JP2001242591A - 改善画像支持要素の製造方法とそれにより形成された要素 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は、熱的に安定で、ゼラチンを含有し
ない単一の下塗り層を含む画像支持要素の形成方法を提
供することを目的とする。 【解決手段】 ポリマーフィルム支持体と、熱的に安定
な下塗り層とを含む画像支持体要素は、ポリマーフィル
ム支持体上に、少なくともｃｍ^２当たり１０^１０の密度
のアミン反応性基を有する塗膜を形成させ、その塗膜を
有するポリマーフィルム支持体を、ポリマー支持体のガ
ラス転移温度（Ｔｇ）以下の５０℃からポリマー支持体
のガラス転移温度（Ｔｇ）まで範囲の温度で熱処理する
ことにより製造される。そのポリマーフィルム支持体は
窒素プラズマ処理される。層は窒素プラズマ処理された
ポリマー支持体にモノマー溶液を塗布することにより生
成させることが好ましく、塗布されたモノマーはアミン
反応性基を生成させる少なくとも二つのビニルスルホン
基を有する。あるいは、層は少なくとも一つの非アミン
反応性コモノマーと、アミン反応性側鎖基を有する少な
くとも一つのコモノマーとを含む塗布液を、ポリマー支
持体ウェッブに塗設させることにより形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、写真、電子写真及
び熱画像要素のような画像要素に対する支持体に係り、
詳細には、ポリエステルポリマーフィルムと、接着促進
「下塗り」層と、下塗りポリマーフィルムと画像形成層
を有する画像要素とを含む支持体に関する。具体的に
は、本発明は下塗りされたポリマー支持体と画像要素と
に関し、その下塗り層は熱処理中に、支持体に存在す
る。

【０００２】

【従来の技術】通常、画像要素は支持体と、接着又は結
合層（下塗り層）と、画像記録層と、スクラッチ耐性、
静電防止、磁気記録又は潤滑のような他の機能を果たす
補助層とを有する。１９９８年４月２７日にJ. Chen他
らにより出願された発明名称「THERMALLY STABLE SUBBI
NG LAYER FOR IMAGING ELEMENTS」の米国特許出願第０
９/０６７,３０６号には、支持体と画像要素とにおける
層間との接着に対する厳しい要件が開示されている。ポ
リエステル表面のような不活性な性質の多くの表面は、
塗設された層の接着に対しては厳しい挑戦である。J. C
hen他らによる米国特許出願第０９/０６７,３０６号に
開示されているように、接着の困難性は、従来、以下に
開示されたエッチング剤が関係する下塗りシステムの使
用により解消させていた。具体的には、１９６４年８月
４日に発行されたNadeau他による発明名称「ADHERING P
HOTOGRAPHIC SUBBING LAYERS TO POLYESTER FILM」の米
国特許第３,１４３,４２１号、１９６５年８月１７日に
発行されたPierce他による発明名称「COMPOSITE FILM E
LEMENT AND COMPOSITION THEREFOR INCLUDING ANTI-HAL
ATION MATERIAL」の米国特許第３,２０１,２４９号、１
９７０年３月１７日にNadeau 他らによる「COATING COM
POSITIONS FOR POLYESTER SHEETING AND POLYESTER SHE
ETING COATED THEREWITH」の米国特許第３,５０１,３０
１号がある。あるいは、上記接着の困難性はコロナ放
電、グロー放電（例えば、１９９５年６月２０日に発行
されたJ. Grace他らによる発明名称「USE OF GLOW DISC
HARGE TREATMENT TO PROMOTE ADHESION OF AQUEOUS COA
TS TO SUBSTRATE」の米国特許第５,４２５,９８０号を
参照し、本願の参考文献として援用される）、紫外線照
射、電子ビーム及び炎処理により解消される。支持体が
エッチャントを含むポリマー性下塗りで塗布されて処理
されるか、エネルギー処理により改質されるかは、多く
の例にて、ゼラチン又は非ゼラチンポリマー及びゼラチ
ンとを含む単一の混合下塗り層からなる追加の下塗り層
が利用される。上記ゼラチン及び混合下塗り層により、
親水性コロイドバインダーを含む塗布層に対して十分な
接着を実現させる。

【０００３】また、米国特許出願第０９/０６７,３０６
号では、アドバンスドフォトシステム（登録商標ＡＰ
Ｓ）のような最近導入されたシステムでは、ポリエステ
ル支持体の熱処理を必要とすることが記載されている。
小さなカートリッジの小さなフォーマットの使用、並び
にＡＰＳカメラ及びＡＰＳフィルムプロセッサに利用さ
れるフィルム装填及び脱着機構と関連した機械的仕様を
充足させるために、フィルムの熱処理は必要である。熱
処理によりポリマーフィルムのコアに設定されたカール
傾向を十分に減少させ、システムの機械的要求を充足さ
せる。さらに、必要な熱処理前に、下塗り層を塗布する
という製造上の便益が得られることが記載されている。
しかしながら、前記応用で開示したように、ゼラチン又
は混合下塗り層のあるポリエステルへ適用する延長熱処
理又はアニーリング処理は、銀塩写真要素の銀塩エマル
ジョン層のような十分に塗布させた親水性コロイド層の
接着を犠牲にして処理することが判明した。

【０００４】ゼラチン含有下塗り層の熱分解は、基礎と
なる支持体と下塗り層とゼラチン下塗り層による副生成
物の相互作用の熱分解から生じる。単一の混合下塗り層
の場合には、非ゼラチンポリマー及びゼラチンとを含む
熱による化学的処理から生じる。よって、熱的に安定
で、ゼラチンを含有しない単一の下塗り層を有すること
が望まれる。

【０００５】１９９５年４月３日にJ. Grace他らに発行
された発明名称「MOLECULAR GRAFTING TO ENERGETICALL
Y TREATED POLYESTERS TO PROMOTE ADHESION OF GELATI
N-CONTAINING LAYERS」である米国特許第５,５６３,０
２９号には、ポリエステル支持体へ適用させた窒素グロ
ー放電処理（又は表面アミンを生じさせる別の手段）と
組合せたアミン反応性ハードナーを使用し、下塗りシス
テムの接着機能を実現させた。Grace他は代表的なアミ
ン反応性ハードナーであるビス（ビニルスルホニル）メ
タンが分子プライマーとして利用され、プラズマ処理支
持体へゼラチン含有層を結合させる。そのアミン反応性
ハードナーはプラズマ処理された支持体と化学的に結合
し、しかもゼラチンはアミン反応性ハードナーと結合す
ることを教示している。架橋剤と同様な機能で、そのハ
ードナーはゼラチンと処理表面が共有結合により結合す
る。その共有結合は窒素プラズマ処理表面とゼラチン塗
膜のアミン基と、ハードナーのビニルスルホン基との反
応により生成する。Grace他は、熱的に安定な下塗り層
をもたらすアミン反応性ハードナーと適正な表面処理と
の組合せは示唆していない。実際に、Grace他により開
示されたすこぶる反応性のあるハードナーは長時間熱に
晒すことにより不必要な化学反応が進行することは、当
業者には予測困難なことではないあろう（例えば、アド
バンスドフォトシステム（登録商標）フィルム用のフィ
ルムベースの製造に必要なように）。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は上述の点に鑑
みてなされたものであり、熱的に安定で、ゼラチンを含
有しない単一の下塗り層を含む画像支持要素の形成方法
を提供することを目的とする。

【０００７】本発明の別の目的は、アドバンスドフォト
システム（登録商標）（ＡＰＳ）に利用されるような、
ポリエステルベースの製造に必要とされる熱処理条件下
で、接着促進特性を保持する単一の下塗り層を有する画
像支持体要素の形成方法を提供することである。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記の目的は、（ａ）ポ
リマーフィルム支持体に、ｃｍ^２当たり少なくとも１０
^１０の密度のアミン反応性基を含む表面を有する塗膜を
形成する形成工程と、（ｂ）前記塗膜を有するポリマー
フィルム支持体を、ポリマー支持体のガラス転移温度
（Ｔｇ）以下の５０℃からポリマー支持体のガラス転移
温度（Ｔｇ）までの温度で熱処理する熱処理工程と具備
する画像支持体要素の製造方法により達成される。

【０００９】ポリマーフィルム支持体は窒素プラズマ処
理される。層はアミン反応性ハードナー又はアミン反応
性側鎖基を有する塩素フリーの非ゼラチンポリマーを含
む。層は、ポリマー支持体ウェッブに、少なくとも一つ
の非アミン反応性コモノマーとアミン反応性側鎖基を有
するコモノマーとを有する塗膜を塗設させることにより
形成される。あるいは、層は窒素処理ポリマー支持体に
モノマー溶液を塗布することにより形成され、塗布モノ
マーはアミン反応性基を生成させる少なくとも二つのビ
ニルスルホン基を有する。塗膜若しくは下塗り層は塩素
を含有し、化学的に結合又は溶液で混合する熱分解可能
な成分を有するべきではない。さらに、塗膜若しくは下
塗り層が基礎となる塩素を含有する層とを組合せて利用
されると、塗膜若しくは下塗り層は基礎となる塩素を含
有する層の脱ハロゲン化水素化が存在しても、化学的に
安定であるべきである。アミン反応性基は十分な量存在
しなければならなず、１０^１０ないし１０^１７部位/ｃ
ｍ^２の範囲が好ましく、より好ましくは１０^１３ないし
１０^１５部位/ｃｍ^２の範囲であり、親水性コロイド層
の接着を促進させる。上記で必要なアミン反応性部位
は、塗膜若しくは層の表面に位置する部位である。本願
で利用する用語「表面」及び「表面に」は、２ｎｍ以内
の層若しくは塗膜の部分を意味し、それを含むものであ
り、好ましくは塗膜又は層の頂部の１ｎｍ以内を意味
し、それを含むものである。

【００１０】本発明の好適な実施態様では、ポリマーフ
ィルム支持体はポリ（エチレンナフタレート）を含み、
下塗り層はアミン反応性モノマーと非アミン反応性コモ
ノマーとを含み、アミン反応性モノマーによりコモノマ
ーとの重合により生成するポリマーにアミン反応性側鎖
基が導入され、熱処理は下塗り層を塗布した支持体を、
ポリマー支持体のガラス転移温度（Ｔｇ）から５０℃か
らポリマー支持体のガラス転移温度（Ｔｇ）の温度へ、
０．１ないし１５００時間で処理することからなる。ポ
リエステルフィルム支持体のガラス転移温度（Ｔｇ）
は、例えば、通常、８０℃から１２０℃の範囲である。

【００１１】本発明の別の実施態様では、画像形成処理
に使用する画像要素を説明し、画像要素は前記した下塗
り層を塗布したポリエステルポリマーフィルム支持体
と、画像形成層（下塗り支持体に塗布された画像パック
という）とを含む。

【００１２】簡潔に述べると、本発明の前記及び数多の
他の特徴、目的及び効果は、本願で記載する詳細な説
明、特許請求の範囲及び図面を精読すると、容易に明白
となるであろう。

【００１３】本発明の効果は、その上に形成された接着
促進層を有する窒素プラズマ処理ポリマーフィルムを有
し、熱処理された本発明の画像支持体要素は、ポリマー
フィルムのコアに設定されたカール傾向の低下を示すこ
とである。

【００１４】

【発明の実施の形態】本発明の方法の好適な実施態様の
実施では、ポリマーフィルムはポリ（エチレンテレフタ
レート）またはポリ（エチレンナフタレート）を含み、
放電処理は窒素プラズマにて実行され、非塩素含有で非
ゼラチン含有下塗り成分は１９９６年４月１日にC. Rom
ano他に発行された発明名称「INK-JET PRINTER RECORDI
NG ELEMENT」である米国特許第５,７２３,２１１号に記
載されているようなビニルスルホン化合物を含み、非ハ
ロゲン含有アミン反応性ハードナーは、１９９５年５月
２３日にGuido Desie他に発行された発明名称「INK REC
EIVING LAYERS」である米国特許第５,４１８,０７８号
に記載されたようなもの、またはかかるアミン反応性官
能基を含有するポリマーを含み、熱処理は、ガラス転移
温度（Ｔｇ）以下の５０℃からポリマーフィルムのガラ
ス転移温度（Ｔｇ）までの温度に、０．１ないし１５０
０時間、下塗り層を塗布した支持体を晒すことを含む。

【００１５】本発明の下塗り層を塗布した支持体は、さ
まざまなタイプの画像要素に利用可能である。本発明
は、例えば、写真、インクジェット、電子写真、光熱写
真、マイグレーション、電気磁気写真、誘電記録及び熱
色素転移画像要素のような多様な画像要素に適用可能で
あるが、本発明は主に写真要素、特に銀塩写真要素に適
用可能である。したがって、本発明を説明する目的で、
表現を簡潔にし、写真要素を主に本願の明細書では取扱
うことにするが、画像要素の他の形態にも適用され得る
ことが理解できる。

【００１６】アニール可能（実際に熱処理可能）な下塗
り配合には、ゼラチンは含まれず、ポリマーベースから
のアルデヒドまたは基礎となる塩化ビニリデン層の分解
生成物により推進される分解過程を受けない。前記アル
デヒド又は分解生成物は、ＡＰＳフィルムベースのアニ
ーリング過程中にゼラチン下塗り層に拡散することは公
知である。

【００１７】下塗り層の配合はモノマー配合（つまり、
単一のアミン反応性モノマー）又はポリマー配合であ
り、アミン反応性モノマーは非アミン反応性コモノマー
とともに重合する。モノマー配合には、塗布層と十分に
結合することに利用可能であるアミン反応性基を有しな
がら、（プラズマ処理により活性化された）ポリマー支
持体表面と結合するモノマーを必要とする。このアプロ
ーチは、以下の例１に例証されている。

【００１８】ポリマー配合により、非アミン反応性コモ
ノマーにてアミン反応性モノマーを希釈させてポリマー
フィルムを形成させることができる。ポリマー配合に
は、ポリマー支持体表面にポリマーを固着させ、塗布層
を十分に結合させることに利用可能であるアミン反応官
能性を必要とする。このアプローチは、以下の例２及び
例３にて例証されている。

【００１９】何れかのアプローチ（モノマーまたはポリ
マー）にて、必須の特徴は、塗布層との十分な結合を生
成させるのに利用可能であるアミン反応性基の表面密度
である。モノマー配合の場合、モノマーがポリマー支持
体の要素からの干渉なしに同定可能である化学構成成分
を有すると仮定すれば、官能基の表面密度を定量化する
ことは可能である（例１を参照）。

【００２０】しかしながら、ポリマー配合の場合には、
非アミン反応性コモノマーがアミン反応性コモノマーに
て共通要素して利用されるが、アミン反応性官能基の表
面密度を定量化することは困難である。この場合には、
配合変数はポリマー組成物を定量化するために利用さ
れ、ポリマー配合中での組成物の存在に比例して、アミ
ン反応性側鎖基が存在すると仮定することができる。

【００２１】本発明に有用であるアミン反応性ハードナ
ーの例には、ビス（ビニルスルホニル）メタン（以下、
「ＢＶＳＭ」という）と、Romano他へ発行された米国特
許第５,７２３,２１１号に記載されているような他のビ
ニルスルホニル化合物がある。具体的に有用なものに
は、以下の化学式で表わされる単位を有するコポリマー
及びターポリマーがある：

【００２２】

【化１】 式中、ＲはＨ又はＣＨ_３であり、Ａは直接結合、若しく
はＣ（Ｏ）Ｏ又はＣ（Ｏ）ＮＨであり、Ｂ炭素原子数が
１ないし１０の脂肪族基、またはフェニル、ベンジル、
ナフチル又はピリジルのような芳香族基であり、Ｃは直
接結合、若しくは炭素原子数が１ないし１０の脂肪族基
であり、または以下の構造単位から選択され：

【００２３】

【化２】 ここで、ｍ及びｎは別々に０ないし１０の整数であり、
アミン反応性ハードナーは非アミン反応性ハードナーと
重合する。本発明で有用な非アミン反応性コモノマーに
は、アクリルアミド、アクリロアミドグリコール酸、２
−アクリルアミド‐２‐メチルプロパンスルホン酸、そ
のナトリウム塩（以後、「ＡＭＰＳ」という）、アクリ
ル酸、４−アクリロキシブタン‐１‐スルホン酸、その
ナトリウム塩、２−アクリロキシエタン‐１‐スルホン
酸、そのナトリウム塩、３‐アクリロキシプロパン‐１
‐スルホン酸、そのナトリウム塩、Ｎ,Ｎ‐ジメチルア
クリルアミド、２‐ヒドロキシエチルアクリレート、２
−ヒドロキシエチルメタクリレート、メタクリル酸、４
‐メタクリロキシ‐１‐スルホン酸、そのナトリウム
塩、２‐メタクリロキシエタン‐１‐スルホン酸、その
ナトリウム塩、３‐メタクリロ‐１‐メチルプロパン‐
１‐スルホン酸、そのナトリウム塩、３‐メチルアクリ
ロキシプロパン‐１‐スルホン酸、そのナトリウム塩、
１‐ビニル‐２‐ピロリジノンのような親水性モノマ
ー、又は他の水溶性もしくは親水性モノマーがある。

【００２４】以下の例では、プラズマ表面改質と単一の
下塗り層との組合せを例示し、その下塗り層はアミン反
応性ハードナー分子、又はアミン反応性側鎖基を有する
ポリマーを含み、塗布された親水性コロイド層と十分な
接着性を保持しながら、ポリエステル支持体に必要であ
る熱処理に耐性を有する。アミン反応性基は親水性コロ
イド層の接着を促進させるため、十分な量（１０^１０か
ら１０^１７部位/ｃｍ ^２）存在しなければならない。そ
の下限はアミン反応性基の単層の被覆率の割合に相当す
るのに対し、その上限はアミン反応性基の数多の層（大
雑把に１００層）に相当する。アミン反応性ハードナー
で機能化させた表面に及ぼす親水性コロイド層の接着性
能の当社の研究によれば、好適な表面密度は１０^１３か
ら１０^{１ ５}部位/ｃｍ^２であることが示唆された。窒素
プラズマ処理されたポリ（エチレンナフタレート）支持
体へビス（ビニルスルホニル）メタン（ＢＶＳＭ）をグ
ラフト化させた場合では、上記範囲はＢＶＳＭの０．０
１ないし１からなる単層の被覆率の範囲に相当する。

【００２５】必要なアミン反応性基の表面密度は界面接
着レベルを決定する鍵を握る物理的パラメータである
が、特定の反応性基の一定の表面密度は、多くの方法で
得ることが可能である。下塗り層が所望のアミン反応性
基の分布がランダムであり、層全体にわたり一様に分散
しているように構成される限り、好適な範囲である１０
^１３ないし１０^１５部位/ｃｍ^２は表面近傍領域の原子
あたりの特定部位の範囲に対応させられる、つまり、下
塗り層の表面１ｎｍ以内に対応する。具体的には、アミ
ン反応性側鎖基は０．００３から０．１の繰返し単位に
て原子当たりの反応性基の割合を含むことが判明した。
上記割合はコモノマー中のビニルスルホン基の数をと
り、それをポリマー繰返し単位中の原子の全数で除算す
ることにより定義される。

【００２６】反応性基のランダムで均一な分布とは対照
的に、層はコア‐シェル構造を有するように構成され
る。コアの材料は関心のある反応性基を有する必要はな
いが、シェルの材料は必要な反応性基の重要な量を有す
るように構成される。このようにして、反応性部位の必
要な表面被覆率が繰返し単位の原子に対する反応性基の
低割合で、またはコア‐シェル構造の原子に対する反応
性基の低割合でもたらされる。上記構造では、最も適正
なスペックは前記した部位/ｃｍ^２の単位で表される被
覆率である。

【００２７】後述する例では反応性側鎖基のランダムで
均一な分布を利用し、繰返し単位での原子に対する反応
性基の割合の観点から特定するが、下塗り層表面に及ぼ
す同様なアミン反応性部位/ｃｍ^２での同様な接着結果
であるが、下塗り構造単位の原子数に対する反応性基の
顕著に減少した割合が得られる、ポリマー性下塗り層を
構成する別の方法もあることは当業者には明白である。

【００２８】本発明による下塗り層を有する写真要素
は、その構造及び組成にて幅広く変化する。例えば、支
持体のタイプ、画像形成層の数及び組成物、前記要素に
含有される補助層の種類等によっても大きく変わる。特
に、写真要素にはフィルム、動画フィルム、Ｘ線フィル
ム、グラフィックアーツフィルム、印刷物又はマイクロ
フィッシュがある。また、白黒要素や色要素もある。そ
れらはネガポジ処理またはリバーサル処理の利用に適し
ている。

【００２９】本発明に有用であるポリエステルフィルム
支持体には、ポリ（エチレンテレフタレート）、ポリ
（１,４‐シクロヘキサンジメチレンテレフタレー
ト）、ポリ（エチレン１,２‐ジフェノキシエタン‐４,
４’‐ジカルボキシレート）、ポリ（ブチレンテレフタ
レート）及びポリ（エチレンナフタレート）等、上記の
ブレンド若しくは他のポリマーとのラミネートのような
ポリエステル支持体がある。特に好適な実施例として
は、ポリ（エチレンテレフタレート）及びポリ（エチレ
ンナフタレート）があり、アドバンスドフォトシステム
（登録商標）に利用されるように設計された写真画像要
素の支持体として、ポリ（エチレンテレフタレート）は
特に好適である。好適なポリマーフィルム支持体の厚さ
は、４００ミクロン以下であり、好ましくは２００ミク
ロン以下、より好ましくは１５０ミクロン以下である。
実際上の最小の支持体としての厚さは５０ミクロンであ
る。支持体の色は無色、又は色素若しくは顔料の添加に
より着色していてもよい。

【００３０】ポリマーフィルム要素の物理的特性を改質
させるために、従来のポリマーフィルム製造中に熱処理
を利用することは、それ自体周知なことである。例え
ば、ある熱可塑性フィルムの連続製造にて、特にポリエ
ステルフィルムではポリマーストック材料のバルク保存
液からの押出しに関係する処理が、透明性、テンシル強
度及び寸法安定性のような所望の物理的性質を得るため
に必要であり、通常アモルファスである押出したフィル
ムは、しかる後に規定処理により加熱及び加工される。
かかる加熱及び加工処理では、通常、加熱フィルムは、
まずオリジナルの長さから２ないし４倍の長さに延伸さ
れ、次いで、同様に幅方向にも延伸される。「常温延
伸」として公知である延伸が、ポリマーの融点以下であ
るがガラス転移温度以上の温度で実行される。結果生成
したフィルムは二軸配向である。常温延伸によりポリマ
ーの結晶性にある種の変化をもたらす。次に、結晶性を
改善し、フィルムの寸法安定性を増大させるために、引
張力下で維持させながら、二軸配向ポリマーフィルム
を、結晶化点近傍に加熱させて「熱硬化」させる。ま
た、加熱及び引張により、冷却した際に熱硬化フィルム
が透明性を保持することを確保する。方向性を有するよ
うに配向させたあと、熱硬化ポリマーフィルムは、「熱
緩和」処理として従来から公知な後熱処理を行う。

【００３１】本発明の支持体は、帯電防止層、耐摩耗
層、カール制御層、運送制御層、潤滑層、画像記録層、
付加的接着促進層、水又は溶媒浸透制御層及び透明磁気
記録層のような多様な付加機能若しくは補助層が、任意
に塗布される。本発明の好適な実施態様では、支持体
（画像形成エマルジョン層に対向する側に塗布される）
のバックサイドに、帯電防止層、透明磁気記録層及び任
意の潤滑層を塗布する。また、浸透制御層を帯電防止層
と透明磁気記録層との間に塗布することが好ましい。本
発明による要素の利用に適する磁気層には、例えば、１
９９２年１１月号の第３４３９０巻のリサーチディスク
ロージャに記載されたものがある。代表的な帯電防止
層、磁気記録層及び潤滑層は、本願の参考文献として援
用される、２１９９８年３月１０日にD. Eichorstに発
行された発明名称「COMPOSITE SUPPORT FOR IMAGING EL
EMENTS COMPRISING AN ELECTRICALLY-CONDUCTIVE LAYER
AND POLYURETHANE ADHESION PROMOTING LAYER ON AN E
NERGETIC SURFACE-TREATED POLYMERIC FILM」である米
国特許第５,７２６,００１号に開示されている。また。
１９９４年６月号の第３６２３０巻のリサーチディスク
ロージャに記載されている小さなフォーマットフィルム
に有用な技術と組合せて、本発明による支持体を利用す
ることも考えられる。リサーチディスクロージャとは、
英国のハンプシャー州P010７DQにあるエンスワースのノ
ースストリート１２番、ダッドリハウスにあるケニース
メイソン発行所により発行されている。

【００３２】本発明の好適な実施態様による写真要素
は、単色又は多色要素である。多色要素には、スペクト
ルの各３原色に感度を有する画像色素形成ユニットがあ
る。各ユニットはスペクトルの一定の領域に感度を有す
る単一のエマルジョン又は数多のエマルジョンを含む。
画像形成ユニットの層を含む、要素の層は本技術分野で
公知なさまざまな順序で配列され得る。別のフォーマッ
トでは、スペクトルの各３原色領域に感度を有するエマ
ルジョンは、単一分割層として配置され得る。

【００３３】典型的な多色写真要素は、少なくとも一つ
のシアン色素形成カップラーと関連した少なくとも一つ
の赤色に感度を有する銀塩エマルジョン層からなるシア
ン色素画像形成ユニットと、少なくとも一つのマゼンタ
色素形成カップラーと関連した少なくとも一つの緑色に
感度を有する銀塩エマルジョン層からなるマゼンタ色素
形成ユニットと、少なくとも一つのイエロー色素形成カ
ップラーと関連した少なくとも一つの青色に感度を有す
る銀塩エマルジョン層からなるイエロー色素形成ユニッ
トとを有する支持体を具有する。その要素はフィルター
層、中間層、ハレーション防止層、オーバーコート層、
付加的下塗り層等のようなさらなる層を含む。

【００３４】写真エマルジョンの利用に適する材料と、
本発明の下塗りされた支持体とともに利用される要素の
以後の説明は、前記した１９９４年９月号の第３６５４
４巻のリサーチディスクロージャを参照し、以後、用語
「リサーチディスクロージャ」として利用する。以後の
説明では、前記第３６５４４巻のリサーチディスクロー
ジャのセクション番号で引用する。

【００３５】写真要素の画像形成層に利用される銀塩エ
マルジョンは、ポジ作用若しくはネガ作用の何れかであ
る。適切なエマルジョン及びその調製、並びに化学的及
び分光増感はセクションＩ、IIIないしIVに記載されて
いる。ビヒクル及びビヒクル関連追加物はセクションII
に記載されている。色素画像フォーマー及びモディファ
イヤーはセクションXに記載されている。ＵＶ色素、増
白剤、発光剤、消泡剤、安定化剤、光吸収及び散乱材
料、塗布助剤、可塑剤、潤滑剤、帯電防止剤及びマット
剤のようなさまざまな添加剤は、例えばセクションＶＩ
−ＩＸに記載されている。層及び層配置、カラーネガ及
びカラーポジ特徴、走査設備特徴、支持体、露光及び処
理は、セクションＸＩ−ＸＸに記載されている。

【００３６】銀塩エマルジョン画像形成層のほかに、本
発明による画像要素の画像形成層は、例えば、本願の参
考文献に援用される１９９５年１０月１０日にP. Chris
tian他に発行された発明名称「IMAGING ELEMENT COMPRI
SING A TRANSPARENT MAGNETIC LAYER AND AN ELECTRICA
LLY-CONDUCTIVE LAYER CONTAINING PARTICLES OF A MET
AL ANTIMONATE」である米国特許第５,４５７,０１３号
に記載されている他の画像形成層の何れかでもある。

【００３７】以下の例は、従来のゼラチン下塗り層配合
を使用するよりも、本発明の方法を利用し、本発明の材
料を添加させることにより効果を例証する。

【００３８】例 １：純粋なＢＶＳＭ プラズマ処理されたポリ（エチレン‐２,６‐ナフタレ
ート）（以下、「ＰＥＮ」という）は、真空ウェッブ塗
布機のグロー放電ゾーンを通過させることにより調製し
た。一対のコプラナーで、水冷式アルミニウム電極は各
々が３３ｃｍ幅（ウェッブに垂直方向、以下、「クロス
ウェッブ」という）ｘ７．６ｃｍ（ウェッブ方向に沿っ
て）で、電気的に接地されたアルミニウム包囲体に収納
された。入口を通過した１００μ厚で、１３ｃｍ幅の支
持体は、包囲体のサイドにあるスリットから排出され、
電極の真上３ｃｍで搬送される。包囲体は支持体を支え
て、約１ｃｍ延びていた。処理ガスは、包囲体のクロス
ウェッブの方向にある一連のピンホールを介して、包囲
体に進入した。４０ｋＨｚ高電圧電源がコプラナー電極
にわたり電圧を印加させるために利用され、その電極は
接地包囲体から電気的に絶縁されていた。

【００３９】処理は、０．１０トルの圧力で、略３３０
ｓｔｄ.ｃｃ/分の流量で窒素雰囲気下にて実行した。ウ
ェッブ速度は３〜１５ｍ/分の間で変化させ、処理ドー
ズを制御するために６０Ｗから４６５Ｗの間で電源を変
化させた。処理ドーズ量（単位はＪ/ｃｍ^２で表示）は
電力と滞留時間（秒単位で表示）とを掛け（２ｘ[０．
７６/ウェッブ速度] ｘ６０、ここでウェッブ速度はｍ
/分の単位である）、一対の電極の面積５００ｃｍ^２で
除算して算定した。結果得られたドーズ量は０．０７か
ら２．８Ｊ/ｃｍ^２の範囲に及んでいた。

【００４０】１．８重量％のビス（ビニルスルホニル）
メタン（ＢＶＳＭ）の水中の初期溶液を、１．７２ｇの
出発溶液を９８．２８ｇの脱イオン水に添加してさらに
希釈した。下塗り層として、R. D. スペシャリティーズ
社製＃１２ワイヤ巻付ロッドを利用して、上記結果生成
した溶液（０．０３重量％のＢＶＳＭ）を１３ｃｍｘ４
６ｃｍシートに０．２７ｃｃ/ｄｍ^２で塗布した。シー
トを温度制御されたブロックに載置させ、ブロック周辺
近傍の吸引溝により取付けて保持させた。ブロックの温
度は４９℃であった。水バルクが除去され、表面は乾燥
するまで、塗膜を数分間ワォームブロックにて乾燥させ
た。

【００４１】加えて、窒素プラズマ処理ＰＥＮのサンプ
ルを、０．１重量％のビス（ビニルスルホニル）メチル
エーテル（以下、「ＢＶＳＭＥ」という）の水溶液に、
室温で５分間浸漬した。次いで、４０℃で５分間乾燥さ
せ、脱イオン水で１分間洗浄し、空気中で乾燥させた。
第二組のサンプルは０．５分間室温で０．１重量％のＢ
ＶＳＭに窒素プラズマ処理ＰＥＮに浸漬させて調製し、
次いで、９３℃で５分間乾燥させた。また、上記サンプ
ルを脱イオン水で１分間洗浄し、空気中で乾燥させた。
前記したサンプルを、Ｘ線光電子分光法（以下、「ＸＰ
Ｓ」という）を利用して調査した。処理済表面へビニル
スルホンの付着が、検出された硫黄の量に基づいて評価
した。次いで、硫黄の量はハードナー分子の各タイプの
サイズを決定するように、分子軌道計算法を利用して、
（単層の）ハードナーの略被覆率へ変換させた。支持体
へ一の端部が付着し、他の端部は未反応であるＢＶＳＭ
の一層は、１０^１５群/ｃｍ^２の利用可能な反応性に相
当した。図１及び図２から分かるように、ＢＶＳＭ又は
ＢＶＭＥの被覆率はプラズマ処理されたＰＥＮの窒素含
有量と比例し、プラズマ処理ドーズ量を増大させるとア
ミン基の表面密度が増大する結果と一致した。洗浄サン
プルのＸＰＳ研究の結果から、ビニルスルホンを基礎と
するハードナーはプラズマ処理された支持体と結合する
ことが分かる。後述する塗膜及び接着実験と、Grace他
の米国特許第５,５６３,０２９号にて開示された先の研
究とから、ビニルスルホンの重量な量はゼラチンを基礎
とするオーバーコートへの結合に利用できることが判明
している。ＸＰＳ研究に基づくと、本発明者らは、ＢＶ
ＳＭ塗布工程と組合せて、表１に示す処理条件では、前
記したように、ＢＶＳＭの被覆率の範囲を、＜０．１単
層から１単層、又はｃｍ ^２当たり＜１０^１４から１０
^１５の利用可能なビニルスルホン基を及ばせることが判
明した。（十分に低処理ドーズ量では、ＢＶＳＭ分子が
処理ポリマー表面に結合した両端部を有するという問題
点があり、ｃｍ^２当たり利用可能な基をさらに低減させ
る。利用可能な表面の基の低濃度範囲は以下の例２によ
り取扱われる。） ロールフォーマットの熱処理をシミュレートするため
に、ＰＥＮのＢＶＳＭ塗布シートを積層して載置させ、
ＰＥＮのクリーンで、未処理シートで挟み込んだ。塗布
及び未塗布シートの積層を、１００℃で２日間オーブン
に載置させた。第二の組のサンプルは室温の放置し、熱
処理を行わなかった。

【００４２】銀塩エマルジョン（親水性コロイド層）の
よる塗布をシミュレートするために、ＢＶＳＭ塗布支持
体を、ゴールド４００写真フィルムの底層で略８６ｍｇ
/ｄｍ^２の乾燥被覆率でオーバーコートした。本層に
は、ゼラチン、色素、カップラー溶媒、界面活性剤及び
ゴールド４００フィルムの底層では通常に利用される他
の添加物を含有していた。その層は２１℃で塗布され、
４℃で３分１５秒冷気硬化させ、１８℃で２分４０秒乾
燥させ、さらに４９℃で６分間乾燥させた。エマルジョ
ン塗布後、サンプルを積層させて載置させ、エマルジョ
ン層を硬化させるために、１０日間２１℃５０％の相対
湿度条件で維持させた。

【００４３】実際の接着を写真現像機にて機械摩耗試験
機を利用して評価した。試験は、３分１５秒Flexicolor
（登録商標）Ｃ−４１現像液に３８℃でサンプルを浸漬
させて実行した。サンプルを現像液で充填させたトレイ
の載置させ、３Ｍ社製の３５ｍｍ径のスコッチブライト
（登録商標）のパッドに重りを付けて、サンプル表面に
沿って前後に３０回、大雑把に３０秒間擦った。負荷さ
せた重量は４００ｇであった。サンプルを水でリンス
し、乾燥させた。擦られた領域にて除去された塗膜量
は、光学スキャナー（ロジテックスキャンマン社製）を
使用して評価し、接着不良結果を除去％として報告す
る。通常、摩耗による引掻傷と、シミュレートした写真
エマルジョン層の密着不良を、０ないし５％として評価
された。接着不良は上記レベル以上にて除去され、１０
ないし１００％除去は顕著に接着不良が発生しているこ
とを示唆している。

【００４４】窒素放電処理と、アニール処理された及び
未アニール処理された下塗り層へのエマルジョン塗布に
よる接着不良とを、表１に掲載する。未処理のコントロ
ールサンプルは、代表的な親水性コロイド層を、未処理
及び未下塗りＰＥＮ支持体に塗布することにより調製し
た。その結果、下塗り層と表面処理過程の重要性が例証
された。

【００４５】サンプル１Ｕないし５ＵはＢＶＳＭ下塗り
層が塗布されているが、代表的な写真エマルジョン（親
水性コロイド層）を塗布の先立ち、熱処理は行われてい
なかった。上記サンプルから、Grace他の米国特許第５,
５６３,０２９号の発見を確認し、窒素プラズマ処理ポ
リエステルと組合せたアミン反応性ハードナーは塗布親
水性コロイド層の接着を十分に促進させることが判明し
た。

【００４６】サンプル１Ａないし５ＡはＢＶＳＭ下塗り
層が塗布されており、次いで、親水性コロイド層を塗布
するに先立ち、熱的に処理された（アニールされた）。
塗布した親水性コロイド層の接着のアニーリング処理の
インパクトはマイナーであり（それぞれアニールされた
サンプル１Ａないし３Ａに結果とサンプル１Ｕないし３
Ｕの結果を比較すると）、良好な接着をもたらす条件が
判明した（特に４Ａ及び５Ａ）。この結果は、熱処理中
に反応性ＢＶＳＭ層が重合する又は他の反応が進行する
と予想するであろう当業者からは、予測できたものでは
ない。また、未反応ＢＶＳＭは蒸発により表面から放出
することは予測できる。しかしながら、十分なプラズマ
処理ドーズ量では、熱処理し、ＢＶＳＭ塗布した支持体
でさえも、良好な接着が得られる。

【００４７】

【表１】 表１は処理条件と、ＢＶＳＭ塗布し、窒素プラズマ処理
したＰＥＮの塗布した代表的な写真エマルジョンの接着
結果とを掲載する。

【００４８】例 ２：アミン反応性側鎖機を有するポリ
マー系ハードナー 上記例１に説明したように、プラズマ処理をＰＥＮに対
して行った。１０重量％のアクリルアミド（以下、
「Ａ」という）と、８０重量％の２‐アクリルアミド‐
２‐メチルプロパンスルホン酸のナトリウム塩（以下、
「ＡＭＰＳ」という）と、１０重量％の４‐アクリルア
ミドベンジル‐（２‐クロロ）エチルスルホンの脱ハロ
ゲン化水素物（以下、ビニルスＲ本を含有するモノマー
として、「ＶＳＭ」という）とを有するターポリマー
を、適正な割合のモノマーを水/アセトン（重量で２/
１）に溶解させて生成し、全体のモノマーの最終溶液１
５重量％にした。これに窒素ガスを少なくとも２０分間
吹き込み、続いてＫ_２Ｓ_２Ｏ_８（モノマーを基準にして
０．１ないし０．３重量％）添加した。反応混合液を窒
素下で、６０ないし６５℃、１６ないし１８時間加熱
し、その後冷却した。

【００４９】脱ハロゲン化水素は、希水酸化ナトリウム
溶液の添加と、その後３０分間の攪拌により、重合溶液
のｐＨを１１に調節することにより実行し、希酢酸によ
りｐＨを７へ再調節した。その溶液を透析し、不純物を
除去した（なお、脱ハロゲン化水素後の最終ターポリマ
ーには塩素を全く含んでいなかった）。

【００５０】１．８重量％のターポリマーの出発溶液
を、１，７２ｇの出発溶液を９８．２８ｇの脱イオン水
に添加することによりさらに希釈した。第二の希釈溶液
は０．１７２ｇの出発溶液９９．２８ｇの脱イオン水へ
添加することにより調製した。下塗り層として、生じた
溶液（それぞれ０．０３重量％と０．００３重量％のタ
ーポリマー）を、例１に説明したＰＥＮシートに塗布し
た。

【００５１】例１のように、下塗り層を塗布したＰＥＮ
のシートを積層させて載置させることにより熱処理を実
行し、クリーンで、未処理のＰＥＮシートで挟み込ん
だ。その後、塗布及び未塗布のシートの積層を、２日間
１００℃でオーブンに載置させた。第二のクのサンプル
を室温で放置させ、熱処理は行わなかった。

【００５２】実際の接着は例１と同様に評価した。接着
データの結果を表２に掲載する。表２から、処理ドーズ
量と下塗り層（ターポリマー）とのある種の組合せによ
り、下塗り塗布した支持体あり、またはなしで、良好な
接着を得られることが判明した（例えば、未アニーリン
グサンプル９Ｕと１４Ｕ、及びそれぞれの対応アニール
サンプル９Ａおよび１４Ａを参照）。また、その結果か
ら、ターポリマーの乾燥被覆率と処理ドーズ量にはある
種の関係（感度に相当）があることを示す。低プラズマ
処理ドーズ量では（サンプル６Ｕ，６Ａ、１１Ｕ及び１
１Ａ）、アニール及び未アニール処理サンプルは著しく
接着不良をもたらすことが分かる。また、アニーリング
の際には、過剰な処理ドーズ量により接着不良をもたら
すことも例証されている（サンプル１０Ｕと１０Ａの結
果の対比から）。よって、プラズマ処理及び下塗り層の
過程には、当業者の創作能力をもってすれば達成するこ
とが可能である、最適化が必要である。

【００５３】

【表２】 表２は、ターポリマー塗布し、窒素プラズマ処理したＰ
ＥＮに塗布した代表的な写真エマルジョンの処理条件
と、ターポリマー（Ａ−ＡＭＰＳ−ＶＳ）被覆率と、接
着結果とを掲載する。

【００５４】例 ３：ポリマー製ハードナー組成物の変
動 プラズマ処理は、例１と同様に実行した。アクリルアミ
ド（以下、「Ａ」という）と、アクリルアミド‐２‐メ
チルプロパンスルホン酸ナトリウム塩（以下、「ＡＭＰ
Ｓ」という）と、４‐アクリルアミドベンジル‐（２‐
クロロ）エチルスルホンの脱ハロゲン化水素物（ビニル
スルホン含有モノマー、つまりＶＳＭ）とを有するター
ポリマーを使用した。前述したように、最終のターポリ
マーは脱ハロゲン化水素後には塩素が全く含有していな
い。加えて、２‐アクリルアミド‐２‐メチルプロパン
スルホン酸ナトリウム塩と４‐アクリルアミドベンジル
‐（２‐クロロ）エチルスルホンの脱ハロゲン化水素物
のコポリマーを合成した。ターポリマーと二成分コポリ
マーでは、４‐アクリルアミドベンジル‐（２‐クロ
ロ）エチルスルホンの脱ハロゲン化水素物のモル比は、
７から２５の範囲にわたる。利用したさまざなまターポ
リマーとコポリマーを表３に掲載する。

【００５５】ターポリマー及びコポリマーを合成するた
めに、適正な比率のモノマーを水/アセトン（２/１の重
量比）に溶解させ、全体のモノマーで１５重量％の最終
の溶液を生成させた。これに窒素ガスを少なくとも２０
分間導入し、次いで、Ｋ_２Ｓ_２Ｏ_８（モノマーを基準に
０．１ないし０．３重量％）を添加した。反応混合液を
Ｎ_２下で６０ないし６５℃で、１６ないし１８時間加熱
し、その後冷却させた。

【００５６】脱ハロゲン化水素は、希水酸化ナトリウム
で、３０分間攪拌させながら、重合溶液のｐＨを１１へ
調製することにより行い、希酢酸によりｐＨを７へ戻し
た。次いで、溶液を透析して不純物を除去した。

【００５７】

【表３】 表３は、窒素プラズマ処理されたＰＥＮへ塗布したター
ポリマー及びコポリマーの組成を掲載する。ビニルスル
ホン比はポリマーの繰返しユニットの全原子数でビニル
スルホン機の数を除算させたものである。

【００５８】ターポリマー及びコポリマーの希釈溶液
を、０．２７ｃｃ/ｄｍ^２のウェットの被覆率でプラズ
マ処理された支持体へ塗布した。ＴＥＲ‐８ポリマーで
は、二つの異なる希釈（脱イオン水を利用して）を調整
し、０．０８３と０．８３ｍｇ/ｄｍ^２の乾燥被覆率を
得た。他の四つのポリマーでは、乾燥被覆率０．０８３
ｍｇ/ｄｍ^２を有するサンプルのみ調製した。ポリマー
層を９ｍ/分のライン速度で塗布し、インライン乾燥器
にて９３℃で乾燥させた。前記した塗布速度では、乾燥
器での滞留時間は４分１０秒であった。高プラズマ処理
ドーズ量（２．７９Ｊ/ｃｍ^２）で処理したＰＥＮにＴ
ＥＲ‐１７を塗布させた場合以外は、界面活性剤は塗膜
へ全く添加しなかった。この場合、界面活性剤にはオー
リン（Olin）１０Ｇを利用した。

【００５９】熱処理は、直径７．６ｃｍの厚紙コアへ取
り付けた複合材料ロールへの３ｍ長の各塗膜を載置させ
ることにより行った。次いで、巻回ロールを１１０℃で
３日間オーブンに載置させ、その後２日間１００℃で載
置させた。第二の複合材料ロールを調製し、室温で放置
し、熱処理は行わなかった。上記両ロールには代表的な
親水性コロイド層（例１及び例２にて利用した調合と同
じもの）でオーバーコートさせた。本例では、代表的写
真エマルジョンを３．７ｍ/分のライン速度で、マシー
ンの押出しホッパーから塗布し、４℃の冷温硬化させ、
２１℃の第一の乾燥器、３８℃の第二の乾燥器で、それ
ぞれ３分１５秒、２分４０秒及び３分１０行で処理し
た。

【００６０】例１及び例２と同様に、ウェットでの接着
不良は、サンプルを２１℃の５０％の相対湿度で１０日
間保存させた後に評価した。接着不良の結果を図１ない
し図６にプロットした。図１及び図２は、ＴＥＲ（ター
ポリマー）シリーズの熱処理なし及びありでの各々の接
着不良を三つの異なる窒素プラズマ処理ドーズ量ととも
に示す。図３及び図４は、ＣＯ（コポリマー）シリーズ
の熱処理なし及びありでの各々の接着不良を三つの異な
る窒素プラズマ処理ドーズ量とともに示す。図５及び図
６は三つの異なる窒素プラズマ処理ドーズ量による、二
つの乾燥被覆率でのＴＥＲ−８ポリマーの熱処理なし及
びありでのそれぞれの接着不良を示す。

【００６１】図１ないし図８のグラフ及びそこに掲載さ
れたデータから、以下の結果が明らかとなる。第一に、
ポリマー性下塗り層の熱処理は、通常、接着性能を改善
させる。第二に、ビニルスルホンの比率を０．００３か
ら０．００７または０．０１０へと増大させることは、
通常、接着性能を向上させる。第三に、サブ最適ビニル
スルホンの比率の０．００３の割合では、０．０８３か
ら０．８３ｍｇ/ｄｍ ^２へとその乾燥被覆率を増大させ
ることにより、接着性能を改善させる。加えて、同じサ
ブ最適ビニルスルホンの比率では、プラズマ処理ドーズ
量が調節され、熱処理ありまたはなしで許容可能な接着
が得られる。さらに、プラズマ処理ドーズ量に関する最
も丈夫な接着は、０．００３以上のビニルスルホンの比
率にて、下塗り層の被覆率及び熱処理で得られる（本例
から、例２にて利用したターポリマーの組成物で、０．
００３のビニルスルホンがサブ最適であるが、熱処理前
後にて良好な接着を得られるように、適正に処理された
支持体の十分な厚さで塗布され、例２から導出された結
果と一致することが分かる）。最後に、必要な処理温度
でに安定である限り、ポリマー骨格の性質は重要ではな
い。

【００６２】熱処理後に向上した接着から、優先的に熱
よりもたらされる化学過程には、下塗り層の表面での反
応性基の利用可能性を犠牲することなしに、下塗り層の
ポリマー鎖と処理支持体の表面との、または下塗り層の
他のポリマー鎖との結合が関係していることが示唆され
る。上記の反応性基（ビニルスルホン側鎖から）は下塗
り層へ塗布した親水性コロイド層の接着には必須であ
る。この驚くべき結果から、本発明の目的（つまり、熱
的に安定な塩素フリーで、ゼラチンフリーな下塗り層に
付着する前述の目的）は、０．００３以上のビニルスル
ホンの比率を有するポリマー性ハードナーの使用によ
り、または反応性基の等価な表面密度を設けることによ
り充足され得る。

【図面の簡単な説明】

【図１】処理後にハードナー溶液に晒したプラズマ処理
ポリ（エチレンナフタレート）の硫黄含有量のグラフで
ある。硫黄濃度をプラズマ処理されたポリ（エチレンナ
フタレート）の導入窒素の関数としてプロットした。

【図２】処理後にハードナー溶液に晒したプラズマ処理
ポリ（エチレンナフタレート）の窒素導入の関数とし
て、ビニルスルホンを基礎とするハードナー被覆率のグ
ラフである。

【図３】エマルジョン塗布前に熱処理されていないター
ポリマー下塗り層を塗布した支持体の下塗り層の（原子
を基礎とするビニルスルホン基の濃度）組成物の関数と
しての接着不良をプロットしたグラフである。

【図４】エマルジョン塗布前に熱処理されたターポリマ
ー下塗り層を塗布した支持体の下塗り層の（原子を基礎
とするビニルスルホン基の濃度）組成物の関数としての
接着不良をプロットしたグラフである。

【図５】エマルジョン塗布前に熱処理されていないコポ
リマー下塗り層を塗布した支持体の下塗り層の（原子を
基礎とするビニルスルホン基の濃度）組成物の関数とし
ての接着不良をプロットしたグラフである。

【図６】エマルジョン塗布前に熱処理されたコポリマー
下塗り層を塗布した支持体の下塗り層の（原子を基礎と
するビニルスルホン基の濃度）組成物の関数としての接
着不良をプロットしたグラフである。

【図７】ターポリマー下塗り層被覆率の関数としての接
着不良をプロットしたグラフであり、下塗りされた支持
体はエマルジョン塗布シミュレーション前に熱処理され
ていなかった。

【図８】ターポリマー下塗り層被覆率の関数としての接
着不良をプロットしたグラフであり、下塗りされた支持
体はエマルジョン塗布シミュレーション前に熱処理され
た。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ルイス ジェイ ジェレンザー アメリカ合衆国 ニューヨーク 14580 ウェブスター ワイルドフラワー・ドライ ヴ 1221 (72)発明者 ウェイン エイ ボウマン アメリカ合衆国 オハイオ 44256 メデ ィーナ ビーチウッド・ドライヴ 651 (72)発明者 エリザベス ジー バーンズ アメリカ合衆国 ニューハンプシャー 03079 セーレム ポスト・オフィス・ボ ックス 30 (72)発明者 リチャード エイ キャッスル アメリカ合衆国 ニューヨーク 14580 ウェブスター ベイ・メドウ・ドライヴ 518 (72)発明者 デイヴィッド エム ティーガーデン アメリカ合衆国 ニューヨーク 14534 ピッツフォード イースト・ストリート 284

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （ａ）ポリマーフィルム支持体に、ｃｍ
   ^２当たり少なくとも１０^１０の密度のアミン反応性基を
   含む表面を有する塗膜を形成する形成工程と、 （ｂ）前記塗膜を有するポリマーフィルム支持体を、ポ
   リマー支持体のガラス転移温度（Ｔｇ）以下の５０℃か
   らポリマー支持体のガラス転移温度（Ｔｇ）までの温度
   で熱処理する熱処理工程と具備する、画像支持体要素の
   製造方法。
2. 【請求項２】 前記形成工程は、 （ａ）前記ポリマー支持体を窒素プラズマ処理し、 （ｂ）アミン反応性基を生成させる少なくとも二つのビ
   ニルスルホンを有するモノマーの溶液を、前記窒素プラ
   ズマ処理されたポリマー支持体に塗布し、 （ｃ）ポリマー支持体の前記モノマーの溶液を乾燥させ
   ることを実行する、請求項１に記載の製造方法。
3. 【請求項３】 （ａ）ポリマー支持体と、 （ｂ）ｃｍ^２当たり少なくとも１０^１０の密度範囲のア
   ミン反応性基を含む表面を有する下塗り層であって、前
   記ポリマー支持体に塗布させた前記下塗り層とを具備
   し、 前記下塗り層を有するポリマー支持体をポリマー支持体
   のガラス転移温度（Ｔｇ）以下の５０℃からポリマー支
   持体のガラス転移温度（Ｔｇ）までの温度で熱処理した
   画像支持体。