JP2001233880A - 有機金属錯体の製造方法、有機金属錯体及びそれを使用した電界発光素子 - Google Patents
有機金属錯体の製造方法、有機金属錯体及びそれを使用した電界発光素子Info
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- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 title claims abstract description 107
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 8
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 title abstract 2
- 239000003446 ligand Substances 0.000 claims abstract description 37
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 34
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 30
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 claims abstract description 29
- NZZIMKJIVMHWJC-UHFFFAOYSA-N dibenzoylmethane Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)CC(=O)C1=CC=CC=C1 NZZIMKJIVMHWJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 27
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 18
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 claims abstract description 17
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- OGPBJKLSAFTDLK-UHFFFAOYSA-N europium atom Chemical compound [Eu] OGPBJKLSAFTDLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N neodymium atom Chemical compound [Nd] QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N samarium atom Chemical compound [Sm] KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- GZCRRIHWUXGPOV-UHFFFAOYSA-N terbium atom Chemical compound [Tb] GZCRRIHWUXGPOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 32
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 29
- WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N oxadiazole Chemical compound C1=CON=N1 WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 7
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 claims description 5
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 claims description 4
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N (2s)-2-[[4-[2-(2,4-diaminoquinazolin-6-yl)ethyl]benzoyl]amino]-4-methylidenepentanedioic acid Chemical compound C1=CC2=NC(N)=NC(N)=C2C=C1CCC1=CC=C(C(=O)N[C@@H](CC(=C)C(O)=O)C(O)=O)C=C1 NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N 0.000 claims description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 abstract 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 50
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 18
- 238000000295 emission spectrum Methods 0.000 description 14
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 14
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 12
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 239000010408 film Substances 0.000 description 8
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 8
- 239000000047 product Substances 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 7
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 7
- -1 rare earth metal ion Chemical class 0.000 description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 7
- SNUSZUYTMHKCPM-UHFFFAOYSA-N 1-hydroxypyridin-2-one Chemical compound ON1C=CC=CC1=O SNUSZUYTMHKCPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 5
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 5
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 5
- 229920003227 poly(N-vinyl carbazole) Polymers 0.000 description 5
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 5
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 5
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 5
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N [1,10]phenanthroline Chemical compound C1=CN=C2C3=NC=CC=C3C=CC2=C1 DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 4
- 150000001793 charged compounds Chemical class 0.000 description 4
- AWDWVTKHJOZOBQ-UHFFFAOYSA-K europium(3+);trichloride;hexahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.O.[Cl-].[Cl-].[Cl-].[Eu+3] AWDWVTKHJOZOBQ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 4
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 4
- 238000001819 mass spectrum Methods 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- ODZPKZBBUMBTMG-UHFFFAOYSA-N sodium amide Chemical compound [NH2-].[Na+] ODZPKZBBUMBTMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 4
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 4
- PPQJCISYYXZCAE-UHFFFAOYSA-N 1,10-phenanthroline;hydrate Chemical compound O.C1=CN=C2C3=NC=CC=C3C=CC2=C1 PPQJCISYYXZCAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000004820 halides Chemical group 0.000 description 3
- 229940046892 lead acetate Drugs 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 125000002560 nitrile group Chemical group 0.000 description 3
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 3
- JECYUBVRTQDVAT-UHFFFAOYSA-N 2-acetylphenol Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1O JECYUBVRTQDVAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RWXUCNUCKZERGC-UHFFFAOYSA-N 3-oxo-n,n,3-triphenylpropanamide Chemical compound C=1C=CC=CC=1N(C=1C=CC=CC=1)C(=O)CC(=O)C1=CC=CC=C1 RWXUCNUCKZERGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N N-Pentanol Chemical compound CCCCCO AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 2
- YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N salicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1O YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 2
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 2
- TVIVIEFSHFOWTE-UHFFFAOYSA-K tri(quinolin-8-yloxy)alumane Chemical compound [Al+3].C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1.C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1.C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1 TVIVIEFSHFOWTE-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- MVWPVABZQQJTPL-UHFFFAOYSA-N 2,3-diphenylcyclohexa-2,5-diene-1,4-dione Chemical class O=C1C=CC(=O)C(C=2C=CC=CC=2)=C1C1=CC=CC=C1 MVWPVABZQQJTPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STTGYIUESPWXOW-UHFFFAOYSA-N 2,9-dimethyl-4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline Chemical compound C=12C=CC3=C(C=4C=CC=CC=4)C=C(C)N=C3C2=NC(C)=CC=1C1=CC=CC=C1 STTGYIUESPWXOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FGTYTUFKXYPTML-UHFFFAOYSA-N 2-benzoylbenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 FGTYTUFKXYPTML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNHWRUCVFATHDL-UHFFFAOYSA-N 2-methylterephthalaldehyde Chemical compound CC1=CC(C=O)=CC=C1C=O MNHWRUCVFATHDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCSDAMGBOVWGEO-UHFFFAOYSA-N 3-oxo-3-phenylpropanal Chemical compound O=CCC(=O)C1=CC=CC=C1 HCSDAMGBOVWGEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHDHJYNTEFLIHY-UHFFFAOYSA-N 4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=NC2=C1C=CC1=C(C=3C=CC=CC=3)C=CN=C21 DHDHJYNTEFLIHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NSPMIYGKQJPBQR-UHFFFAOYSA-N 4H-1,2,4-triazole Chemical compound C=1N=CNN=1 NSPMIYGKQJPBQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N Bipyridyl Chemical compound N1=CC=CC=C1C1=CC=CC=N1 ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003512 Claisen condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052692 Dysprosium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052691 Erbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052689 Holmium Inorganic materials 0.000 description 1
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052765 Lutetium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052773 Promethium Inorganic materials 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052775 Thulium Inorganic materials 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229960000583 acetic acid Drugs 0.000 description 1
- 229940008309 acetone / ethanol Drugs 0.000 description 1
- 125000003172 aldehyde group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005427 anthranyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- WARCRYXKINZHGQ-UHFFFAOYSA-N benzohydrazide Chemical compound NNC(=O)C1=CC=CC=C1 WARCRYXKINZHGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000319 biphenyl-4-yl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1C1=C([H])C([H])=C([*])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce] ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 1
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 1
- 150000003983 crown ethers Chemical class 0.000 description 1
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 1
- KBQHZAAAGSGFKK-UHFFFAOYSA-N dysprosium atom Chemical compound [Dy] KBQHZAAAGSGFKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- UYAHIZSMUZPPFV-UHFFFAOYSA-N erbium Chemical compound [Er] UYAHIZSMUZPPFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BYPNCJFIWCFYOF-UHFFFAOYSA-N ethyl 4-(n-phenylanilino)benzoate Chemical compound C1=CC(C(=O)OCC)=CC=C1N(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 BYPNCJFIWCFYOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- UIWYJDYFSGRHKR-UHFFFAOYSA-N gadolinium atom Chemical compound [Gd] UIWYJDYFSGRHKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012362 glacial acetic acid Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 1
- KJZYNXUDTRRSPN-UHFFFAOYSA-N holmium atom Chemical compound [Ho] KJZYNXUDTRRSPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000468 ketone group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ACKFDYCQCBEDNU-UHFFFAOYSA-J lead(2+);tetraacetate Chemical compound [Pb+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O.CC([O-])=O.CC([O-])=O ACKFDYCQCBEDNU-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- OHSVLFRHMCKCQY-UHFFFAOYSA-N lutetium atom Chemical compound [Lu] OHSVLFRHMCKCQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 description 1
- IBHBKWKFFTZAHE-UHFFFAOYSA-N n-[4-[4-(n-naphthalen-1-ylanilino)phenyl]phenyl]-n-phenylnaphthalen-1-amine Chemical compound C1=CC=CC=C1N(C=1C2=CC=CC=C2C=CC=1)C1=CC=C(C=2C=CC(=CC=2)N(C=2C=CC=CC=2)C=2C3=CC=CC=C3C=CC=2)C=C1 IBHBKWKFFTZAHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 230000005693 optoelectronics Effects 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 150000004866 oxadiazoles Chemical class 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N papa-hydroxy-benzoic acid Natural products OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 150000004986 phenylenediamines Chemical class 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- PUDIUYLPXJFUGB-UHFFFAOYSA-N praseodymium atom Chemical compound [Pr] PUDIUYLPXJFUGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VQMWBBYLQSCNPO-UHFFFAOYSA-N promethium atom Chemical compound [Pm] VQMWBBYLQSCNPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001725 pyrenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 239000013557 residual solvent Substances 0.000 description 1
- 229960004889 salicylic acid Drugs 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910052706 scandium Inorganic materials 0.000 description 1
- SIXSYDAISGFNSX-UHFFFAOYSA-N scandium atom Chemical compound [Sc] SIXSYDAISGFNSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 125000001174 sulfone group Chemical group 0.000 description 1
- 229940042055 systemic antimycotics triazole derivative Drugs 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXBBUSUXYMIVOS-UHFFFAOYSA-N thenoyltrifluoroacetone Chemical compound FC(F)(F)C(=O)CC(=O)C1=CC=CS1 TXBBUSUXYMIVOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N triphenylamine Chemical compound C1=CC=CC=C1N(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006617 triphenylamine group Chemical group 0.000 description 1
- FIQMHBFVRAXMOP-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphane oxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1P(C=1C=CC=CC=1)(=O)C1=CC=CC=C1 FIQMHBFVRAXMOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 description 1
- NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N ytterbium Chemical compound [Yb] NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Pyridine Compounds (AREA)
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 真空蒸着法によって電界発光素子の薄膜を形
成することができない、あるいは薄膜の形成が困難な有
機金属錯体を、真空蒸着法によって薄膜形成できるよう
にした有機金属錯体を提供する。 【解決手段】 式(1) 【化1】 で表される化合物と、ジベンゾイルメタンと、を希土類
金属の配位子として含む有機金属錯体であり、希土類金
属としては、ユウロピウム、サマリウム、テルビウム及
びネオジムからなる群から選ばれるいずれかが使用され
る。
成することができない、あるいは薄膜の形成が困難な有
機金属錯体を、真空蒸着法によって薄膜形成できるよう
にした有機金属錯体を提供する。 【解決手段】 式(1) 【化1】 で表される化合物と、ジベンゾイルメタンと、を希土類
金属の配位子として含む有機金属錯体であり、希土類金
属としては、ユウロピウム、サマリウム、テルビウム及
びネオジムからなる群から選ばれるいずれかが使用され
る。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、有機金属錯体の製
造方法、有機金属錯体及びそれを使用した電界発光素子
に関するものである。更に詳しくは、真空蒸着によって
は、電界発光素子の薄膜を形成することができない、あ
るいは薄膜の形成が困難な有機金属錯体において、当該
有機金属錯体の配位子の一または複数を、ジベンゾイル
メタン、アセチルアセトン及び2,2,6,6−テトラ
メチル−3,5−ヘプタジオンからなる群から選ばれる
いずれかに代えることにより、真空蒸着法によって薄膜
を形成できるようにした有機金属錯体の製造方法、有機
金属錯体及びそれを使用した電界発光素子に関するもの
である。
造方法、有機金属錯体及びそれを使用した電界発光素子
に関するものである。更に詳しくは、真空蒸着によって
は、電界発光素子の薄膜を形成することができない、あ
るいは薄膜の形成が困難な有機金属錯体において、当該
有機金属錯体の配位子の一または複数を、ジベンゾイル
メタン、アセチルアセトン及び2,2,6,6−テトラ
メチル−3,5−ヘプタジオンからなる群から選ばれる
いずれかに代えることにより、真空蒸着法によって薄膜
を形成できるようにした有機金属錯体の製造方法、有機
金属錯体及びそれを使用した電界発光素子に関するもの
である。
【0002】
【従来技術】電界発光素子は薄膜パネル、円筒状パネル
等の表示用部材や大面積パネル等の面発光体、その他多
くの素子に使用されている。特に、最近は、レーザー光
線用電子デバイス等のオプトエレクトロニクスの発振素
子等に広く使用され始めている。電界発光素子には、多
くは、有機金属錯体が使用されている。例えば、2価、
3価または4価の希土類金属のイオンに、アセチルアセ
トン、ジベンゾイルメタン、2−テノイルトリフロロア
セトン等のβ−ジケトン、o−ベンゾイル安息香酸、サ
リチル酸、o−フタル酸等のカルボン酸基を有する化合
物、サルチルアルデヒド、o−ヒドロキシアセトフェノ
ンのヒドロキシル基に隣接したケトン基またはアルデヒ
ド基を有する化合物、またはクラウンエーテル等を配位
子として配位した有機金属錯体である。
等の表示用部材や大面積パネル等の面発光体、その他多
くの素子に使用されている。特に、最近は、レーザー光
線用電子デバイス等のオプトエレクトロニクスの発振素
子等に広く使用され始めている。電界発光素子には、多
くは、有機金属錯体が使用されている。例えば、2価、
3価または4価の希土類金属のイオンに、アセチルアセ
トン、ジベンゾイルメタン、2−テノイルトリフロロア
セトン等のβ−ジケトン、o−ベンゾイル安息香酸、サ
リチル酸、o−フタル酸等のカルボン酸基を有する化合
物、サルチルアルデヒド、o−ヒドロキシアセトフェノ
ンのヒドロキシル基に隣接したケトン基またはアルデヒ
ド基を有する化合物、またはクラウンエーテル等を配位
子として配位した有機金属錯体である。
【0003】ところで、このような有機金属錯体の薄膜
化の方法として、例えば、スピンコート法、キャスト
法、LB法、真空蒸着法等が挙げられる。上記した薄膜
化方法の中でも、均質な膜が得られやすく、かつピンホ
ールが生成しにくいなどの観点から、真空蒸着法が好ま
しい。
化の方法として、例えば、スピンコート法、キャスト
法、LB法、真空蒸着法等が挙げられる。上記した薄膜
化方法の中でも、均質な膜が得られやすく、かつピンホ
ールが生成しにくいなどの観点から、真空蒸着法が好ま
しい。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
有機金属錯体中には、極性が高いか分子量が大きいため
に、真空蒸着法によって薄膜を形成することができな
い、あるいは薄膜の形成が困難なものが存在する。例え
ば、2−ヒドロキシピリジン−N−オキシドを配位子と
する有機金属錯体やオキサジアゾールを有するβ−ジケ
トン誘導化合物を配位子とする有機金属錯体等である。
有機金属錯体中には、極性が高いか分子量が大きいため
に、真空蒸着法によって薄膜を形成することができな
い、あるいは薄膜の形成が困難なものが存在する。例え
ば、2−ヒドロキシピリジン−N−オキシドを配位子と
する有機金属錯体やオキサジアゾールを有するβ−ジケ
トン誘導化合物を配位子とする有機金属錯体等である。
【0005】このような有機金属錯体は、例えば発光ス
ペクトルの幅も狭く輝度が大きい、あるいは電界発光素
子として使用したとき、高い印加電圧をかけてもそのと
き生じる高エネルギーに十分耐えることができる等の利
点を有しているが、薄膜を形成をする場合には真空蒸着
法ではなくスピンコート法などで成膜されるため、残留
溶媒や不純物が混入しやすい等の原因から、電極や有機
物の劣化が著しい等の問題があった。
ペクトルの幅も狭く輝度が大きい、あるいは電界発光素
子として使用したとき、高い印加電圧をかけてもそのと
き生じる高エネルギーに十分耐えることができる等の利
点を有しているが、薄膜を形成をする場合には真空蒸着
法ではなくスピンコート法などで成膜されるため、残留
溶媒や不純物が混入しやすい等の原因から、電極や有機
物の劣化が著しい等の問題があった。
【0006】本発明者は、極性が高いか分子量が大きい
有機金属錯体の配位子の一または複数を、既知の蒸着性
の良い配位子に代えることによって、真空蒸着法により
薄膜を形成できないかと考え、多くの実験を重ねた。そ
の結果、有機金属錯体の配位子の一または複数を、ジベ
ンゾイルメタン、アセチルアセトン及び2,2,6,6
−テトラメチル−3,5−ヘプタジオンからなる群から
選ばれるいずれかに代えることにより、極性が高いか分
子量が大きい有機金属錯体でも真空蒸着法によって薄膜
形成が可能になることを見いだした。本発明はこの知見
に基づいて完成したものである。
有機金属錯体の配位子の一または複数を、既知の蒸着性
の良い配位子に代えることによって、真空蒸着法により
薄膜を形成できないかと考え、多くの実験を重ねた。そ
の結果、有機金属錯体の配位子の一または複数を、ジベ
ンゾイルメタン、アセチルアセトン及び2,2,6,6
−テトラメチル−3,5−ヘプタジオンからなる群から
選ばれるいずれかに代えることにより、極性が高いか分
子量が大きい有機金属錯体でも真空蒸着法によって薄膜
形成が可能になることを見いだした。本発明はこの知見
に基づいて完成したものである。
【0007】そこで、本発明の目的は、真空蒸着法によ
って電界発光素子の薄膜を形成することができない、あ
るいは薄膜の形成が困難な有機金属錯体を、真空蒸着法
によって薄膜形成できるようにした有機金属錯体の製造
方法、有機金属錯体及びそれを使用した電界発光素子を
提供することである。
って電界発光素子の薄膜を形成することができない、あ
るいは薄膜の形成が困難な有機金属錯体を、真空蒸着法
によって薄膜形成できるようにした有機金属錯体の製造
方法、有機金属錯体及びそれを使用した電界発光素子を
提供することである。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に講じた本発明の手段は次のとおりである。第1の発明
にあっては、真空蒸着法によって電界発光素子の薄膜を
形成することができない、あるいは薄膜の形成が困難な
有機金属錯体を、真空蒸着法によって薄膜形成できるよ
うにした有機金属錯体の製造方法であって、真空蒸着法
によって上記薄膜を形成することができない、あるいは
薄膜の形成が困難な有機金属錯体の配位子の一または複
数を、ジベンゾイルメタン、アセチルアセトン及び2,
2,6,6−テトラメチル−3,5−ヘプタジオンから
なる群から選ばれるいずれかに代えることを特徴とす
る、有機金属錯体の製造方法である。
に講じた本発明の手段は次のとおりである。第1の発明
にあっては、真空蒸着法によって電界発光素子の薄膜を
形成することができない、あるいは薄膜の形成が困難な
有機金属錯体を、真空蒸着法によって薄膜形成できるよ
うにした有機金属錯体の製造方法であって、真空蒸着法
によって上記薄膜を形成することができない、あるいは
薄膜の形成が困難な有機金属錯体の配位子の一または複
数を、ジベンゾイルメタン、アセチルアセトン及び2,
2,6,6−テトラメチル−3,5−ヘプタジオンから
なる群から選ばれるいずれかに代えることを特徴とす
る、有機金属錯体の製造方法である。
【0009】第2の発明にあっては、電界発光素子の薄
膜を真空蒸着法によって形成するために使用する有機金
属錯体であって、真空蒸着法によって上記薄膜を形成す
ることができない、あるいは薄膜の形成が困難な有機金
属錯体の配位子の一または複数が、ジベンゾイルメタ
ン、アセチルアセトン及び2,2,6,6−テトラメチ
ル−3,5−ヘプタジオンからなる群から選ばれるいず
れかに代えられていることを特徴とする、有機金属錯体
である。
膜を真空蒸着法によって形成するために使用する有機金
属錯体であって、真空蒸着法によって上記薄膜を形成す
ることができない、あるいは薄膜の形成が困難な有機金
属錯体の配位子の一または複数が、ジベンゾイルメタ
ン、アセチルアセトン及び2,2,6,6−テトラメチ
ル−3,5−ヘプタジオンからなる群から選ばれるいず
れかに代えられていることを特徴とする、有機金属錯体
である。
【0010】第3の発明にあっては、式(1)
【化12】 で表される化合物または式(2)
【化13】 で表される化合物のいずれかと、ジベンゾイルメタン、
アセチルアセトン及び2,2,6,6−テトラメチル−
3,5−ヘプタジオンからなる群から選ばれるいずれか
と、を希土類金属の配位子として含むことを特徴とす
る、有機金属錯体である。
アセチルアセトン及び2,2,6,6−テトラメチル−
3,5−ヘプタジオンからなる群から選ばれるいずれか
と、を希土類金属の配位子として含むことを特徴とす
る、有機金属錯体である。
【0011】第4の発明にあっては、一般式(3)
【化14】 [式中R1は、水素原子、アルキル基、アルキル基の水素
原子の一部または全部をハライド原子で置換した基、ア
ルケニル基、アリール基、または複素環状基である。R2
はアリール基または複素環状基である。]で表されるオ
キサジアゾールを有するβ−ジケトン誘導体と、ジベン
ゾイルメタン、アセチルアセトン及び2,2,6,6−
テトラメチル−3,5−ヘプタジオンからなる群から選
ばれるいずれかと、を希土類金属の配位子として含むこ
とを特徴とする、有機金属錯体である。
原子の一部または全部をハライド原子で置換した基、ア
ルケニル基、アリール基、または複素環状基である。R2
はアリール基または複素環状基である。]で表されるオ
キサジアゾールを有するβ−ジケトン誘導体と、ジベン
ゾイルメタン、アセチルアセトン及び2,2,6,6−
テトラメチル−3,5−ヘプタジオンからなる群から選
ばれるいずれかと、を希土類金属の配位子として含むこ
とを特徴とする、有機金属錯体である。
【0012】第5の発明にあっては、一般式(4)
【化15】 [式中R1はアリール基または複素環状基である。]で表
されるオキサジアゾールを有するβ−ジケトン誘導体
と、ジベンゾイルメタン、アセチルアセトン及び2,
2,6,6−テトラメチル−3,5−ヘプタジオンから
なる群から選ばれるいずれかと、を希土類金属の配位子
として含むことを特徴とする、有機金属錯体である。
されるオキサジアゾールを有するβ−ジケトン誘導体
と、ジベンゾイルメタン、アセチルアセトン及び2,
2,6,6−テトラメチル−3,5−ヘプタジオンから
なる群から選ばれるいずれかと、を希土類金属の配位子
として含むことを特徴とする、有機金属錯体である。
【0013】第6の発明にあっては、式(5)
【化16】 で表されるオキサジアゾールを有するβ−ジケトン誘導
体、式(6)
体、式(6)
【化17】 で表されるオキサジアゾールを有するβ−ジケトン誘導
体、式(7)
体、式(7)
【化18】 で表されるオキサジアゾールを有するβ−ジケトン誘導
体、式(8)
体、式(8)
【化19】 で表されるオキサジアゾールを有するβ−ジケトン誘導
体、式(9)
体、式(9)
【化20】 で表されるオキサジアゾールを有するβ−ジケトン誘導
体、式(10)
体、式(10)
【化21】 で表されるオキサジアゾールを有するβ−ジケトン誘導
体及び式(11)
体及び式(11)
【化22】 で表されるオキサジアゾールを有するβ−ジケトン誘導
体からなる群から選ばれるいずれかと、ジベンゾイルメ
タン、アセチルアセトン及び2,2,6,6−テトラメ
チル−3,5−ヘプタジオンからなる群から選ばれるい
ずれかと、を希土類金属の配位子として含むことを特徴
とする、有機金属錯体である。
体からなる群から選ばれるいずれかと、ジベンゾイルメ
タン、アセチルアセトン及び2,2,6,6−テトラメ
チル−3,5−ヘプタジオンからなる群から選ばれるい
ずれかと、を希土類金属の配位子として含むことを特徴
とする、有機金属錯体である。
【0014】第7の発明にあっては、中性配位子を希土
類金属の配位子として含むことを特徴とする、第3,
4,5または第6の発明に係る記載の有機金属錯体であ
る。
類金属の配位子として含むことを特徴とする、第3,
4,5または第6の発明に係る記載の有機金属錯体であ
る。
【0015】第8の発明にあっては、希土類金属が、ユ
ウロピウム、サマリウム、テルビウム及びネオジムから
なる群から選ばれるいずれかであることを特徴とする、
第3,4,5,6または第7の発明に係る有機金属錯体
である。
ウロピウム、サマリウム、テルビウム及びネオジムから
なる群から選ばれるいずれかであることを特徴とする、
第3,4,5,6または第7の発明に係る有機金属錯体
である。
【0016】第9の発明にあっては、第2,3,4,
5,6,7または第8の発明に係る有機金属錯体が真空
蒸着されていることを特徴とする、電界発光素子であ
る。
5,6,7または第8の発明に係る有機金属錯体が真空
蒸着されていることを特徴とする、電界発光素子であ
る。
【0017】
【発明の実施の形態】式1で表される化合物は2−ヒド
ロキシピリジン−N−オキシドであり、試薬として一般
的に販売されている。式2で表される化合物は、2−メ
チル7−ヒドロキシピリジンを氷酢酸に入れ、更にその
中に過酸化水素水を10容量%入れて酸化することによっ
て容易に合成できる。
ロキシピリジン−N−オキシドであり、試薬として一般
的に販売されている。式2で表される化合物は、2−メ
チル7−ヒドロキシピリジンを氷酢酸に入れ、更にその
中に過酸化水素水を10容量%入れて酸化することによっ
て容易に合成できる。
【0018】式中のR1、R2において、アリール基の水素
原子および複素環状基の水素原子は、アルキル基、アル
キル基の水素原子の一部または全部をハライド原子で置
換した基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、
カルボキシル基、ヒドロキシル基、アルコキシル基、ア
ミノ基、スルフォン基、ニトロ基、ニトリル基、ハライ
ド原子、メルカプト基、またはカルボニル基で置換され
ても良い。なお、上記置換される各基や原子は、互いが
同じ基であっても,一部異っていても、全部が異なって
いても良い。
原子および複素環状基の水素原子は、アルキル基、アル
キル基の水素原子の一部または全部をハライド原子で置
換した基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、
カルボキシル基、ヒドロキシル基、アルコキシル基、ア
ミノ基、スルフォン基、ニトロ基、ニトリル基、ハライ
ド原子、メルカプト基、またはカルボニル基で置換され
ても良い。なお、上記置換される各基や原子は、互いが
同じ基であっても,一部異っていても、全部が異なって
いても良い。
【0019】本発明の「真空蒸着法によって上記薄膜を
形成することができない、あるいは薄膜の形成が困難な
有機金属錯体」としては、例えば、一般式(12)
形成することができない、あるいは薄膜の形成が困難な
有機金属錯体」としては、例えば、一般式(12)
【化23】 [式中R3は、ナフチル基、ビフェニル基、アントラニル
基、フェナンチル基、ピレニル基、ニトリル基、ニトリ
ル基で置換したフェニル基、またはトリフェニルアミン
である。なお、上記置換される各基や化合物は、互いが
同じ基や化合物であっても,一部異っていても、全部が
異なっていても良い。]で表されるβ−ジケトン誘導体
を配位子として含む有機金属錯体等が挙げられるが、上
記したものに限定されない。
基、フェナンチル基、ピレニル基、ニトリル基、ニトリ
ル基で置換したフェニル基、またはトリフェニルアミン
である。なお、上記置換される各基や化合物は、互いが
同じ基や化合物であっても,一部異っていても、全部が
異なっていても良い。]で表されるβ−ジケトン誘導体
を配位子として含む有機金属錯体等が挙げられるが、上
記したものに限定されない。
【0020】なお、一般式(12)で表される化合物
は、一般に、各々に対応するエステル類とケトン類から
クライゼン(Claisen)縮合反応により合成する。即
ち、各々に対応するケトンとエステルを塩基触媒(ナト
リウムアミド、ナトリウムアルコキシド、水素化ナトリ
ウムのいずれか)の存在下で、反応温度-80〜40℃下、
反応溶媒としてテトラヒドラフラン(THF)を用い、
反応時間24〜100時間で容易に合成される。
は、一般に、各々に対応するエステル類とケトン類から
クライゼン(Claisen)縮合反応により合成する。即
ち、各々に対応するケトンとエステルを塩基触媒(ナト
リウムアミド、ナトリウムアルコキシド、水素化ナトリ
ウムのいずれか)の存在下で、反応温度-80〜40℃下、
反応溶媒としてテトラヒドラフラン(THF)を用い、
反応時間24〜100時間で容易に合成される。
【0021】また、一般式(12)表されるβ−ジケト
ン誘導体を配位子として含む有機金属錯体は、次によう
にして合成する。即ち、ビーカーに各々に対応する配位
子と、溶媒(アセトン、エタノール、メタノール、TH
F及びアセトニトリルからなる群から選ばれるいずれ
か)を入れ、撹拌しながら溶かす。その溶液中に量論組
成で金属塩を入れる。撹拌を続けながら沈殿が生成する
まで、1N水酸化ナトリウム溶液をゆっくり滴下してい
く。析出を始めたら室温から約60℃に加熱し、更に24時
間撹拌を続けると固形物が生成する。その後撹拌を止
め、その固形物を濾過して水で洗浄する。その後、各種
溶媒(アセトン、THF、メタノール、エタノール及び
アセトニトリルからなる群から選ばれるいずれかまたは
それらのいずれかを混合した溶媒)で再結晶し、目的と
する有機金属錯体を得る。
ン誘導体を配位子として含む有機金属錯体は、次によう
にして合成する。即ち、ビーカーに各々に対応する配位
子と、溶媒(アセトン、エタノール、メタノール、TH
F及びアセトニトリルからなる群から選ばれるいずれ
か)を入れ、撹拌しながら溶かす。その溶液中に量論組
成で金属塩を入れる。撹拌を続けながら沈殿が生成する
まで、1N水酸化ナトリウム溶液をゆっくり滴下してい
く。析出を始めたら室温から約60℃に加熱し、更に24時
間撹拌を続けると固形物が生成する。その後撹拌を止
め、その固形物を濾過して水で洗浄する。その後、各種
溶媒(アセトン、THF、メタノール、エタノール及び
アセトニトリルからなる群から選ばれるいずれかまたは
それらのいずれかを混合した溶媒)で再結晶し、目的と
する有機金属錯体を得る。
【0022】有機金属錯体の金属としては、ユウロピウ
ム、サマリウム、テルビウム、ネオジムの他、スカンジ
ウム、イットリウム、ランタン、セリウム、プラセオジ
ム、プロメチウム、ガドリニウム、ジスプロシウム、ホ
ルミニウム、エルビウム、ツリウム、イッテルビウム、
ルテチウム等の希土類金属を挙げることができる。
ム、サマリウム、テルビウム、ネオジムの他、スカンジ
ウム、イットリウム、ランタン、セリウム、プラセオジ
ム、プロメチウム、ガドリニウム、ジスプロシウム、ホ
ルミニウム、エルビウム、ツリウム、イッテルビウム、
ルテチウム等の希土類金属を挙げることができる。
【0023】中性配位子は、o−フェナントロリン、バ
ソフェナントロリン、バソクプロイン、ビピリジン及び
トリフェニルホスフィンオキシドからなる群から選ばれ
るいずれかが使用される。
ソフェナントロリン、バソクプロイン、ビピリジン及び
トリフェニルホスフィンオキシドからなる群から選ばれ
るいずれかが使用される。
【0024】電界発光素子は、通常、基板、透明電極
(陽極)、ホール輸送層、本発明に係る有機金属錯体、
電子輸送層、背面電極(陰極)を順次積層することによ
り形成される。他の構造としては、透明電極の上に有
機金属錯体を設け、その上に陰極を設けたものや、透
明電極の上にホール輸送性を有する有機半導体(TP
D、PVK、α−NPDなど)を設け、その上に有機金
属錯体を設け、更にその上に陰極を設けたもの、透明
電極の上に有機金属錯体を設け、その上に電子輸送性を
有する有機半導体を設け、その上に陰極を設けたものを
挙げることができる。
(陽極)、ホール輸送層、本発明に係る有機金属錯体、
電子輸送層、背面電極(陰極)を順次積層することによ
り形成される。他の構造としては、透明電極の上に有
機金属錯体を設け、その上に陰極を設けたものや、透
明電極の上にホール輸送性を有する有機半導体(TP
D、PVK、α−NPDなど)を設け、その上に有機金
属錯体を設け、更にその上に陰極を設けたもの、透明
電極の上に有機金属錯体を設け、その上に電子輸送性を
有する有機半導体を設け、その上に陰極を設けたものを
挙げることができる。
【0025】電子輸送性を有する有機半導体としては、
オキサジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、アルミ
キノリノール錯体を挙げることができる。
オキサジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、アルミ
キノリノール錯体を挙げることができる。
【0026】なお、上記の場合において有機金属錯体
は、それ単独で用いられる場合もあるし、他の有機半導
体に混合して用いられる場合もある。
は、それ単独で用いられる場合もあるし、他の有機半導
体に混合して用いられる場合もある。
【0027】基板としては、ガラス、プラスチック、金
属薄膜等を挙げることができる。透明電極(陽極)とし
ては、インジウム錫オキシド(ITO)、酸化チタン、
酸化錫等を、真空蒸着法、スパッタリング法、ゾルゲル
法により薄膜に形成したもの等を挙げることができる。
属薄膜等を挙げることができる。透明電極(陽極)とし
ては、インジウム錫オキシド(ITO)、酸化チタン、
酸化錫等を、真空蒸着法、スパッタリング法、ゾルゲル
法により薄膜に形成したもの等を挙げることができる。
【0028】ホール輸送層としては、ポリビニルカルバ
ゾール(PVK)、フェニレンジアミン誘導体、トリフ
ェニルアミン誘導体等を、蒸着法、スピンコート法等に
より薄膜に形成したもの等を挙げることができる。
ゾール(PVK)、フェニレンジアミン誘導体、トリフ
ェニルアミン誘導体等を、蒸着法、スピンコート法等に
より薄膜に形成したもの等を挙げることができる。
【0029】電子輸送層としては、3−(4−ビフェニ
ル)−4−フェニル−5−ターシャルブチルフェニル−
1,2,4−トリアゾール(TAZ)、ニトロ置換フルオ
レノン誘導体、ジフェニルキノン誘導体等を挙げること
ができる。背面電極(陰極)としては、リチウム、アル
ミニウム、マグネシウム、銀等を挙げることができる。
ル)−4−フェニル−5−ターシャルブチルフェニル−
1,2,4−トリアゾール(TAZ)、ニトロ置換フルオ
レノン誘導体、ジフェニルキノン誘導体等を挙げること
ができる。背面電極(陰極)としては、リチウム、アル
ミニウム、マグネシウム、銀等を挙げることができる。
【0030】一般式(3)
【化24】 で表されるオキサジアゾールを有するβ−ジケトン誘導
体は、図1に示すような過程を経て製造される。図1は
一般式(3)に示す生成物質の合成過程のフロー図であ
る。まず、なす型フラスコに反応物質1、反応物質2及
び溶媒(エタノール、1−プロパノール、1−ブタノー
ル及び1−アミルアルコールからなる群から選ばれるい
ずれか)を入れ、60℃から溶媒の還流する温度下で、6
〜200時間反応させる。その後、常温程度に下げ結晶を
析出する。この結晶を吸引濾過し、メタノールとエーテ
ルで順次洗浄した後、真空乾燥して中間物質1を得る。
体は、図1に示すような過程を経て製造される。図1は
一般式(3)に示す生成物質の合成過程のフロー図であ
る。まず、なす型フラスコに反応物質1、反応物質2及
び溶媒(エタノール、1−プロパノール、1−ブタノー
ル及び1−アミルアルコールからなる群から選ばれるい
ずれか)を入れ、60℃から溶媒の還流する温度下で、6
〜200時間反応させる。その後、常温程度に下げ結晶を
析出する。この結晶を吸引濾過し、メタノールとエーテ
ルで順次洗浄した後、真空乾燥して中間物質1を得る。
【0031】中間物質1を酢酸鉛と共にクロロホルム中
に溶解し、常温で24〜200時間攪拌し反応させる。反応
後、蒸留水を加え、酢酸鉛を蒸留水中に抽出し、下層の
有機層を取り出し、炭酸ナトリウムで洗浄する。有機層
中の水分を硫酸ナトリウムで脱水する。その後、液層を
分離してローラリーエバポレータにより、加熱減圧して
クロロホルムを除き、残った固形物をアセトンに溶解し
て再結晶し、中間物質2を得る。
に溶解し、常温で24〜200時間攪拌し反応させる。反応
後、蒸留水を加え、酢酸鉛を蒸留水中に抽出し、下層の
有機層を取り出し、炭酸ナトリウムで洗浄する。有機層
中の水分を硫酸ナトリウムで脱水する。その後、液層を
分離してローラリーエバポレータにより、加熱減圧して
クロロホルムを除き、残った固形物をアセトンに溶解し
て再結晶し、中間物質2を得る。
【0032】窒素雰囲気下で、中間物質2、反応物質3
及び触媒(ナトリウムアミド、ナトリウムアルコキシド
及び水素化ナトリウムからなる群から選ばれるいずれ
か)の存在下でTHFに溶解する。この溶液を−80〜40
℃の温度で、24〜100時間攪拌して反応させ、一般式
(3)に示す生成物質を得る。
及び触媒(ナトリウムアミド、ナトリウムアルコキシド
及び水素化ナトリウムからなる群から選ばれるいずれ
か)の存在下でTHFに溶解する。この溶液を−80〜40
℃の温度で、24〜100時間攪拌して反応させ、一般式
(3)に示す生成物質を得る。
【0033】一般式(4)
【化25】 で表されるオキサジアゾールを有するβ−ジケトン誘導
体は、下記図2に示すような過程を経て製造される。図
2は一般式(4)に示す生成物質の合成過程のフロー図
である。上記一般式(4)に示す生成物質は、上記一般
式(3)に示す生成物質を合成する方法とほぼ同一の条
件で、反応物質1aと反応物質2aとを反応させて中間
物質1aを合成し、中間物質1aから中間物質2aを合
成する。その後、中間物質2aに反応物質3aを反応さ
せ、一般式(4)に示す生成物質を得る。
体は、下記図2に示すような過程を経て製造される。図
2は一般式(4)に示す生成物質の合成過程のフロー図
である。上記一般式(4)に示す生成物質は、上記一般
式(3)に示す生成物質を合成する方法とほぼ同一の条
件で、反応物質1aと反応物質2aとを反応させて中間
物質1aを合成し、中間物質1aから中間物質2aを合
成する。その後、中間物質2aに反応物質3aを反応さ
せ、一般式(4)に示す生成物質を得る。
【0034】
【実施例】実施例1 (2−ヒドロキシピリジン−N−オキシドとジベンゾイ
ルメタンを配位子とする有機金属錯体の合成) 式(1)
ルメタンを配位子とする有機金属錯体の合成) 式(1)
【化26】 で表される配位子2−ヒドロキシピリジン−N−オキシ
ド(東京化成株式会社製の試薬)を用意する。
ド(東京化成株式会社製の試薬)を用意する。
【0035】ビーカーに化26の2−ヒドロキシピリジ
ン−N−オキシド0.11gと、ジベンゾイルメタン0.44g
と、アセトン50mlを入れ、撹拌しながら溶かす。その溶
液中に塩化ユウロピウム六水和物0.37gを入れる。撹拌
を続けながら沈殿が生成するまで、1N水酸化ナトリウ
ム溶液をゆっくり滴下していく。析出を始めたら約60℃
に加熱し、更に1時間撹拌を続けると固形物が生成す
る。その後撹拌を止め、その固形物を濾過してメタノー
ルで洗浄する。次に、この固形物をアセトンに溶解して
数日間放置することにより、再結晶を行った。再結晶で
得られた化合物を濾過し、真空乾燥して、目的とする下
記有機金属錯体(化27)を0.61g得た。 式(13)
ン−N−オキシド0.11gと、ジベンゾイルメタン0.44g
と、アセトン50mlを入れ、撹拌しながら溶かす。その溶
液中に塩化ユウロピウム六水和物0.37gを入れる。撹拌
を続けながら沈殿が生成するまで、1N水酸化ナトリウ
ム溶液をゆっくり滴下していく。析出を始めたら約60℃
に加熱し、更に1時間撹拌を続けると固形物が生成す
る。その後撹拌を止め、その固形物を濾過してメタノー
ルで洗浄する。次に、この固形物をアセトンに溶解して
数日間放置することにより、再結晶を行った。再結晶で
得られた化合物を濾過し、真空乾燥して、目的とする下
記有機金属錯体(化27)を0.61g得た。 式(13)
【化27】
【0036】得られた化合物が目的物(化27)である
ことは、質量分析器(日本電子製JMS-AX505H)により確
認した。[質量スペクトル:M/Z=486(分子イオンからジ
ベンゾイルメタンを離脱したイオン)]。
ことは、質量分析器(日本電子製JMS-AX505H)により確
認した。[質量スペクトル:M/Z=486(分子イオンからジ
ベンゾイルメタンを離脱したイオン)]。
【0037】(化27の有機金属錯体の発光スペクト
ル)図3は本発明に係る化27の有機金属錯体の発光ス
ペクトルの特性図である。化27の有機金属錯体を蛍光
分光光度計(日本分光株式会社製 FP-777W)で測定し
たところ、図3に示すようにスペクトル幅の狭いシャー
プな発光が得られた。
ル)図3は本発明に係る化27の有機金属錯体の発光ス
ペクトルの特性図である。化27の有機金属錯体を蛍光
分光光度計(日本分光株式会社製 FP-777W)で測定し
たところ、図3に示すようにスペクトル幅の狭いシャー
プな発光が得られた。
【0038】(化27の有機金属錯体の蒸着確認試験)
化27の有機金属錯体を真空蒸着できるかどうか、以下
のような方法で確認試験を行った。中性洗剤、アセト
ン、エタノールを用いてガラス基板(市販のスライドグ
ラス)を超音波洗浄した。このガラス基板を蒸着装置の
基板ホルダーに固定し、2.0×10-4Paまで減圧した。そ
の後、化27の有機金属錯体を蒸着速度0.2nm/secで50n
mの厚さに蒸着した。その時、蒸着装置内の真空度は著
しく低下することなく、2.0×10-4〜3.0×10-4Pa程度
に保たれた。また、その蒸着膜を蛍光分光光度計(日本
分光株式会社製 FP-777W)で測定したところ、ユウロ
ピウム錯体特有のシャープなスペクトルの蛍光が確認さ
れた。以上のことから、化27の有機金属錯体は熱分解
されることなく、真空蒸着法によって膜形成が可能であ
ることが確認された。
化27の有機金属錯体を真空蒸着できるかどうか、以下
のような方法で確認試験を行った。中性洗剤、アセト
ン、エタノールを用いてガラス基板(市販のスライドグ
ラス)を超音波洗浄した。このガラス基板を蒸着装置の
基板ホルダーに固定し、2.0×10-4Paまで減圧した。そ
の後、化27の有機金属錯体を蒸着速度0.2nm/secで50n
mの厚さに蒸着した。その時、蒸着装置内の真空度は著
しく低下することなく、2.0×10-4〜3.0×10-4Pa程度
に保たれた。また、その蒸着膜を蛍光分光光度計(日本
分光株式会社製 FP-777W)で測定したところ、ユウロ
ピウム錯体特有のシャープなスペクトルの蛍光が確認さ
れた。以上のことから、化27の有機金属錯体は熱分解
されることなく、真空蒸着法によって膜形成が可能であ
ることが確認された。
【0039】なお、化27の有機金属錯体の溶媒に対す
る溶解性を検討したところ、アセトン、エタノール、ク
ロロホルム等の有機溶媒に溶解可能であった。よって、
錯体を溶媒に溶解させて行うスピンコート法による薄膜
形成についても、容易に可能であるということが分かっ
た。
る溶解性を検討したところ、アセトン、エタノール、ク
ロロホルム等の有機溶媒に溶解可能であった。よって、
錯体を溶媒に溶解させて行うスピンコート法による薄膜
形成についても、容易に可能であるということが分かっ
た。
【0040】(化27の有機金属錯体を使用した電界発
光素子の作製)図4は本発明に係る化27の有機金属錯
体を使用した電界発光素子の側面視説明図、図5は図4
に示す電界発光素子の発光スペクトルの特性図である。
化27の有機金属錯体を用いて、次のようにして、電界
発光素子を作製した。
光素子の作製)図4は本発明に係る化27の有機金属錯
体を使用した電界発光素子の側面視説明図、図5は図4
に示す電界発光素子の発光スペクトルの特性図である。
化27の有機金属錯体を用いて、次のようにして、電界
発光素子を作製した。
【0041】透明電極(ITO)(符号2)が100nmの
厚みにスパッタリングされているガラス基板(符号1)
上に、ポリビニルカルバゾール(TPD)(符号3)を
約50nmの厚みに真空蒸着法(2.0×10-4Pa、後同じ)に
よって薄膜を形成する。その上に化27の有機金属錯体
(符号4)を真空蒸着法により約10nmの厚みに蒸着す
る。更にその上に、TAZ(符号5)を約25nm蒸着す
る。また更にその上に、Alq3(トリス(8−ヒドロ
キシキノリン)アルミニウム)(符号6)を30nm蒸着す
る。更にその上に電極としてMgAg6(符号7、マグ
ネシウムと銀との重量比で10対1の合金である。)を
約200nm蒸着し、積層した電極を得た。なお、図中8は
電極である。
厚みにスパッタリングされているガラス基板(符号1)
上に、ポリビニルカルバゾール(TPD)(符号3)を
約50nmの厚みに真空蒸着法(2.0×10-4Pa、後同じ)に
よって薄膜を形成する。その上に化27の有機金属錯体
(符号4)を真空蒸着法により約10nmの厚みに蒸着す
る。更にその上に、TAZ(符号5)を約25nm蒸着す
る。また更にその上に、Alq3(トリス(8−ヒドロ
キシキノリン)アルミニウム)(符号6)を30nm蒸着す
る。更にその上に電極としてMgAg6(符号7、マグ
ネシウムと銀との重量比で10対1の合金である。)を
約200nm蒸着し、積層した電極を得た。なお、図中8は
電極である。
【0042】この電界発光素子10に、電圧20V、電流
140mA/cm2を印加して発光させた。その発光輝度を輝度
計(ミノルタ LS-110)で測定したところ、110cd/m2
であった。また発光スペクトルをマルチチャンネル検出
器(浜松ホトニクス PMA-11)で測定したところ、主な
発光波長は約612nmで、発光スペクトルの幅は12nmであ
った。
140mA/cm2を印加して発光させた。その発光輝度を輝度
計(ミノルタ LS-110)で測定したところ、110cd/m2
であった。また発光スペクトルをマルチチャンネル検出
器(浜松ホトニクス PMA-11)で測定したところ、主な
発光波長は約612nmで、発光スペクトルの幅は12nmであ
った。
【0043】実施例2 (2−ヒドロキシピリジン−N−オキシドと、ジベンゾ
イルメタンと、中性配位子であるo-フェナントロリン
を配位子とする有機金属錯体の合成)ビーカーに化1の
2−ヒドロキシピリジン−N−オキシド0.11gと、ジベ
ンゾイルメタン0.44gと、o-フェナントロリン一水和
物0.2gと、アセトン50mlを入れ、撹拌しながら溶かす。
その溶液中に塩化ユウロピウム六水和物0.37gを入れ
る。その後、実施例1とほぼ同様の方法により、目的と
する下記有機金属錯体(化28)0.65gを得た。なお、
有機金属錯体の再結晶には、溶媒としてアセトン/エタ
ノール混合溶媒を使用した。 式(14)
イルメタンと、中性配位子であるo-フェナントロリン
を配位子とする有機金属錯体の合成)ビーカーに化1の
2−ヒドロキシピリジン−N−オキシド0.11gと、ジベ
ンゾイルメタン0.44gと、o-フェナントロリン一水和
物0.2gと、アセトン50mlを入れ、撹拌しながら溶かす。
その溶液中に塩化ユウロピウム六水和物0.37gを入れ
る。その後、実施例1とほぼ同様の方法により、目的と
する下記有機金属錯体(化28)0.65gを得た。なお、
有機金属錯体の再結晶には、溶媒としてアセトン/エタ
ノール混合溶媒を使用した。 式(14)
【化28】
【0044】得られた化合物が目的物(化28)である
ことは、質量分析器(日本電子製JMS-AX505H)により確
認した。[質量スペクトル:M/Z=666(分子イオンからジ
ベンゾイルメタンを離脱したイオン)]。
ことは、質量分析器(日本電子製JMS-AX505H)により確
認した。[質量スペクトル:M/Z=666(分子イオンからジ
ベンゾイルメタンを離脱したイオン)]。
【0045】(化28の有機金属錯体の蒸着確認試験)
化28の有機金属錯体を真空蒸着できるかどうかを、実
施例1と同様の方法で確認した。その結果、化28の有
機金属錯体は熱分解されることなく、真空蒸着法によっ
て膜形成が可能であることが確認された。
化28の有機金属錯体を真空蒸着できるかどうかを、実
施例1と同様の方法で確認した。その結果、化28の有
機金属錯体は熱分解されることなく、真空蒸着法によっ
て膜形成が可能であることが確認された。
【0046】(化28の有機金属錯体を使用した電界発
光素子の作製)化28の有機金属錯体を使用し、実施例
1と同様の構成の電界発光素子を作製した。この電界発
光素子に、電圧20V、電流180mA/cm2を印加して発光さ
せたところ、輝度は185cd/m2であった。
光素子の作製)化28の有機金属錯体を使用し、実施例
1と同様の構成の電界発光素子を作製した。この電界発
光素子に、電圧20V、電流180mA/cm2を印加して発光さ
せたところ、輝度は185cd/m2であった。
【0047】実施例3 (オキサジアゾールを有するβ−ジケトン誘導化合物
と、ジベンゾイルメタンと、o−フェナントロリンを配
位子とする有機金属錯体の合成)まず、式(5)
と、ジベンゾイルメタンと、o−フェナントロリンを配
位子とする有機金属錯体の合成)まず、式(5)
【化29】 で表される配位子を次のようにして合成した。
【0048】ベンゾイルヒドラジン5.44gとテレフタル
アルデヒド酸メチル6.56gを100℃の1−ブタノール中で
6時間撹拌した。常温程度に放冷後析出した白色析出物
を吸引ろ過し、その析出物をメタノール100mlと少量の
エーテルにより順次洗浄した。洗浄後真空乾燥し、7.66
gの下記化合物を回収した。 式(15)
アルデヒド酸メチル6.56gを100℃の1−ブタノール中で
6時間撹拌した。常温程度に放冷後析出した白色析出物
を吸引ろ過し、その析出物をメタノール100mlと少量の
エーテルにより順次洗浄した。洗浄後真空乾燥し、7.66
gの下記化合物を回収した。 式(15)
【化30】
【0049】次になす型フラスコ中に、上記化合物7.56
g(同定サンプルを除いたもの)と酢酸鉛(IV)12.47g
を入れ、更にクロロホルム200mlを入れて常温で1晩撹
拌する。1晩撹拌した後その反応液を分液ロートに移し
蒸留水200mlを入れ振盪する。これにより蒸留水層に酢
酸鉛を抽出し、下層の有機層を分液ロートから排出す
る。その排出した有機層を再び分液ロートに戻し、中和
するために10%炭酸ナトリウム150mlを分液ロートに入れ
振盪する。その後、再度有機層を取り出して再度分液ロ
ートに戻す。分液ロート内に水200mlを入れ振盪した
後、有機層をとり出する。その有機層に硫酸ナトリウム
を適量入れ30〜60分間脱水する。次に、液層を分離して
ロータリーエバポレーターにより加熱・減圧して固まる
まで乾燥して固形物を得る。この固形物をアセトンに溶
解し、数日間放置することにより、再結晶して下記化合
物を2.81gを得た。式(16)
g(同定サンプルを除いたもの)と酢酸鉛(IV)12.47g
を入れ、更にクロロホルム200mlを入れて常温で1晩撹
拌する。1晩撹拌した後その反応液を分液ロートに移し
蒸留水200mlを入れ振盪する。これにより蒸留水層に酢
酸鉛を抽出し、下層の有機層を分液ロートから排出す
る。その排出した有機層を再び分液ロートに戻し、中和
するために10%炭酸ナトリウム150mlを分液ロートに入れ
振盪する。その後、再度有機層を取り出して再度分液ロ
ートに戻す。分液ロート内に水200mlを入れ振盪した
後、有機層をとり出する。その有機層に硫酸ナトリウム
を適量入れ30〜60分間脱水する。次に、液層を分離して
ロータリーエバポレーターにより加熱・減圧して固まる
まで乾燥して固形物を得る。この固形物をアセトンに溶
解し、数日間放置することにより、再結晶して下記化合
物を2.81gを得た。式(16)
【化31】
【0050】上記した化31の化合物2.81g、アセトフ
ェノン8.6g、ナトリウムアミド2.8g、乾燥THF(合成
を阻害しないように、水分を除いたテトラヒドロフラ
ン)40mlを、窒素雰囲気下で密封状態にした三角フラス
コ中で48時間撹拌する。得られた反応液を塩酸で中和し
沈殿物質を濾過して濾過物を取り出す。この濾過物を十
分な量の蒸留水とメタノールとにより洗浄し、洗浄後の
濾過物をアセトン/THFの混合溶剤で溶解し、数日間
放置することにより再結晶させ、2.62gの物質を得た。
ェノン8.6g、ナトリウムアミド2.8g、乾燥THF(合成
を阻害しないように、水分を除いたテトラヒドロフラ
ン)40mlを、窒素雰囲気下で密封状態にした三角フラス
コ中で48時間撹拌する。得られた反応液を塩酸で中和し
沈殿物質を濾過して濾過物を取り出す。この濾過物を十
分な量の蒸留水とメタノールとにより洗浄し、洗浄後の
濾過物をアセトン/THFの混合溶剤で溶解し、数日間
放置することにより再結晶させ、2.62gの物質を得た。
【0051】得られた化合物が目的物(化29)である
ことは、赤外吸収スペクトル検出器(島津製作所製 FT
IR−8600)及び質量分析器(日本電子製 JMS-AX505H)
により確認した。[赤外吸収スペクトル:1596cm-1(β
−ジケトン);質量スペクトル:M/Z=368(分子イオ
ン)]。
ことは、赤外吸収スペクトル検出器(島津製作所製 FT
IR−8600)及び質量分析器(日本電子製 JMS-AX505H)
により確認した。[赤外吸収スペクトル:1596cm-1(β
−ジケトン);質量スペクトル:M/Z=368(分子イオ
ン)]。
【0052】希土類金属であるユウロピウムに化29の
化合物を配位子とした有機金属錯体を次のようにして合
成した。ビーカーに化29の化合物0.37gと、ジベンゾ
イルメタン0.45g、o-フェナントロリン一水和物0.2g
と、THF20mlを入れ、撹拌しながら溶かす。その溶液
中に塩化ユウロピウム六水和物0.37gを入れる。撹拌を
続けながら沈殿が生成するまで1N水酸化ナトリウム溶
液をゆっくり滴下していく。析出を始めたら約60℃に加
熱して、更に1時間撹拌すると固形物が生成する。その
後撹拌を止め、その固形物を濾過してエタノールで洗浄
する。その後、濾過物を真空乾燥し、目的とする下記有
機金属錯体(化32)を0.97g得た。 式(17)
化合物を配位子とした有機金属錯体を次のようにして合
成した。ビーカーに化29の化合物0.37gと、ジベンゾ
イルメタン0.45g、o-フェナントロリン一水和物0.2g
と、THF20mlを入れ、撹拌しながら溶かす。その溶液
中に塩化ユウロピウム六水和物0.37gを入れる。撹拌を
続けながら沈殿が生成するまで1N水酸化ナトリウム溶
液をゆっくり滴下していく。析出を始めたら約60℃に加
熱して、更に1時間撹拌すると固形物が生成する。その
後撹拌を止め、その固形物を濾過してエタノールで洗浄
する。その後、濾過物を真空乾燥し、目的とする下記有
機金属錯体(化32)を0.97g得た。 式(17)
【化32】
【0053】(化32の有機金属錯体の発光スペクト
ル)図6は本発明に係る化32で示す有機金属錯体の発
光スペクトルの特性図である。化32の有機金属錯体を
蛍光分光光度計(日本分光株式会社製 FP-777W)で測
定したところ、図6に示すようにスペクトル幅の狭いシ
ャープな発光が得られた。
ル)図6は本発明に係る化32で示す有機金属錯体の発
光スペクトルの特性図である。化32の有機金属錯体を
蛍光分光光度計(日本分光株式会社製 FP-777W)で測
定したところ、図6に示すようにスペクトル幅の狭いシ
ャープな発光が得られた。
【0054】(化32の有機金属錯体の蒸着確認試験)
化32の有機金属錯体を真空蒸着できるかどうかを、実
施例1と同様の方法で確認した。その結果、化32の有
機金属錯体は熱分解されることなく、真空蒸着法によっ
て膜形成が可能であることが確認された。
化32の有機金属錯体を真空蒸着できるかどうかを、実
施例1と同様の方法で確認した。その結果、化32の有
機金属錯体は熱分解されることなく、真空蒸着法によっ
て膜形成が可能であることが確認された。
【0055】(化32の有機金属錯体を使用した電界発
光素子の作製)化32の有機金属錯体を使用し、実施例
1と同様の構成の電界発光素子を作製した。この電界発
光素子に、電圧20V、電流110mA/cm2を印加して発光さ
せたところ、輝度は83cd/m2であった。
光素子の作製)化32の有機金属錯体を使用し、実施例
1と同様の構成の電界発光素子を作製した。この電界発
光素子に、電圧20V、電流110mA/cm2を印加して発光さ
せたところ、輝度は83cd/m2であった。
【0056】実施例4 (1−(N,N’−ジフェニルアミノ)−3−フェニル
プロパン−1,3−ジオンと、ジベンゾイルメタンと、
o−フェナントロリンを配位子とする有機金属錯体)ま
ず、式(18)
プロパン−1,3−ジオンと、ジベンゾイルメタンと、
o−フェナントロリンを配位子とする有機金属錯体)ま
ず、式(18)
【化33】 で表される1−(N,N’−ジフェニルアミノ)−3−
フェニルプロパン−1,3−ジオンを次のようにして合
成した。
フェニルプロパン−1,3−ジオンを次のようにして合
成した。
【0057】アセトフェノン2.4gとナトリウムアミド
1.56gをエチルエーテル中20mlに溶かし10分攪拌(溶液
A)し、その後、エチル−4−(ジフェニルアミノ)ベ
ンゾエート3gを5mlに溶かし溶液Aに滴下、2時間還流し
た。その溶液を塩酸で中和し、水20mlを加え、クロロホ
ルム30mlで抽出した。クロロホルムを脱水乾燥後、ロー
タリーエバポレーターで濃縮した後、カラムクロマトグ
ラフィ(シリカゲル)により緑色成分を分取、エタノー
ルにより再結晶して、1−(N,N’−ジフェニルアミ
ノ)−3−フェニルプロパン−1,3−ジオンを得た。
1.56gをエチルエーテル中20mlに溶かし10分攪拌(溶液
A)し、その後、エチル−4−(ジフェニルアミノ)ベ
ンゾエート3gを5mlに溶かし溶液Aに滴下、2時間還流し
た。その溶液を塩酸で中和し、水20mlを加え、クロロホ
ルム30mlで抽出した。クロロホルムを脱水乾燥後、ロー
タリーエバポレーターで濃縮した後、カラムクロマトグ
ラフィ(シリカゲル)により緑色成分を分取、エタノー
ルにより再結晶して、1−(N,N’−ジフェニルアミ
ノ)−3−フェニルプロパン−1,3−ジオンを得た。
【0058】得られた化合物が目的物(化33)である
ことは、赤外吸収スペクトル検出器(島津製作所製 FT
IR−8600)及び質量分析器(日本電子製 JMS-AX505H)
により確認した。[赤外吸収スペクトル:1596cm-1(β
−ジケトン);質量スペクトル:M/Z=391(分子イオ
ン)]。
ことは、赤外吸収スペクトル検出器(島津製作所製 FT
IR−8600)及び質量分析器(日本電子製 JMS-AX505H)
により確認した。[赤外吸収スペクトル:1596cm-1(β
−ジケトン);質量スペクトル:M/Z=391(分子イオ
ン)]。
【0059】希土類金属であるユウロピウムに化33の
化合物を配位子とした有機金属錯体を次のようにして合
成した。ビーカーに化33の1−(N,N’−ジフェニ
ルアミノ)−3−フェニルプロパン−1,3−ジオン0.
17gと、ジベンゾイルメタン0.18gと、o-フェナント
ロリン一水和物0.08gと、THF20mlを入れ、撹拌しな
がら溶かす。その溶液中に塩化ユウロピウム六水和物0.
15gを入れる。撹拌を続けながら沈殿が生成するまで1
N水酸化ナトリウム溶液をゆっくり滴下していく。析出
を始めたら約60℃に加熱して、更に1時間撹拌すると固
形物が生成する。その後撹拌を止め、その固形物を濾過
してエタノールで洗浄する。その後、濾過物を真空乾燥
し、目的とする下記有機金属錯体(化34)を0.34g得
た。 式(19)
化合物を配位子とした有機金属錯体を次のようにして合
成した。ビーカーに化33の1−(N,N’−ジフェニ
ルアミノ)−3−フェニルプロパン−1,3−ジオン0.
17gと、ジベンゾイルメタン0.18gと、o-フェナント
ロリン一水和物0.08gと、THF20mlを入れ、撹拌しな
がら溶かす。その溶液中に塩化ユウロピウム六水和物0.
15gを入れる。撹拌を続けながら沈殿が生成するまで1
N水酸化ナトリウム溶液をゆっくり滴下していく。析出
を始めたら約60℃に加熱して、更に1時間撹拌すると固
形物が生成する。その後撹拌を止め、その固形物を濾過
してエタノールで洗浄する。その後、濾過物を真空乾燥
し、目的とする下記有機金属錯体(化34)を0.34g得
た。 式(19)
【化34】
【0060】(化34の有機金属錯体の発光スペクト
ル)図7は本発明に係る化34の有機金属錯体の発光ス
ペクトルの特性図である。化34の有機金属錯体を蛍光
分光光度計(日本分光株式会社製 FP-777W)で測定し
たところ、図7に示すようにスペクトル幅の狭いシャー
プな発光が得られた。
ル)図7は本発明に係る化34の有機金属錯体の発光ス
ペクトルの特性図である。化34の有機金属錯体を蛍光
分光光度計(日本分光株式会社製 FP-777W)で測定し
たところ、図7に示すようにスペクトル幅の狭いシャー
プな発光が得られた。
【0061】(化34の有機金属錯体の蒸着確認試験)
化34の有機金属錯体を真空蒸着できるかどうかを、実
施例1と同様の方法で確認した。その結果、化34の有
機金属錯体は熱分解されることなく、真空蒸着法によっ
て膜形成が可能であることが確認された。
化34の有機金属錯体を真空蒸着できるかどうかを、実
施例1と同様の方法で確認した。その結果、化34の有
機金属錯体は熱分解されることなく、真空蒸着法によっ
て膜形成が可能であることが確認された。
【0062】(化34の有機金属錯体を使用した電界発
光素子の作製)化34の有機金属錯体を使用し、実施例
1と同様の構成の電界発光素子を作製した。この電界発
光素子に、電圧20V、電流110mA/cm2を印加して発光さ
せたところ、輝度は60cd/m2であった。
光素子の作製)化34の有機金属錯体を使用し、実施例
1と同様の構成の電界発光素子を作製した。この電界発
光素子に、電圧20V、電流110mA/cm2を印加して発光さ
せたところ、輝度は60cd/m2であった。
【0063】本明細書で使用している用語と表現は、あ
くまでも説明上のものであって、なんら限定的なもので
はなく、本明細書に記述された特徴およびその一部と等
価の用語や表現を除外する意図はない。また、本発明の
技術思想の範囲内で、種々の変形態様が可能であるとい
うことは言うまでもない。なお、本発明は実施例に限定
されるものではなく、特許請求の範囲の記載内において
種々の変形が可能である。
くまでも説明上のものであって、なんら限定的なもので
はなく、本明細書に記述された特徴およびその一部と等
価の用語や表現を除外する意図はない。また、本発明の
技術思想の範囲内で、種々の変形態様が可能であるとい
うことは言うまでもない。なお、本発明は実施例に限定
されるものではなく、特許請求の範囲の記載内において
種々の変形が可能である。
【0064】
【発明の効果】本発明は上記構成を備え、次の効果を有
する。即ち、本発明に係る有機金属錯体の製造方法で
は、電界発光素子の薄膜を形成することができない、あ
るいは薄膜の形成が困難な有機金属錯体の一または複数
を、ジベンゾイルメタン、アセチルアセトン及び2,
2,6,6−テトラメチル−3,5−ヘプタジオンから
なる群から選ばれるいずれに代えることによって、真空
蒸着法によって薄膜を形成することができる有機金属錯
体を製造することができる。したがって、本発明に係る
有機金属錯体を真空蒸着することで電界発光素子を作製
することができるので、均質な膜が得られやすく、かつ
ピンホールが生成しにくい。また、スピンコート法で問
題となっていた電極や有機物の劣化が生じにくい。
する。即ち、本発明に係る有機金属錯体の製造方法で
は、電界発光素子の薄膜を形成することができない、あ
るいは薄膜の形成が困難な有機金属錯体の一または複数
を、ジベンゾイルメタン、アセチルアセトン及び2,
2,6,6−テトラメチル−3,5−ヘプタジオンから
なる群から選ばれるいずれに代えることによって、真空
蒸着法によって薄膜を形成することができる有機金属錯
体を製造することができる。したがって、本発明に係る
有機金属錯体を真空蒸着することで電界発光素子を作製
することができるので、均質な膜が得られやすく、かつ
ピンホールが生成しにくい。また、スピンコート法で問
題となっていた電極や有機物の劣化が生じにくい。
【図1】 一般式(3)に示す生成物質の合成過程のフ
ロー図。
ロー図。
【図2】 一般式(4)に示す生成物質の合成過程のフ
ロー図。
ロー図。
【図3】 本発明に係る化27の有機金属錯体の発光ス
ペクトルの特性図。
ペクトルの特性図。
【図4】 本発明に係る化27の有機金属錯体を使用し
た電界発光素子の側面視説明図。
た電界発光素子の側面視説明図。
【図5】 図4に示す電界発光素子の発光スペクトルの
特性図。
特性図。
【図6】 本発明に係る化32で示す有機金属錯体の発
光スペクトルの特性図。
光スペクトルの特性図。
【図7】 本発明に係る化34の有機金属錯体の発光ス
ペクトルの特性図。
ペクトルの特性図。
1 ガラス基板 2 透明電極(ITO) 3 ポリビニルカルバゾール(TPD) 4 化12の有機金属錯体 5 TAZ 6 Alq3 7 MgAg6 8 電極 10 電界発光素子
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 3K007 AB00 AB18 CA01 CA04 CA05 CB01 CB03 DA00 DB03 EB00 FA01 FA03 4C055 AA17 BA02 BA03 BA05 BA06 BA42 CA01 DA01 GA02 4C056 AA01 AB02 AC07 AD01 AE03 FA04 FA09 FA10 FB01 FC01 4H048 AA01 AA02 AB92 AC25 AC44 AC59 VA11 VA20 VA22 VA32 VA70 VB10
Claims (9)
- 【請求項1】 真空蒸着法によって電界発光素子の薄膜
を形成することができない、あるいは薄膜の形成が困難
な有機金属錯体を、真空蒸着法によって薄膜形成できる
ようにした有機金属錯体の製造方法であって、 真空蒸着法によって上記薄膜を形成することができな
い、あるいは薄膜の形成が困難な有機金属錯体の配位子
の一または複数を、ジベンゾイルメタン、アセチルアセ
トン及び2,2,6,6−テトラメチル−3,5−ヘプ
タジオンからなる群から選ばれるいずれかに代えること
を特徴とする、 有機金属錯体の製造方法。 - 【請求項2】 電界発光素子の薄膜を真空蒸着法によっ
て形成するために使用する有機金属錯体であって、 真空蒸着法によって上記薄膜を形成することができな
い、あるいは薄膜の形成が困難な有機金属錯体の配位子
の一または複数が、ジベンゾイルメタン、アセチルアセ
トン及び2,2,6,6−テトラメチル−3,5−ヘプ
タジオンからなる群から選ばれるいずれかに代えられて
いることを特徴とする、 有機金属錯体。 - 【請求項3】 式(1) 【化1】 で表される化合物または式(2) 【化2】 で表される化合物のいずれかと、 ジベンゾイルメタン、アセチルアセトン及び2,2,
6,6−テトラメチル−3,5−ヘプタジオンからなる
群から選ばれるいずれかと、を希土類金属の配位子とし
て含むことを特徴とする、 有機金属錯体。 - 【請求項4】 一般式(3) 【化3】 [式中R1は、水素原子、アルキル基、アルキル基の水素
原子の一部または全部をハライド原子で置換した基、ア
ルケニル基、アリール基、または複素環状基である。R2
はアリール基または複素環状基である。]で表されるオ
キサジアゾールを有するβ−ジケトン誘導体と、 ジベンゾイルメタン、アセチルアセトン及び2,2,
6,6−テトラメチル−3,5−ヘプタジオンからなる
群から選ばれるいずれかと、を希土類金属の配位子とし
て含むことを特徴とする、 有機金属錯体。 - 【請求項5】 一般式(4) 【化4】 [式中R1はアリール基または複素環状基である。]で表
されるオキサジアゾールを有するβ−ジケトン誘導体
と、 ジベンゾイルメタン、アセチルアセトン及び2,2,
6,6−テトラメチル−3,5−ヘプタジオンからなる
群から選ばれるいずれかと、を希土類金属の配位子とし
て含むことを特徴とする、 有機金属錯体。 - 【請求項6】 式(5) 【化5】 で表されるオキサジアゾールを有するβ−ジケトン誘導
体、 式(6) 【化6】 で表されるオキサジアゾールを有するβ−ジケトン誘導
体、 式(7) 【化7】 で表されるオキサジアゾールを有するβ−ジケトン誘導
体、 式(8) 【化8】 で表されるオキサジアゾールを有するβ−ジケトン誘導
体、 式(9) 【化9】 で表されるオキサジアゾールを有するβ−ジケトン誘導
体、 式(10) 【化10】 で表されるオキサジアゾールを有するβ−ジケトン誘導
体及び式(11) 【化11】 で表されるオキサジアゾールを有するβ−ジケトン誘導
体からなる群から選ばれるいずれかと、 ジベンゾイルメタン、アセチルアセトン及び2,2,
6,6−テトラメチル−3,5−ヘプタジオンからなる
群から選ばれるいずれかと、を希土類金属の配位子とし
て含むことを特徴とする、有機金属錯体。 - 【請求項7】 中性配位子を希土類金属の配位子として
含むことを特徴とする、 請求項3,4,5または6記載の有機金属錯体。 - 【請求項8】 希土類金属が、ユウロピウム、サマリウ
ム、テルビウム及びネオジムからなる群から選ばれるい
ずれかであることを特徴とする、 請求項3,4,5,6または7記載の有機金属錯体。 - 【請求項9】 請求項2,3,4,5,6,7または8
記載の有機金属錯体が真空蒸着されていることを特徴と
する、 電界発光素子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000045257A JP2001233880A (ja) | 2000-02-22 | 2000-02-22 | 有機金属錯体の製造方法、有機金属錯体及びそれを使用した電界発光素子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000045257A JP2001233880A (ja) | 2000-02-22 | 2000-02-22 | 有機金属錯体の製造方法、有機金属錯体及びそれを使用した電界発光素子 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001233880A true JP2001233880A (ja) | 2001-08-28 |
Family
ID=18567871
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000045257A Pending JP2001233880A (ja) | 2000-02-22 | 2000-02-22 | 有機金属錯体の製造方法、有機金属錯体及びそれを使用した電界発光素子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2001233880A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008166829A (ja) * | 2008-01-17 | 2008-07-17 | Konica Minolta Holdings Inc | 有機エレクトロルミネッセンス素子および表示装置 |
WO2016080717A1 (ko) * | 2014-11-18 | 2016-05-26 | 주식회사 효성 | 금속-유기 배위 중합체 발광 화합물, 및 이의 제조방법 |
US10053479B2 (en) | 2014-01-10 | 2018-08-21 | Tanaka Kikinzoku Kogyo K.K. | Raw material and production method for cyclometalated iridium complex |
CN116814245A (zh) * | 2023-07-07 | 2023-09-29 | 山东首明科技有限公司 | 一种用于制作发光牌的复合材料及其制备方法 |
WO2024168936A1 (zh) * | 2023-02-13 | 2024-08-22 | 包头稀土研究院 | 一种β-二酮类多元稀土配合物及其制备方法和应用 |
-
2000
- 2000-02-22 JP JP2000045257A patent/JP2001233880A/ja active Pending
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008166829A (ja) * | 2008-01-17 | 2008-07-17 | Konica Minolta Holdings Inc | 有機エレクトロルミネッセンス素子および表示装置 |
US10053479B2 (en) | 2014-01-10 | 2018-08-21 | Tanaka Kikinzoku Kogyo K.K. | Raw material and production method for cyclometalated iridium complex |
WO2016080717A1 (ko) * | 2014-11-18 | 2016-05-26 | 주식회사 효성 | 금속-유기 배위 중합체 발광 화합물, 및 이의 제조방법 |
KR101740771B1 (ko) | 2014-11-18 | 2017-06-09 | 주식회사 효성 | 금속-유기 배위 중합체 발광 화합물, 및 이의 제조방법 |
WO2024168936A1 (zh) * | 2023-02-13 | 2024-08-22 | 包头稀土研究院 | 一种β-二酮类多元稀土配合物及其制备方法和应用 |
CN116814245A (zh) * | 2023-07-07 | 2023-09-29 | 山东首明科技有限公司 | 一种用于制作发光牌的复合材料及其制备方法 |
CN116814245B (zh) * | 2023-07-07 | 2023-12-19 | 山东首明科技有限公司 | 一种用于制作发光牌的复合材料及其制备方法 |
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