JP2001259409A - 放電装置 - Google Patents
放電装置Info
- Publication number
- JP2001259409A JP2001259409A JP2000074195A JP2000074195A JP2001259409A JP 2001259409 A JP2001259409 A JP 2001259409A JP 2000074195 A JP2000074195 A JP 2000074195A JP 2000074195 A JP2000074195 A JP 2000074195A JP 2001259409 A JP2001259409 A JP 2001259409A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- discharge
- supplied
- discharge device
- material supply
- supply means
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Landscapes
- Plasma Technology (AREA)
- Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
材料の混合比を任意に設定できる放電装置を提供するこ
と。 【解決手段】 この放電装置1は、放電手段2と、材料
供給手段3とを主な構成要素とする。放電手段2は、第
1の材料である放電ガスを放電させてプラズマを発生さ
せる。材料供給手段3は、プラズマ領域内に第2の材料
である液体を直接供給する。この材料供給手段3は、プ
ラズマ領域側に多孔質体31を配置した材料収納部32
を設け、この材料収納部32に外部の第2の材料供給源
6から配管7を介して第2の材料を供給し、電極21,
22の間で放電ガスを放電させて得られるプラズマ領域
中に多孔質体31の表面から第2の材料を蒸発させるこ
とにより供給している。
Description
料と液体材料とを反応させる放電装置に関するものであ
る。
るいは液体材料を放電させることにより反応させる装置
として知られており、例えば大気圧状態の4フッ化カー
ボン(CF4 )と水(H2 O)とを反応させるフッ化処
理装置の放電ユニットや、パーフロロカーボン(PF
C)と水(H2 O)とを反応させるパーフロロカーボン
ガス分解装置の放電ユニット、あるいは、稀ガスとパー
フロロカーボン(PFC)とを反応させるエッチングガ
スの放電ユニット等に適用することができるものであ
る。
る。この図5において、従来の放電装置101は、例え
ばCF4 などの放電ガス等の材料を供給するガス供給源
102と、バブリング装置などにより水などの液体材料
を気化し、放電ガスとともに供給する液供給源103
と、これら供給源102,103から供給される材料を
放電させて反応させる放電部104とを備え、放電部1
04において生成した処理ガスGが得られるようにして
いる。
供給されるガス材料及び液体材料は、放電部104に供
給される前に、あらかじめ混合したのち、大気圧状態で
放電部104に供給されるようになっている。
の放電装置101にあっては、液体材料は、放電ガス等
の材料により気化させたのちに、配管を介して放電部1
04まで輸送しているため、外気温の変化などにより、
その輸送の途中の配管内で冷却される部分があると配管
内で結露を生ずることがあり、放電部104に供給され
る液体材料の供給量が変動し、処理ガスGの濃度が変化
して表面処理などに影響を与える。
管にヒーターを設ければよいが、ヒーターという部品が
別途必要となる他、ヒーターの温度調節をするために自
動制御装置を設ける必要があり、しかも、運転中、ヒー
ターにエネルギーを供給しなければならなないという不
都合があった。また、上記従来の放電装置101にあっ
ては、液体材料と気体材料を混合する場合、液体の量は
飽和蒸気量以上に供給することができず、必然的に気体
の量に制限を受けてしまい、任意の混合比にすることが
できず、処理ガスGの濃度を充分に高めることができな
いという不都合もあった。
電部に確実に供給することができ、しかも、材料の混合
比を任意に設定できる放電装置を提供することを目的と
している。
に、本発明の放電装置は、気体材料と液体材料とを放電
させることにより反応させる放電装置において、気体か
らなる第1の材料を放電させてプラズマを発生させる放
電手段と、前記プラズマ領域内に液体からなる第2の材
料を直接供給する材料供給手段と、を備えたことを特徴
とするものである。
により第1の材料を放電させることにより得られたプラ
ズマ領域内に、前記材料供給手段から液体材料である第
2の材料を直接供給しているので、材料を確実に搬送で
き、しかも、第1の材料と第2の材料の混合比を所望の
値にすることができる。したがって、配管に結露を生じ
ないため、液体材料を安定して放電手段に供給でき、生
成される処理ガスの濃度を一定に保持することが容易と
なり、表面処理などを安定して行なうことができる。
域側に多孔質体を配置した材料収納部を設け、当該材料
収納部に外部から第2の材料を供給可能にし、かつ、前
記多孔質材の表面からプラズマ領域中に第2の材料が供
給される構造としている。これにより、多孔質体から液
体材料である第2の材料がしみだすため、第2の材料を
確実に供給することができる。
電極と多孔質体とで空間を形成し、前記多孔質体がプラ
ズマ領域側に配置されたものである。電極自体を材料収
納部とすることにより、放電手段の構造を簡素にするこ
とができる。そして、対向した一対の両方に材料収納部
を設けることにより、プラズマ領域に供給される第2の
材料の分布を比較的均一にすることができ、反応しない
材料をより低減することができる。さらに、材料収納部
に加熱部を設けて材料収納部内の第2の材料を所定の温
度に加熱することにより、液体からなる第2の材料の蒸
発量を制御することができ、生成される処理ガスの濃度
を精度よく制御することができる。
実施の形態を、添付図面に従って詳細に説明する。
電装置を示す概略系統図である。この図1において、放
電装置1は、大別して、CF4 等のガスからなる第1の
材料を放電させてプラズマを形成させる放電手段2と、
この放電手段2の内部に設けられ液体材料である第2の
材料をプラズマ領域内に直接供給できる材料供給手段3
とを備え、大気圧状態で供給された第1の材料と第2の
材料とが放電手段2においてプラズマ状態で反応するこ
とにより処理ガスGを得る装置である。
第1の材料供給源4から配管5を介して第1の材料が大
気圧状態で供給されている。また、前記放電手段2の内
部に設けられた材料供給手段3には、第2の材料供給源
6から配管7を介して第2の材料が供給されている。前
記放電部2にて第1の材料を放電させて得られたプラズ
マ領域内には、材料供給手段3から第2の材料が直接供
給されるようになっている。この放電手段4において第
1の材料と第2の材料とがプラズマ状態で反応すること
により、処理ガスGを得ることができる。
放電装置を構成する放電手段と材料供給手段を示す断面
図である。
手段2は、所定の面積を有する金属製板体の電極21、
22を所定の距離離して対向配置してなる。前記電極2
1には交流電源23の一方の出力端子が、前記電極22
にはアースを介して交流電源23の他方の出力端子がそ
れぞれ接続されることにより、電極21,22に交流電
源23から交流電圧が印加されるようになっている。
ズマ領域12の側に多孔質体31を配置した材料収納部
32を設け、当該材料収納部32に外部の第2の材料供
給源6から配管7を介して第2の材料を供給可能にし、
かつ、前記多孔質材31の表面からプラズマ領域12の
中に第2の材料が直接供給される構造になっている。
図2に示すように、電極21と多孔質体31とで空間3
3を形成し、前記多孔質体31がプラズマ領域12(電
極22)側に配置されるようにしたものである。さらに
詳説すると、この電極21は凹状に形成されており、か
つ、この電極21の凹部開口面を覆うように多孔質体3
1を固着して空間33を形成したものである。また、こ
の空間33には、液体からなる第2の材料が収納され
る。また、この材料供給手段3に使用する多孔質体31
は、アルミナの多孔質や穴明きプレート等を含む。さら
に、この多孔質体31は、金属、誘電体と共用してもよ
い。
作を説明する。第1の材料である放電ガスは、第1の材
料供給源4から配管5を介して放電手段2の電極21,
22間に供給される。放電手段2の電極21,22には
交流電源23から交流電力が供給されており、この電極
21,22の間において放電ガスが放電しプラズマを形
成させる。また、材料供給手段3の材料収納部32に
は、第2の材料供給源6から配管7を介して第2の材料
である水などの液体が供給されている。この材料収納部
32の内部の第2の材料である液体は、多孔質体31の
表面から、放電ガスが放電して高温になっているプラズ
マ領域に直接蒸発して供給されることになる。このと
き、液体は、プラズマ反応して蒸発した分だけ材料収納
部32の内部から多孔質体31の表面に次々染みだして
供給されることになる。そして、放電ガスと液体とがプ
ラズマ状態で反応し、処理ガスGとして取り出すことが
できる。
置1により、パーフロロカーボン(PFC)ガスを反応
させて無害にすることができる反応例について説明す
る。このPFCガスは、地球温暖化ガスとされいて、放
出量を削減しなければならない物質として知られてい
る。このPFCガスとしては、例えばCF4 、C2 F
6 、C3 F8 などが挙げられる。
上記PFCの一つであるCF4 を選び、液体材料に水
(H2 O)を選んでこの放電装置1で反応させることに
する。
材料収納部32にH2 Oを供給する。また、第1の材料
供給源4からCF4 を放電手段2の電極21,22の間
に供給する。これにより、電極21,22の間でCF4
がプラズマ状態になり、材料収納部32の多孔質体31
から染みだしてくるH2 Oとプラズマ状態で反応する。
反応式は、下記の化学式1のとおりである。
F)を含む処理ガスGが生成され、放電装置1の放電手
段2から処理ガスGを取り出すことができる。このよう
に温暖化ガスであるCF4 は、最終的にフッ化水素(H
F)となって、温暖化物質ではなくなる。このフッ化水
素(HF)を別な除害装置により除去することにより、
温暖化ガスを無害化することができる。
では、第2の材料である液体は、第2の材料供給源6か
ら材料供給手段3まで液体のままで運搬し、従来装置の
ように気化状態で運搬するものではないため、運搬途中
で結露するということがなく、また、搬送途中において
気体の飽和蒸気圧の影響を受けることもない。また、本
発明の第1の実施形態に係る放電装置1では、放電ガス
が放電してなるプラズマ領域に液体材料を直接供給して
おり、従来装置のように反応ガスで液体材料を気化して
運搬するのではないため、反応ガスの飽和蒸気圧の影響
を受けずに材料の混合比を調節することができる。
装置1によれば、材料供給手段3は、図2に示すように
電極21側に設けたが、電極22側に設けてもよい。ま
た、本発明の第1の実施形態に係る放電装置1におい
て、材料供給手段3は、電極21と電極22との双方に
設けてもよい。材料供給手段3を双方の電極21,22
に設けると、プラズマ領域12に供給される第2の材料
の分布を比較的均一にすることができ、反応に寄与しな
い材料を低減することができる。そして、前記実施形態
においては、パーフロロカーボンを分解して除去する場
合について説明したが、パーフロロカーボンと水とを反
応させて活性なフッ化水素やフッ素単原子などを生成
し、表面処理やシリコンのエッチングなどに使用しても
よい。
電装置を示す断面図である。この図3において、第2の
実施の形態に係る放電装置1aは、大別すると、放電手
段2aと、第1の材料供給手段8と、第2の材料供給手
段3aとを備えている。前記放電手段2aは、所定の面
積を有する金属製板体の電極21a、22aを所定の距
離おいて対向させて配置してなる点では第1の実施の形
態(図2参照)と同じである。また、前記放電手段2a
においても、電極21a,22aに交流電源23から交
流電圧が印加されている点は第1の実施の形態と同一で
ある。
は、第2の材料供給手段3aが放電手段2の電極21a
に設けられるとともに、第1の材料供給手段8が電極2
2に設けられており、かつ、電極21a,22aのプラ
ズマ発生領域の周辺を絶縁体24で覆って構成した点に
特徴がある。
2の側に多孔質体81を配置した材料収納部82を設
け、当該材料収納部82に外部の第1の材料供給源4か
ら配管5を介して第1の材料を供給可能にし、かつ、前
記多孔質材81の表面からプラズマ領域中に第1の材料
が供給される構造になっている。また、第2の材料供給
手段3aは、プラズマ領域12の側に多孔質体31を配
置した材料収納部32を設け、当該材料収納部32に外
部の第1の材料供給源6から配管7を介して第2の材料
を供給可能にし、かつ、前記多孔質材31の表面からプ
ラズマ領域中に第2の材料が供給される構造になってお
り、第1の実施の形態と全く同一構成である。したがっ
て、同一構成要素には同一の符号を付して構成の説明を
省略する。
2は、図3に示すように、電極22と多孔質体81とで
空間83を形成し、前記多孔質体81がプラズマ領域
(電極21)側に向くように配置したものである。さら
に、この電極22は凹状に形成されており、かつ、この
電極22の凹部開口面を覆うように多孔質体81を固着
して空間83を形成したものである。また、この空間8
3には、第1の材料が充満している。また、この第1の
材料供給手段8に使用する多孔質体81は、アルミナの
多孔質や穴明きプレート等を含むものとする。
置1aの動作を説明する。第1の材料である放電ガス
は、第1の材料供給源4から配管5を介して、放電手段
2の電極22aの第1の材料供給手段8の空間83に供
給される。この第1の材料供給手段8の空間83に充満
した放電ガスは、第1の材料供給手段8の多孔質体81
から電極21,22の間に供給される。
23から交流電力が供給されており、この電極21,2
2の間において放電ガスが放電しプラズマを形成させ
る。また、第2の材料供給手段3の材料収納部32に
は、第2の材料供給源6から配管7を介して第2の材料
である液体が供給されている。この材料収納部32の内
部の第2の材料である液体は、多孔質体31の表面か
ら、放電ガスが放電して高温になっているプラズマ領域
に直接蒸発して供給されることになる。このとき、液体
は、プラズマ反応して蒸発した分だけ材料収納部32の
内部から多孔質体31の表面に次々染みだして供給され
ることになる。そして、放電ガスと液体とがプラズマ状
態で反応した処理ガスは、絶縁体24で覆われた空間内
に広がる。前記絶縁体24で覆われた空間内の処理ガス
は、処理ガスGとして取り出すことができる。
aでは、第1の実施の形態と同様な作用効果を奏する。
また、本発明の第2の実施形態に係る放電装置1aによ
れば、第1の材料と第2の材料とが対向した状態で混合
反応するため、第1の材料と第2の材料との濃度分布が
均一化される利点がある。
電装置を示す断面図である。この図4において、第3の
実施の形態に係る放電装置1bは、基本的には、第1の
実施の形態と同一の放電手段2と材料供給手段3とから
構成されており、異なるところは、前記材料供給手段3
にヒーター9を設け、このヒーター9に供給する電力を
制御装置10で制御し、第2の材料である液体の蒸発量
をコントロールできるようにした点に特徴がある。した
がって、この第2の実施の形態に係る放電装置1bを構
成する要素が、第1の実施の形態に係る放電装置1と同
一構成要素には同一の符号を付して構成の説明を省略す
る。
の材料供給手段3を構成する電極21に取り付けられて
いる。このヒーター9は、制御装置10と電気的に接続
されており、制御装置10によってヒーター9に供給さ
れる電力を調整可能としてある。制御装置10は、図示
しないが、電極21の温度を検出する温度センサーと、
電極21を希望の温度に設定するための基準値を設定で
きる温度基準値設定部と、温度センサーからの検出信号
と温度基準値設定部からの基準値とを比較し誤差信号を
形成する比較部と、この比較部からの誤差信号を基にヒ
ーター9に供給する電力を調整する調節部とから構成さ
れている。また、温度基準値設定部と、比較部と、調節
部の一部とは、マイクロプロセッシングユニット(MP
U)等によって実現できる。また、MPU等で実現され
ている調節部の一部から出力される例えばパルス幅変調
(PWM)方式の制御信号が電力調整用インバータに供
給されることにより、電力調整用インバータの出力端子
に接続されたヒーター9に供給する電力を調節すること
ができる。
21はプラズマ発生時に摂氏70〜80℃程度になるこ
とが分かっている。そこで、制御装置10ではヒーター
9に供給する電力を調整し、ヒーター9によって前記温
度以上に電極21を加熱することにより、第2の材料の
蒸発量を調整するようにしている。
では、第2の材料供給源6から配管7を介して材料供給
手段3に第2の材料である液体を供給し、また、第1の
材料供給源4から配管5を介して第1の材料である放電
ガスを放電手段2の電極21,22の間に供給する。す
ると、電極21,22の間で放電ガスが放電し、プラズ
マが発生する。このとき、材料供給手段3の材料収納部
32の多孔質体31や電極21が加熱されて、多孔質体
31の表面から液体がプラズマ領域内に直接蒸発供給さ
れることになる。
監視し、ヒーター9に供給する電力を調節し、ヒーター
9で電極21を加熱し、材料収納部32内の液体の温度
を、例えば摂氏95℃等、所定の温度となるように調節
する。これにより、多孔質体31から蒸発する液体の蒸
発量を調節できる。
bによっても、第1の実施の形態と同様の作用効果を奏
することができる。また、本発明の第3の実施形態に係
る放電装置1bによれば、材料供給手段3の材料収納部
32内にある第2の材料をヒーター9で加熱し、制御装
置10で加熱状態を調節することにより、第2の材料の
蒸発量を調節でき、処理ガス中の活性種の濃度を一定に
することが可能で、例えば表面処理を行なう場合などに
おいて、安定した処理をすることができる効果がある。
なお、上記第3の実施の形態に係る放電装置1bにおい
て、材料供給手段3は電極21に設けたが、電極22に
設けてもよい。また、第3の実施の形態に係る放電装置
1bにおいて、材料供給手段3は、電極21と電極22
との双方に設けてもよい。
第2の材料は、第2の材料供給源から材料供給手段まで
液体のままで運搬しているため、運搬途中で結露すると
いうことがなく、また、運搬途中の第1の材料による影
響を受けることもない。また、本発明によれば、第1の
材料が放電して得られるプラズマ領域に第2の材料を直
接供給しているため、反応ガスの飽和蒸気圧の影響を受
けずに材料の混合比を調節することができる。
す概略系統図である。
例を示す断面図である。
断面図である。
断面図である。
Claims (5)
- 【請求項1】 気体材料と液体材料とを放電させること
により反応させる放電装置において、 気体からなる第1の材料を放電させてプラズマを発生さ
せる放電手段と、 前記プラズマ領域内に液体からなる第2の材料を直接供
給する材料供給手段と、 を備えたことを特徴とする放電装置。 - 【請求項2】 前記材料供給手段は、プラズマ領域側に
多孔質体を配置した材料収納部を設け、当該材料収納部
に外部から第2の材料を供給可能にし、かつ、前記多孔
質材の表面からプラズマ領域中に第2の材料が供給され
る構造としたことを特徴とする請求項1記載の放電装
置。 - 【請求項3】 前記材料収納部は、前記放電手段の電極
と多孔質体とで空間を形成し、前記多孔質体がプラズマ
領域側に配置されたものであることを特徴とする請求項
1または2記載の放電装置。 - 【請求項4】 前記材料収納部は、前記放電手段の対向
した電極のそれぞれに設けてあることを特徴とする請求
項1または3のいずれかに記載の放電装置。 - 【請求項5】 前記材料収納部は、材料収納部内の第2
の材料を加熱する加熱部を有することを特徴とする請求
項1ないし4のいずれかに記載の放電装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000074195A JP2001259409A (ja) | 2000-03-16 | 2000-03-16 | 放電装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000074195A JP2001259409A (ja) | 2000-03-16 | 2000-03-16 | 放電装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001259409A true JP2001259409A (ja) | 2001-09-25 |
Family
ID=18592287
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000074195A Withdrawn JP2001259409A (ja) | 2000-03-16 | 2000-03-16 | 放電装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2001259409A (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2003080504A1 (fr) * | 2002-03-27 | 2003-10-02 | Jisouken Co., Ltd. | Dispositif pour produire de l'hydrogene au moyen d'hydrocarbure ou d'un compose contenant de l'oxygene comme substance et electrode de decharge utilisee dans ce dispositif |
JP2004018345A (ja) * | 2002-06-19 | 2004-01-22 | Jigyo Sozo Kenkyusho:Kk | 炭化水素、含酸素化合物を原料とする水素の生成装置 |
EP1475824A1 (en) * | 2002-10-07 | 2004-11-10 | Sekisui Chemical Co., Ltd. | Plasma film forming system |
WO2004099070A1 (ja) * | 2003-05-08 | 2004-11-18 | Jisouken Co. Ltd. | 炭化水素、有機含酸素化合物を原料とする水素の生成装置、及びそれに用いる放電極 |
JP2005103535A (ja) * | 2003-09-30 | 2005-04-21 | Fuji Photo Film Bv | 大気圧グロープラズマ(apg)を形成するための方法および装置ならびに電極 |
WO2006035629A1 (ja) * | 2004-09-29 | 2006-04-06 | Sekisui Chemical Co., Ltd. | プラズマ処理装置 |
CN100423194C (zh) * | 2002-10-07 | 2008-10-01 | 积水化学工业株式会社 | 等离子体表面加工设备的电极结构 |
JP2009285529A (ja) * | 2008-05-27 | 2009-12-10 | Clean Technology Co Ltd | プラズマ処理装置 |
WO2019238866A1 (de) * | 2018-06-15 | 2019-12-19 | Terraplasma Gmbh | Verfahren zum prüfen einer elektrodenanordnung zur erzeugung eines nicht-thermischen plasmas und plasmaquelle mit einer solchen elektrodenanordnung, eingerichtet zur durchführung eines solchen verfahrens |
-
2000
- 2000-03-16 JP JP2000074195A patent/JP2001259409A/ja not_active Withdrawn
Cited By (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2003080504A1 (fr) * | 2002-03-27 | 2003-10-02 | Jisouken Co., Ltd. | Dispositif pour produire de l'hydrogene au moyen d'hydrocarbure ou d'un compose contenant de l'oxygene comme substance et electrode de decharge utilisee dans ce dispositif |
JP2004018345A (ja) * | 2002-06-19 | 2004-01-22 | Jigyo Sozo Kenkyusho:Kk | 炭化水素、含酸素化合物を原料とする水素の生成装置 |
US7819081B2 (en) | 2002-10-07 | 2010-10-26 | Sekisui Chemical Co., Ltd. | Plasma film forming system |
EP1475824A1 (en) * | 2002-10-07 | 2004-11-10 | Sekisui Chemical Co., Ltd. | Plasma film forming system |
EP1475824A4 (en) * | 2002-10-07 | 2006-11-15 | Sekisui Chemical Co Ltd | PLASMA FILM FORMATION SYSTEM |
CN100423194C (zh) * | 2002-10-07 | 2008-10-01 | 积水化学工业株式会社 | 等离子体表面加工设备的电极结构 |
WO2004099070A1 (ja) * | 2003-05-08 | 2004-11-18 | Jisouken Co. Ltd. | 炭化水素、有機含酸素化合物を原料とする水素の生成装置、及びそれに用いる放電極 |
JP4727419B2 (ja) * | 2003-05-08 | 2011-07-20 | 株式会社事業創造研究所 | 炭化水素、有機含酸素化合物を原料とする水素の生成装置、及びそれに用いる放電極 |
JPWO2004099070A1 (ja) * | 2003-05-08 | 2006-07-13 | 株式会社事業創造研究所 | 炭化水素、有機含酸素化合物を原料とする水素の生成装置、及びそれに用いる放電極 |
JP2005103535A (ja) * | 2003-09-30 | 2005-04-21 | Fuji Photo Film Bv | 大気圧グロープラズマ(apg)を形成するための方法および装置ならびに電極 |
JP4672314B2 (ja) * | 2003-09-30 | 2011-04-20 | フジフィルム マニュファクチャリング ユーロプ ビー.ブイ. | 大気圧グロープラズマ(apg)を形成するための方法および装置ならびに電極 |
US7886688B2 (en) | 2004-09-29 | 2011-02-15 | Sekisui Chemical Co., Ltd. | Plasma processing apparatus |
US7886689B2 (en) | 2004-09-29 | 2011-02-15 | Sekisui Chemical Co., Ltd. | Plasma processing apparatus |
KR101020463B1 (ko) | 2004-09-29 | 2011-03-08 | 세키스이가가쿠 고교가부시키가이샤 | 플라즈마 처리 장치 |
WO2006035629A1 (ja) * | 2004-09-29 | 2006-04-06 | Sekisui Chemical Co., Ltd. | プラズマ処理装置 |
JP2009285529A (ja) * | 2008-05-27 | 2009-12-10 | Clean Technology Co Ltd | プラズマ処理装置 |
WO2019238866A1 (de) * | 2018-06-15 | 2019-12-19 | Terraplasma Gmbh | Verfahren zum prüfen einer elektrodenanordnung zur erzeugung eines nicht-thermischen plasmas und plasmaquelle mit einer solchen elektrodenanordnung, eingerichtet zur durchführung eines solchen verfahrens |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100699371B1 (ko) | 직접 메탄올형 연료 전지 시스템 및 그 제어 방법 | |
JP2001259409A (ja) | 放電装置 | |
JPS61116763A (ja) | 燃料電池システムの運転方法 | |
JP2009016331A (ja) | 燃料電池加速活性化装置および方法 | |
JP2004022283A (ja) | リン酸型燃料電池の運転方法 | |
JP2003190762A (ja) | フッ化水素を含むフッ素ガスの生成装置 | |
TW200850078A (en) | Plasma processing device and method | |
WO1997019204A1 (fr) | Procede et appareil de traitement de surface | |
JP3337473B2 (ja) | 負電荷酸素原子発生方法及びその装置 | |
US6497744B2 (en) | Apparatus and method for generating indium ion beam | |
JPH0226804A (ja) | 酸素原子発生方法および装置 | |
JP2003064207A (ja) | 多孔質材料表面を親水性化する乾式表面処理方法 | |
JPH05243160A (ja) | 半導体デバイス製造用プラズマcvd装置 | |
JPH09199810A (ja) | 金属蒸気レーザーデバイス | |
JP3595442B2 (ja) | Sf6プラズマを用いたイオン生成方法 | |
JPS6214937B2 (ja) | ||
JP2001009013A (ja) | オゾン発生方法及びオゾン殺菌装置 | |
JPH09315808A (ja) | グラファイト薄膜、グラファイト薄膜の製造方法およびこれを用いた二次電池およびコンデンサ | |
JPH09199033A (ja) | 誘電体バリア放電ランプの製造方法 | |
JPH09286604A (ja) | 放電処理装置 | |
JPH05275193A (ja) | プラズマ発生装置 | |
JPS61155206A (ja) | オゾン発生装置 | |
JP2005222840A (ja) | 燃料電池システム | |
JP2005194160A (ja) | 触媒電極式オゾン発生方法および発生装置 | |
SU947224A1 (ru) | Электролизер дл получени кислорода из вод ных паров воздуха |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060804 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060822 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20061005 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20071030 |
|
A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20071120 |