ用ビームＡＬｐとＳ偏光成分からなるＬＳ
Ａ用ビームＡＬｓとに波面分割される。

【００２７】偏光ビームスプリッター４２を通過したＬ
ＩＡ用ビームＡＬｐは、ミラーＭ１で反射して、２光束
周波数シフター１２を備えるＬＩＡ光学系５に入射す
る。２光束周波数シフター１２は、不図示の偏光ビーム
スプリッターによりＬＩＡ用ビームＡＬｐをさらにそれ
ぞれ同一光量のＰ偏光ビームＡＬｐ１とＳ偏光ビームＡ
Ｌｐ２とに波面分割し、所定間隔をあけて平行に合成す
る。これら合成された２本（図中の記載は１本）のＰ偏
光ビームＡＬｐ１とＳ偏光ビームＡＬｐ２は、ビームス
プリッター７に入射し、レチクルステージＲＳのＸ方向
成分とＹ方向成分とにそれぞれ同一光量に振幅分割さ
れ、偏光ビームスプリッター８ｙと８ｘ（不図示）に入
射する。

【００２８】偏光ビームスプリッター８ｙで反射され、
互いが平行であったＰ偏光ビームＡＬｐ１とＳ偏光ビー
ムＡＬｐ２のＹ方向成分は、対物レンズ１０ｙにより相
対的に角度を有し、ミラーＭＹ１、ＭＹ２及び投影レン
ズＰＬを介して、ウエハＷ上に結像する。なお、Ｐ偏光
ビームＡＬｐ１とＳ偏光ビームＡＬｐ２のＸ方向成分に
関しては、Ｙ方向成分と同様であるので説明を省略す
る。

【００２９】図３は、ウエハマークＷＭｙの検出を説明
するための図である。図３において、Ｐ偏光ビームＡＬ
ｐ１とＳ偏光ビームＡＬｐ２のＹ方向成分は、異なる２
方向から交差角ωで入射し、ウエハＷに形成されたウエ
ハマークＷＭｙにより光軸ＡＸ上に沿って進行する±１
次回折光（干渉光）ＢＴＬとなって、干渉縞を発生す
る。

【００３０】図２の説明に戻る。この干渉光ＢＴＬは、
投影レンズＰＬ、ミラーＭＹ２、ＭＹ１、対物レンズ１
０ｙを介して、偏光ビームスプリッター８ｙを通過し、
光電検出器１１ｙにより受光される。光電検出器１１ｙ
は、干渉縞の明暗変化の周期に応じた正弦波状の交流信
号ＳＤｗを、アライメント信号処理回路１９に出力す
る。アライメント信号処理回路１９は、交流信号ＳＤｗ
等からウエハマークＷＭｙの位置を検出する。

【００３１】一方、ＬＳＡ系計測部は、レーザ光源４１
と、偏光ビームスプリッター４２と、ＬＳＡ光学系６
と、ミラーＭ２と、ビームスプリッター７と、偏光ビー
ムスプリッター８ｙ、８ｘ（不図示）と、対物レンズ１
０ｙ、１０ｘ（不図示）と、ミラーＭＹ１、ＭＸ１（不
図示）、ＭＹ２、ＭＸ２（不図示）とを備える。

【００３２】ＬＳＡ系計測部は、上述のＬＩＡ系計測部
と、レーザ光源４１、偏光ビームスプリッター４２、ビ
ームスプリッター７、偏光ビームスプリッター８ｙ、８
ｘ、対物レンズ１０ｙ、１０ｘ、ミラーＭＹ１、ＭＸ
１、ＭＹ２、ＭＸ２を共有している。

【００３３】レーザ光源４１から発生し、偏光ビームス
プリッター４２で波面分割により反射されたＬＳＡ用ビ
ームＡＬｓは、不図示のシリンドリカルレンズを備える
ＬＳＡ光学系６に入射する。ＬＳＡ光学系６は、ＬＳＡ
用ビームＡＬｓを細長い帯状のスポットビームＳＰに成
形して出力する。スポットビームＳＰは、ミラーＭ２で
反射して、ビームスプリッター７にＰ偏光ビームＡＬｐ
１及びＳ偏光ビームＡＬｐ２とは略直交して入射し、Ｐ
偏光ビームＡＬｐ１及びＳ偏光ビームＡＬｐ２と同様
に、レチクルステージＲＳのＸ方向成分とＹ方向成分と
にそれぞれ同一光量に振幅分割され、偏光ビームスプリ
ッター８ｙ、８ｘに入射する。その後、スポットビーム
ＳＰは、Ｐ偏光ビームＡＬｐ１とＳ偏光ビームＡＬｐ２
と同様の光路を通り、ウエハＷ上に到達する。

【００３４】ウエハＷ上のウエハマークＷＭｙが、スポ
ットビームＳＰで相対走査されることにより、回折光や
散乱光を発生する。これらの回折光及び散乱光は、干渉
光ＢＴＬと同様に、投影レンズＰＬ、ミラーＭＹ２、Ｍ
Ｙ１、対物レンズ１０ｙを介して、偏光ビームスプリッ
ター８ｙを通過し、光電検出器１１ｙにより受光され
る。光電検出器１１ｙは、回折光及び散乱光の各強度に
応じた光電信号ＳＤｉ、ＳＤｒを、アライメント信号処
理回路１９に出力する。アライメント信号処理回路１９
は、光電信号ＳＤｉ（又はＳＤｒ）等からウエハマーク
ＷＭｙの位置を検出する。

【００３５】また、ＦＩＡ系計測部は、照明光源２０
と、ハーフミラー４７と、ミラー５１と、対物レンズ３
５と、プリズムミラー３６と、レンズ系３７と、指標マ
ーク２８ａを有する指標板２８と、リレーレンズ系２９
と、ミラー３０と、リレーレンズ系４８と、ＣＣＤカメ
ラ等の撮像素子４９と、ＦＩＡ演算ユニット５０とを備
える。

【００３６】照明光源２０から発生した照明光ＦＬは、
ハーフミラー４７及びミラー５１で反射し、対物レンズ
３５を介してプリズムミラー３６で反射し、ウエハＷに
到達する。

【００３７】ウエハＷに形成されたウエハマークＷＭｙ
（及びＷＭｘ）上で反射した反射光は、プリズムミラー
３６、対物レンズ３５、ミラー５１を介して、ハーフミ
ラー４７を透過し、レンズ系３７により指標板２８に結
像される。ウエハマークＷＭｙの像と指標板２８が有す
る指標マーク２８ａの像とは、リレーレンズ系２９、ミ
ラー３０、リレーレンズ系４８を介して、撮像素子４９
の受光面上に結像される。撮像素子４９は、受光した反
射光を画像信号としてＦＩＡ演算ユニット５０に出力
し、この画像信号が入力されたＦＩＡ演算ユニット５０
は、画像処理演算によりウエハマークＷＭｙ（及びＷＭ
ｘ）の位置情報ＤＲを求め、この位置情報ＤＲを制御手
段２２に出力する。

【００３８】制御手段２２は、露光光学系２１や計測装
置２３が備える各部の制御の他に、レーザ干渉計ＬＧが
検出したウエハステージＷＳの位置情報と、アライメン
ト信号処理回路１９が検出したウエハマークＷＭｙ（及
びＷＭｘ）の位置と、ＦＩＡ演算ユニット５０が求めた
ウエハマークＷＭｙ（及びＷＭｘ）の位置情報ＤＲ等に
基づいて、ウエハのアライメント制御を行う。

【００３９】なお、本実施形態のＬＩＡ系計測部、ＬＳ
Ａ系計測部のそれぞれは、投影光学系を通過するＴＴＬ
（スルーザレンズ）系であるが、本発明はこれに限ら
ず、投影光学系を介さないオフアクシス系であっても良
い。この場合、上述のＦＩＡ系計測部と光学系の少なく
とも一部を兼用するように構成しても良い。

【００４０】また、ＬＩＡ系計測部、ＬＳＡ系計測部、
及びＦＩＡ系計測部の構成は上述のものに限らず、例え
ばＬＩＡ系計測部はヘテロダイン、ホモダインいずれの
形式でも良く、またＦＩＡ系計測部においては、指標マ
ーク２８ａとウエハマークＷＭｙ（及びＷＭｘ）とをそ
れぞれ別々に独立２つの撮像素子（ＣＣＤ）で検出し、
それらの検出信号に基づいてマークの位置検出を行なう
ようなものであっても良い。

【００４１】また、本実施形態においては、基板の高さ
方向（投影光学系の光軸方向）における位置を検出する
焦点検出系を備える。この焦点検出系は、投影光学系の
投影視野内の所定の位置に複数の計測点を予め設定し、
投影視野内に配置された基板上に計測ビームを光軸ＡＸ
に対して斜め方向から照射する照射系６０と、その計測
ビームが照射された基板上の計測点からの反射光を検出
する検出系６１とを有する。検出系６１からの検出信号
ＡＦＳは、基板上の複数の計測点における光軸ＡＸ方向
の位置情報を示し、この信号ＡＦＳは主制御系２２に出
力される。

【００４２】図４は、本発明を適用するのに好適な露光
装置のハードウエア構成を説明するための概略構成図で
ある。図４において、露光装置本体部２は、バス２０１
に接続されたＣＰＵ２０２、ＲＯＭやＲＡＭ等の内部メ
モリ２０３、ＣＲＴ等の表示装置１７を制御するディス
プレイコントローラ２０４、キーボードやマウス等の入
力装置１５を制御するＫＢコントローラ２０５、処理装
置３との間におけるデータ送受信を制御する通信コント
ローラ２０８を備える。すなわち、図１を用いて説明し
た比較手段２５、判別手段２６及び報知手段２７の有す
る各機能を実現するためのプログラムコードが、内部メ
モリ２０３から読み出され、ＣＰＵ２０３がこれらを実
行することによって、各機能の処理が達成される。ま
た、パラメータテーブル２４に格納される制御パラメー
タは、入力装置１５により入力され、必要に応じて表示
装置１７に表示される。

【００４３】また、処理装置３は、バス３０１に接続さ
れたＣＰＵ３０２、ＲＯＭやＲＡＭ等の内部メモリ３０
３、ＣＲＴ等の表示装置１８を制御するディスプレイコ
ントローラ３０４、キーボードやマウス等の入力装置１
６を制御するＫＢコントローラ３０５、ハードディスク
や光ディスク等の大記憶容量の格納装置（データベー
ス）４を制御するＤＢコントローラ３０７、フロッピー
（登録商標）ディスクやカードメモリ等の可搬記録媒体
１４上のプログラムやデータををロードするための媒体
駆動装置１３を制御するＦＤＤコントローラ３０６、露
光装置本体部２との間におけるデータ送受信を制御する
通信コントローラ３０８を備え、汎用のワークステーシ
ョンやパーソナルコンピュータ等で実現できる。すなわ
ち、図１を用いて説明した稼動情報取得手段３１及びア
プリケーション手段３２の有する各機能を実現するため
のプログラムコードが、可搬記録媒体１４又は内部メモ
リ３０３から読み出され、ＣＰＵ３０３がこれらを実行
することによって、各機能の処理が達成される。

【００４４】図５乃至図７は、光電検出器１１ｙが出力
した交流信号ＳＤｗの波形を示す図である。図５乃至図
７において、縦軸は、交流信号ＳＤｗの信号レベルを示
し、横軸は、時間を示す。

【００４５】図５においては、ノイズ成分等を含まない
通常の交流信号ＳＤｗの波形が示されており、図６にお
いては、レジスト層での薄膜干渉やウエハマークのだれ
等が原因で振幅の小さくなった交流信号ＳＤｗの波形が
示されており、図７においては、スペックルにより位相
の位置ずれを伴った交流信号ＳＤｗの波形が示されてい
る。

【００４６】図８及び図９は、光電検出器１１ｙが出力
した光電信号ＳＤｉの波形を示す図である。図８及び図
９において、縦軸は、光電信号ＳＤｉの信号レベルを示
し、横軸は、走査位置を示す。

【００４７】図８においては、ノイズ成分等を含まない
通常の光電信号ＳＤｉの波形が示されており、光電信号
ＳＤｉの信号強度のピーク値Ｖ１が示されている。ま
た、図９においては、スペックル等による回折光（ノイ
ズ成分）が原因で信号強度が低くなった光電信号ＳＤｉ
の波形が示されており、光電信号ＳＤｉの信号強度のピ
ーク値Ｖ２が示されている。

【００４８】図１０及び図１１は、光電検出器１１ｙが
出力した光電信号ＳＤｉの波形の対称性を説明するため
の図である。図１０及び図１１においても、図８及び図
９と同様に、縦軸は、光電信号ＳＤｉの信号レベルを示
し、横軸は、走査位置を示す。

【００４９】図１０においては、ノイズ成分等を含まな
い通常の光電信号ＳＤｉの波形が示されており、その波
形は、走査位置Ｘ１に関して左右対称である。図１１に
おいては、ウエハ処理プロセスにおけるエッチング工程
等によるウエハマークの破壊やレジスト層の塗布むら等
が原因で、光電信号ＳＤｉの波形は、信号レベルがピー
クである走査位置Ｘ２に関して非対称である。

【００５０】図１２は、撮像素子４９により観察される
指標マーク２８ａとウエハマークＷＭｙとを示す図であ
り、図１３は、撮像素子４９からＦＩＡ演算ユニット５
０に出力される画像信号の波形を示す図である。

【００５１】図１３において、信号強度Ｖ３は、ウエハ
マークＷＭｙのうちの１つのマークの信号強度であり、
信号強度Ｖ０は、指標マーク２８ａのうちの１つのマー
クの信号強度である。撮像素子４９から出力される画像
信号にはオートゲインコントロール（ＡＧＣ）がかか
り、計測するウエハマーク毎の信号強度の絶対値を求め
られないので、信号強度Ｖ０に対する信号強度Ｖ３の値
を異なるウエハ間における相対的な信号強度として用い
ることができる。また、ウエハ（チップ）毎の増幅度
（ゲイン）から信号強度の絶対値を算出することもでき
る。さらに、ゲインやオフセットの値を装置内で管理す
ることにより信号強度の絶対値を算出することもでき
る。

【００５２】図１４は、露光装置本体部２から処理装置
３へのデータ通信を説明するための図である。露光装置
本体部２は、露光プロセス等の一連の工程中において、
例えば、計測装置２３による露光光学系２１のアライメ
ント計測等の処理フロー（ステップＳ１４０１）の後
に、計測したアライメント結果等を処理装置３へ送信す
るために、露光装置本体部２の通信バッファＢ２にその
アライメント結果等を書き込み（ステップＳ１４０
２）、その後に、露光等の処理フロー（ステップＳ１４
０３）に移る。

【００５３】露光装置本体部２の通信バッファＢ２に書
き込まれたアライメント結果等のデータは、処理装置３
の通信バッファＢ３に転送される。処理装置３は、露光
装置本体部２の通信バッファＢ２から処理装置３の通信
バッファＢ３に転送されてきたアライメント結果等のデ
ータを格納装置４へ書き込む（ステップＳＴ１４０
１）。さらに、処理装置３は、後に詳述するように、デ
ータベースアプリケーションの起動により、格納されて
いるデータを格納装置４から読み出す（ステップＳＴ１
４０２）。

【００５４】図１５は、処理装置３の動作の概略を説明
するためのフローチャートである。露光装置本体部２
は、露光プロセス等の一連の工程中において、データベ
ース（ＤＢ）アプリケーションを起動するためのコマン
ドを処理装置３に送信する（ステップＳ１５０１）。

【００５５】処理装置３は、露光装置本体部２から送信
されてきたデータベースアプリケーションを起動するた
めのコマンドを受信し（ステップＳＴ１５０１）、デー
タベースアプリケーションの起動および必要な処理フロ
ー（図４２を用いて後述するスループットの入力等）を
行う（ステップＳＴ１５０２）。そして、処理装置３
は、データを格納装置４から読み出し（ステップＳＴ１
５０３）、アプリケーション手段３２よる稼動情報の統
計処理等の処理フローを行う（ステップＳＴ１５０
４）。その後、処理装置３は、アプリケーション手段３
２よる稼動情報の統計処理等の結果を以降の露光プロセ
ス等に反映させるために、露光装置本体部２に送信する
（ステップＳＴ１５０５）。

【００５６】処理装置３から上記結果を受信した露光装
置本体部２は、その結果を制御パラメータとして更新し
（ステップＳ１５０２）、以降の露光プロセス等は、更
新した制御パラメータに基づいて実行する。

【００５７】図１６乃至図４２は、露光装置本体部２が
行う露光プロセスにおける各種の稼動情報の計測、及び
これらの稼動情報の計測に係る各データベースアプリケ
ーションの動作を説明するためのフローチャートであ
る。

【００５８】図１６は、ウエハアライメント計測の動作
を説明するためのフローチャートである。ステップＳ１
６０１において、露光プロセスが開始されると、制御手
段２２は、ステップＳ１６０２において、そのプロセス
名を含む各種の処理パラメータを通信バッファＢ２に書
き込み、ステップＳ１６０３において、処理するウエハ
のロット番号を通信バッファＢ２に書き込む。ステップ
Ｓ１６０４において、そのロットの１枚目のウエハＷが
ウエハステージＷＳ上に載置された状態で露光光学系２
１にロードされると、ステップＳ１６０５において、制
御手段２２は、そのウエハＷのウエハ番号を通信バッフ
ァＢ２に書き込む。ステップＳ１６０６において、ウエ
ハＷを載置したウエハステージＷＳは、アライメント計
測のための所定の位置に移動する。ステップＳ１６０７
において、計測装置２３は、アライメント（ＡＬＧ）信
号処理として、ウエハＷ上のウエハマークの位置情報を
計測し、ステップＳ１６０８において、制御手段２２
は、その計測結果（アライメント信号処理結果）を通信
バッファＢ２に書き込む。上記ステップＳ１６０７にお
いて処理するアライメント信号は、ウエハ自体の位置を
粗く位置合わせするプリアライメント、高速ではあるが
大まかにウエハ上の所定のサーチアライメント用のマー
クの位置を検出するサーチアライメント、及びこのサー
チアライメントの結果に基づいてウエハ上の所定のファ
インアライメント用のマークの位置を高精度に検出する
ファインアライメントを含む。

【００５９】次に、ステップＳ１６０９において、比較
手段２５は、上記ステップＳ１６０７において計測した
アライメント信号処理結果とパラメータテーブル２４に
予め格納されているアライメント信号処理結果の最大値
（ＭＡＸ）及び最小値（ＭＩＮ）と比較し、判別手段２
６は、比較手段２５が比較した結果が適正であるか否か
を判別する。すなわち、上記計測結果がＭＡＸとＭＩＮ
との間にあるか（適正値か）否か（外れ値か）を検証す
る。そして、上記計測結果が適正値でなければ（外れ値
であれば）（ステップＳ１６０９：ＮＯ）、ステップＳ
１６１０において、エラー処理を行う。ここでいうエラ
ー処理とは、例えば、システムを一旦停止し、システム
の操作者がエラーの原因を排除した後に再開指示を行う
ことにより、エラー原因となった処理から再実行する場
合も含まれる。この場合は、ステップＳ１６０６やステ
ップＳ１６０７等に戻る。また、上記計測結果が適正値
であれば（外れ値でなければ）（ステップＳ１６０９：
ＹＥＳ）、ステップＳ１６１１において、比較手段２５
は、実行してきたアライメントショット数とパラメータ
テーブル２４に予め格納されているアライメントショッ
ト数とを比較し、判別手段２６は、実行してきたアライ
メントのショット数がパラメータテーブル２４に予め格
納されているアライメントショット数に達したか否かを
判断する。そして、実行してきたアライメントのショッ
ト数がパラメータテーブル２４に予め格納されているア
ライメントショット数に達するまで、ステップＳ１６０
６以降の処理を繰り返す（ステップＳ１６１１：Ｎ
Ｏ）。

【００６０】次に、ステップＳ１６１２において、ウエ
ハＷを載置したウエハステージＷＳは、露光のための所
定の位置に移動し、ステップＳ１６１３において、露光
光学系２１は、露光を行う。ステップＳ１６１４におい
て、比較手段２５は、実行してきた露光のショット数と
パラメータテーブル２４に予め格納されている露光ショ
ット数とを比較し、判別手段２６は、実行してきた露光
のショット数がパラメータテーブル２４に予め格納され
ている露光ショット数に達したか否かを判断する。そし
て、実行してきた露光のショット数がパラメータテーブ
ル２４に予め格納されている露光ショット数に達するま
で、ステップＳ１６１２以降の処理を繰り返す（ステッ
プＳ１６１４：ＮＯ）。さらに、ステップＳ１６１５に
おいて、比較手段２５は、実行してきたウエハの枚数と
パラメータテーブル２４に予め格納されているウエハ枚
数とを比較し、判別手段２６は、実行してきたウエハの
枚数がパラメータテーブル２４に予め格納されているウ
エハ枚数に達したか否かを判断する。そして、実行して
きたウエハの枚数がパラメータテーブル２４に予め格納
されているウエハ枚数に達するまで、ステップＳ１６０
４以降の処理を繰り返し（ステップＳ１６１５：Ｎ
Ｏ）、実行してきたウエハの枚数がパラメータテーブル
２４に予め格納されているウエハ枚数に達したら（ステ
ップＳ１６１５：ＹＥＳ）、ステップＳ１６１６におい
て、露光プロセスを終了する。続いて、ステップＳ１６
１７において、ウエハアライメント計測に係るデータベ
ースアプリケーションを起動するためのコマンドを通信
バッファＢ２に書き込み、処理装置３側の通信バッファ
Ｂ３を介して処理装置３に送信する。

【００６１】なお、ステップＳ１６０２、Ｓ１６０３、
Ｓ１６０５及びＳ１６０８において通信バッファＢ２に
書き込まれたプロセス名等は、ステップＳ１６１７にお
いてデータベースアプリケーションの起動コマンドと同
時に送信してもよいし、各ステップの直後に送信しても
よい。このことは、後述する他のフローチャートの説明
においても同様である。

【００６２】図１７は、ウエハアライメント計測に係る
データベースアプリケーションの動作を説明するための
フローチャートである。ステップＳＴ１７０１におい
て、処理装置３は、露光装置本体部２から送信されてき
たウエハアライメント計測に係るデータベースアプリケ
ーションを起動するためのコマンドを受信し、このコマ
ンドに対応するデータアプリケーション手段３２は、対
応するデータアプリケーションを起動する。ステップＳ
Ｔ１７０２において、上記データアプリケーション手段
３２は、対応するウエハアライメント計測と同一プロセ
ス、同一ショットの過去一定回数分（例えば、５０回
分）のアライメント計測結果を、データ入出力手段３４
を介して格納装置４から読み出し、ステップＳＴ１７０
３において、上記一定回数分のアライメント計測結果の
平均値Ｘ及び標準偏差σを求め、ステップＳＴ１７０４
において、最大値（ＭＡＸ＝Ｘ＋３σ＋β）及び最小値
（ＭＩＮ＝Ｘ−３σ−β）を求める（ただし、βは任意
に設定されるマージン値）。アプリケーション手段３２
は、求めたＭＡＸ及びＭＩＮを通信バッファＢ３に書き
込み、ステップＳＴ１７０５において、露光装置本体部
２の通信バッファＢ２を介して露光装置本体部２に送信
する。

【００６３】すると、露光装置本体部２は、処理装置３
から送信されてきたＭＡＸ及びＭＩＮを受信し、ステッ
プＳ１７０６において、パラメータテーブル２４のＭＡ
Ｘ及びＭＩＮを更新する。

【００６４】上述の様にして、ＭＡＸ及びＭＩＮが更新
されることにより、図１６中のステップＳ１６０９にお
ける判断基準が変更され、以降のウエハアライメント計
測において、より実態に則した判断基準を用いることが
できる。

【００６５】なお、上記ステップＳＴ１７０２において
読み出す過去のアライメント計測結果は、一定回数分
（例えば、５０回分）としたが、一定期間（例えば、１
時間、２４時間あるいは１０日間）としてもよい。ま
た、上記ステップＳＴ１７０４において、求めたＭＡＸ
及びＭＩＮは、経験的に得られた計算式であり、ＭＡＸ
及びＭＩＮの求め方はこれに限らない。

【００６６】図１８は、ウエハアライメントのためのキ
ャリブレーション計測の動作を説明するためのフローチ
ャートである。ステップＳ１８０１において、露光プロ
セスが開始されると、ステップＳ１８０２において、計
測装置２３は、アライメントセンサーキャリブレーショ
ン（ベースライン計測）を行い、ステップＳ１８０３に
おいて、制御手段２２は、その計測結果（アライメント
キャリブレーション結果）を通信バッファＢ２に書き込
む。ステップＳ１８０４において、１枚目のウエハＷが
ウエハステージＷＳ上に載置された状態で露光光学系２
１にロードされると、ステップＳ１８０５において、一
連の露光プロセス（ウエハステージの移動、露光等）が
実行される。ステップＳ１８０６において、比較手段２
５は、実行してきたウエハの枚数とパラメータテーブル
２４に予め格納されているウエハ枚数とを比較し、判別
手段２６は、実行してきたウエハの枚数がパラメータテ
ーブル２４に予め格納されているウエハ枚数に達したか
否かを判断する。そして、実行してきたウエハの枚数が
パラメータテーブル２４に予め格納されているウエハ枚
数に達しいていない場合は（ステップＳ１８０６：Ｎ
Ｏ）、さらにステップＳ１８０７において、比較手段２
５は、実行してきたウエハの枚数とパラメータテーブル
２４に予め格納されているインターバル計測実施枚数と
を比較し、判別手段２６は、実行してきたウエハの枚数
がパラメータテーブル２４に予め格納されているインタ
ーバル計測実施枚数を経過したか否かを比較して判断す
る。そして、実行してきたウエハの枚数がパラメータテ
ーブル２４に予め格納されているインターバル計測実施
枚数を経過していない場合は（ステップＳ１８０７：Ｎ
Ｏ）、ステップＳ１８０４以降を繰り返し、経過してい
る場合は（ステップＳ１８０７：ＹＥＳ）、ステップＳ
１８０２以降を繰り返す。

【００６７】次に、実行してきたウエハの枚数がパラメ
ータテーブル２４に予め格納されているウエハ枚数に達
したら（ステップＳ１８０６：ＹＥＳ）、ステップＳ１
８０８において、露光プロセスを終了する。そして、ス
テップＳ１８０９において、データベースアプリケーシ
ョンを起動するためのコマンドを通信バッファＢ２に書
き込み、処理装置３側の通信バッファＢ３を介して処理
装置３に送信する。

【００６８】図１９は、ウエハアライメントのためのキ
ャリブレーション計測に係るデータベースアプリケーシ
ョンの動作を説明するためのフローチャートである。ス
テップＳＴ１９０１において、処理装置３は、露光装置
本体部２から送信されてきたウエハアライメントのため
のキャリブレーション計測に係るデータベースアプリケ
ーションを起動するためのコマンドを受信し、このコマ
ンドに対応するデータアプリケーション手段３２は、対
応するデータアプリケーションを起動する。ステップＳ
Ｔ１９０２において、上記データアプリケーション手段
３２は、対応するウエハアライメントのためのキャリブ
レーション計測の過去一定回数分（例えば、２０回分）
のアライメントのためのキャリブレーション計測結果
（ベースライン量のドリフト量）を、データ入出力手段
３４を介して格納装置４から読み出し、ステップＳＴ１
９０３において、単位時間あたりの変化量Ｘ（μｍ／ｈ
ｏｕｒ）を求め、ステップＳＴ１９０４において、上記
変化量Ｘに基づいて最適なインターバル計測間隔のウエ
ハ枚数を求める。アプリケーション手段３２は、求めた
インターバル計測間隔のウエハ枚数を通信バッファＢ３
に書き込み、ステップＳＴ１９０５において、露光装置
本体部２の通信バッファＢ２を介して露光装置本体部２
に送信する。

【００６９】すると、露光装置本体部２は、処理装置３
から送信されてきたインターバル計測間隔のウエハ枚数
を受信し、ステップＳ１９０６において、パラメータテ
ーブル２４のインターバル計測間隔のウエハ枚数を更新
する。

【００７０】上述の様にして、インターバル計測間隔の
ウエハ枚数が更新されることにより、図１８中のステッ
プＳ１８０７における判断基準が変更され、以降のウエ
ハアライメントのためのキャリブレーション計測におい
て、より実態に則した判断基準を用いることができる。

【００７１】図２０は、ウエハアライメント計測（信号
強度）の動作を説明するためのフローチャートである。
露光プロセスが開始されると、制御手段２２は、そのプ
ロセス名等を通信バッファＢ２に書き込み、ウエハＷを
載置したウエハステージＷＳを露光光学系２１にロード
し、アライメント計測のための所定の位置に移動する。
そして、ステップＳ２００１において、計測装置２３
は、アライメント（ＡＬＧ）信号を取り込み、ステップ
Ｓ２００２において、その信号強度ＳｉｇＷを求める。

【００７２】次に、ステップＳ２００３において、比較
手段２５は、上記ステップＳ２００２において求めた信
号強度ＳｉｇＷとパラメータテーブル２４に予め格納さ
れている信号強度の最大値（ＳｉｇＨ）及び最小値（Ｓ
ｉｇＬ）と比較し、判別手段２６は、比較手段２５が比
較した結果が適正であるか否かを判別する。すなわち、
求めた信号強度ＳｉｇＷが格納されている信号強度の最
大値ＳｉｇＨと予め格納されている信号強度の最小値Ｓ
ｉｇＬとの間にあるか（適正値か）否か（外れ値か）を
検証する。そして、求めた信号強度ＳｉｇＷが適正値で
なければ（外れ値であれば）（ステップＳ２００３：Ｎ
Ｏ）、ステップＳ２００４において、エラー処理を行
う。また、求めた信号強度ＳｉｇＷが適正値であれば
（外れ値でなければ）（ステップＳ２００３：ＹＥ
Ｓ）、ステップＳ２００５において、計測装置２３は、
アライメント（ＡＬＧ）信号処理として、ウエハＷ上の
ウエハマークの位置情報を計測する。ステップＳ２００
６において、制御手段２２は、その信号強度ＳｉｇＷを
通信バッファＢ２に書き込む。そして、ステップＳ２０
０７において、ウエハアライメント計測（信号強度）に
係るデータベースアプリケーションを起動するためのコ
マンドを通信バッファＢ２に書き込み、処理装置３側の
通信バッファＢ３を介して処理装置３に送信する。

【００７３】図２１は、ウエハアライメント計測（信号
強度）に係るデータベースアプリケーションの動作を説
明するためのフローチャートである。ステップＳＴ２１
０１において、処理装置３は、露光装置本体部２から送
信されてきたウエハアライメント計測（信号強度）に係
るデータベースアプリケーションを起動するためのコマ
ンドを受信し、このコマンドに対応するデータアプリケ
ーション手段３２は、対応するデータアプリケーション
を起動する。ステップＳＴ２１０２において、上記デー
タアプリケーション手段３２は、対応するウエハアライ
メント計測と同一プロセス、同一ショットの過去一定回
数分（例えば、５０回分）のアライメント信号強度を、
データ入出力手段３４を介して格納装置４から読み出
し、ステップＳＴ２１０３において、上記一定回数分の
アライメント信号強度の平均値Ｘ及び標準偏差σを求
め、ステップＳＴ２１０４において、信号強度の最大値
（ＳｉｇＨ＝Ｘ＋３σ＋β）及び信号強度の最小値（Ｓ
ｉｇＬ＝Ｘ−３σ−β）を求める（ただし、βは任意に
設定されるマージン値）。アプリケーション手段３２
は、求めたＳｉｇＨ及びＳｉｇＬを通信バッファＢ３に
書き込み、ステップＳＴ２１０５において、露光装置本
体部２の通信バッファＢ２を介して露光装置本体部２に
送信する。

【００７４】すると、露光装置本体部２は、処理装置３
から送信されてきたＳｉｇＨ及びＳｉｇＬを受信し、ス
テップＳ２１０６において、パラメータテーブル２４の
ＳｉｇＨ及びＳｉｇＬを更新する。

【００７５】上述の様にして、ＳｉｇＨ及びＳｉｇＬが
更新されることにより、図２０中のステップＳ２００３
における判断許容値が変更され、以降のウエハアライメ
ント計測において、より実態に則した判断基準を用いる
ことができる。

【００７６】図２２は、ウエハアライメント計測の動作
を説明するためのフローチャートである。露光プロセス
が開始されると、制御手段２２は、そのプロセス名等を
通信バッファＢ２に書き込み、１枚目のウエハＷを載置
したウエハステージＷＳを露光光学系２１にロードす
る。そして、ステップＳ２２０１において、ウエハＷを
載置したウエハステージＷＳは、アライメント計測のた
めの所定の位置に移動する。ステップＳ２２０２におい
て、計測装置２３は、アライメント（ＡＬＧ）信号処理
として、ウエハＷ上のウエハマークの位置情報を計測
し、ステップＳ２２０３において、制御手段２２は、そ
の計測結果（アライメント信号処理結果）を通信バッフ
ァＢ２に書き込む。

【００７７】次に、ステップＳ２２０４において、比較
手段２５は、実行してきたアライメントショット数とパ
ラメータテーブル２４に予め格納されているアライメン
トショット数とを比較し、判別手段２６は、実行してき
たアライメントのショット数がパラメータテーブル２４
に予め格納されているアライメントショット数に達した
か否かを判断する。そして、実行してきたアライメント
のショット数がパラメータテーブル２４に予め格納され
ているアライメントショット数に達するまで、ステップ
Ｓ２２０１以降の処理を繰り返す（ステップＳ２２０
４：ＮＯ）。

【００７８】次に、ウエハＷを載置したウエハステージ
ＷＳは、露光のための所定の位置に移動し、ステップＳ
２２０５において、露光光学系２１は、ウエハの露光を
行う。続いて、ステップＳ２２０６において、ウエハア
ライメント計測に係るデータベースアプリケーションを
起動するためのコマンドを通信バッファＢ２に書き込
み、処理装置３側の通信バッファＢ３を介して処理装置
３に送信する。

【００７９】図２３は、ウエハアライメント計測に係る
データベースアプリケーションの動作を説明するための
フローチャートである。ステップＳＴ２３０１におい
て、処理装置３は、露光装置本体部２から送信されてき
たウエハアライメント計測に係るデータベースアプリケ
ーションを起動するためのコマンドを受信し、このコマ
ンドに対応するデータアプリケーション手段３２は、対
応するデータアプリケーションを起動する。ステップＳ
Ｔ２３０２において、上記データアプリケーション手段
３２は、対応するウエハアライメント計測と同一プロセ
ス、同一ショットの過去一定回数分（例えば、５０回
分）のアライメント計測の信号波形を、データ入出力手
段３４を介して格納装置４から読み出し、ステップＳＴ
２３０３において、上記一定回数分のアライメント計測
の信号波形における所定の領域のノイズ振幅Ｎｗをそれ
ぞれ求め、ステップＳＴ２３０４において、求めたノイ
ズ振幅Ｎｗの平均値Ｘｎと標準偏差σを求める。

【００８０】次に、アプリケーション手段３２は、ステ
ップＳＴ２３０５において、求めたノイズ振幅Ｎｗの平
均値Ｘｎにより、パラメータテーブル２４に格納された
予め定められている選択基準に基づき、複数の数値フィ
ルタ係数（フィルタリングカットオフ周波数：数値フィ
ルタパラメータ）から１つを選択し、選択した数値フィ
ルタ係数を通信バッファＢ３に書き込み、ステップＳＴ
２３０６において、露光装置本体部２の通信バッファＢ
２を介して露光装置本体部２に送信する。

【００８１】すると、露光装置本体部２は、処理装置３
から送信されてきた数値フィルタ係数を受信し、ステッ
プＳ２３０７において、パラメータテーブル２４の数値
フィルタ係数を更新する。

【００８２】また、アプリケーション手段３２は、ステ
ップＳＴ２３０８において、求めたノイズ振幅Ｎｗの平
均値Ｘｎにより、パラメータテーブル２４に格納された
予め定められている選択基準に基づき、繰り返し計測回
数（制御パラメータ）を設定し、設定した繰り返し計測
回数を通信バッファＢ３に書き込み、ステップＳＴ２３
０９において、露光装置本体部２の通信バッファＢ２を
介して露光装置本体部２に送信する。

【００８３】すると、露光装置本体部２は、処理装置３
から送信されてきた繰り返し計測回数を受信し、ステッ
プＳ２３１０において、パラメータテーブル２４の繰り
返し計測回数を更新する。

【００８４】また、アプリケーション手段３２は、ステ
ップＳＴ２３１１において、求めたノイズ振幅Ｎｗの平
均値Ｘｎにより、パラメータテーブル２４に格納された
予め定められている選択基準に基づき、アライメントに
必要なアライメントマークのマーク本数（制御パラメー
タ）を決定し、決定したマーク本数を通信バッファＢ３
に書き込み、ステップＳＴ２３１２において、露光装置
本体部２の通信バッファＢ２を介して露光装置本体部２
に送信する。

【００８５】すると、露光装置本体部２は、処理装置３
から送信されてきたマーク本数を受信し、ステップＳ２
３１０において、パラメータテーブル２４のマーク本数
を更新する。

【００８６】なお、上記ノイズ振幅の代わりに、信号強
度または信号波形の対称性を用いることもでき、上記更
新する数値フィルタ係数、計測回数またはマーク本数の
代わりに、スライスレベル、処理アルゴリズム、ゲイン
またはオフセットを用いることもできる。

【００８７】図２４は、ＬＳＡ系計測部によるウエハア
ライメント計測に係るデータベースアプリケーションの
動作を説明するためのフローチャートである。ステップ
ＳＴ２４０１において、処理装置３は、露光装置本体部
２から送信されてきたＬＳＡ系計測部によるウエハアラ
イメント計測に係るデータベースアプリケーションを起
動するためのコマンドを受信し、このコマンドに対応す
るデータアプリケーション手段３２は、対応するデータ
アプリケーションを起動する。ステップＳＴ２４０２に
おいて、上記データアプリケーション手段３２は、対応
するウエハアライメント計測と同一プロセス、同一ショ
ットの過去一定回数分（例えば、５０回分）のアライメ
ント計測の信号波形を、データ入出力手段３４を介して
格納装置４から読み出し、ステップＳＴ２４０３におい
て、ＬＳＡ信号の最も対称性の高い部分のレベルを求
め、ステップＳＴ２４０４において、求めたレベルの平
均値Ｘｌと標準偏差σを求める。

【００８８】次に、アプリケーション手段３２は、ステ
ップＳＴ２４０５において、求めた標準偏差σが予め定
めた基準値以下か否かを判断し、求めた標準偏差σが予
め定めた基準値以下でなければ（ステップＳＴ２４０
５：ＮＯ）、終了する。求めた標準偏差σが予め定めた
基準値以下であれば（ステップＳＴ２４０５：ＹＥ
Ｓ）、求めたレベルの平均値Ｘｌを通信バッファＢ３に
書き込み、ステップＳＴ２４０６において、最適なスラ
イスレベルパラメータとして露光装置本体部２の通信バ
ッファＢ２を介して露光装置本体部２に送信する。

【００８９】すると、露光装置本体部２は、処理装置３
から送信されてきたスライスレベル（制御パラメータ）
を受信し、ステップＳ２４０７において、パラメータテ
ーブル２４のスライスレベルを更新する。

【００９０】なお、上記対称性の代わりに、信号強度ま
たはノイズ振幅を用いることもでき、上記更新するスラ
イスレベルの代わりに、数値フィルタ係数、計測回数、
マーク本数、処理アルゴリズム、ゲインまたはオフセッ
トを用いることもできる。

【００９１】図２５は、ＥＧＡ方式によるウエハアライ
メント計測の動作を説明するためのフローチャートであ
る。ＥＧＡ（＝ＥｎｈａｎｃｅｄＧｌｏｂａｌＡｌ
ｉｇｎｍｅｎｔ）方式とは、１枚のウエハを露光するた
めに、まずウエハ上の任意の数ショットのウエハマーク
（アライメントマーク）の位置を、例えばＬＳＡ系計測
部で計測し（サンプルアライメント）、ウエハの中心位
置のＸ方向及びＹ方向のオフセット、ウエハのＸ方向及
びＹ方向の伸縮度、ウエハの残存回転量、及びウエハス
テージの直交度の６つの制御パラメータを、ウエハマー
クに関する設計値と計測値との差に基づいて統計処理す
ることにより決定し、これら決定された制御パラメータ
の値に基づいて、重ね合わせ露光すべき位置を設計値か
ら補正しながら、順次ウエハステージをステッピングさ
せていくアライメントモードの方式である。

【００９２】露光プロセスが開始されると、ウエハＷを
載置したウエハステージＷＳが露光光学系２１にロード
され、ＥＧＡ方式によるアライメント計測のための所定
の位置に移動する。そして、ステップＳ２５０１におい
て、計測装置２３は、ＥＧＡ方式によるアライメント
（ＡＬＧ）信号処理として、ウエハＷ上のウエハマーク
の位置情報を計測する。ステップＳ２５０２において、
比較手段２５は、実行してきたアライメントショット数
とパラメータテーブル２４に予め格納されているアライ
メントショット数とを比較し、判別手段２６は、実行し
てきたアライメントのショット数がパラメータテーブル
２４に予め格納されているアライメントショット数に達
したか否かを判断する。そして、実行してきたアライメ
ントのショット数がパラメータテーブル２４に予め格納
されているアライメントショット数に達するまで、ステ
ップＳ２５０１の処理を繰り返す（ステップＳ２５０
２：ＮＯ）。判別手段２６により実行してきたアライメ
ントのショット数がパラメータテーブル２４に予め格納
されているアライメントショット数に達したと判断され
ると（ステップＳ２５０２：ＹＥＳ）、ステップＳ２５
０３において、制御手段２２は、その計測結果（アライ
メント信号処理結果）を統計処理し、ステップＳ２５０
４において、統計処理したＥＧＡ結果を通信バッファＢ
２に書き込む。

【００９３】次に、ステップＳ２５０５において、比較
手段２５は、上記ステップＳ２５０３において統計処理
したＥＧＡ結果とパラメータテーブル２４に予め格納さ
れているＥＧＡ結果の最大値（ＭＡＸ）及び最小値（Ｍ
ＩＮ）と比較し、判別手段２６は、比較手段２５が比較
した結果が適正であるか否かを判別する。すなわち、上
記ＥＧＡ結果がＭＡＸとＭＩＮとの間にあるか（適正値
か）否か（外れ値か）を検証する。

【００９４】そして、上記ＥＧＡ結果が適正値であれば
（外れ値でなければ）（ステップＳ２５０５：ＹＥ
Ｓ）、ウエハＷを載置したウエハステージＷＳが露光の
ための所定の位置に移動し、露光光学系２１が露光を行
い、ステップＳ２５０６において、露光プロセスを終了
する。続いて、ステップＳ２５０７において、ＥＧＡ方
式によるウエハアライメント計測に係るデータベースア
プリケーションを起動するためのコマンドを通信バッフ
ァＢ２に書き込み、処理装置３側の通信バッファＢ３を
介して処理装置３に送信する。

【００９５】また、上記ＥＧＡ結果が適正値でなければ
（外れ値であれば）（ステップＳ２５０５：ＮＯ）、ス
テップＳ２５０８において、報知手段２７は、上記ＥＧ
Ａ結果が適正値でない旨（外れ値である旨）を警告情報
として報知する。さらに、ステップＳ２５０９におい
て、上述してきたＥＧＡ方式によるウエハアライメント
計測を再度実行するか（ステップＳ２５０１に戻る）、
あるいは露光プロセスを終了する（ステップＳ２５０６
に進む）。

【００９６】図２６は、ＥＧＡ方式によるウエハアライ
メント計測に係るデータベースアプリケーションの動作
を説明するためのフローチャートである。ステップＳＴ
２６０１において、処理装置３は、露光装置本体部２か
ら送信されてきたＥＧＡ方式によるウエハアライメント
計測に係るデータベースアプリケーションを起動するた
めのコマンドを受信し、このコマンドに対応するデータ
アプリケーション手段３２は、対応するデータアプリケ
ーションを起動する。ステップＳＴ２６０２において、
上記データアプリケーション手段３２は、対応するＥＧ
Ａ方式によるウエハアライメント計測と同一プロセス、
同一ショットの過去一定回数分（例えば、５０回分）の
ＥＧＡ結果（ウエハの中心位置のＸ方向及びＹ方向のオ
フセット、ウエハのＸ方向及びＹ方向の伸縮度（スケー
リング）、ウエハの残存回転量（ｒｏｔ：ローテーショ
ン）、及びウエハステージの直交度の６つのＥＧＡ結
果）を、データ入出力手段３４を介して格納装置４から
読み出し、ステップＳＴ２６０３において、上記一定回
数分のそれぞれのＥＧＡ結果の平均値Ｘ及び標準偏差σ
を求め、ステップＳＴ２６０４において、それぞれの最
大値（ｍａｘ＝Ｘ＋３σ＋β）及び最小値（ｍｉｎ＝Ｘ
−３σ−β）を求める（ただし、βは任意に設定される
マージン値）。アプリケーション手段３２は、求めたそ
れぞれのｍａｘ及びｍｉｎを通信バッファＢ３に書き込
み、ステップＳＴ２６０５において、露光装置本体部２
の通信バッファＢ２を介して露光装置本体部２に送信す
る。

【００９７】すると、露光装置本体部２は、処理装置３
から送信されてきたそれぞれのｍａｘ及びｍｉｎを受信
し、ステップＳ２６０６において、パラメータテーブル
２４のそれぞれのｍａｘ及びｍｉｎを更新することによ
り、ＥＧＡ結果の判別許容値（許容範囲）を変更する。

【００９８】図２７は、ラフサーチアライメント計測の
動作を説明するためのフローチャートである。露光プロ
セスが開始されると、ステップＳ２７０１において、レ
チクルＲを載置したレチクルステージＲＳとウエハＷを
載置したウエハステージＷＳとが露光光学系２１にロー
ドされ、ラフサーチアライメント計測のための所定の位
置に移動する。そして、パラメータテーブル２４にラフ
サーチアライメントのサーチ範囲及びサーチ座標が格納
されていない場合は、ステップＳ２７０２において、ラ
フサーチアライメントのサーチ範囲及びサーチ座標を設
定する。そして、ステップＳ２７０３において、計測装
置２３は、ラフサーチアライメント計測として、ウエハ
Ｗの外形あるいはウエハＷ上のウエハマークの位置情報
を計測し、ラフサーチアライメント処理結果として、ウ
エハの（中心位置の）Ｘ方向及びＹ方向のオフセット
Ｘ、Ｙ及びウエハの残存回転誤差Θを求める。ステップ
Ｓ２７０４において、上記ラフサーチアライメント処理
結果を通信バッファＢ２に書き込む。ステップＳ２７０
５において、上記ラフサーチアライメント処理結果に基
づきファインアライメント処理を実行するためのウエハ
ステージの位置を決定する。そして、ウエハステージＷ
Ｓは、上記決定されたウエハステージの位置に移動し、
ステップＳ２７０６において、ファインアライメント処
理を実行し、ステップＳ２７０７において、ラフサーチ
アライメント計測に係るデータベースアプリケーション
を起動するためのコマンドを通信バッファＢ２に書き込
み、処理装置３側の通信バッファＢ３を介して処理装置
３に送信する。

【００９９】図２８は、ラフサーチアライメント計測に
係るデータベースアプリケーションの動作を説明するた
めのフローチャートである。ステップＳＴ２８０１にお
いて、処理装置３は、露光装置本体部２から送信されて
きたラフサーチアライメント計測に係るデータベースア
プリケーションを起動するためのコマンドを受信し、こ
のコマンドに対応するデータアプリケーション手段３２
は、対応するデータアプリケーションを起動する。ステ
ップＳＴ２８０２において、上記データアプリケーショ
ン手段３２は、対応するラフサーチアライメント計測と
同一レチクルの過去一定回数分（例えば、２０回分）及
び同一ウエハの過去一定回数分（例えば、５０回分）の
ラフサーチアライメント処理結果（ウエハの（中心位置
の）Ｘ方向及びＹ方向のオフセットＸ、Ｙ及びウエハの
残存回転誤差Θ）を、データ入出力手段３４を介して格
納装置４から読み出し、ステップＳＴ２８０３におい
て、ラフサーチアライメント処理結果により補正したウ
エハの座標位置の平均値及び標準偏差σを求める。そし
て、ステップＳＴ２８０４において、経験的に得られた
６σ＋βをラフサーチアライメントの最適なサーチ範囲
と決定し、ステップＳＴ２８０５において、平均値をラ
フサーチアライメントの中心座標と決定する。アプリケ
ーション手段３２は、決定したサーチ範囲及びサーチ座
標を通信バッファＢ３に書き込み、ステップＳＴ２８０
６において、露光装置本体部２の通信バッファＢ２を介
して露光装置本体部２に送信する。

【０１００】すると、露光装置本体部２は、処理装置３
から送信されてきたサーチ範囲及びサーチ座標を受信
し、ステップＳ２８０７において、パラメータテーブル
２４のサーチ範囲及びサーチ座標を更新する。

【０１０１】図２９は、フォーカス計測（フォーカス位
置（Ｚ位置）、ピッチング距離、ローリング距離）の動
作を説明するためのフローチャートである。フォーカス
計測とは、ウエハ表面を露光光学系の基板側像面に一致
させるためにウエハ表面の露光光学系の光軸方向（Ｚ軸
方向）の位置を調整するオートフォーカス機構における
計測で、フォーカス位置、ピッチング値（Ｘ軸を回転軸
とする回転角）及びローリング値（Ｙ軸を回転軸とする
回転角）等が含まれる。

【０１０２】露光プロセスが開始されると、制御手段２
２は、そのプロセス名等を通信バッファＢ２に書き込
み、ステップＳ２９０１において、ウエハＷを載置した
ウエハステージＷＳは、露光光学系２１にロードされ
る。そして、上記ウエハステージＷＳは、アライメント
計測のための所定の位置に移動し、ステップＳ２９０２
において、計測装置２３は、アライメントサーチ及びＥ
ＧＡ計測等を行う。

【０１０３】次に、ウエハＷを載置したウエハステージ
ＷＳは、パラメータテーブル２４に予測値として格納さ
れているフォーカス位置、ピッチング値及びローリング
値に従った位置に移動し（ステップＳ２９０３、Ｓ２９
０４）、オートフォーカスのサーボ（目標値の任意の変
化に追従する制御）を実施する。ステップＳ３３０５に
おいて、フォーカス計測の結果として、フォーカス信号
の振幅を求める。ステップＳ３３０６において、比較手
段２５は、上記ステップＳ３３０５において求めたフォ
ーカス信号の振幅とパラメータテーブル２４に予め格納
されているフォーカス信号の振幅の最大値（ＭＡＸ）及
び最小値（ＭＩＮ）と比較し、判別手段２６は、比較手
段２５が比較した結果が適正であるか否かを判別する。
すなわち、上記振幅がＭＡＸとＭＩＮとの間にあるか
（適正値か）否か（外れ値か）を検証する。そして、上
記振幅が適正値でなければ（外れ値であれば）（ステッ
プＳ３３０６：ＮＯ）、ステップＳ３３０７において、
エラー処理を行う。また、上記振幅が適正値である場合
（外れ値でなければ）（ステップＳ３３０６：ＹＥ
Ｓ）、及び上記ステップＳ３３０７でのエラー処理後、
ステップＳ３３０８において、上記振幅及び上記エラー
処理の結果を一時バッファに格納する。ステップＳ２９
０５において、計測装置２３は、フォーカス計測を行な
い、ステップＳ２９０６において、フォーカス計測の結
果として、フォーカス位置、ピッチング値及びローリン
グ値を求める。ステップＳ３１０７において、比較手段
２５は、上記ステップＳ３１０６において求めたフォー
カス計測結果とパラメータテーブル２４に予め格納され
ているフォーカス計測結果の最大値（ＭＡＸ）及び最小
値（ＭＩＮ）と比較し、判別手段２６は、比較手段２５
が比較した結果が適正であるか否かを判別する。すなわ
ち、上記計測結果がＭＡＸとＭＩＮとの間にあるか（適
正値か）否か（外れ値か）を検証する。そして、上記計
測結果が適正値でなければ（外れ値であれば）（ステッ
プＳ３１０７：ＮＯ）、ステップＳ３１０８において、
エラー処理を行う。また、上記計測結果が適正値である
場合（外れ値でなければ）（ステップＳ３１０７：ＹＥ
Ｓ）、及び上記ステップＳ３１０８でのエラー処理後、
ステップＳ２９０７において、上記フォーカス計測の結
果及び上記エラー処理の結果を一時バッファに格納す
る。ステップＳ２９０８において、露光光学系２１は、
露光を行う。ステップＳ２９０９において、比較手段２
５は、実行してきた露光のショット数とパラメータテー
ブル２４に予め格納されている露光ショット数とを比較
し、判別手段２６は、実行してきた露光のショット数が
パラメータテーブル２４に予め格納されている露光ショ
ット数に達したか否かを判断する。そして、実行してき
た露光のショット数がパラメータテーブル２４に予め格
納されている露光ショット数に達するまで、ステップＳ
２９０３以降の処理を繰り返す（ステップＳ２９０９：
ＮＯ）。実行してきた露光のショット数がパラメータテ
ーブル２４に予め格納されている露光のショット数に達
したら（ステップＳ２９０９：ＹＥＳ）、ステップＳ２
９１０において、制御手段２２は、上記ステップＳ２９
０６で求め、上記ステップＳ２９０７で一時バッファに
格納したフォーカス計測の結果を通信バッファＢ２に書
き込む。さらに、ステップＳ２９１１において、比較手
段２５は、実行してきたウエハの枚数とパラメータテー
ブル２４に予め格納されているウエハ枚数とを比較し、
判別手段２６は、実行してきたウエハの枚数がパラメー
タテーブル２４に予め格納されているウエハ枚数に達し
たか否かを判断する。そして、実行してきたウエハの枚
数がパラメータテーブル２４に予め格納されているウエ
ハ枚数に達するまで、ステップＳ２９０１以降の処理を
繰り返し（ステップＳ２９１１：ＮＯ）、実行してきた
ウエハの枚数がパラメータテーブル２４に予め格納され
ているウエハ枚数に達したら（ステップＳ２９１１：Ｙ
ＥＳ）、ステップＳ２９１２において、露光プロセスを
終了する。続いて、ステップＳ２９１３において、フォ
ーカス計測に係るデータベースアプリケーションを起動
するためのコマンドを通信バッファＢ２に書き込み、処
理装置３側の通信バッファＢ３を介して処理装置３に送
信する。

【０１０４】図３０は、フォーカス計測（フォーカス位
置（Ｚ位置）、ピッチング距離、ローリング距離）に係
るデータベースアプリケーションの動作を説明するため
のフローチャートである。

【０１０５】ステップＳＴ３００１において、処理装置
３は、露光装置本体部２から送信されてきたフォーカス
計測に係るデータベースアプリケーションを起動するた
めのコマンドを受信し、このコマンドに対応するデータ
アプリケーション手段３２は、対応するデータアプリケ
ーションを起動する。ステップＳＴ３００２において、
上記データアプリケーション手段３２は、対応するフォ
ーカス計測と同一プロセス、同一ショットの過去一定回
数分（例えば、５０回分）のフォーカス計測の結果（フ
ォーカス位置（Ｚ位置）、ピッチング値、ローリング
値、フォーカス信号の振幅）を、データ入出力手段３４
を介して格納装置４から読み出し、ステップＳＴ３００
３において、フォーカス位置、ピッチング値及びローリ
ング値、フォーカス信号の振幅のそれぞれの平均値と標
準偏差σを求める。

【０１０６】次に、ステップＳＴ３００４において、ア
プリケーション手段３２は、求めた標準偏差σが予め定
めた基準値以下であると判断した場合は、求めたフォー
カス位置、ピッチング値及びローリング値のそれぞれの
平均値を通信バッファＢ３に書き込み、予測値として露
光装置本体部２の通信バッファＢ２を介して露光装置本
体部２に送信する。

【０１０７】すると、露光装置本体部２は、処理装置３
から送信されてきたフォーカス位置、ピッチング値及び
ローリング値を受信し、ステップＳ３００５において、
パラメータテーブル２４のフォーカス位置、ピッチング
値及びローリング値を更新する。このステップＳＴ３０
０４、ＳＴ３００５と並行して、以下のステップＳＴ３
２０４〜ＳＴ３２０６及びステップＳＴ３４０４〜ＳＴ
３４０６を行なう。

【０１０８】ステップＳＴ３２０４において、最大値
（ＭＡＸ＝平均値＋３σ＋β）及び最小値（ＭＩＮ＝平
均値−３σ−β）を求める（ただし、βは任意に設定さ
れるマージン値）。アプリケーション手段３２は、求め
たＭＡＸ、ＭＩＮ及び平均値を通信バッファＢ３に書き
込み、ステップＳＴ３２０５において、露光装置本体部
２の通信バッファＢ２を介して露光装置本体部２に送信
する。

【０１０９】すると、露光装置本体部２は、処理装置３
から送信されてきたＭＡＸ、ＭＩＮ及び平均値を受信
し、ステップＳ３２０６において、パラメータテーブル
２４のＭＡＸ、ＭＩＮ及び平均値を更新する。

【０１１０】次に、ステップＳＴ３４０４において、最
大値（ＭＡＸ＝Ｘ＋３σ＋β）及び最小値（ＭＩＮ＝Ｘ
−３σ−β）を求める（ただし、βは任意に設定される
マージン値）。アプリケーション手段３２は、求めたＭ
ＡＸ及びＭＩＮを通信バッファＢ３に書き込み、ステッ
プＳＴ３４０５において、露光装置本体部２の通信バッ
ファＢ２を介して露光装置本体部２に送信する。

【０１１１】すると、露光装置本体部２は、処理装置３
から送信されてきたＭＡＸ及びＭＩＮを受信し、ステッ
プＳ３４０６において、パラメータテーブル２４のＭＡ
Ｘ及びＭＩＮを更新する。

【０１１２】図３１は、プリアライメント計測の動作を
説明するためのフローチャートである。露光プロセスが
開始されると、レチクルＲを載置したレチクルステージ
ＲＳが露光光学系２１にロードされ、ステップＳ３５０
１において、光学系の計測装置２３は、第１のウエハプ
リアライメント（ウエハプリアラ１）を行い、そのセン
サー信号を検出する。このウエハプリアラ１とは、例え
ば、ＸＹ方向に可動するアームがウエハキャリヤ内に進
入し、ウエハを真空吸着しながら搬送する途中において
行われるウエハプリアライメントであり、このウエハプ
リアライメントを行なう光学系の計測装置２３は、位置
ずれ量検出用の２組のフォトカプラーである。これらの
フォトカプラーは、発光器の発する光束の光軸がウエハ
の搬送方向（Ｙ方向）に直交するよう並設されていて、
ウエハのエッジが上記光軸を遮ると、その時のアームの
Ｙ座標が受光器で検出できる構成となっている。また、
ウエハプリアラ１で検出するセンサー信号は、例えば、
ウエハのノッチ（ウエハの円形から外れた、切り欠き等
の非円弧部）を検出することにより得られる。

【０１１３】そして、ステップＳ３５０２において、光
学系の計測装置２３は、ウエハのローテーション（ウエ
ハの回転方向のずれ）及びＸ方向及びＹ方向の（ウエハ
の中心位置の）オフセットを求める。ステップＳ３５０
３において、上記ステップＳ３５０２で求めたローテー
ション及びオフセットにイニシャルオフセット値を加算
し、後述するウエハプリアラ２のためのウエハの位置決
めを行い、ステップＳ３５０４において、上記アーム
は、ウエハを上記位置決めされた位置まで搬送する。

【０１１４】次に、ステップＳ３５０５において、画像
処理系（例えば、ＦＩＡ系）の計測装置２３は、第２の
ウエハプリアライメント（ウエハプリアラ２）を行い、
画像処理演算によりウエハＷの位置情報を検出する。ス
テップＳ３５０６において、画像処理系の計測装置２３
は、ウエハのローテーション及びＸ方向及びＹ方向のオ
フセットを求め、ステップＳ３５０７において、上記ロ
ーテーション及びＸ方向及びＹ方向のオフセットを通信
バッファＢ２に書き込む。

【０１１５】次に、ステップＳ３５０８において、上記
ウエハプリアラ２のローテーション及びＸ方向及びＹ方
向のオフセットに基づき、センターテーブルを回転さ
せ、ウエハＷをセンターテーブル上に真空吸着（バキュ
ームチャック）させる。ステップＳ３５０９において、
ファインアライメント処理等の実行に続き、露光を実行
する。そして、ステップＳ３５１０において、プリアラ
イメント計測に係るデータベースアプリケーションを起
動するためのコマンドを通信バッファＢ２に書き込み、
処理装置３側の通信バッファＢ３を介して処理装置３に
送信する。

【０１１６】図３２は、プリアライメント計測に係るデ
ータベースアプリケーションの動作を説明するためのフ
ローチャートである。ステップＳＴ３６０１において、
処理装置３は、露光装置本体部２から送信されてきたプ
リアライメント計測に係るデータベースアプリケーショ
ンを起動するためのコマンドを受信し、このコマンドに
対応するデータアプリケーション手段３２は、対応する
データアプリケーションを起動する。ステップＳＴ３６
０２において、上記データアプリケーション手段３２
は、対応するプリアライメント計測と同一プロセスの過
去一定回数分（例えば、５０回分）のローテーション結
果を、データ入出力手段３４を介して格納装置４から読
み出し、ステップＳＴ３６０３において、ローテーショ
ン結果の平均値Ｘと標準偏差σを求める。

【０１１７】次に、ステップＳＴ３６０４において、ア
プリケーション手段３２は、求めた標準偏差σが予め定
めた基準値以下であると判断した場合は、求めたローテ
ーション結果の平均値Ｘを通信バッファＢ３に書き込
み、イニシャルローテーション量として露光装置本体部
２の通信バッファＢ２を介して露光装置本体部２に送信
する。

【０１１８】すると、露光装置本体部２は、処理装置３
から送信されてきたローテーション結果を受信し、ステ
ップＳ３６０５において、パラメータテーブル２４のイ
ニシャルローテーション量としてローテーション値を更
新する。

【０１１９】図３３は、フォーカス計測のためのキャリ
ブレーションの動作を説明するためのフローチャートで
ある。露光プロセスが開始されると、ウエハＷを載置し
たウエハステージＷＳが露光光学系２１にロードされ、
ステップＳ３７０１において、計測装置２３は、ウエハ
アライメント等が行われた後、フォーカス計測のための
キャリブレーションを実行する。ステップＳ３７０２に
おいて、上記キャリブレーションの結果を通信バッファ
Ｂ２に書き込む。

【０１２０】次に、ステップＳ３７０３において、比較
手段２５は、上記ステップＳ３７０１において計測した
上記キャリブレーションの結果とパラメータテーブル２
４に予め格納されているキャリブレーションの結果の最
大値（ＭＡＸ）及び最小値（ＭＩＮ）と比較し、判別手
段２６は、比較手段２５が比較した結果が適正であるか
否かを判別する。すなわち、上記キャリブレーションの
結果がＭＡＸとＭＩＮとの間にあるか（適正値か）否か
（外れ値か）を検証する。

【０１２１】そして、上記キャリブレーションの結果が
適正値であれば（外れ値でなければ）（ステップＳ３７
０３：ＹＥＳ）、ウエハＷを載置したウエハステージＷ
Ｓは、フォーカス計測を行うため所定の位置に移動し、
計測装置２３は、フォーカス計測を行ない、その後、ウ
エハＷを載置したウエハステージＷＳが露光のための所
定の位置に移動し、露光光学系２１が露光を行い、ステ
ップＳ３７０６において、露光プロセスは終了する。続
いて、ステップＳ３７０７において、フォーカス計測の
ためのキャリブレーションに係るデータベースアプリケ
ーションを起動するためのコマンドを通信バッファＢ２
に書き込み、処理装置３側の通信バッファＢ３を介して
処理装置３に送信する。

【０１２２】また、上記キャリブレーションの結果が適
正値でなければ（外れ値であれば）（ステップＳ３７０
３：ＮＯ）、ステップＳ３７０４において、報知手段２
７は、上記キャリブレーションの結果が適正値でない旨
（外れ値である旨）を警告情報として報知する。さら
に、ステップＳ３７０５において、計測装置２３は、フ
ォーカス計測を行ない、そのフォーカス計測値に上記キ
ャリブレーションの結果を反映させ、その後、ウエハＷ
を載置したウエハステージＷＳが露光のための所定の位
置に移動し、露光光学系２１が露光を行い、ステップＳ
３７０６に進み、露光プロセスは終了する。

【０１２３】なお、上記ステップＳ３７０４及びＳ３７
０５は、どちらか一方を省略し、他方のみの実行でもよ
い。図３４は、フォーカス計測のためのキャリブレーシ
ョンに係るデータベースアプリケーションの動作を説明
するためのフローチャートである。

【０１２４】ステップＳＴ３８０１において、処理装置
３は、露光装置本体部２から送信されてきたフォーカス
計測のためのキャリブレーションに係るデータベースア
プリケーションを起動するためのコマンドを受信し、こ
のコマンドに対応するデータアプリケーション手段３２
は、対応するデータアプリケーションを起動する。ステ
ップＳＴ３８０２において、上記データアプリケーショ
ン手段３２は、対応するフォーカス計測のためのキャリ
ブレーションと同一プロセスの過去一定期間（例えば、
１０日間）のフォーカス計測のためのキャリブレーショ
ン結果を、データ入出力手段３４を介して格納装置４か
ら読み出し、ステップＳＴ３８０３において、上記一定
期間分のキャリブレーション結果の平均値Ｘ及び標準偏
差σを求め、ステップＳＴ３８０４において、標準偏差
σが所定の規格値より小さい場合は、最大値（ＭＡＸ＝
Ｘ＋３σ＋β）及び最小値（ＭＩＮ＝Ｘ−３σ−β）を
求める（ただし、βは任意に設定されるマージン値）。
アプリケーション手段３２は、求めたＭＡＸ及びＭＩＮ
を通信バッファＢ３に書き込み、ステップＳＴ３８０５
において、露光装置本体部２の通信バッファＢ２を介し
て露光装置本体部２に送信する。

【０１２５】すると、露光装置本体部２は、処理装置３
から送信されてきたＭＡＸ及びＭＩＮを受信し、ステッ
プＳ３８０６において、パラメータテーブル２４のＭＡ
Ｘ及びＭＩＮを更新する。

【０１２６】なお、上記ステップＳＴ３８０２において
読み出す過去のアライメント計測結果は、一定期間（例
えば、１０日間）としたが、一定回数（例えば、５０
回）としてもよい。

【０１２７】図３５は、フォーカス大気圧相関の動作を
説明するためのフローチャートである。露光プロセスが
開始されると、ウエハＷを載置したウエハステージＷＳ
が露光光学系２１にロードされ、ステップＳ３９０１に
おいて、計測装置２３は、ウエハアライメント等が行わ
れた後、フォーカス計測のためのキャリブレーションを
実行する。ステップＳ３９０２において、上記キャリブ
レーションの結果を通信バッファＢ２に書き込む。そし
て、ウエハＷを載置したウエハステージＷＳは、フォー
カス計測を行うため所定の位置に移動し、計測装置２３
は、フォーカス計測を行ない、その後、ウエハＷを載置
したウエハステージＷＳが露光のための所定の位置に移
動し、露光光学系２１が露光を行い、ステップＳ３９０
３において、露光プロセスは終了する。続いて、ステッ
プＳ３９０４において、フォーカス計測のためのキャリ
ブレーションに係るデータベースアプリケーションを起
動するためのコマンドを通信バッファＢ２に書き込み、
処理装置３側の通信バッファＢ３を介して処理装置３に
送信する。

【０１２８】図３６は、フォーカス大気圧相関に係るデ
ータベースアプリケーションの動作を説明するためのフ
ローチャートである。ステップＳＴ４００１において、
処理装置３は、露光装置本体部２から送信されてきたフ
ォーカス大気圧相関に係るデータベースアプリケーショ
ンを起動するためのコマンドを受信し、このコマンドに
対応するデータアプリケーション手段３２は、対応する
データアプリケーションを起動する。ステップＳＴ４０
０２において、上記データアプリケーション手段３２
は、対応するフォーカス計測のキャリブレーションと同
一プロセスの過去一定期間（例えば、２０日間）のキャ
リブレーション結果及び露光光学系２１の周囲の大気圧
の大気圧値を、データ入出力手段３４を介して格納装置
４から読み出し、ステップＳＴ４００３において、上記
一定期間分のキャリブレーション結果と大気圧値との相
関係数を求める。ステップＳＴ４００４において、上記
相関係数が所定の基準値より大きいか小さいかを判断
し、大きい場合は（ステップＳＴ４００４：ＹＥＳ）、
大気圧値が異常である旨の警告を発生し、さらにステッ
プＳＴ４００６において、動作を継続するか終了するか
を判断し、動作を継続する場合は（ステップＳＴ４００
６：ＹＥＳ）、ステップＳＴ４００７において、上記大
気圧（あるいは、さらにモニターした大気圧）がフォー
カス変動を起こす可能性がある場合は、その旨の警告を
発生する。ステップＳＴ４００８において、上記フォー
カスキャリブレーションの結果を利用して大気圧係数を
求め直す。アプリケーション手段３２は、求めた大気圧
係数を通信バッファＢ３に書き込み、ステップＳＴ４０
０９において、露光装置本体部２の通信バッファＢ２を
介して露光装置本体部２に送信する。

【０１２９】すると、露光装置本体部２は、処理装置３
から送信されてきた大気圧係数を受信し、ステップＳ４
０１０において、パラメータテーブル２４の大気圧係数
を更新する。

【０１３０】なお、大気圧値の代わりに、温度、湿度又
は露光光の照射量等の環境状態でもよい。また、上記ス
テップＳ４００７及びＳ４００８は、どちらか一方を省
略し、他方のみの実行でもよい。

【０１３１】図３７は、スループットの動作を説明する
ためのフローチャートである。ステップＳ４１０１にお
いて、露光プロセスが開始されると、制御手段２２は、
そのプロセス名等を通信バッファＢ２に書き込み、ステ
ップＳ４１０２において、１枚目のウエハＷがウエハス
テージＷＳ上に載置された状態で露光光学系２１にロー
ドされると、計測装置２３は、ＥＧＡ方式によるアライ
メント計測処理を開始し（ステップＳ４１０３）、ＥＧ
Ａ方式によるアライメント計測処理を終了する（ステッ
プＳ４１０４）。そして、ステップＳ４１０５におい
て、制御手段２２は、その計測結果（ＥＧＡ方式による
アライメント信号処理結果：ウエハ１枚あたりのアライ
メント処理時間及びウエハステージの位置決め時間）を
通信バッファＢ２に書き込む。続いて、ウエハＷを載置
したウエハステージＷＳは、露光のための所定の位置に
移動し、露光を開始し（ステップＳ４１０６）、露光光
学系２１は、露光を行い、終了する（ステップＳ４１０
７）。ステップＳ４１０８において、制御手段２２は、
上記ステップＳ４１０６の露光開始からステップＳ４１
０７の露光終了までの露光時間を通信バッファＢ２に格
納する。次に、ステップＳ４１０８において、比較手段
２５は、実行してきたウエハの枚数とパラメータテーブ
ル２４に予め格納されているウエハ枚数とを比較し、判
別手段２６は、実行してきたウエハの枚数がパラメータ
テーブル２４に予め格納されているウエハ枚数に達した
か否かを判断する。そして、実行してきたウエハの枚数
がパラメータテーブル２４に予め格納されているウエハ
枚数に達するまで、ステップＳ４１０２以降の処理を繰
り返し（ステップＳ４１０９：ＮＯ）、実行してきたウ
エハの枚数がパラメータテーブル２４に予め格納されて
いるウエハ枚数に達したら（ステップＳ４１０９：ＹＥ
Ｓ）、ステップＳ４１１０において、露光プロセスを終
了する。続いて、ステップＳ４１１１において、スルー
プットに係るデータベースアプリケーションを起動する
ためのコマンドを通信バッファＢ２に書き込み、処理装
置３側の通信バッファＢ３を介して処理装置３に送信す
る。

【０１３２】図３８は、スループットに係るデータベー
スアプリケーションの動作を説明するためのフローチャ
ートである。ステップＳＴ４２０１において、処理装置
３は、露光装置本体部２から送信されてきたスループッ
トに係るデータベースアプリケーションを起動するため
のコマンドを受信し、このコマンドに対応するデータア
プリケーション手段３２は、対応するデータアプリケー
ションを起動し、ステップＳＴ４２０２において、必要
とするスループットを入力する。上記データアプリケー
ション手段３２は、対応するＥＧＡ方式によるアライメ
ント信号処理と同一プロセスの過去一定枚数（例えば、
５０枚）のＥＧＡ方式によるアライメント信号処理結果
（ウエハ１枚あたりのアライメント処理時間及びウエハ
ステージの位置決め時間）を、データ入出力手段３４を
介して格納装置４から読み出し、上記一定枚数分の上記
一定枚数分のＥＧＡ方式によるアライメント計測時間
（アライメント処理時間＋ウエハステージの位置決め時
間）の平均値を求め（ステップＳＴ４２０３）、上記一
定枚数分の上記一定枚数分の露光時間の平均値を求める
（ステップＳＴ４２０３）。そして、ステップＳＴ４２
０６において、現状のスループット（単位時間内に処理
できる基板等のワーク数量：アライメント計測時間と露
光時間との合計である総合処理時間の単位処理時間内に
処理できる露光ショット数）が仕様値と比較して余裕が
あるか否かを判断し、余裕があると判断した場合は（ス
テップＳＴ４２０６：ＹＥＳ）、アプリケーション手段
３２は、上記スループットを通信バッファＢ３に書き込
み、露光装置本体部２の通信バッファＢ２を介して露光
装置本体部２に送信する。

【０１３３】すると、露光装置本体部２は、処理装置３
から送信されてきたスループットを受信し、ステップＳ
４２０７において、上記スループットに基づき、パラメ
ータテーブル２４のアライメント計測回数を増加し、露
光時の位置決め許容値を小さくする。

【０１３４】上述のように、本発明の実施の形態を、図
面を参照しながら説明してきたが、本発明は、ステップ
・アンド・スキャン方式の投影露光装置、一括露光型の
投影露光装置にも適用できると共に、投影光学系を使用
しないプロキシミティ方式の露光装置にも適用できる。
また、露光装置のみならず、ウエハ等を位置決めするた
めのステージを使用する検査装置、又はリペア装置等に
用いてもよい。

【０１３５】また、本発明は、その機能が実行されるの
であれば、上述の実施の形態に限定されることなく、単
体の装置であっても、複数の装置からなるシステムある
いは統合装置であっても、ＬＡＮ、ＷＡＮ等のネットワ
ークを介して処理が行なわれるシステムであっても本発
明を適用できることは言うまでもない。

【０１３６】また、バスに接続されたＣＰＵ、ＲＯＭや
ＲＡＭのメモリ、入力装置、出力装置、外部記録装置、
媒体駆動装置、可搬記録媒体、ネットワーク接続装置で
構成されるシステムでも実現できる。すなわち、前述し
てきた実施の形態のシステムを実現するソフトウェアの
プログラムコードを記録したＲＯＭやＲＡＭのメモリ、
外部記録装置、可搬記録媒体を、システムあるいは装置
に供給し、そのシステムあるいは装置のコンピュータが
プログラムコードを読み出し実行することによっても、
達成されることは言うまでもない。

【０１３７】この場合、記録媒体から読み出されたプロ
グラムコード自体が本発明の新規な機能を実現すること
になり、そのプログラムコードを記録した可搬記録媒体
等は本発明を構成することになる。

【０１３８】プログラムコードを供給するための可搬記
録媒体としては、例えば、フロッピーディスク、ハード
ディスク、光ディスク、光磁気ディスク、ＣＤ−ＲＯ
Ｍ、ＣＤ−Ｒ、ＤＶＤ−ＲＯＭ、ＤＶＤ−ＲＡＭ、磁気
テープ、不揮発性のメモリーカード、ＲＯＭカード、電
子メールやパソコン通信等のネットワーク接続装置（言
い換えれば、通信回線）を介して記録した種々の記録媒
体などを用いることができる。

【０１３９】また、コンピュータがメモリ上に読み出し
たプログラムコードを実行することによって、前述した
実施の形態の機能が実現される他、そのプログラムコー
ドの指示に基づき、コンピュータ上で稼動しているＯＳ
などが実際の処理の一部または全部を行ない、その処理
によっても前述した実施の形態の機能が実現される。

【０１４０】さらに、可搬型記録媒体から読み出された
プログラムコードが、コンピュータに挿入された機能拡
張ボードやコンピュータに接続された機能拡張ユニット
に備わるメモリーに書き込まれた後、そのプログラムコ
ードの指示に基づき、その機能拡張ボードや機能拡張ユ
ニットに備わるＣＰＵなどが実際の処理の一部または全
部を行ない、その処理によっても前述した実施の形態の
機能が実現され得る。

【０１４１】すなわち、本発明は、以上に述べた実施の
形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱し
ない範囲内で種々の構成または形状を取ることが出来
る。

【０１４２】

【発明の効果】以上説明してきたように、本発明によれ
ば、露光装置が露光プロセスを繰り返していく過程にお
いて、制御パラメータを適正な値に自動調整していくこ
とができるので、より精密なエラー検出を行なうことが
でき、不良製品（不良チップ）を減少することができ
る。また、経時時間を検出することができ、メンテナン
スの時期を適正に判断することができる。また、アライ
メント計測時間やフォーカス計測時間等の処理時間を検
出し、最適な精度と処理時間で露光を行なうことができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態における露光装置の概略図
である。

【図２】本発明の適用するのに好適な露光装置本体部の
概略構成図である。

【図３】ウエハマークＷＭｙの検出を説明するための図
である。

【図４】本発明を適用するのに好適な露光装置のハード
ウエア構成を説明するための概略構成図である。

【図５】光電検出器１１ｙが出力した交流信号ＳＤｗの
波形（ノイズ成分等を含まない通常の波形）を示す図で
ある。

【図６】光電検出器１１ｙが出力した交流信号ＳＤｗの
波形（レジスト層での薄膜干渉やウエハマークのだれ等
が原因で振幅の小さくなった波形）を示す図である。

【図７】光電検出器１１ｙが出力した交流信号ＳＤｗの
波形（スペックルにより位相の位置ずれを伴った波形）
を示す図である。

【図８】光電検出器１１ｙが出力した光電信号ＳＤｉの
波形（ノイズ成分等を含まない通常の波形）を示す図で
ある。

【図９】光電検出器１１ｙが出力した光電信号ＳＤｉの
波形（スペックル等による回折光（ノイズ成分）が原因
で信号強度が低くなった波形）を示す図である。

【図１０】光電検出器１１ｙが出力した光電信号ＳＤｉ
の波形（ノイズ成分等を含まない通常の波形）の対称性
を説明するための図である。

【図１１】光電検出器１１ｙが出力した光電信号ＳＤｉ
の波形（ウエハ処理プロセスにおけるエッチング工程等
によるウエハマークの破壊やレジスト層の塗布むら等が
原因で非対称）の対称性を説明するための図である。

【図１２】撮像素子４９により観察される指標マーク２
８ａとウエハマークＷＭｙとを示す図である。

【図１３】撮像素子４９からＦＩＡ演算ユニット５０に
出力される画像信号の波形を示す図である。

【図１４】露光装置本体部２から処理装置３へのデータ
通信を説明するための図である。

【図１５】処理装置３の動作の概略を説明するためのフ
ローチャートである。

【図１６】ウエハアライメント計測の動作を説明するた
めのフローチャートである。

【図１７】ウエハアライメント計測に係るデータベース
アプリケーションの動作を説明するためのフローチャー
トである。

【図１８】ウエハアライメントのためのキャリブレーシ
ョン計測の動作を説明するためのフローチャートであ
る。

【図１９】ウエハアライメントのためのキャリブレーシ
ョン計測に係るデータベースアプリケーションの動作を
説明するためのフローチャートである。

【図２０】ウエハアライメント計測（信号強度）の動作
を説明するためのフローチャートである。

【図２１】ウエハアライメント計測（信号強度）に係る
データベースアプリケーションの動作を説明するための
フローチャートである。

【図２２】ウエハアライメント計測の動作を説明するた
めのフローチャートである。

【図２３】ウエハアライメント計測に係るデータベース
アプリケーションの動作を説明するためのフローチャー
トである。

【図２４】ＬＳＡ系計測部によるウエハアライメント計
測に係るデータベースアプリケーションの動作を説明す
るためのフローチャートである。

【図２５】ＥＧＡ方式によるウエハアライメント計測の
動作を説明するためのフローチャートである。

【図２６】ＥＧＡ方式によるウエハアライメント計測に
係るデータベースアプリケーションの動作を説明するた
めのフローチャートである。

【図２７】ラフサーチアライメント計測の動作を説明す
るためのフローチャートである。

【図２８】ラフサーチアライメント計測に係るデータベ
ースアプリケーションの動作を説明するためのフローチ
ャートである。

【図２９】フォーカス計測（フォーカス位置（Ｚ位
置）、ピッチング距離、ローリング距離）の動作を説明
するためのフローチャートである。

【図３０】フォーカス計測（フォーカス位置（Ｚ位
置）、ピッチング距離、ローリング距離）に係るデータ
ベースアプリケーションの動作を説明するためのフロー
チャートである。

【図３１】プリアライメント計測の動作を説明するため
のフローチャートである。

【図３２】プリアライメント計測に係るデータベースア
プリケーションの動作を説明するためのフローチャート
である。

【図３３】フォーカス計測のためのキャリブレーション
の動作を説明するためのフローチャートである。

【図３４】フォーカス計測のためのキャリブレーション
に係るデータベースアプリケーションの動作を説明する
ためのフローチャートである。

【図３５】フォーカス大気圧相関の動作を説明するため
のフローチャートである。

【図３６】フォーカス大気圧相関に係るデータベースア
プリケーションの動作を説明するためのフローチャート
である。

【図３７】スループットの動作を説明するためのフロー
チャートである。

【図３８】スループットに係るデータベースアプリケー
ションの動作を説明するためのフローチャートである。

【符号の説明】

１露光装置２露光装置本体部３処理装置４格納装置５ＬＩＡ光学系６ＬＳＡ光学系７ビームスプリッター８ｙ偏光ビームスプリッター１０ｙ対物レンズ１１ｙ光電検出器１２２光束周波数シフター１３媒体駆動装置１４可搬記録媒体１５、１６入力装置１７、１８表示装置１９アライメント信号処理回路２０照明光源２１露光光学系２２制御手段２３計測装置２４パラメータテーブル２５比較手段２６判別手段２７報知手段２８指標板２８ａ指標マーク２９リレーレンズ系３０ミラー３１稼動情報取得手段３２アプリケーション手段３３制御部３４データ入出力手段３５対物レンズ３６プリズムミラー３７レンズ系４１レーザ光源４２偏光ビームスプリッター４７ハーフミラー４８リレーレンズ系４９撮像素子５０ＦＩＡ演算ユニット５１ミラー２０１バス２０２ＣＰＵ２０３内部メモリ２０４ディスプレイコントローラ２０５ＫＢコントローラ３０１バス３０２ＣＰＵ３０３内部メモリ３０４ディスプレイコントローラ３０５ＫＢコントローラ３０６ＦＤＤコントローラ３０７ＤＢコントローラＡＬ照明光ＡＸ光軸ＡＬｐＬＩＡ用ビームＡＬｓＬＳＡ用ビームＡＬｐ１Ｐ偏光ビームＡＬｐ２Ｓ偏光ビームＢ２、Ｂ３通信バッファＢＴＬ ±１次回折光（干渉光）ＣＬメインコンデンサーレンズＤＲ位置情報ＩＬ照明光ＬＧレーザ干渉計Ｍ１、Ｍ２、ＭＹ１、ＭＹ２ミラーＭＲ移動鏡ＭＴウエハ駆動部ＰＡパターン領域ＰＬ投影レンズＲレチクルＲＳレチクルステージＳＰスポットビームＳＤｉ、ＳＤｒ光電信号ＳＤｗ交流信号ＷウエハＷＳウエハステージＷＭｙウエハマーク

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】マスクのパターンを基板上に投影すること
によって該基板を露光する露光装置において、該基板を露光処理する際の該露光装置の稼動情報を取得
する計測装置と、以前の露光処理時において該計測装置により取得された
稼動情報を格納する格納装置と、次に露光処理する基板に対して該計測装置により取得さ
れた稼動情報と該格納装置に格納された稼動情報とを比
較する比較手段と、該比較手段による比較結果に基づいて、次に露光処理す
る基板に対して得られた稼動情報が適正か否かを判別す
る判別手段とを備えることを特徴とする露光装置。
【請求項２】前記稼動情報は、前記基板上に形成された
マークの位置計測時、又は該基板の面位置計測時の位置
情報の少なくとも一方を含むことを特徴とする請求項１
に記載の露光装置。
【請求項３】前記位置情報は、前記基板の位置計測値、
又は該基板の位置計測時における検出信号の特性に関す
る情報の少なくとも一方を含むことを特徴とする請求項
２に記載の露光装置。
【請求項４】前記比較手段は、前記計測装置により取得
された最新の稼動情報と前記格納装置に既に格納されて
いる過去の稼動情報とを統計的に比較することを特徴と
する請求項１乃至３の何れか１項に記載の露光装置。
【請求項５】前記計測装置は、前記比較結果が適正では
ないと判別された時に、前記基板の位置情報を再度取得
することを特徴とする請求項２又は３に記載の露光装
置。
【請求項６】前記比較結果が適正ではないと判別された
時に、前記計測装置又は前記露光装置の動作パラメータ
を補正する制御手段をさらに有することを特徴とする請
求項１乃至４の何れか１項に記載の露光装置。
【請求項７】前記格納装置は、前記基板の露光プロセス
に対応して前記稼動情報を格納することを特徴とする請
求項１乃至６の何れか１項に記載の露光装置。
【請求項８】前記計測装置は、前記マーク上に照射した
レーザー光の走査によって生じた反射光を検出すること
により該マークの位置を計測する第１の計測手段と、該
マーク上にハロゲン光を照射し、該マークを画像情報と
して取り込み、画像処理により該マークの位置を計測す
る第２の計測手段と、周波数の僅かに異なるレーザー光
を２方向から回折格子状の該マークに照射し、２つの回
折光を干渉させ、その位相から該マークの位置を計測す
る第３の計測手段との少なくとも１つを備えることを特
徴とする請求項１乃至７の何れか１項に記載の露光装
置。
【請求項９】マスクのパターンを基板上に投影すること
によって該基板を露光する露光方法において、第１の基板を露光処理する際の稼動情報を取得し、該取得された稼動情報を露光処理した装置内のデータベ
ース上に蓄積し、前記第１の基板の露光処理後、第２の基板を同一の装置
で露光処理する際に、取得された稼動情報と該データベ
ース上に蓄積された複数の移動情報とを比較し、該比較した結果に基づいて前記第２の基板に対して得ら
れた該稼動情報が適正か否かを判別することを特徴とす
る露光方法。
【請求項１０】前記稼動情報は、前記基板上に形成され
たマークの位置計測時、又は該基板の面位置計測時の位
置情報の少なくとも一方を含むことを特徴とする請求項
９に記載の露光方法。
【請求項１１】前記位置情報は、前記基板の位置計測
値、又は該基板の位置計測時における検出信号の特性に
関する情報の少なくとも一方を含むことを特徴とする請
求項１０に記載の露光方法。
【請求項１２】前記比較工程は、最新の稼動情報と前記
データベース上に既に格納されている過去の稼動情報と
を統計的に比較することを特徴とする請求項９乃至１１
の何れか１項に記載の露光方法。
【請求項１３】前記比較結果が適正ではないと判別され
た時に、前記基板の位置情報を再度取得することを特徴
とする請求項１０又は１１に記載の露光方法。
【請求項１４】前記比較結果が適正ではないと判別され
た時に、さらに、前記稼動情報を取得するための動作パ
ラメータを補正することを特徴とする請求項９乃至１２
の何れか１項に記載の露光方法。
【請求項１５】前記格納工程は、前記基板の露光プロセ
スに対応して前記稼動情報を格納することを特徴とする
請求項９乃至１４の何れか１項に記載の露光方法。