JP2001262400A - メッキ処理工程における排水処理装置及び処理方法 - Google Patents
メッキ処理工程における排水処理装置及び処理方法Info
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- JP2001262400A JP2001262400A JP2000070834A JP2000070834A JP2001262400A JP 2001262400 A JP2001262400 A JP 2001262400A JP 2000070834 A JP2000070834 A JP 2000070834A JP 2000070834 A JP2000070834 A JP 2000070834A JP 2001262400 A JP2001262400 A JP 2001262400A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 メッキ処理工程において発生する洗浄処理液
を、クローズドシステムによってほとんど再利用すると
ともに、処理工程の途中に設けた蒸発装置における余熱
を、逆浸透膜機構の保温用に使用するようにした。 【解決手段】 メッキ処理工程において発生する洗浄処
理液を貯留する原水槽４、前記原水槽４に貯留する濃縮
液を処理する逆浸透膜機構７，１２、原水槽４から逆浸
透膜機構に供給される濃縮液の一部が供給される蒸発装
置２１を少なくとも有し、前記蒸発装置２１から発生す
る余熱を前記逆浸透膜機構の保温用として使用するとと
もに、前記逆浸透膜機構の濃縮液を原水槽４に戻して循
環流させるようにした。
を、クローズドシステムによってほとんど再利用すると
ともに、処理工程の途中に設けた蒸発装置における余熱
を、逆浸透膜機構の保温用に使用するようにした。 【解決手段】 メッキ処理工程において発生する洗浄処
理液を貯留する原水槽４、前記原水槽４に貯留する濃縮
液を処理する逆浸透膜機構７，１２、原水槽４から逆浸
透膜機構に供給される濃縮液の一部が供給される蒸発装
置２１を少なくとも有し、前記蒸発装置２１から発生す
る余熱を前記逆浸透膜機構の保温用として使用するとと
もに、前記逆浸透膜機構の濃縮液を原水槽４に戻して循
環流させるようにした。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、メッキ処理工程に
おいて発生する洗浄処理液を、クローズドシステムによ
ってほとんど再利用するとともに、処理工程の途中に設
けた蒸発装置における余熱を、逆浸透膜機構の保温用に
使用するようにしたメッキ処理工程における排水処理方
法に関するものである。
おいて発生する洗浄処理液を、クローズドシステムによ
ってほとんど再利用するとともに、処理工程の途中に設
けた蒸発装置における余熱を、逆浸透膜機構の保温用に
使用するようにしたメッキ処理工程における排水処理方
法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】周知のように、金属のメッキ処理におい
ては多量の洗浄液を使用するが、この洗浄液を処理する
場合、従来ではオープンシステムを使用し、一部の洗浄
液を循環流させているが、ほとんどの洗浄液を中和凝沈
層に供給してフィルタープレスを通過させ、その処理液
を排水している。
ては多量の洗浄液を使用するが、この洗浄液を処理する
場合、従来ではオープンシステムを使用し、一部の洗浄
液を循環流させているが、ほとんどの洗浄液を中和凝沈
層に供給してフィルタープレスを通過させ、その処理液
を排水している。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、メッキ洗浄液
には高濃度に不純物や不純組成物を含んでいるので、排
水する場合には著しく高性能の処理手段によって処理し
てからでなければ排水することができない。また、従来
の排水処理方法では不純組成物を確実に、全て処理でき
ないので、排水公害が発生する危険性が高いものであっ
た。したがって、本発明の目的とするところは、クロー
ズドシステムによって洗浄処理液をほとんど循環流させ
て再利用することにより排水液を著しく減少させ、また
蒸発装置の余熱で逆浸透膜機構を保温することにより、
前記逆浸透膜機構の機能を維持させるようにしたもので
ある。
には高濃度に不純物や不純組成物を含んでいるので、排
水する場合には著しく高性能の処理手段によって処理し
てからでなければ排水することができない。また、従来
の排水処理方法では不純組成物を確実に、全て処理でき
ないので、排水公害が発生する危険性が高いものであっ
た。したがって、本発明の目的とするところは、クロー
ズドシステムによって洗浄処理液をほとんど循環流させ
て再利用することにより排水液を著しく減少させ、また
蒸発装置の余熱で逆浸透膜機構を保温することにより、
前記逆浸透膜機構の機能を維持させるようにしたもので
ある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成させるた
め、本発明は、メッキ処理工程において発生する洗浄処
理液を貯留する原水槽、前記原水槽に貯留する濃縮液を
処理する逆浸透膜機構、原水槽から逆浸透膜機構に供給
される濃縮液の一部が供給される蒸発装置を少なくとも
有し、前記蒸発装置から発生する余熱を前記逆浸透膜機
構の保温用として使用するとともに、前記逆浸透膜機構
の濃縮液を原水槽に戻して循環流させるようにしたこと
を特徴とするメッキ処理工程における排水処理装置、及
びメッキ処理工程において発生する洗浄処理液を原水槽
に供給して貯留し、原水槽に貯留されている濃縮液の一
部を逆浸透膜機構に供給するとともに他の一部を前記原
水槽と蒸発装置に供給し、前記蒸発装置では前記濃縮液
をガスと固体分に分離し、ガスを液化して前記原水槽に
供給するとともに固形分を回収して再利用するようにし
たことを特徴とするメッキ処理工程における排水処理方
法を提供するものである。
め、本発明は、メッキ処理工程において発生する洗浄処
理液を貯留する原水槽、前記原水槽に貯留する濃縮液を
処理する逆浸透膜機構、原水槽から逆浸透膜機構に供給
される濃縮液の一部が供給される蒸発装置を少なくとも
有し、前記蒸発装置から発生する余熱を前記逆浸透膜機
構の保温用として使用するとともに、前記逆浸透膜機構
の濃縮液を原水槽に戻して循環流させるようにしたこと
を特徴とするメッキ処理工程における排水処理装置、及
びメッキ処理工程において発生する洗浄処理液を原水槽
に供給して貯留し、原水槽に貯留されている濃縮液の一
部を逆浸透膜機構に供給するとともに他の一部を前記原
水槽と蒸発装置に供給し、前記蒸発装置では前記濃縮液
をガスと固体分に分離し、ガスを液化して前記原水槽に
供給するとともに固形分を回収して再利用するようにし
たことを特徴とするメッキ処理工程における排水処理方
法を提供するものである。
【０００５】また本発明によれば、前記メッキ処理工程
における排水処理方法において、蒸発装置が、原水槽か
らの濃縮液を蒸発させた熱の余熱を逆浸透膜機構の保温
用として利用するようにしたことを特徴とする。
における排水処理方法において、蒸発装置が、原水槽か
らの濃縮液を蒸発させた熱の余熱を逆浸透膜機構の保温
用として利用するようにしたことを特徴とする。
【０００６】また本発明によれば、前記メッキ処理工程
における排水処理方法において、逆浸透膜機構を２段階
に設置し、一次逆浸透膜機構から排出する処理液の一部
を二次逆浸透膜機構と前記原水槽に供給することによ
り、蒸発装置に供給する濃縮液を減少させて蒸発装置で
の熱エネルギーを低減させるようにしたことを特徴とす
る。
における排水処理方法において、逆浸透膜機構を２段階
に設置し、一次逆浸透膜機構から排出する処理液の一部
を二次逆浸透膜機構と前記原水槽に供給することによ
り、蒸発装置に供給する濃縮液を減少させて蒸発装置で
の熱エネルギーを低減させるようにしたことを特徴とす
る。
【０００７】
【発明の実施の形態】以下に本発明を図面に示す実施の
態様に基づいて説明する。図１は本発明の概略系統図、
図２は蒸発装置の概略縦断正面図である。
態様に基づいて説明する。図１は本発明の概略系統図、
図２は蒸発装置の概略縦断正面図である。
【０００８】本発明のメッキ処理工程における排水処理
装置１としては、複数のメッキ処理工程Ｍ１、Ｍ２、Ｍ
３を有する。図面に示す実施例によれば、第１メッキ処
理工程Ｍ１ではメッキ素材に銅メッキを、第２メッキ処
理工程Ｍ２ではニッケルメッキを、第３メッキ処理工程
Ｍ３ではスズメッキを、それぞれ処理する態様を示して
いる。
装置１としては、複数のメッキ処理工程Ｍ１、Ｍ２、Ｍ
３を有する。図面に示す実施例によれば、第１メッキ処
理工程Ｍ１ではメッキ素材に銅メッキを、第２メッキ処
理工程Ｍ２ではニッケルメッキを、第３メッキ処理工程
Ｍ３ではスズメッキを、それぞれ処理する態様を示して
いる。
【０００９】各メッキ処理工程Ｍ１、Ｍ２、Ｍ３にはそ
れぞれ水洗用の洗浄液の供給路２を有し、メッキ処理さ
れたメッキ素材を洗浄する。そして、各メッキ処理工程
で発生する洗浄処理液は、第１排水路３を伝わって原水
槽４に供給される。なお、前記原水槽４に供給される洗
浄処理液は、メッキによる組成物が高濃度に含有する濃
縮液である。
れぞれ水洗用の洗浄液の供給路２を有し、メッキ処理さ
れたメッキ素材を洗浄する。そして、各メッキ処理工程
で発生する洗浄処理液は、第１排水路３を伝わって原水
槽４に供給される。なお、前記原水槽４に供給される洗
浄処理液は、メッキによる組成物が高濃度に含有する濃
縮液である。
【００１０】前記原水槽４の洗浄処理液は、第１ポンプ
Ｐ１の駆動によって第１流路５を通過し、その途中でプ
レフィルター機構６を通過して含有する夾雑物が除去さ
れて第１逆浸透膜機構７に供給される。しかし、前記第
１逆浸透膜機構７の手前の第１流路５には、第１分岐路
８が接続されている。
Ｐ１の駆動によって第１流路５を通過し、その途中でプ
レフィルター機構６を通過して含有する夾雑物が除去さ
れて第１逆浸透膜機構７に供給される。しかし、前記第
１逆浸透膜機構７の手前の第１流路５には、第１分岐路
８が接続されている。
【００１１】前記第１逆浸透膜機構７を通過して組成物
と化学物質とが分離された処理液は、第２流路９を伝わ
って一次処理水槽１０に供給され、さらに第２ポンプＰ
２の駆動により第３流路１１を通過して第２逆浸透膜機
構１２に供給されるが、第２逆浸透膜機構１２の手前の
第３流路１１には第２分岐路１３が接続され、この第２
分岐路１３の先端部は前記原水槽４に接続されている。
と化学物質とが分離された処理液は、第２流路９を伝わ
って一次処理水槽１０に供給され、さらに第２ポンプＰ
２の駆動により第３流路１１を通過して第２逆浸透膜機
構１２に供給されるが、第２逆浸透膜機構１２の手前の
第３流路１１には第２分岐路１３が接続され、この第２
分岐路１３の先端部は前記原水槽４に接続されている。
【００１２】そして、前記第２逆浸透膜機構１２を通過
した処理液は、第４流路１４を流れて処理水槽１５に供
給される。この処理水槽１５に供給される処理水は、第
１逆浸透膜機構７，一次処理水槽１０及び第２逆浸透膜
機構１２によって十分に処理されているので、第３ポン
プＰ３の駆動によって前記した供給路２に供給され、各
メッキ処理工程での洗浄液として利用される。
した処理液は、第４流路１４を流れて処理水槽１５に供
給される。この処理水槽１５に供給される処理水は、第
１逆浸透膜機構７，一次処理水槽１０及び第２逆浸透膜
機構１２によって十分に処理されているので、第３ポン
プＰ３の駆動によって前記した供給路２に供給され、各
メッキ処理工程での洗浄液として利用される。
【００１３】また本発明によれば、前記一次処理水槽１
０には第１環流路１６を接続し、前記第１環流路１６の
先端を前記第１流路５の第１ポンプＰ１の流入側に接続
して一次処理水槽１０の液を第１流路５に戻すことがで
きる。このように一次処理水槽１０の液を第１流路５に
戻すのは、作業終了時に、第１逆浸透膜機構７の逆浸透
膜中に高濃度の処理液が停留して膜が目詰まりするのを
防止するために、濃度の薄い一次処理槽１０の処理液で
第１逆浸透膜機構７の逆浸透膜を透過洗浄するととも
に、濃度の薄い処理液を第１逆浸透膜機構７に満たすこ
とにより、逆浸透膜の寿命を延ばすようにしたことにあ
る。
０には第１環流路１６を接続し、前記第１環流路１６の
先端を前記第１流路５の第１ポンプＰ１の流入側に接続
して一次処理水槽１０の液を第１流路５に戻すことがで
きる。このように一次処理水槽１０の液を第１流路５に
戻すのは、作業終了時に、第１逆浸透膜機構７の逆浸透
膜中に高濃度の処理液が停留して膜が目詰まりするのを
防止するために、濃度の薄い一次処理槽１０の処理液で
第１逆浸透膜機構７の逆浸透膜を透過洗浄するととも
に、濃度の薄い処理液を第１逆浸透膜機構７に満たすこ
とにより、逆浸透膜の寿命を延ばすようにしたことにあ
る。
【００１４】本発明によれば、前記第１分岐路８の先端
は、さらに分岐して第３分岐路１７と第４分岐路１８と
が接続してあり、前記第３分岐路１７の先端は前記原水
槽４に接続され、第４分岐路１８の先端は貯留槽１９に
接続されている。したがって、第１流路５を通過して第
１逆浸透膜機構７を入ろうとする処理液は、第１分岐路
８から第３分岐路１７または第４分岐路１８を流れて原
水槽４または貯留槽１９に供給される。これらの分岐路
を流れる処理液の流量は、各分岐路の分岐点に設けた調
整バルブによって手動で、若しくは電子的、電磁的に調
節され、適量が各分岐路を流れたり、第１逆浸透膜機構
７に供給される。また、前記第３流路１１を流れる処理
液も、前記と同様に流量調整されて第２逆浸透膜機構１
２に供給されたり、第２分岐路１３を流れて原水槽４に
供給される。
は、さらに分岐して第３分岐路１７と第４分岐路１８と
が接続してあり、前記第３分岐路１７の先端は前記原水
槽４に接続され、第４分岐路１８の先端は貯留槽１９に
接続されている。したがって、第１流路５を通過して第
１逆浸透膜機構７を入ろうとする処理液は、第１分岐路
８から第３分岐路１７または第４分岐路１８を流れて原
水槽４または貯留槽１９に供給される。これらの分岐路
を流れる処理液の流量は、各分岐路の分岐点に設けた調
整バルブによって手動で、若しくは電子的、電磁的に調
節され、適量が各分岐路を流れたり、第１逆浸透膜機構
７に供給される。また、前記第３流路１１を流れる処理
液も、前記と同様に流量調整されて第２逆浸透膜機構１
２に供給されたり、第２分岐路１３を流れて原水槽４に
供給される。
【００１５】前記貯留槽１９には第５流路２０が接続し
てあり、第５流路２０の先端には蒸発装置２１が接続し
てある。前記蒸発装置２１は、図２で示すように密閉さ
れた蒸発槽２２の外周面に加熱機構２３を設けてあり、
また蒸発槽２２の内部には、供給される液体の攪拌機構
２４が設けてある。
てあり、第５流路２０の先端には蒸発装置２１が接続し
てある。前記蒸発装置２１は、図２で示すように密閉さ
れた蒸発槽２２の外周面に加熱機構２３を設けてあり、
また蒸発槽２２の内部には、供給される液体の攪拌機構
２４が設けてある。
【００１６】前記加熱機構２３は、蒸発槽２２の外周面
に設けた加熱室２５と、この加熱室２５の内部に設けた
螺旋状のスチームパイプ２６とを有し、貯水タンク２７
の水を加熱してスチームにするボイラー２８から延長す
るスチーム供給路２９を前記スチームパイプ２６の上端
に接続するとともに、前記スチームパイプ２６の下端を
スチーム排出路３０に接続する。そして、前記スチーム
排出路３０の途中には加温機構３１を設けてあり、先端
部は前記貯水タンク２７に接続されている。
に設けた加熱室２５と、この加熱室２５の内部に設けた
螺旋状のスチームパイプ２６とを有し、貯水タンク２７
の水を加熱してスチームにするボイラー２８から延長す
るスチーム供給路２９を前記スチームパイプ２６の上端
に接続するとともに、前記スチームパイプ２６の下端を
スチーム排出路３０に接続する。そして、前記スチーム
排出路３０の途中には加温機構３１を設けてあり、先端
部は前記貯水タンク２７に接続されている。
【００１７】したがって、貯留槽１９の内部の処理液
は、第５流路２０から蒸発装置２１の蒸発槽２２に供給
され、蒸発槽２２の内部では攪拌機構２４により高速攪
拌されて遠心力により蒸発槽２２の内壁面を上昇し、加
熱機構２３で十分に加熱されるので速やかに気化して蒸
発槽２２の上面に接続した第６流路３２を上昇する。ま
た、前記加温機構３１では、蒸発装置２１を加熱したス
チームがスチーム排出路３０を通過しているときに余熱
として供給されるので、十分に加温能力がある。
は、第５流路２０から蒸発装置２１の蒸発槽２２に供給
され、蒸発槽２２の内部では攪拌機構２４により高速攪
拌されて遠心力により蒸発槽２２の内壁面を上昇し、加
熱機構２３で十分に加熱されるので速やかに気化して蒸
発槽２２の上面に接続した第６流路３２を上昇する。ま
た、前記加温機構３１では、蒸発装置２１を加熱したス
チームがスチーム排出路３０を通過しているときに余熱
として供給されるので、十分に加温能力がある。
【００１８】しかも、蒸発槽２２の内部の液は気化によ
って次第に含有成分が濃縮されるので、特に金属成分が
析出してスラッジが貯留した状態では底面のドレーン２
２’から排出して再利用することができる。
って次第に含有成分が濃縮されるので、特に金属成分が
析出してスラッジが貯留した状態では底面のドレーン２
２’から排出して再利用することができる。
【００１９】そして本発明によれば、前記加温機構３１
は、前記第１逆浸透膜機構７や第２逆浸透膜機構１２を
収納する部屋であったり、両逆浸透膜機構に温風を吹き
付ける送風機であって、特に両逆浸透膜機構の加温装置
である。したがって、冬期や寒冷時においては、両逆浸
透膜機構を加温して室温程度を維持することができるの
で、温度低下による両逆浸透膜機構の機能を低下させる
ことがない。
は、前記第１逆浸透膜機構７や第２逆浸透膜機構１２を
収納する部屋であったり、両逆浸透膜機構に温風を吹き
付ける送風機であって、特に両逆浸透膜機構の加温装置
である。したがって、冬期や寒冷時においては、両逆浸
透膜機構を加温して室温程度を維持することができるの
で、温度低下による両逆浸透膜機構の機能を低下させる
ことがない。
【００２０】前記第５流路３２の途中にはサクション機
構Ｓを設けてあり、先端は熱交換機構３３に接続されて
いる。そして、熱交換機構３３にはクーリングタワー３
４による冷却水が循環流することができ、熱交換機構３
３から延在する第６流路３５は前記原水槽４に接続され
ている。
構Ｓを設けてあり、先端は熱交換機構３３に接続されて
いる。そして、熱交換機構３３にはクーリングタワー３
４による冷却水が循環流することができ、熱交換機構３
３から延在する第６流路３５は前記原水槽４に接続され
ている。
【００２１】したがって、前記サクション機構Ｓが駆動
すると蒸発槽２２の内部が減圧されるとともに内部の液
が気化したガスが吸引され、このガスが第５流路から熱
交換機構３３に供給されて液化し、第６流路３５から原
水槽４に供給されるので、原水槽４の内部に収容されて
いる濃縮された洗浄処理液を希釈することができる。
すると蒸発槽２２の内部が減圧されるとともに内部の液
が気化したガスが吸引され、このガスが第５流路から熱
交換機構３３に供給されて液化し、第６流路３５から原
水槽４に供給されるので、原水槽４の内部に収容されて
いる濃縮された洗浄処理液を希釈することができる。
【００２２】そして本発明によれば、サクション機構Ｓ
が駆動すると、蒸発槽２３の内部が減圧されるので沸点
が下降する。したがって、蒸発槽２３の内部が１００℃
以下であっても攪拌されている液体が気化するので、そ
の分だけ加熱温度を低くすることができ、ボイラー２８
での熱エネルギーを節約することができる。しかも、減
圧されているガスがサクション機構Ｓにより熱交換機構
３３に供給され、大気に曝されると液化しやすいので、
熱交換機構３３の冷却機能を低下することができ、クー
リングタワー３４の駆動を軽減することができる。
が駆動すると、蒸発槽２３の内部が減圧されるので沸点
が下降する。したがって、蒸発槽２３の内部が１００℃
以下であっても攪拌されている液体が気化するので、そ
の分だけ加熱温度を低くすることができ、ボイラー２８
での熱エネルギーを節約することができる。しかも、減
圧されているガスがサクション機構Ｓにより熱交換機構
３３に供給され、大気に曝されると液化しやすいので、
熱交換機構３３の冷却機能を低下することができ、クー
リングタワー３４の駆動を軽減することができる。
【００２３】本発明によれば、メッキ処理工程において
発生する洗浄処理液を原水槽に供給して貯留し、この洗
浄処理液の一部を逆浸透膜機構に供給するとともに他の
一部を前記原水槽と蒸発装置に供給し、前記蒸発装置で
は前記濃縮な洗浄処理液をガスと固体分に分離し、さら
にガスを液化して前記原水槽に供給するとともに固形分
を回収して再利用するようにしている。したがって、ク
ローズドシステムであって、排出する液体を著しく減少
することができ、廃液処理の公害等が発生することがな
い。
発生する洗浄処理液を原水槽に供給して貯留し、この洗
浄処理液の一部を逆浸透膜機構に供給するとともに他の
一部を前記原水槽と蒸発装置に供給し、前記蒸発装置で
は前記濃縮な洗浄処理液をガスと固体分に分離し、さら
にガスを液化して前記原水槽に供給するとともに固形分
を回収して再利用するようにしている。したがって、ク
ローズドシステムであって、排出する液体を著しく減少
することができ、廃液処理の公害等が発生することがな
い。
【００２４】そして、蒸発装置において、原水槽からの
洗浄処理液を蒸発させた熱の余熱を逆浸透膜機構の保温
用として利用することにより、低温では機能が減少する
逆浸透膜機構を常に高能力で作用させることができ、冬
期や寒冷時であってもクローズドシステムの内部におい
て高能力でメッキの洗浄処理液を処理することができ
る。
洗浄処理液を蒸発させた熱の余熱を逆浸透膜機構の保温
用として利用することにより、低温では機能が減少する
逆浸透膜機構を常に高能力で作用させることができ、冬
期や寒冷時であってもクローズドシステムの内部におい
て高能力でメッキの洗浄処理液を処理することができ
る。
【００２５】さらに、逆浸透膜機構を２段階に設置し、
一次逆浸透膜機構から排出する処理液の一部を二次逆浸
透膜機構と前記原水槽に供給することにより、蒸発装置
に供給する濃縮した処理液を減少させて蒸発装置での熱
エネルギーを低減させることができるので、経済的効果
が著しく高いものとなる。
一次逆浸透膜機構から排出する処理液の一部を二次逆浸
透膜機構と前記原水槽に供給することにより、蒸発装置
に供給する濃縮した処理液を減少させて蒸発装置での熱
エネルギーを低減させることができるので、経済的効果
が著しく高いものとなる。
【００２６】
【発明の効果】以上要するに、本発明によれば逆浸透膜
機構に供給する洗浄処理液の一部を原水槽に戻したり蒸
発装置に供給し、蒸発装置では内部の洗浄処理液を気化
するとともにスラッジを排出させ、また気化した処理液
を原水槽に戻すようにしたので、処理液を最大限再利用
することができ、効率が著しく良好で低コストにメッキ
の洗浄処理液を処理することができる。そして、特にメ
ッキの洗浄処理液を有効に処理する逆浸透膜機構を蒸発
装置の余熱で加温することにより、常に逆浸透膜機構の
性能を確実に発揮することができ、従来では到底期待す
ることができない実用的で有用な装置や方法を提供する
ものである。
機構に供給する洗浄処理液の一部を原水槽に戻したり蒸
発装置に供給し、蒸発装置では内部の洗浄処理液を気化
するとともにスラッジを排出させ、また気化した処理液
を原水槽に戻すようにしたので、処理液を最大限再利用
することができ、効率が著しく良好で低コストにメッキ
の洗浄処理液を処理することができる。そして、特にメ
ッキの洗浄処理液を有効に処理する逆浸透膜機構を蒸発
装置の余熱で加温することにより、常に逆浸透膜機構の
性能を確実に発揮することができ、従来では到底期待す
ることができない実用的で有用な装置や方法を提供する
ものである。
【図１】本発明の概略系統図である。
【図２】蒸発装置の概略縦断正面図である。
１ 排水処理装置 ２ 供給路 ３ 排水路 ４ 原水槽 ５ 第１流路 ６ プレフィルター機構 ７ 第１逆浸透膜機構 ８ 第１分岐路 ９ 第２流路 １０ 一次処理液槽 １１ 第３流路 １２ 第２逆浸透膜機構 １３ 第２分岐路 １４ 第４流路 １５ 処理液槽 １６ 第１環流路 １７ 第３分岐路 １８ 第４分岐路 １９ 貯留槽 ２０ 第５流路 ２１ 蒸発装置 ２２ 蒸発槽 ２３ 加熱機構 ２４ 攪拌機構 ２５ 加熱室 ２６ スチームパイプ ２７ 貯水タンク ２８ ボイラー ２９ スチーム供給路 ３０ スチーム排出路 ３１ 加温機構 ３２ 第５流路 ３３ 熱交換機構 ３４ クーリングタワー ３５ 第６流路
Claims (4)
- 【請求項１】 メッキ処理工程において発生する洗浄処
理液を貯留する原水槽、前記原水槽に貯留する濃縮液を
処理する逆浸透膜機構、原水槽から逆浸透膜機構に供給
される濃縮液の一部が供給される蒸発装置を少なくとも
有し、前記蒸発装置から発生する余熱を前記逆浸透膜機
構の保温用として使用するとともに、前記逆浸透膜機構
の濃縮液を原水槽に戻して循環流させるようにしたこと
を特徴とするメッキ処理工程における排水処理装置。 - 【請求項２】 メッキ処理工程において発生する洗浄処
理液を原水槽に供給して貯留し、原水槽に貯留されてい
る濃縮液の一部を逆浸透膜機構に供給するとともに他の
一部を前記原水槽と蒸発装置に供給し、前記蒸発装置で
は前記濃縮液をガスと固体分に分離し、ガスを液化して
前記原水槽に供給するとともに固形分を回収して再利用
するようにしたことを特徴とするメッキ処理工程におけ
る排水処理方法。 - 【請求項３】 蒸発装置において、原水槽からの洗浄処
理液を蒸発させた熱の余熱を逆浸透膜機構の保温用とし
て利用するようにしたことを特徴とする請求項２に記載
のメッキ処理工程における排水処理方法。 - 【請求項４】 逆浸透膜機構を２段階に設置し、一次逆
浸透膜機構から排出する処理液の一部を二次逆浸透膜機
構と前記原水槽に供給することにより、蒸発装置に供給
する濃縮液を減少させて蒸発装置での熱エネルギーを低
減させるようにしたことを特徴とする請求項２または３
に記載のメッキ処理工程における排水処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000070834A JP2001262400A (ja) | 2000-03-14 | 2000-03-14 | メッキ処理工程における排水処理装置及び処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000070834A JP2001262400A (ja) | 2000-03-14 | 2000-03-14 | メッキ処理工程における排水処理装置及び処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001262400A true JP2001262400A (ja) | 2001-09-26 |
Family
ID=18589504
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000070834A Pending JP2001262400A (ja) | 2000-03-14 | 2000-03-14 | メッキ処理工程における排水処理装置及び処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001262400A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100496877B1 (ko) * | 2002-10-15 | 2005-06-22 | 삼원금속 주식회사 | 재활용 가능한 도금 수세수 처리장치와 그 처리방법 |
| KR100846349B1 (ko) | 2006-11-14 | 2008-07-15 | 주식회사 대우일렉트로닉스 | 스팀청소기용 브러시 |
-
2000
- 2000-03-14 JP JP2000070834A patent/JP2001262400A/ja active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100496877B1 (ko) * | 2002-10-15 | 2005-06-22 | 삼원금속 주식회사 | 재활용 가능한 도금 수세수 처리장치와 그 처리방법 |
| KR100846349B1 (ko) | 2006-11-14 | 2008-07-15 | 주식회사 대우일렉트로닉스 | 스팀청소기용 브러시 |
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