JP2001240598A - 7−オキサヘキサデカノリド、その合成中間体、それらの製造方法及び7−オキサヘキサデカノリドを含有する香料組成物 - Google Patents
7−オキサヘキサデカノリド、その合成中間体、それらの製造方法及び7−オキサヘキサデカノリドを含有する香料組成物Info
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Abstract
(57)【要約】
【目的】合成ムスクとして有用な7−オキサヘキサデカ
ノリド、その中間体、7−オキサヘキサデカノリドある
いはその中間体を含む組成物、それらの製造方法及び7
−オキサヘキサデカノリドを含有する香料組成物を提供
する。 【構成】6−ヒドロキシヘキサン酸又はそのエステルと
ブタジエンを原料として、Pd触媒によりテロメリ化し
て7−オキサ−9,14−ペンタデカジエン酸またはそ
のエステルを得、これをRh又はCo触媒によるヒドロ
ホルミル化反応により7−オキサ−16−オキソ−9−
ヘキサデセン酸またはそのエステルとした後、これを水
素添加反応により16−ヒドロキシ−7−オキサヘキサ
デカン酸またはそのエステルとし、さらに重合、解重合
することによって、合成ムスクとして有用な7−オキサ
ヘキサデカノリドを得る。
ノリド、その中間体、7−オキサヘキサデカノリドある
いはその中間体を含む組成物、それらの製造方法及び7
−オキサヘキサデカノリドを含有する香料組成物を提供
する。 【構成】6−ヒドロキシヘキサン酸又はそのエステルと
ブタジエンを原料として、Pd触媒によりテロメリ化し
て7−オキサ−9,14−ペンタデカジエン酸またはそ
のエステルを得、これをRh又はCo触媒によるヒドロ
ホルミル化反応により7−オキサ−16−オキソ−9−
ヘキサデセン酸またはそのエステルとした後、これを水
素添加反応により16−ヒドロキシ−7−オキサヘキサ
デカン酸またはそのエステルとし、さらに重合、解重合
することによって、合成ムスクとして有用な7−オキサ
ヘキサデカノリドを得る。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規合成ムスク香
料である7−オキサヘキサデカノリド、この7−オキサ
ヘキサデカノリドを製造するために用いられる新規合成
中間体、7−オキサヘキサデカノリドあるいはその合成
中間体を含有する組成物、これらの製造方法及び7−オ
キサヘキサデカノリドを含有する香料組成物に関する。
料である7−オキサヘキサデカノリド、この7−オキサ
ヘキサデカノリドを製造するために用いられる新規合成
中間体、7−オキサヘキサデカノリドあるいはその合成
中間体を含有する組成物、これらの製造方法及び7−オ
キサヘキサデカノリドを含有する香料組成物に関する。
【0002】
【従来の技術】麝香は古くから香料として珍重されてい
るが、高価であった。このため、麝香様香気を有する種
々の合成ムスクが開発され、また現在数多くの合成ムス
クが工業的に生産され、天然品の代替品として、あるい
は新たな麝香様香気を有する香気付与材料として種々の
製品に使用されている。麝香様香気を有する合成ムスク
は、その化学構造から、大環状ムスク、ニトロムスク、
多環状ムスク、ムスクピリジンなどのその他の合成ムス
クに大別される(例えば、印藤元一著、「合成香料(化
学と商品知識)」化学工業日報社(1996年)、第4
91〜522頁)。これら合成ムスクのうち、例えば大
環状ムスクに包含される10−オキサヘキサデカノリ
ド、11−オキサヘキサデカノリドおよび12−オキサ
ヘキサデカノリドは既に上市され、多量に使用されてい
る。これらオキサヘキサデカノリドのうち、10−オキ
サヘキサデカノリドは、優雅なムスク香を有し、香気が
シクロペンタデカノリドとアンブレットリドの中間的で
あるため、各種調合香料に用いられている。また、11
−オキサヘキサデカノリドは、拡散性あるムスク香の白
色針状結晶で、香気はシクロペンタデカノリドに似てお
り、優れた保留剤で広く調合香料に用いられているし、
またフレーバーにも有用である。更に、12−オキサヘ
キサデカノリドは、甘いムスク香の粘性液体で、石鹸香
料をはじめとして広く調合香料に用いられている。これ
ら上市されているオキサヘキサデカノリドは、いずれも
香気が良好で、保留性も良いため、合成ムスクとして非
常に重要視されている。これら10−オキサヘキサデカ
ノリド、11−オキサヘキサデカノリド、12−オキサ
ヘキサデカノリドは、工業的にはいずれも該当するヒド
ロキシオキサ脂肪酸またはそのエステルを重合、解重合
することにより製造されている。このように、オキサヘ
キサデカノリド類のうちいくつかは、優れた合成ムスク
として知られているものの、一般式(1):
るが、高価であった。このため、麝香様香気を有する種
々の合成ムスクが開発され、また現在数多くの合成ムス
クが工業的に生産され、天然品の代替品として、あるい
は新たな麝香様香気を有する香気付与材料として種々の
製品に使用されている。麝香様香気を有する合成ムスク
は、その化学構造から、大環状ムスク、ニトロムスク、
多環状ムスク、ムスクピリジンなどのその他の合成ムス
クに大別される(例えば、印藤元一著、「合成香料(化
学と商品知識)」化学工業日報社(1996年)、第4
91〜522頁)。これら合成ムスクのうち、例えば大
環状ムスクに包含される10−オキサヘキサデカノリ
ド、11−オキサヘキサデカノリドおよび12−オキサ
ヘキサデカノリドは既に上市され、多量に使用されてい
る。これらオキサヘキサデカノリドのうち、10−オキ
サヘキサデカノリドは、優雅なムスク香を有し、香気が
シクロペンタデカノリドとアンブレットリドの中間的で
あるため、各種調合香料に用いられている。また、11
−オキサヘキサデカノリドは、拡散性あるムスク香の白
色針状結晶で、香気はシクロペンタデカノリドに似てお
り、優れた保留剤で広く調合香料に用いられているし、
またフレーバーにも有用である。更に、12−オキサヘ
キサデカノリドは、甘いムスク香の粘性液体で、石鹸香
料をはじめとして広く調合香料に用いられている。これ
ら上市されているオキサヘキサデカノリドは、いずれも
香気が良好で、保留性も良いため、合成ムスクとして非
常に重要視されている。これら10−オキサヘキサデカ
ノリド、11−オキサヘキサデカノリド、12−オキサ
ヘキサデカノリドは、工業的にはいずれも該当するヒド
ロキシオキサ脂肪酸またはそのエステルを重合、解重合
することにより製造されている。このように、オキサヘ
キサデカノリド類のうちいくつかは、優れた合成ムスク
として知られているものの、一般式(1):
【化11】 で表される7−オキサヘキサデカノリドは、合成ムスク
として未だ知られていない化合物である。
として未だ知られていない化合物である。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】したがって、本発明の
目的は、新規化合物である上記7−オキサヘキサデカノ
リドを提供することである。また、本発明の他の目的
は、上記7−オキサヘキサデカノリドを製造するために
用いられる、合成中間体を提供することである。また、
本発明の他の目的は、上記7−オキサヘキサデカノリド
あるいはその合成中間体を含む組成物を提供することで
ある。更に、本発明の他の目的は、上記7−オキサヘキ
サデカノリド、その合成中間体およびこれらを含む組成
物を製造する方法を提供することである。また、本発明
の他の目的は、新規香料組成物を提供することである。
目的は、新規化合物である上記7−オキサヘキサデカノ
リドを提供することである。また、本発明の他の目的
は、上記7−オキサヘキサデカノリドを製造するために
用いられる、合成中間体を提供することである。また、
本発明の他の目的は、上記7−オキサヘキサデカノリド
あるいはその合成中間体を含む組成物を提供することで
ある。更に、本発明の他の目的は、上記7−オキサヘキ
サデカノリド、その合成中間体およびこれらを含む組成
物を製造する方法を提供することである。また、本発明
の他の目的は、新規香料組成物を提供することである。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記目的
を達成すべく鋭意検討を行った結果、上記一般式(1)
で表される7−オキサヘキサデカノリドおよびこれを含
む組成物が、安価な材料である6−ヒドロキシヘキサン
酸又はそのエステルとブタジエンとを出発原料とし、テ
ロメリゼーション、ヒドロホルミル化反応、水素添加反
応、および重合、解重合の各反応工程を経て、容易かつ
収量良く製造することができること、また得られた7−
オキサヘキサデカノリドおよびこれを含む組成物が特有
かつ良好な麝香様香気を有し、香料材料として有用であ
ることを見いだし、本発明を完成したものである。
を達成すべく鋭意検討を行った結果、上記一般式(1)
で表される7−オキサヘキサデカノリドおよびこれを含
む組成物が、安価な材料である6−ヒドロキシヘキサン
酸又はそのエステルとブタジエンとを出発原料とし、テ
ロメリゼーション、ヒドロホルミル化反応、水素添加反
応、および重合、解重合の各反応工程を経て、容易かつ
収量良く製造することができること、また得られた7−
オキサヘキサデカノリドおよびこれを含む組成物が特有
かつ良好な麝香様香気を有し、香料材料として有用であ
ることを見いだし、本発明を完成したものである。
【0005】すなわち本発明は、各々次の(1)〜(2
7)の構成からなる新規化合物、新規化合物を含む組成
物、これらの製造方法、あるいは新規香料組成物に関す
る。 (1)一般式(1):
7)の構成からなる新規化合物、新規化合物を含む組成
物、これらの製造方法、あるいは新規香料組成物に関す
る。 (1)一般式(1):
【化12】 で表される7−オキサヘキサデカノリド。
【0006】(2)上記一般式(1)で表される7−オ
キサヘキサデカノリドおよび下記一般式(11)で表さ
れる14−メチル−7−オキサペンタデカノリドを含有
し、かつ一般式(1)で表される7−オキサヘキサデカ
ノリドが一般式(1)で表される化合物と一般式(1
1)で表される化合物との合計量に対して60重量%以
上含有されてなることを特徴とする組成物。
キサヘキサデカノリドおよび下記一般式(11)で表さ
れる14−メチル−7−オキサペンタデカノリドを含有
し、かつ一般式(1)で表される7−オキサヘキサデカ
ノリドが一般式(1)で表される化合物と一般式(1
1)で表される化合物との合計量に対して60重量%以
上含有されてなることを特徴とする組成物。
【化13】
【0007】(3)一般式(2):
【化14】 (式中、Rは水素原子または炭素数1乃至4の低級アル
キル基を表す。)で表される16−ヒドロキシ−7−オ
キサヘキサデカン酸またはそのエステル。
キル基を表す。)で表される16−ヒドロキシ−7−オ
キサヘキサデカン酸またはそのエステル。
【0008】(4)上記一般式(2)で表される16−
ヒドロキシ−7−オキサヘキサデカン酸またはそのエス
テルと下記一般式(21)で表される15−ヒドロキシ
−14−メチル−7−オキサペンタデカン酸またはその
エステルを含有し、かつ一般式(2)で表される16−
ヒドロキシ−7−オキサヘキサデカン酸またはそのエス
テルが一般式(2)で表される化合物と一般式(21)
で表される化合物との合計量に対して60重量%以上含
有されてなることを特徴とする組成物。
ヒドロキシ−7−オキサヘキサデカン酸またはそのエス
テルと下記一般式(21)で表される15−ヒドロキシ
−14−メチル−7−オキサペンタデカン酸またはその
エステルを含有し、かつ一般式(2)で表される16−
ヒドロキシ−7−オキサヘキサデカン酸またはそのエス
テルが一般式(2)で表される化合物と一般式(21)
で表される化合物との合計量に対して60重量%以上含
有されてなることを特徴とする組成物。
【化15】 (式中、Rは水素原子または炭素数1乃至4の低級アル
キル基を表す。)
キル基を表す。)
【0009】(5)一般式(3):
【化16】 (式中、Rは水素原子または炭素数1乃至4の低級アル
キル基を表す。)で表される7−オキサ−16−オキソ
−9−ヘキサデセン酸またはそのエステル。
キル基を表す。)で表される7−オキサ−16−オキソ
−9−ヘキサデセン酸またはそのエステル。
【0010】(6)上記一般式(3)で表される7−オ
キサ−16−オキソ−9−ヘキサデセン酸またはそのエ
ステルおよび下記一般式(31)で表される7−オキサ
−14−メチル−15−オキソ−9−ペンタデセン酸ま
たはそのエステルを含有し、かつ一般式(3)で表され
る7−オキサ−16−オキソ−9−ヘキサデセン酸また
はそのエステルが一般式(3)で表される化合物と一般
式(31)で表される化合物との合計量に対して60重
量%以上含有されてなることを特徴とする組成物。
キサ−16−オキソ−9−ヘキサデセン酸またはそのエ
ステルおよび下記一般式(31)で表される7−オキサ
−14−メチル−15−オキソ−9−ペンタデセン酸ま
たはそのエステルを含有し、かつ一般式(3)で表され
る7−オキサ−16−オキソ−9−ヘキサデセン酸また
はそのエステルが一般式(3)で表される化合物と一般
式(31)で表される化合物との合計量に対して60重
量%以上含有されてなることを特徴とする組成物。
【化17】 (式中、Rは水素原子または炭素数1乃至4の低級アル
キル基を表す。)
キル基を表す。)
【0011】(7)一般式(4):
【化18】 (式中、Rは水素原子または炭素数1乃至4の低級アル
キル基を表す。)で表される7−オキサ−9,14−ペ
ンタデカジエン酸またはそのエステル。
キル基を表す。)で表される7−オキサ−9,14−ペ
ンタデカジエン酸またはそのエステル。
【0012】(8)上記一般式(2)で表される16−
ヒドロキシ−7−オキサヘキサデカン酸またはそのエス
テルを重合、解重合することを特徴とする上記一般式
(1)で表される7−オキサヘキサデカノリドの製造方
法。
ヒドロキシ−7−オキサヘキサデカン酸またはそのエス
テルを重合、解重合することを特徴とする上記一般式
(1)で表される7−オキサヘキサデカノリドの製造方
法。
【0013】(9)上記(4)記載の16−ヒドロキシ
−7−オキサヘキサデカン酸またはそのエステルを含有
する組成物を、重合、解重合することを特徴とする上記
(2)記載の7−オキサヘキサデカノリドを含有する組
成物の製造方法。
−7−オキサヘキサデカン酸またはそのエステルを含有
する組成物を、重合、解重合することを特徴とする上記
(2)記載の7−オキサヘキサデカノリドを含有する組
成物の製造方法。
【0014】(10)上記一般式(3)で表される7−
オキサ−16−オキソ−9−ヘキサデセン酸またはその
エステルを触媒の存在下に水素化することを特徴とす
る、上記一般式(2)で表される16−ヒドロキシ−7
−オキサヘキサデカン酸またはそのエステルの製造方
法。
オキサ−16−オキソ−9−ヘキサデセン酸またはその
エステルを触媒の存在下に水素化することを特徴とす
る、上記一般式(2)で表される16−ヒドロキシ−7
−オキサヘキサデカン酸またはそのエステルの製造方
法。
【0015】(11)上記(6)記載の7−オキサ−1
6−オキソ−9−ヘキサデセン酸またはそのエステルを
含有する組成物を、触媒の存在下、水素化することを特
徴とする上記(4)記載の16−ヒドロキシ−7−オキ
サヘキサデカン酸またはそのエステルを含有する組成物
の製造方法。
6−オキソ−9−ヘキサデセン酸またはそのエステルを
含有する組成物を、触媒の存在下、水素化することを特
徴とする上記(4)記載の16−ヒドロキシ−7−オキ
サヘキサデカン酸またはそのエステルを含有する組成物
の製造方法。
【0016】(12)上記一般式(4)で表される7−
オキサ−9,14−ペンタデカジエン酸またはそのエス
テルを、触媒の存在下、ヒドロホルミル化することを特
徴とする上記一般式(3)で表される7−オキサ−16
−オキソ−9−ヘキサデセン酸またはそのエステルの製
造方法。
オキサ−9,14−ペンタデカジエン酸またはそのエス
テルを、触媒の存在下、ヒドロホルミル化することを特
徴とする上記一般式(3)で表される7−オキサ−16
−オキソ−9−ヘキサデセン酸またはそのエステルの製
造方法。
【0017】(13)上記一般式(4)記載の7−オキ
サ−9,14−ペンタデカジエン酸またはそのエステル
を、触媒の存在下、ヒドロホルミル化することを特徴と
する上記(6)記載の7−オキサ−16−オキソ−9−
ヘキサデセン酸またはそのエステルを含有する組成物の
製造方法。
サ−9,14−ペンタデカジエン酸またはそのエステル
を、触媒の存在下、ヒドロホルミル化することを特徴と
する上記(6)記載の7−オキサ−16−オキソ−9−
ヘキサデセン酸またはそのエステルを含有する組成物の
製造方法。
【0018】(14)一般式(5):
【化19】 (式中、Rは水素原子または炭素数1乃至4の低級アル
キル基を表す。)で表される6−ヒドロキシヘキサン酸
またはそのエステルを、触媒の存在下、一般式(6):
キル基を表す。)で表される6−ヒドロキシヘキサン酸
またはそのエステルを、触媒の存在下、一般式(6):
【化20】 で表されるブタジエンと反応させることを特徴とする上
記一般式(4)で表される7−オキサ−9,14−ペン
タデカジエン酸またはそのエステルの製造方法。
記一般式(4)で表される7−オキサ−9,14−ペン
タデカジエン酸またはそのエステルの製造方法。
【0019】(15)上記一般式(3)で表される7−
オキサ−16−オキソ−9−ヘキサデセン酸またはその
エステルを、触媒の存在下、水素化して、上記一般式
(2)で表される16−ヒドロキシ−7−オキサヘキサ
デカン酸またはそのエステルを得、次いでこの16−ヒ
ドロキシ−7−オキサヘキサデカン酸またはそのエステ
ルを重合、解重合することを特徴とする上記一般式
(1)で表される7−オキサヘキサデカノリドの製造方
法。
オキサ−16−オキソ−9−ヘキサデセン酸またはその
エステルを、触媒の存在下、水素化して、上記一般式
(2)で表される16−ヒドロキシ−7−オキサヘキサ
デカン酸またはそのエステルを得、次いでこの16−ヒ
ドロキシ−7−オキサヘキサデカン酸またはそのエステ
ルを重合、解重合することを特徴とする上記一般式
(1)で表される7−オキサヘキサデカノリドの製造方
法。
【0020】(16)上記(6)記載の7−オキサ−1
6−オキソ−9−ヘキサデセン酸またはそのエステルを
含有する組成物を、触媒の存在下、水素化して、上記
(4)記載の16−ヒドロキシ−7−オキサヘキサデカ
ン酸またはそのエステルを含有する組成物を得、次いで
この16−ヒドロキシ−7−オキサヘキサデカン酸また
はそのエステルを含有する組成物を、重合、解重合する
ことを特徴とする上記(2)記載の7−オキサヘキサデ
カノリドを含有する組成物の製造方法。
6−オキソ−9−ヘキサデセン酸またはそのエステルを
含有する組成物を、触媒の存在下、水素化して、上記
(4)記載の16−ヒドロキシ−7−オキサヘキサデカ
ン酸またはそのエステルを含有する組成物を得、次いで
この16−ヒドロキシ−7−オキサヘキサデカン酸また
はそのエステルを含有する組成物を、重合、解重合する
ことを特徴とする上記(2)記載の7−オキサヘキサデ
カノリドを含有する組成物の製造方法。
【0021】(17)上記一般式(4)で表される7−
オキサ−9,14−ペンタデカジエン酸またはそのエス
テルを、触媒の存在下、ヒドロホルミル化して、上記一
般式(3)で表される7−オキサ−16−オキソ−9−
ヘキサデセン酸またはそのエステルを得、得られた7−
オキサ−9,14−ペンタデカジエン酸またはそのエス
テルを、触媒の存在下、水素化して、上記一般式(2)
で表される16−ヒドロキシ−7−オキサヘキサデカン
酸またはそのエステルを得、これを重合、解重合するこ
とを特徴とする上記一般式(1)で表される7−オキサ
ヘキサデカノリドの製造方法。
オキサ−9,14−ペンタデカジエン酸またはそのエス
テルを、触媒の存在下、ヒドロホルミル化して、上記一
般式(3)で表される7−オキサ−16−オキソ−9−
ヘキサデセン酸またはそのエステルを得、得られた7−
オキサ−9,14−ペンタデカジエン酸またはそのエス
テルを、触媒の存在下、水素化して、上記一般式(2)
で表される16−ヒドロキシ−7−オキサヘキサデカン
酸またはそのエステルを得、これを重合、解重合するこ
とを特徴とする上記一般式(1)で表される7−オキサ
ヘキサデカノリドの製造方法。
【0022】(18)上記一般式(4)で表される7−
オキサ−9,14−ペンタデカジエン酸またはそのエス
テルを、触媒の存在下、ヒドロホルミル化して、上記
(6)記載の7−オキサ−16−オキソ−9−ヘキサデ
セン酸またはそのエステルを含有する組成物を得、次い
でこの7−オキサ−16−オキソ−9−ヘキサデセン酸
またはそのエステルを含有する組成物を触媒の存在下、
水素化して、上記(4)記載の16−ヒドロキシ−7−
オキサヘキサデカン酸またはそのエステルを含有する組
成物を得、更にこの16−ヒドロキシ−7−オキサヘキ
サデカン酸またはそのエステルを含有する組成物を、重
合、解重合することを特徴とする上記(2)記載の7−
オキサヘキサデカノリドを含有する組成物の製造方法。
オキサ−9,14−ペンタデカジエン酸またはそのエス
テルを、触媒の存在下、ヒドロホルミル化して、上記
(6)記載の7−オキサ−16−オキソ−9−ヘキサデ
セン酸またはそのエステルを含有する組成物を得、次い
でこの7−オキサ−16−オキソ−9−ヘキサデセン酸
またはそのエステルを含有する組成物を触媒の存在下、
水素化して、上記(4)記載の16−ヒドロキシ−7−
オキサヘキサデカン酸またはそのエステルを含有する組
成物を得、更にこの16−ヒドロキシ−7−オキサヘキ
サデカン酸またはそのエステルを含有する組成物を、重
合、解重合することを特徴とする上記(2)記載の7−
オキサヘキサデカノリドを含有する組成物の製造方法。
【0023】(19)上記一般式(5)で表される6−
ヒドロキシヘキサン酸またはそのエステルを、触媒の存
在下、上記一般式(6)で表されるブタジエンと反応さ
せて、上記一般式(4)で表される7−オキサ−9,1
4−ペンタデカジエン酸またはそのエステルを得、この
7−オキサ−9,14−ペンタデカジエン酸またはその
エステルを、触媒の存在下、ヒドロホルミル化して、上
記一般式(3)で表される7−オキサ−16−オキソ−
9−ヘキサデセン酸またはそのエステルを得、これを、
触媒の存在下、水素化して、上記一般式(2)で表され
る16−ヒドロキシ−7−オキサヘキサデカン酸または
そのエステルを得、さらにこの16−ヒドロキシ−7−
オキサヘキサデカン酸またはそのエステルを重合、解重
合することを特徴とする上記一般式(1)記載の7−オ
キサヘキサデカノリドの製造方法。
ヒドロキシヘキサン酸またはそのエステルを、触媒の存
在下、上記一般式(6)で表されるブタジエンと反応さ
せて、上記一般式(4)で表される7−オキサ−9,1
4−ペンタデカジエン酸またはそのエステルを得、この
7−オキサ−9,14−ペンタデカジエン酸またはその
エステルを、触媒の存在下、ヒドロホルミル化して、上
記一般式(3)で表される7−オキサ−16−オキソ−
9−ヘキサデセン酸またはそのエステルを得、これを、
触媒の存在下、水素化して、上記一般式(2)で表され
る16−ヒドロキシ−7−オキサヘキサデカン酸または
そのエステルを得、さらにこの16−ヒドロキシ−7−
オキサヘキサデカン酸またはそのエステルを重合、解重
合することを特徴とする上記一般式(1)記載の7−オ
キサヘキサデカノリドの製造方法。
【0024】(20)上記一般式(5)で表される6−
ヒドロキシヘキサン酸またはそのエステルを、触媒の存
在下、一般式(6)で表されるブタジエンと反応させ
て、一般式(4)記載の7−オキサ−9,14−ペンタ
デカジエン酸またはそのエステルを得、次いでこの7−
オキサ−9,14−ペンタデカジエン酸またはそのエス
テルを、触媒の存在下、ヒドロホルミル化して、上記
(6)記載の7−オキサ−16−オキソ−9−ヘキサデ
セン酸またはそのエステルを含有する組成物を得、更に
この7−オキサ−16−オキソ−9−ヘキサデセン酸ま
たはそのエステルを含有する組成物を、触媒の存在下、
水素化して、上記(4)記載の16−ヒドロキシ−7−
オキサヘキサデカン酸またはそのエステルを含有する組
成物を得た後、この16−ヒドロキシ−7−オキサヘキ
サデカン酸またはそのエステルを含有する組成物を、重
合、解重合することを特徴とする上記(2)記載の7−
オキサヘキサデカノリドを含有する組成物の製造方法。
ヒドロキシヘキサン酸またはそのエステルを、触媒の存
在下、一般式(6)で表されるブタジエンと反応させ
て、一般式(4)記載の7−オキサ−9,14−ペンタ
デカジエン酸またはそのエステルを得、次いでこの7−
オキサ−9,14−ペンタデカジエン酸またはそのエス
テルを、触媒の存在下、ヒドロホルミル化して、上記
(6)記載の7−オキサ−16−オキソ−9−ヘキサデ
セン酸またはそのエステルを含有する組成物を得、更に
この7−オキサ−16−オキソ−9−ヘキサデセン酸ま
たはそのエステルを含有する組成物を、触媒の存在下、
水素化して、上記(4)記載の16−ヒドロキシ−7−
オキサヘキサデカン酸またはそのエステルを含有する組
成物を得た後、この16−ヒドロキシ−7−オキサヘキ
サデカン酸またはそのエステルを含有する組成物を、重
合、解重合することを特徴とする上記(2)記載の7−
オキサヘキサデカノリドを含有する組成物の製造方法。
【0025】(21)上記一般式(4)で表される7−
オキサ−9,14−ペンタデカジエン酸またはそのエス
テルを、触媒の存在下、ヒドロホルミル化して、上記一
般式(3)で表される7−オキサ−16−オキソ−9−
ヘキサデセン酸またはそのエステルを得、これを触媒の
存在下、水素化することを特徴とする上記一般式(2)
で表される16−ヒドロキシ−7−オキサヘキサデカン
酸またはそのエステルの製造方法。
オキサ−9,14−ペンタデカジエン酸またはそのエス
テルを、触媒の存在下、ヒドロホルミル化して、上記一
般式(3)で表される7−オキサ−16−オキソ−9−
ヘキサデセン酸またはそのエステルを得、これを触媒の
存在下、水素化することを特徴とする上記一般式(2)
で表される16−ヒドロキシ−7−オキサヘキサデカン
酸またはそのエステルの製造方法。
【0026】(22)上記一般式(4)で表される7−
オキサ−9,14−ペンタデカジエン酸またはそのエス
テルを、触媒の存在下、ヒドロホルミル化して、上記
(6)記載の7−オキサ−16−オキソ−9−ヘキサデ
セン酸またはそのエステルを含有する組成物を得、次い
でこの7−オキサ−16−オキソ−9−ヘキサデセン酸
またはそのエステルを含有する組成物を触媒の存在下、
水素化することを特徴とする上記(4)記載の16−ヒ
ドロキシ−7−オキサヘキサデカン酸またはそのエステ
ルを含有する組成物の製造方法。
オキサ−9,14−ペンタデカジエン酸またはそのエス
テルを、触媒の存在下、ヒドロホルミル化して、上記
(6)記載の7−オキサ−16−オキソ−9−ヘキサデ
セン酸またはそのエステルを含有する組成物を得、次い
でこの7−オキサ−16−オキソ−9−ヘキサデセン酸
またはそのエステルを含有する組成物を触媒の存在下、
水素化することを特徴とする上記(4)記載の16−ヒ
ドロキシ−7−オキサヘキサデカン酸またはそのエステ
ルを含有する組成物の製造方法。
【0027】(23)上記一般式(5)で表される6−
ヒドロキシヘキサン酸またはそのエステルを触媒の存在
下、上記一般式(6)で表されるブタジエンと反応させ
て、上記一般式(4)で表される7−オキサ−9,14
−ペンタデカジエン酸またはそのエステルを得、これ
を、触媒の存在下、ヒドロホルミル化して、上記一般式
(3)で表される7−オキサ−16−オキソ−9−ヘキ
サデセン酸またはそのエステルを得、さらにこの7−オ
キサ−16−オキソ−9−ヘキサデセン酸またはそのエ
ステルを、触媒の存在下、水素化することを特徴とする
上記一般式(2)で表される16−ヒドロキシ−7−オ
キサヘキサデカン酸またはそのエステルの製造方法。
ヒドロキシヘキサン酸またはそのエステルを触媒の存在
下、上記一般式(6)で表されるブタジエンと反応させ
て、上記一般式(4)で表される7−オキサ−9,14
−ペンタデカジエン酸またはそのエステルを得、これ
を、触媒の存在下、ヒドロホルミル化して、上記一般式
(3)で表される7−オキサ−16−オキソ−9−ヘキ
サデセン酸またはそのエステルを得、さらにこの7−オ
キサ−16−オキソ−9−ヘキサデセン酸またはそのエ
ステルを、触媒の存在下、水素化することを特徴とする
上記一般式(2)で表される16−ヒドロキシ−7−オ
キサヘキサデカン酸またはそのエステルの製造方法。
【0028】(24)上記一般式(5)で表される6−
ヒドロキシヘキサン酸またはそのエステルを、触媒の存
在下、一般式(6)で表されるブタジエンと反応させ
て、上記一般式(4)で表される7−オキサ−9,14
−ペンタデカジエン酸またはそのエステルを得、次いで
この7−オキサ−9,14−ペンタデカジエン酸または
そのエステルを、触媒の存在下、ヒドロホルミル化し
て、上記(6)記載の7−オキサ−16−オキソ−9−
ヘキサデセン酸またはそのエステルを含有する組成物を
得、更にこの7−オキサ−16−オキソ−9−ヘキサデ
セン酸またはそのエステルを含有する組成物を、触媒の
存在下、水素化することを特徴とする上記(4)記載の
16−ヒドロキシ−7−オキサヘキサデカン酸またはそ
のエステルを含有する組成物の製造方法。
ヒドロキシヘキサン酸またはそのエステルを、触媒の存
在下、一般式(6)で表されるブタジエンと反応させ
て、上記一般式(4)で表される7−オキサ−9,14
−ペンタデカジエン酸またはそのエステルを得、次いで
この7−オキサ−9,14−ペンタデカジエン酸または
そのエステルを、触媒の存在下、ヒドロホルミル化し
て、上記(6)記載の7−オキサ−16−オキソ−9−
ヘキサデセン酸またはそのエステルを含有する組成物を
得、更にこの7−オキサ−16−オキソ−9−ヘキサデ
セン酸またはそのエステルを含有する組成物を、触媒の
存在下、水素化することを特徴とする上記(4)記載の
16−ヒドロキシ−7−オキサヘキサデカン酸またはそ
のエステルを含有する組成物の製造方法。
【0029】(25)上記一般式(5)で表される6−
ヒドロキシヘキサン酸またはそのエステルを、触媒の存
在下、上記一般式(6)で表されるブタジエンと反応さ
せて、上記一般式(4)で表される7−オキサ−9,1
4−ペンタデカジエン酸またはそのエステルを得、これ
を、触媒の存在下、ヒドロホルミル化することを特徴と
する上記一般式(3)で表される7−オキサ−16−オ
キソ−9−ヘキサデセン酸またはそのエステルの製造方
法。
ヒドロキシヘキサン酸またはそのエステルを、触媒の存
在下、上記一般式(6)で表されるブタジエンと反応さ
せて、上記一般式(4)で表される7−オキサ−9,1
4−ペンタデカジエン酸またはそのエステルを得、これ
を、触媒の存在下、ヒドロホルミル化することを特徴と
する上記一般式(3)で表される7−オキサ−16−オ
キソ−9−ヘキサデセン酸またはそのエステルの製造方
法。
【0030】(26)上記一般式(5)で表される6−
ヒドロキシヘキサン酸またはそのエステルを、触媒の存
在下、上記一般式(6)で表されるブタジエンと反応さ
せて、上記一般式(4)で表される7−オキサ−9,1
4−ペンタデカジエン酸またはそのエステルを得、これ
を、触媒の存在下、ヒドロホルミル化することを特徴と
する上記(6)記載の7−オキサ−16−オキソ−9−
ヘキサデセン酸またはそのエステルを含有する組成物の
製造方法。
ヒドロキシヘキサン酸またはそのエステルを、触媒の存
在下、上記一般式(6)で表されるブタジエンと反応さ
せて、上記一般式(4)で表される7−オキサ−9,1
4−ペンタデカジエン酸またはそのエステルを得、これ
を、触媒の存在下、ヒドロホルミル化することを特徴と
する上記(6)記載の7−オキサ−16−オキソ−9−
ヘキサデセン酸またはそのエステルを含有する組成物の
製造方法。
【0031】(27)上記一般式(1)で表される7−
オキサヘキサデカノリドを有効成分として含有する香料
組成物。
オキサヘキサデカノリドを有効成分として含有する香料
組成物。
【0032】
【発明の実施の形態】以下、本発明の新規7−オキサヘ
キサデカノリドの製造方法を、合成中間体である一般式
(4)で表される7−オキサ−9,14−ペンタデカジ
エン酸又はそのエステルの製造から、以下順次詳細に説
明する。
キサデカノリドの製造方法を、合成中間体である一般式
(4)で表される7−オキサ−9,14−ペンタデカジ
エン酸又はそのエステルの製造から、以下順次詳細に説
明する。
【0033】7−オキサ−9,14−ペンタデカジエン
酸またはそのエステルの製造 上記一般式(4)で表される7−オキサ−9,14−ペ
ンタデカジエン酸又はそのエステルは、以下の反応式
(1)にしたがって、触媒、例えばパラジウム触媒の存
在下に、6−ヒドロキシヘキサン酸またはそのエステル
(5)とブタジエン(6)を反応(テロメリ化)させる
ことにより、容易に合成できる。なお、出発原料である
6−ヒドロキシヘキサン酸又はそのエステル(5)は、
市販のε−カプロラクトン又はポリカプロラクトンを、
加水分解又はアルコリシスすることによって容易に合成
できる。
酸またはそのエステルの製造 上記一般式(4)で表される7−オキサ−9,14−ペ
ンタデカジエン酸又はそのエステルは、以下の反応式
(1)にしたがって、触媒、例えばパラジウム触媒の存
在下に、6−ヒドロキシヘキサン酸またはそのエステル
(5)とブタジエン(6)を反応(テロメリ化)させる
ことにより、容易に合成できる。なお、出発原料である
6−ヒドロキシヘキサン酸又はそのエステル(5)は、
市販のε−カプロラクトン又はポリカプロラクトンを、
加水分解又はアルコリシスすることによって容易に合成
できる。
【0034】反応式(1)
【化21】
【0035】上記6−ヒドロキシヘキサン酸又はそのエ
ステル(5)とブタジエン(6)のテロメリ化反応に用
いられるパラジウム触媒としては、PdCl2 、Pd
(CH 3 COO)2 、Pd(アセチルアセトナー
ト)2 、PdCl2(CH3 CN)2、Pd2(ジベンジ
リデンアセトン)3 、Pd(PPh3 )4 等の0価、ま
たは、2価のパラジウム錯体単独か、パラジウム錯体と
パラジウム1当量に対して1乃至20当量のホスフィン
配位子、さらに必要に応じて、反応を促進させるような
添加物とで形成される触媒が挙げられる。
ステル(5)とブタジエン(6)のテロメリ化反応に用
いられるパラジウム触媒としては、PdCl2 、Pd
(CH 3 COO)2 、Pd(アセチルアセトナー
ト)2 、PdCl2(CH3 CN)2、Pd2(ジベンジ
リデンアセトン)3 、Pd(PPh3 )4 等の0価、ま
たは、2価のパラジウム錯体単独か、パラジウム錯体と
パラジウム1当量に対して1乃至20当量のホスフィン
配位子、さらに必要に応じて、反応を促進させるような
添加物とで形成される触媒が挙げられる。
【0036】上記テロメリ化反応においては、ブタジエ
ン(6)は、6−ヒドロキシヘキサン酸又はそのエステ
ル(5)1当量に対し、通常2乃至10当量、好ましく
は2乃至5当量用いられる。また、パラジウム触媒の量
は、6−ヒドロキシヘキサン酸又はそのエステル(5)
に対して、通常0.001乃至1モル%程度、好ましく
は0.002乃至0.01モル%程度である。更に、上
記反応は、通常50乃至100℃程度の温度、好ましく
は、70乃至90℃程度の温度で、通常1時間から10
0時間程度、好ましくは5時間から50時間程度反応さ
せることにより、終了する。しかし、これらの条件は使
用される反応物質の種類や量、触媒の種類や量などによ
り適宜変更しうる。また、反応は、通常窒素ガスあるい
はアルゴンガス等の不活性ガス雰囲気下で行われる。こ
のようにして得られた7−オキサ−9,14−ペンタデ
カジエン酸又はそのエステル(4)の純度は、85%以
上である。なお、主な副生成物は、7−オキサ−8−ビ
ニル−12−トリデセン酸又はそのエステルである。反
応生成物の減圧蒸留により、目的物の分離、精製が行わ
れる。
ン(6)は、6−ヒドロキシヘキサン酸又はそのエステ
ル(5)1当量に対し、通常2乃至10当量、好ましく
は2乃至5当量用いられる。また、パラジウム触媒の量
は、6−ヒドロキシヘキサン酸又はそのエステル(5)
に対して、通常0.001乃至1モル%程度、好ましく
は0.002乃至0.01モル%程度である。更に、上
記反応は、通常50乃至100℃程度の温度、好ましく
は、70乃至90℃程度の温度で、通常1時間から10
0時間程度、好ましくは5時間から50時間程度反応さ
せることにより、終了する。しかし、これらの条件は使
用される反応物質の種類や量、触媒の種類や量などによ
り適宜変更しうる。また、反応は、通常窒素ガスあるい
はアルゴンガス等の不活性ガス雰囲気下で行われる。こ
のようにして得られた7−オキサ−9,14−ペンタデ
カジエン酸又はそのエステル(4)の純度は、85%以
上である。なお、主な副生成物は、7−オキサ−8−ビ
ニル−12−トリデセン酸又はそのエステルである。反
応生成物の減圧蒸留により、目的物の分離、精製が行わ
れる。
【0037】7−オキサ−16−オキソ−9−ヘキサデ
セン酸又はそのエステルの製造 上記一般式(3)で表される7−オキサ−16−オキソ
−9−ヘキサデセン酸又はそのエステルは、次の反応式
(2)にしたがって、触媒の存在下、上記7−オキサ−
9,14−ペンタデカジエン酸又はそのエステル(4)
を、水素、一酸化炭素圧下、外部炭素−炭素二重結合を
ヒドロホルミル化させることによって、容易に合成でき
る。反応触媒としては、例えばロジウムまたはコバルト
触媒が使用される。
セン酸又はそのエステルの製造 上記一般式(3)で表される7−オキサ−16−オキソ
−9−ヘキサデセン酸又はそのエステルは、次の反応式
(2)にしたがって、触媒の存在下、上記7−オキサ−
9,14−ペンタデカジエン酸又はそのエステル(4)
を、水素、一酸化炭素圧下、外部炭素−炭素二重結合を
ヒドロホルミル化させることによって、容易に合成でき
る。反応触媒としては、例えばロジウムまたはコバルト
触媒が使用される。
【0038】反応式(2)
【化22】
【0039】上記ヒドロホルミル化反応において用いら
れるロジウムまたはコバルト触媒としては、ヒドロホル
ミル化反応において通常使用されているロジウムまたは
コバルト触媒であればよく特に限定されないが、その中
ではロジウム触媒が適当なものである。ロジウム触媒と
しては、RhH(CO)(PPh3)3 、RhCl
(CO)(PPh3)2 、Rh(acac)(CO)
2 、[Rh(COD)Cl]2 、Rh4(CO)
16 等のロジウム錯体とロジウム錯体1当量に対して
1乃至100当量のリン配位子とで形成される触媒が挙
げられる。用いられるロジウム触媒の量は、7−オキサ
−9,14−ペンタデカジエン酸又はそのエステル
(4)に対して、0.001乃至0.1モル%程度であ
り、好ましくは0.002乃至0.01モル%程度であ
る。
れるロジウムまたはコバルト触媒としては、ヒドロホル
ミル化反応において通常使用されているロジウムまたは
コバルト触媒であればよく特に限定されないが、その中
ではロジウム触媒が適当なものである。ロジウム触媒と
しては、RhH(CO)(PPh3)3 、RhCl
(CO)(PPh3)2 、Rh(acac)(CO)
2 、[Rh(COD)Cl]2 、Rh4(CO)
16 等のロジウム錯体とロジウム錯体1当量に対して
1乃至100当量のリン配位子とで形成される触媒が挙
げられる。用いられるロジウム触媒の量は、7−オキサ
−9,14−ペンタデカジエン酸又はそのエステル
(4)に対して、0.001乃至0.1モル%程度であ
り、好ましくは0.002乃至0.01モル%程度であ
る。
【0040】上記反応は、通常室温乃至120℃程度の
温度、好ましくは、50乃至110℃程度の温度で、通
常1時間から100時間程度、好ましくは、5時間から
60時間程度反応させることにより、終了する。しか
し、これらの条件は使用される反応物質の種類や量、触
媒の種類や量、反応圧力などにより適宜変更しうる。
温度、好ましくは、50乃至110℃程度の温度で、通
常1時間から100時間程度、好ましくは、5時間から
60時間程度反応させることにより、終了する。しか
し、これらの条件は使用される反応物質の種類や量、触
媒の種類や量、反応圧力などにより適宜変更しうる。
【0041】上記反応は、通常、水素及び一酸化炭素の
混合ガス圧下で行われる。使用される水素と一酸化炭素
の比率は、通常1:1乃至3:1である。使用される混
合ガスの圧力は、2乃至90kg/cm2であり、好ま
しくは5乃至50kg/cm 2である。この反応におけ
る主な副生成物は7−オキサ−14−メチル−15−オ
キソ−9−ペンタデセン酸又はそのエステルである。反
応生成物中、目的物である7−オキサ−16−オキソ−
9−ヘキサデセン酸又はそのエステル(3)と主な副生
成物である7−オキサ−14−メチル−15−オキソ−
9−ペンタデセン酸又はそのエステルの比率は、60:
40乃至99:1程度である。
混合ガス圧下で行われる。使用される水素と一酸化炭素
の比率は、通常1:1乃至3:1である。使用される混
合ガスの圧力は、2乃至90kg/cm2であり、好ま
しくは5乃至50kg/cm 2である。この反応におけ
る主な副生成物は7−オキサ−14−メチル−15−オ
キソ−9−ペンタデセン酸又はそのエステルである。反
応生成物中、目的物である7−オキサ−16−オキソ−
9−ヘキサデセン酸又はそのエステル(3)と主な副生
成物である7−オキサ−14−メチル−15−オキソ−
9−ペンタデセン酸又はそのエステルの比率は、60:
40乃至99:1程度である。
【0042】16−ヒドロキシ−7−オキサヘキサデカ
ン酸又はそのエステルの製造 一般式(2)で表される16−ヒドロキシ−7−オキサ
ヘキサデカン酸又はそのエステルは、下記反応式(3)
にしたがって、水素化触媒の存在下、7−オキサ−16
−オキソ−9−ヘキサデセン酸又はそのエステル(3)
を、水素圧下で、内部炭素−炭素二重結合及びアルデヒ
ド基を同時に水素化させることによって容易に合成でき
る。
ン酸又はそのエステルの製造 一般式(2)で表される16−ヒドロキシ−7−オキサ
ヘキサデカン酸又はそのエステルは、下記反応式(3)
にしたがって、水素化触媒の存在下、7−オキサ−16
−オキソ−9−ヘキサデセン酸又はそのエステル(3)
を、水素圧下で、内部炭素−炭素二重結合及びアルデヒ
ド基を同時に水素化させることによって容易に合成でき
る。
【0043】反応式(3)
【化23】
【0044】上記水素化反応に用いられる水素化触媒と
しては、従来より水素化触媒として用いられているもの
であれば特に限定されないが、中でも、ラネーニッケル
触媒が適当なものである。水素化触媒の量は、7−オキ
サ−16−オキソ−9−ヘキサデセン酸又はそのエステ
ル(3)に対して、通常0.1乃至10重量%程度、好
ましくは0.5乃至5重量%程度である。
しては、従来より水素化触媒として用いられているもの
であれば特に限定されないが、中でも、ラネーニッケル
触媒が適当なものである。水素化触媒の量は、7−オキ
サ−16−オキソ−9−ヘキサデセン酸又はそのエステ
ル(3)に対して、通常0.1乃至10重量%程度、好
ましくは0.5乃至5重量%程度である。
【0045】上記反応は、通常室温乃至100℃程度の
温度、好ましくは、40乃至80℃程度の温度で、通常
1時間から30時間程度、好ましくは、5時間から20
時間程度で反応させることにより、終了する。しかし、
これらの条件は、使用される反応物質の種類や量、反応
圧力、使用する水素化触媒の種類や量などにより適宜変
更しうる。また、必要であれば、先に二重結合を水素化
した後、アルデヒドを水素化する方法、あるいは、先に
アルデヒドを水素化した後、二重結合を水素化する方法
のように、二段階で水素化反応を行っても良い。
温度、好ましくは、40乃至80℃程度の温度で、通常
1時間から30時間程度、好ましくは、5時間から20
時間程度で反応させることにより、終了する。しかし、
これらの条件は、使用される反応物質の種類や量、反応
圧力、使用する水素化触媒の種類や量などにより適宜変
更しうる。また、必要であれば、先に二重結合を水素化
した後、アルデヒドを水素化する方法、あるいは、先に
アルデヒドを水素化した後、二重結合を水素化する方法
のように、二段階で水素化反応を行っても良い。
【0046】本反応は、通常、水素圧下で進められる。
使用される水素の圧力は、0.1乃至6MPaであり、
好ましくは0.5乃至4MPaである。このようにして
得られた16−ヒドロキシ−7−オキサヘキサデカン酸
又はそのエステル(2)と主な副生成物である15−ヒ
ドロキシ−14−メチル−7−オキサペンタデカン酸の
比率は、60:40乃至99:1程度である。
使用される水素の圧力は、0.1乃至6MPaであり、
好ましくは0.5乃至4MPaである。このようにして
得られた16−ヒドロキシ−7−オキサヘキサデカン酸
又はそのエステル(2)と主な副生成物である15−ヒ
ドロキシ−14−メチル−7−オキサペンタデカン酸の
比率は、60:40乃至99:1程度である。
【0047】7−オキサヘキサデカノリドの製造 最終目的物である7−オキサヘキサデカノリドは、下記
反応式(4)に示されるように、触媒の存在下または無
触媒で、16−ヒドロキシ−7−オキサヘキサデカン酸
又はそのエステル(2)を重合反応させた後、生成され
た重合物を触媒の存在下で解重合することによって容易
に合成できる。
反応式(4)に示されるように、触媒の存在下または無
触媒で、16−ヒドロキシ−7−オキサヘキサデカン酸
又はそのエステル(2)を重合反応させた後、生成され
た重合物を触媒の存在下で解重合することによって容易
に合成できる。
【0048】反応式(4)
【化24】
【0049】重合反応は無触媒あるいは触媒を用いて行
われる。重合反応の触媒は、この種の重合反応で使用さ
れている触媒であればよく、特に限定されるものではな
い。具体的には、通常重合反応の触媒として用いられて
いる無機塩類や有機金属類等が挙げられる。これら無機
塩類や、有機金属類としては、例えばLi2CO3、N
a2CO3 、NaHCO3 、K2CO3 、MgCO
3 、CaCO3 、LiOH、NaOH、KOH、Mg
(OH)2 、Ca(OH)2 、Ti(OMe)4 、
Ti(OEt)4 、Ti(Oi−Pr)4 、Ti(O
n−Bu)4、Al(OMe)3 、Al(OE
t)3 、Al(Oi−Pr)3 、Al(On−Bu)
3 、n−Bu2SnO、n−Octyl2SnO、
[CH3CH2CH2CH2(CH3CH2)CHCO
O]2Sn(ただし、Meはメチルを、Etはエチル
を、i−Prはイソプロピルを、n−Buはノルマルブ
チルを、n−Octylはノルマルオクチルを表す。)
などが挙げられる。触媒の量は、使用される触媒によっ
ても異なるが、通常、16−ヒドロキシ−7−オキサヘ
キサデカン酸又はそのエステル(2)1当量に対して、
0.1乃至10重量%程度であり、好ましくは0.5乃
至5重量%程度である。重合反応は、通常150乃至2
00℃程度の温度、0.1乃至10mmHgの減圧下
で、通常1時間から5時間程度反応させることにより、
終了する。これらの条件は、使用される反応物質の種類
や量、使用する触媒の種類や量、反応圧力など種々の条
件により適宜変更しうる。
われる。重合反応の触媒は、この種の重合反応で使用さ
れている触媒であればよく、特に限定されるものではな
い。具体的には、通常重合反応の触媒として用いられて
いる無機塩類や有機金属類等が挙げられる。これら無機
塩類や、有機金属類としては、例えばLi2CO3、N
a2CO3 、NaHCO3 、K2CO3 、MgCO
3 、CaCO3 、LiOH、NaOH、KOH、Mg
(OH)2 、Ca(OH)2 、Ti(OMe)4 、
Ti(OEt)4 、Ti(Oi−Pr)4 、Ti(O
n−Bu)4、Al(OMe)3 、Al(OE
t)3 、Al(Oi−Pr)3 、Al(On−Bu)
3 、n−Bu2SnO、n−Octyl2SnO、
[CH3CH2CH2CH2(CH3CH2)CHCO
O]2Sn(ただし、Meはメチルを、Etはエチル
を、i−Prはイソプロピルを、n−Buはノルマルブ
チルを、n−Octylはノルマルオクチルを表す。)
などが挙げられる。触媒の量は、使用される触媒によっ
ても異なるが、通常、16−ヒドロキシ−7−オキサヘ
キサデカン酸又はそのエステル(2)1当量に対して、
0.1乃至10重量%程度であり、好ましくは0.5乃
至5重量%程度である。重合反応は、通常150乃至2
00℃程度の温度、0.1乃至10mmHgの減圧下
で、通常1時間から5時間程度反応させることにより、
終了する。これらの条件は、使用される反応物質の種類
や量、使用する触媒の種類や量、反応圧力など種々の条
件により適宜変更しうる。
【0050】解重合反応において、使用される触媒とし
ては、従来ヒドロキシオキサ脂肪酸あるいはそのエステ
ル重合体の解重合反応で用いられているものであればよ
く、特に限定されない。使用される解重合触媒として
は、金属、無機塩類、有機金属類等が挙げられる。解重
合触媒として使用できる金属、無機塩類、有機金属類の
例を挙げると、例えば、アルカリ金属あるいはアルカリ
土類およびこれらの塩化物、炭酸塩、硝酸塩(例えば、
金属ナトリウム、炭酸カリウムなど)、塩化マグネシウ
ム(六水塩)、塩化スズ(二水塩)、酸化スズ、鉛の酸
化物、水酸化物、炭酸塩、硝酸塩、硼酸塩、有機酸塩、
鉄、コバルト、マンガンの酸化物、金属アルミニウム、
アルミニウムアルコキシド、チタニウムアルコキシドな
どである。解重合反応において用いられる触媒の量は、
重合反応によって得られたポリ(16−ヒドロキシ−7
−オキサヘキサデカン酸)に対して、0.1乃至10重
量%程度であり、好ましくは1乃至3重量%程度であ
る。解重合反応は、通常210乃至310℃程度の温
度、13乃至700Paの減圧下で、通常10時間から
40時間程度反応させることにより、終了する。これら
の条件は、使用される反応物質の量、使用する触媒の種
類や量、反応圧力など種々の条件により適宜変更しう
る。
ては、従来ヒドロキシオキサ脂肪酸あるいはそのエステ
ル重合体の解重合反応で用いられているものであればよ
く、特に限定されない。使用される解重合触媒として
は、金属、無機塩類、有機金属類等が挙げられる。解重
合触媒として使用できる金属、無機塩類、有機金属類の
例を挙げると、例えば、アルカリ金属あるいはアルカリ
土類およびこれらの塩化物、炭酸塩、硝酸塩(例えば、
金属ナトリウム、炭酸カリウムなど)、塩化マグネシウ
ム(六水塩)、塩化スズ(二水塩)、酸化スズ、鉛の酸
化物、水酸化物、炭酸塩、硝酸塩、硼酸塩、有機酸塩、
鉄、コバルト、マンガンの酸化物、金属アルミニウム、
アルミニウムアルコキシド、チタニウムアルコキシドな
どである。解重合反応において用いられる触媒の量は、
重合反応によって得られたポリ(16−ヒドロキシ−7
−オキサヘキサデカン酸)に対して、0.1乃至10重
量%程度であり、好ましくは1乃至3重量%程度であ
る。解重合反応は、通常210乃至310℃程度の温
度、13乃至700Paの減圧下で、通常10時間から
40時間程度反応させることにより、終了する。これら
の条件は、使用される反応物質の量、使用する触媒の種
類や量、反応圧力など種々の条件により適宜変更しう
る。
【0051】反応による主たる副生成物は、14−メチ
ル−7−オキサペンタデカノリドである。反応生成物に
おける目的物である7−オキサヘキサデカノリド(1)
と主な副生成物である14−メチル−7−オキサペンタ
デカノリドの比率は、60:40乃至99:1程度であ
る。7−オキサヘキサデカノリドは、減圧蒸留すること
により、分離、精製することができる。
ル−7−オキサペンタデカノリドである。反応生成物に
おける目的物である7−オキサヘキサデカノリド(1)
と主な副生成物である14−メチル−7−オキサペンタ
デカノリドの比率は、60:40乃至99:1程度であ
る。7−オキサヘキサデカノリドは、減圧蒸留すること
により、分離、精製することができる。
【0052】従来公知の10−オキサヘキサデカノリ
ド、11−オキサヘキサデカノリド、12−オキサヘキ
サデカノリドは、各々いずれも特有の優れたムスク香を
有し、調合香料として広く用いられているが、本発明に
より得られる7−オキサヘキサデカノリドは、従来公知
のオキサヘキサデカノリドとは異なり、ムスク香気の中
に花香調の香りの特長も有し、調合により今までのオキ
サヘキサデカノリドにないソフトでマイルドなムスク香
気はフローラル系の調合に調和しやすく、従来品より混
合比を高めることができ、花香調の香りの調合原料とし
て適している。
ド、11−オキサヘキサデカノリド、12−オキサヘキ
サデカノリドは、各々いずれも特有の優れたムスク香を
有し、調合香料として広く用いられているが、本発明に
より得られる7−オキサヘキサデカノリドは、従来公知
のオキサヘキサデカノリドとは異なり、ムスク香気の中
に花香調の香りの特長も有し、調合により今までのオキ
サヘキサデカノリドにないソフトでマイルドなムスク香
気はフローラル系の調合に調和しやすく、従来品より混
合比を高めることができ、花香調の香りの調合原料とし
て適している。
【0053】
【実施例】以下、本発明を実施例により、より具体的に
説明するが、本発明はこれらにより何ら限定されるもの
でなく、また本発明の範囲を逸脱しない範囲で変化させ
てもよい。
説明するが、本発明はこれらにより何ら限定されるもの
でなく、また本発明の範囲を逸脱しない範囲で変化させ
てもよい。
【0054】以下の実施例においては、以下の測定装置
を用いて、製造された化合物の物性などの測定が行われ
た1 H−NMRスペクトル:DRX−500型装置(ブルカー社製) 内部標準物質;テトラメチルシラン13 C−NMRスペクトル:DRX−500型装置(ブルカー社製) 内部標準物質;クロロホルム ガスクロマトグラフ装置:GC353(GL Sciences社製) カラム:TC−1(30mx0.25mm)(GL Scie nces社製) GC−MS装置 :HP−6890MSD(ヒューレット パッカード社 製)
を用いて、製造された化合物の物性などの測定が行われ
た1 H−NMRスペクトル:DRX−500型装置(ブルカー社製) 内部標準物質;テトラメチルシラン13 C−NMRスペクトル:DRX−500型装置(ブルカー社製) 内部標準物質;クロロホルム ガスクロマトグラフ装置:GC353(GL Sciences社製) カラム:TC−1(30mx0.25mm)(GL Scie nces社製) GC−MS装置 :HP−6890MSD(ヒューレット パッカード社 製)
【0055】実施例1(7−オキサ−9,14−ペンタ
デカジエン酸メチルの合成) 500mL耐圧管に6−ヒドロキシヘキサン酸メチル1
39g(0.951モル)、酢酸パラジウム214mg
(0.953ミリモル)及びトリブチルホスフィン39
9mg(1.97ミリモル)を加え、窒素雰囲気下、−
30℃以下に冷却した。減圧下、1,3−ブタジエン1
62g(3.00モル)を加えた後、75℃に加熱し8
8時間攪拌した。反応液を減圧蒸留し、標題の化合物1
60.7g(収率66.41%、115.6重量%、G
C純度95.78%、7−オキサ−9,14−ペンタデ
カジエン酸メチル/7−オキサ−8−ビニル−12−ト
リデセン酸メチル=87.4/12.6)を得た。得ら
れた化合物の物性は、次の通りであった。
デカジエン酸メチルの合成) 500mL耐圧管に6−ヒドロキシヘキサン酸メチル1
39g(0.951モル)、酢酸パラジウム214mg
(0.953ミリモル)及びトリブチルホスフィン39
9mg(1.97ミリモル)を加え、窒素雰囲気下、−
30℃以下に冷却した。減圧下、1,3−ブタジエン1
62g(3.00モル)を加えた後、75℃に加熱し8
8時間攪拌した。反応液を減圧蒸留し、標題の化合物1
60.7g(収率66.41%、115.6重量%、G
C純度95.78%、7−オキサ−9,14−ペンタデ
カジエン酸メチル/7−オキサ−8−ビニル−12−ト
リデセン酸メチル=87.4/12.6)を得た。得ら
れた化合物の物性は、次の通りであった。
【0056】1H NMR d 1.31〜1.38
(m,2H),1.44(quintet,J=7.5
Hz,2H),1.50〜1.64(m,4H),1.
98〜2.05(m,4H),2.27(t,J=7.
5Hz,2H),3.36(t,J=6.6Hz,2
H),3.62(s,3H),3.85(dd,J=
1.1,6.0Hz,2H),4.90,(ddt,J
=2.1,10.2,1.2Hz,1H),4.96
(dq,J=17.0,1.8Hz,1H),5.51
(dtt,J=15.4,1.4,6.0Hz,1
H),5.63(dtt,J=15.4,1.1,6.
7Hz,1H),5.75(ddt,J=10.2,1
7.0,6.7Hz,1H)13 C NMR d 24.66,25.69,28.1
4,29.30,31.53,33.07,33.8
7,51.26,69.69,71.41,114.4
2,126.68,133.81,138.45,17
3.92. GC−MS(CI)255(M++1).
(m,2H),1.44(quintet,J=7.5
Hz,2H),1.50〜1.64(m,4H),1.
98〜2.05(m,4H),2.27(t,J=7.
5Hz,2H),3.36(t,J=6.6Hz,2
H),3.62(s,3H),3.85(dd,J=
1.1,6.0Hz,2H),4.90,(ddt,J
=2.1,10.2,1.2Hz,1H),4.96
(dq,J=17.0,1.8Hz,1H),5.51
(dtt,J=15.4,1.4,6.0Hz,1
H),5.63(dtt,J=15.4,1.1,6.
7Hz,1H),5.75(ddt,J=10.2,1
7.0,6.7Hz,1H)13 C NMR d 24.66,25.69,28.1
4,29.30,31.53,33.07,33.8
7,51.26,69.69,71.41,114.4
2,126.68,133.81,138.45,17
3.92. GC−MS(CI)255(M++1).
【0057】実施例2(7−オキサ−16−オキソ−9
−ヘキサデセン酸メチルの合成) 500mLオートクレーブに、7−オキサ−9,14−
ペンタデカジエン酸メチル150.23g(0.591
モル)、RhH(CO)(PPh3)354.3mg
(0.0591ミリモル)、PPh2(Ph−m−SO
3Na)430mg(1.18ミリモル)、ポリエチレ
ングリコ−ル(#400)38mLおよび水38mLを
加え、CO−H2(1:1)ガスで置換した後、約85
℃、3MPaで50時間反応した。反応液にトルエン1
50mLを加えて水層を分離し、有機層を水75mLで
洗浄した後、トルエンを除去し、標題の化合物171.
22g(収率114.0重量%、GC純度45.56
%、7−オキサ−16−オキソ−9−ヘキサデセン酸メ
チル/7−オキサ−14−メチル−15−オキソ−9−
ペンタデセン酸メチル=73.4/26.6)を得た。
得られた化合物の物性は、次の通りであった。
−ヘキサデセン酸メチルの合成) 500mLオートクレーブに、7−オキサ−9,14−
ペンタデカジエン酸メチル150.23g(0.591
モル)、RhH(CO)(PPh3)354.3mg
(0.0591ミリモル)、PPh2(Ph−m−SO
3Na)430mg(1.18ミリモル)、ポリエチレ
ングリコ−ル(#400)38mLおよび水38mLを
加え、CO−H2(1:1)ガスで置換した後、約85
℃、3MPaで50時間反応した。反応液にトルエン1
50mLを加えて水層を分離し、有機層を水75mLで
洗浄した後、トルエンを除去し、標題の化合物171.
22g(収率114.0重量%、GC純度45.56
%、7−オキサ−16−オキソ−9−ヘキサデセン酸メ
チル/7−オキサ−14−メチル−15−オキソ−9−
ペンタデセン酸メチル=73.4/26.6)を得た。
得られた化合物の物性は、次の通りであった。
【0058】1H NMR d 1.30〜1.45
(m,6H),1.55〜1.69(m,6H),2.
05(br−q,J=6.9Hz,2H),2.32
(t,J=7.6Hz,2H),2.43(dt,J=
1.7,7.4Hz,2H),3.40(t,J=6.
6Hz,2H),3.66(s,3H),3.89(d
t,J=6.3,0.9Hz,2H),5.55(dt
t,J=15.4,1.3,6.3Hz,1H),5.
67(dtt,J=15.4,0.8,6.9Hz,1
H),9.76(t,J=1.7Hz,1H).13 C NMR d 21.76,24.65,25.
67,28.52,28.63,29.27,31.8
8,33.87,43.67,51.30,69.7
3,71.38,126.62,133.81,17
3.99,202.55.
(m,6H),1.55〜1.69(m,6H),2.
05(br−q,J=6.9Hz,2H),2.32
(t,J=7.6Hz,2H),2.43(dt,J=
1.7,7.4Hz,2H),3.40(t,J=6.
6Hz,2H),3.66(s,3H),3.89(d
t,J=6.3,0.9Hz,2H),5.55(dt
t,J=15.4,1.3,6.3Hz,1H),5.
67(dtt,J=15.4,0.8,6.9Hz,1
H),9.76(t,J=1.7Hz,1H).13 C NMR d 21.76,24.65,25.
67,28.52,28.63,29.27,31.8
8,33.87,43.67,51.30,69.7
3,71.38,126.62,133.81,17
3.99,202.55.
【0059】実施例3(16−ヒドロキシ−7−オキサ
ヘキサデカン酸メチルの合成) 500mLオートクレーブに、実施例2で得られた7−
オキサ−16−オキソ−9−ヘキサデセン酸メチル17
1.22g、ラネーニッケル5.0g(wet)および
トルエン150mLを加え、H2ガスで置換した。約6
0℃、3MPaで12時間反応後、ラネーニッケル2.
5g(wet)を追加し、更に5時間反応した。反応液
をセライトろ過した後、トルエンを除去し、標題の化合
物172.81g(収率100.9重量%、GC純度5
1.60%、16−ヒドロキシ−7−オキサヘキサデカ
ン酸メチル/15−ヒドロキシ−14−メチル−7−オ
キサペンタデカン酸メチル=71.2/28.8)を得
た。得られた化合物の物性は、次の通りであった。
ヘキサデカン酸メチルの合成) 500mLオートクレーブに、実施例2で得られた7−
オキサ−16−オキソ−9−ヘキサデセン酸メチル17
1.22g、ラネーニッケル5.0g(wet)および
トルエン150mLを加え、H2ガスで置換した。約6
0℃、3MPaで12時間反応後、ラネーニッケル2.
5g(wet)を追加し、更に5時間反応した。反応液
をセライトろ過した後、トルエンを除去し、標題の化合
物172.81g(収率100.9重量%、GC純度5
1.60%、16−ヒドロキシ−7−オキサヘキサデカ
ン酸メチル/15−ヒドロキシ−14−メチル−7−オ
キサペンタデカン酸メチル=71.2/28.8)を得
た。得られた化合物の物性は、次の通りであった。
【0060】1H NMR d 1.24〜1.43
(m,12H),1.51〜1.61(m,6H),
1.65(quintet,J=7.7Hz,2H),
2.32(t,J=7.6Hz,2H),2.56(b
r−s,1H),3.39(t,J=6.6Hz,2
H),3.40(t,J=6.6Hz,2H),3.6
2(t,J=6.7Hz,2H),3.67(s,3
H).13 C NMR d 24.67,25.63,25.
67,26.03,29.26(two peak
s),29.28,29.42,29.59,32.6
2,33.92,51.36,62.73,70.4
4,70.86,174.14.
(m,12H),1.51〜1.61(m,6H),
1.65(quintet,J=7.7Hz,2H),
2.32(t,J=7.6Hz,2H),2.56(b
r−s,1H),3.39(t,J=6.6Hz,2
H),3.40(t,J=6.6Hz,2H),3.6
2(t,J=6.7Hz,2H),3.67(s,3
H).13 C NMR d 24.67,25.63,25.
67,26.03,29.26(two peak
s),29.28,29.42,29.59,32.6
2,33.92,51.36,62.73,70.4
4,70.86,174.14.
【0061】実施例4(7−オキサヘキサデカノリドの
合成) 200mL反応容器に、実施例3で得られた16−ヒド
ロキシ−7−オキサヘキサデカン酸メチル50.05
g、28%−ナトリウムメトキシドメタノール溶液0.
5gを加え、常圧、150℃で2.5時間、2000P
a、150℃で1.5時間、さらに約133Pa、18
0℃で2時間反応させ、メタノールを連続除去し重合を
行った。重合によって得られた反応液に、炭酸1.5g
およびポリエチレングリコ−ル(#1540)10gを
加えて約27Pa減圧下、260〜300℃に加熱する
ことにより解重合を行い、粗7−オキサヘキサデカノリ
ド26.52g(収率53.0重量%、GC純度72.
18%、7−オキサヘキサデカノリド/14−メチル−
7−オキサペンタデカノリド=70.3/29.7)を
得た。得られた化合物の物性は、次の通りであった。
合成) 200mL反応容器に、実施例3で得られた16−ヒド
ロキシ−7−オキサヘキサデカン酸メチル50.05
g、28%−ナトリウムメトキシドメタノール溶液0.
5gを加え、常圧、150℃で2.5時間、2000P
a、150℃で1.5時間、さらに約133Pa、18
0℃で2時間反応させ、メタノールを連続除去し重合を
行った。重合によって得られた反応液に、炭酸1.5g
およびポリエチレングリコ−ル(#1540)10gを
加えて約27Pa減圧下、260〜300℃に加熱する
ことにより解重合を行い、粗7−オキサヘキサデカノリ
ド26.52g(収率53.0重量%、GC純度72.
18%、7−オキサヘキサデカノリド/14−メチル−
7−オキサペンタデカノリド=70.3/29.7)を
得た。得られた化合物の物性は、次の通りであった。
【0062】1H NMR d 1.25〜1.75
(m,20H),2.34(t,J=6.7Hz,2
H),3.41(t,J=5.3Hz,2H),3.4
3(t,J=4.9Hz,2H),4.14(t,J=
5.4Hz,2H).13 C NMR d 25.33,25.63,26.
25,26.82,27.59,27.68,28.6
0,28.72,29.22,29.82,34.9
3,64.14,70.53,70.61,174.0
3. GC−MS(EI)256(M+).
(m,20H),2.34(t,J=6.7Hz,2
H),3.41(t,J=5.3Hz,2H),3.4
3(t,J=4.9Hz,2H),4.14(t,J=
5.4Hz,2H).13 C NMR d 25.33,25.63,26.
25,26.82,27.59,27.68,28.6
0,28.72,29.22,29.82,34.9
3,64.14,70.53,70.61,174.0
3. GC−MS(EI)256(M+).
【0063】
【0064】上記調合香料900重量部に、本発明化合
物7−オキサヘキサデカノリドを100重量部加えるこ
とにより、芳醇なムスク調を持ったフローラルタイプ調
合香料が得られた。
物7−オキサヘキサデカノリドを100重量部加えるこ
とにより、芳醇なムスク調を持ったフローラルタイプ調
合香料が得られた。
【0065】
【発明の効果】本発明により、7−オキサヘキサデカノ
リド及びその中間体を簡単な方法で、安価に製造するこ
とができる。また、7−オキサヘキサデカノリドは、上
質なムスク様香気を有する香料として、極めて重要な化
合物である。
リド及びその中間体を簡単な方法で、安価に製造するこ
とができる。また、7−オキサヘキサデカノリドは、上
質なムスク様香気を有する香料として、極めて重要な化
合物である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 堀 容嗣 神奈川県平塚市西八幡一丁目4番11号 高 砂香料工業株式会社総合研究所内 (72)発明者 萩原 利光 神奈川県平塚市西八幡一丁目4番11号 高 砂香料工業株式会社総合研究所内 Fターム(参考) 4C022 MA02 4H039 CA19 CA60 CB10 CB20 4H059 BA36 BB15 BB23 BB46 DA09
Claims (27)
- 【請求項1】一般式(1): 【化1】 で表される7−オキサヘキサデカノリド。
- 【請求項2】下記の一般式(1)で表される7−オキサ
ヘキサデカノリドおよび下記一般式(11)で表される
14−メチル−7−オキサペンタデカノリドを含有し、
かつ一般式(1)で表される7−オキサヘキサデカノリ
ドが一般式(1)で表される化合物と一般式(11)で
表される化合物との合計量に対して60重量%以上含有
されてなることを特徴とする組成物。 【化2】 - 【請求項3】一般式(2): 【化3】 (式中、Rは水素原子または炭素数1乃至4の低級アル
キル基を表す。)で表される16−ヒドロキシ−7−オ
キサヘキサデカン酸またはそのエステル。 - 【請求項4】下記一般式(2)で表される16−ヒドロ
キシ−7−オキサヘキサデカン酸またはそのエステルと
下記一般式(21)で表される15−ヒドロキシ−14
−メチル−7−オキサペンタデカン酸またはそのエステ
ルを含有し、かつ一般式(2)で表される16−ヒドロ
キシ−7−オキサヘキサデカン酸またはそのエステルが
一般式(2)で表される化合物と一般式(21)で表さ
れる化合物との合計量に対して60重量%以上含有され
てなることを特徴とする組成物。 【化4】 (式中、Rは水素原子または炭素数1乃至4の低級アル
キル基を表す。) - 【請求項5】一般式(3): 【化5】 (式中、Rは水素原子または炭素数1乃至4の低級アル
キル基を表す。)で表される7−オキサ−16−オキソ
−9−ヘキサデセン酸またはそのエステル。 - 【請求項6】下記一般式(3)で表される7−オキサ−
16−オキソ−9−ヘキサデセン酸またはそのエステル
および下記一般式(31)で表される7−オキサ−14
−メチル−15−オキソ−9−ペンタデセン酸またはそ
のエステルを含有し、かつ一般式(3)で表される7−
オキサ−16−オキソ−9−ヘキサデセン酸またはその
エステルが一般式(3)で表される化合物と一般式(3
1)で表される化合物との合計量に対して60重量%以
上含有されてなることを特徴とする組成物。 【化6】 (式中、Rは水素原子または炭素数1乃至4の低級アル
キル基を表す。) - 【請求項7】一般式(4): 【化7】 (式中、Rは水素原子または炭素数1乃至4の低級アル
キル基を表す。)で表される7−オキサ−9,14−ペ
ンタデカジエン酸またはそのエステル。 - 【請求項8】請求項3記載の16−ヒドロキシ−7−オ
キサヘキサデカン酸またはそのエステルを、重合、解重
合することを特徴とする請求項1記載の7−オキサヘキ
サデカノリドの製造方法。 - 【請求項9】請求項4記載の16−ヒドロキシ−7−オ
キサヘキサデカン酸またはそのエステルを含有する組成
物を、重合、解重合することを特徴とする請求項2記載
の7−オキサヘキサデカノリドを含有する組成物の製造
方法。 - 【請求項10】請求項5記載の7−オキサ−16−オキ
ソ−9−ヘキサデセン酸またはそのエステルを、触媒の
存在下、水素化することを特徴とする請求項3記載の1
6−ヒドロキシ−7−オキサヘキサデカン酸またはその
エステルの製造方法。 - 【請求項11】請求項6記載の7−オキサ−16−オキ
ソ−9−ヘキサデセン酸またはそのエステルを含有する
組成物を、触媒の存在下、水素化することを特徴とする
請求項4記載の16−ヒドロキシ−7−オキサヘキサデ
カン酸またはそのエステルを含有する組成物の製造方
法。 - 【請求項12】請求項7記載の7−オキサ−9,14−
ペンタデカジエン酸またはそのエステルを、触媒の存在
下、ヒドロホルミル化することを特徴とする請求項5記
載の7−オキサ−16−オキソ−9−ヘキサデセン酸ま
たはそのエステルの製造方法。 - 【請求項13】請求項7記載の7−オキサ−9,14−
ペンタデカジエン酸またはそのエステルを、触媒の存在
下、ヒドロホルミル化することを特徴とする請求項6記
載の7−オキサ−16−オキソ−9−ヘキサデセン酸ま
たはそのエステルを含有する組成物の製造方法。 - 【請求項14】一般式(5): 【化8】 (式中、Rは水素原子または炭素数1乃至4の低級アル
キル基を表す。)で表される6−ヒドロキシヘキサン酸
またはそのエステルを触媒の存在下、一般式(6): 【化9】 で表されるブタジエンと反応させることを特徴とする請
求項7記載の7−オキサ−9,14−ペンタデカジエン
酸またはそのエステルの製造方法。 - 【請求項15】請求項5記載の7−オキサ−16−オキ
ソ−9−ヘキサデセン酸またはそのエステルを、触媒の
存在下、水素化して、請求項3記載の16−ヒドロキシ
−7−オキサヘキサデカン酸またはそのエステルを得、
次いでこの16−ヒドロキシ−7−オキサヘキサデカン
酸またはそのエステルを、重合、解重合することを特徴
とする請求項1記載の7−オキサヘキサデカノリドの製
造方法。 - 【請求項16】請求項6記載の7−オキサ−16−オキ
ソ−9−ヘキサデセン酸またはそのエステルを含有する
組成物を、触媒の存在下、水素化して、請求項4記載の
16−ヒドロキシ−7−オキサヘキサデカン酸またはそ
のエステルを含有する組成物を得、次いでこの16−ヒ
ドロキシ−7−オキサヘキサデカン酸またはそのエステ
ルを含有する組成物を、重合、解重合することを特徴と
する請求項2記載の7−オキサヘキサデカノリドを含有
する組成物の製造方法。 - 【請求項17】請求項7記載の7−オキサ−9,14−
ペンタデカジエン酸またはそのエステルを、触媒の存在
下、ヒドロホルミル化して、請求項5記載の7−オキサ
−16−オキソ−9−ヘキサデセン酸またはそのエステ
ルを得、次いでこの7−オキサ−16−オキソ−9−ヘ
キサデセン酸またはそのエステルを触媒の存在下、水素
化して、請求項3記載の16−ヒドロキシ−7−オキサ
ヘキサデカン酸またはそのエステルを得、更にこの16
−ヒドロキシ−7−オキサヘキサデカン酸またはそのエ
ステルを、重合、解重合することを特徴とする請求項1
記載の7−オキサヘキサデカノリドの製造方法。 - 【請求項18】請求項7記載の7−オキサ−9,14−
ペンタデカジエン酸またはそのエステルを、触媒の存在
下、ヒドロホルミル化して、請求項6記載の7−オキサ
−16−オキソ−9−ヘキサデセン酸またはそのエステ
ルを含有する組成物を得、次いでこの7−オキサ−16
−オキソ−9−ヘキサデセン酸またはそのエステルを含
有する組成物を触媒の存在下、水素化して、請求項4記
載の16−ヒドロキシ−7−オキサヘキサデカン酸また
はそのエステルを含有する組成物を得、更にこの16−
ヒドロキシ−7−オキサヘキサデカン酸またはそのエス
テルを含有する組成物を、重合、解重合することを特徴
とする請求項2記載の7−オキサヘキサデカノリドを含
有する組成物の製造方法。 - 【請求項19】請求項14の一般式(5)で表される6
−ヒドロキシヘキサン酸またはそのエステルを、触媒の
存在下、請求項14の一般式(6)で表されるブタジエ
ンと反応させて、請求項7記載の7−オキサ−9,14
−ペンタデカジエン酸またはそのエステルを得、次いで
この7−オキサ−9,14−ペンタデカジエン酸または
そのエステルを、触媒の存在下、ヒドロホルミル化し
て、請求項5記載の7−オキサ−16−オキソ−9−ヘ
キサデセン酸またはそのエステルを得、更にこの7−オ
キサ−16−オキソ−9−ヘキサデセン酸またはそのエ
ステルを、触媒の存在下、水素化して、請求項3記載の
16−ヒドロキシ−7−オキサヘキサデカン酸またはそ
のエステルを得た後、この16−ヒドロキシ−7−オキ
サヘキサデカン酸またはそのエステルを、重合、解重合
することを特徴とする請求項1記載の7−オキサヘキサ
デカノリドの製造方法。 - 【請求項20】請求項14の一般式(5)で表される6
−ヒドロキシヘキサン酸またはそのエステルを、触媒の
存在下、請求項14の一般式(6)で表されるブタジエ
ンと反応させて、請求項7記載の7−オキサ−9,14
−ペンタデカジエン酸またはそのエステルを得、次いで
この7−オキサ−9,14−ペンタデカジエン酸または
そのエステルを、触媒の存在下、ヒドロホルミル化し
て、請求項6記載の7−オキサ−16−オキソ−9−ヘ
キサデセン酸またはそのエステルを含有する組成物を
得、更にこの7−オキサ−16−オキソ−9−ヘキサデ
セン酸またはそのエステルを含有する組成物を、触媒の
存在下、水素化して、請求項4記載の16−ヒドロキシ
−7−オキサヘキサデカン酸またはそのエステルを含有
する組成物を得た後、この16−ヒドロキシ−7−オキ
サヘキサデカン酸またはそのエステルを含有する組成物
を、重合、解重合することを特徴とする請求項2記載の
7−オキサヘキサデカノリドを含有する組成物の製造方
法。 - 【請求項21】請求項7記載の7−オキサ−9,14−
ペンタデカジエン酸またはそのエステルを、触媒の存在
下、ヒドロホルミル化して、請求項5記載の7−オキサ
−16−オキソ−9−ヘキサデセン酸またはそのエステ
ルを得、次いでこの7−オキサ−16−オキソ−9−ヘ
キサデセン酸またはそのエステルを触媒の存在下、水素
化することを特徴とする請求項3記載の16−ヒドロキ
シ−7−オキサヘキサデカン酸またはそのエステルの製
造方法。 - 【請求項22】請求項7記載の7−オキサ−9,14−
ペンタデカジエン酸またはそのエステルを、触媒の存在
下、ヒドロホルミル化して、請求項6記載の7−オキサ
−16−オキソ−9−ヘキサデセン酸またはそのエステ
ルを含有する組成物を得、次いでこの7−オキサ−16
−オキソ−9−ヘキサデセン酸またはそのエステルを含
有する組成物を触媒の存在下、水素化することを特徴と
する請求項4記載の16−ヒドロキシ−7−オキサヘキ
サデカン酸またはそのエステルを含有する組成物の製造
方法。 - 【請求項23】請求項14の一般式(5)で表される6
−ヒドロキシヘキサン酸またはそのエステルを、触媒の
存在下、請求項14の一般式(6)で表されるブタジエ
ンと反応させて、請求項7記載の7−オキサ−9,14
−ペンタデカジエン酸またはそのエステルを得、次いで
この7−オキサ−9,14−ペンタデカジエン酸または
そのエステルを、触媒の存在下、ヒドロホルミル化し
て、請求項5記載の7−オキサ−16−オキソ−9−ヘ
キサデセン酸またはそのエステルを得、更にこの7−オ
キサ−16−オキソ−9−ヘキサデセン酸またはそのエ
ステルを、触媒の存在下、水素化することを特徴とする
請求項3記載の16−ヒドロキシ−7−オキサヘキサデ
カン酸またはそのエステルの製造方法。 - 【請求項24】請求項14の一般式(5)で表される6
−ヒドロキシヘキサン酸またはそのエステルを、触媒の
存在下、請求項14の一般式(6)で表されるブタジエ
ンと反応させて、請求項7記載の7−オキサ−9,14
−ペンタデカジエン酸またはそのエステルを得、次いで
この7−オキサ−9,14−ペンタデカジエン酸または
そのエステルを、触媒の存在下、ヒドロホルミル化し
て、請求項6記載の7−オキサ−16−オキソ−9−ヘ
キサデセン酸またはそのエステルを含有する組成物を
得、更にこの7−オキサ−16−オキソ−9−ヘキサデ
セン酸またはそのエステルを含有する組成物を、触媒の
存在下、水素化することを特徴とする請求項4記載の1
6−ヒドロキシ−7−オキサヘキサデカン酸またはその
エステルを含有する組成物の製造方法。 - 【請求項25】請求項14の一般式(5)で表される6
−ヒドロキシヘキサン酸またはそのエステルを触媒の存
在下、請求項14の一般式(6)で表されるブタジエン
と反応させて、請求項7記載の7−オキサ−9,14−
ペンタデカジエン酸またはそのエステルを得、次いでこ
の7−オキサ−9,14−ペンタデカジエン酸またはそ
のエステルを、触媒の存在下、ヒドロホルミル化するこ
とを特徴とする請求項5記載の7−オキサ−16−オキ
ソ−9−ヘキサデセン酸またはそのエステルの製造方
法。 - 【請求項26】請求項14の一般式(5)で表される6
−ヒドロキシヘキサン酸またはそのエステルを触媒の存
在下、請求項14の一般式(6)で表されるブタジエン
と反応させて、請求項7記載の7−オキサ−9,14−
ペンタデカジエン酸またはそのエステルを得、次いでこ
の7−オキサ−9,14−ペンタデカジエン酸またはそ
のエステルを、触媒の存在下、ヒドロホルミル化するこ
とを特徴とする請求項6記載の7−オキサ−16−オキ
ソ−9−ヘキサデセン酸またはそのエステルを含有する
組成物の製造方法。 - 【請求項27】一般式(1): 【化10】 で表される7−オキサヘキサデカノリドを有効成分とし
て含有する香料組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000056699A JP2001240598A (ja) | 2000-03-02 | 2000-03-02 | 7−オキサヘキサデカノリド、その合成中間体、それらの製造方法及び7−オキサヘキサデカノリドを含有する香料組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000056699A JP2001240598A (ja) | 2000-03-02 | 2000-03-02 | 7−オキサヘキサデカノリド、その合成中間体、それらの製造方法及び7−オキサヘキサデカノリドを含有する香料組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001240598A true JP2001240598A (ja) | 2001-09-04 |
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ID=18577600
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---|---|---|---|
JP2000056699A Pending JP2001240598A (ja) | 2000-03-02 | 2000-03-02 | 7−オキサヘキサデカノリド、その合成中間体、それらの製造方法及び7−オキサヘキサデカノリドを含有する香料組成物 |
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Country | Link |
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-
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