JP2001228327A - 複屈折板の製造方法 - Google Patents
複屈折板の製造方法Info
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- JP2001228327A JP2001228327A JP2000039273A JP2000039273A JP2001228327A JP 2001228327 A JP2001228327 A JP 2001228327A JP 2000039273 A JP2000039273 A JP 2000039273A JP 2000039273 A JP2000039273 A JP 2000039273A JP 2001228327 A JP2001228327 A JP 2001228327A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 光学材料が斜め蒸着された基板を複屈折板に
切断する前であっても、複屈折板に切断した後の特性を
正確に検査することのできる複屈折板の製造方法を提案
すること。 【解決手段】 斜め蒸着膜６を用いた複屈折板１の製造
方法において、溝形成工程（工程ＳＴ３）でガラス基板
２に複屈折板１のサイズに合わせた溝４を形成した後、
斜め蒸着工程（工程ＳＴ５）を行い、溝４内で途切れる
ように斜め蒸着膜６を形成する。次にガラス基板２にお
いて溝４で区画された領域の各々について検査した後、
切断工程（工程ＳＴ８）において溝４に沿ってガラス基
板２を切断して複屈折板１を得る。
切断する前であっても、複屈折板に切断した後の特性を
正確に検査することのできる複屈折板の製造方法を提案
すること。 【解決手段】 斜め蒸着膜６を用いた複屈折板１の製造
方法において、溝形成工程（工程ＳＴ３）でガラス基板
２に複屈折板１のサイズに合わせた溝４を形成した後、
斜め蒸着工程（工程ＳＴ５）を行い、溝４内で途切れる
ように斜め蒸着膜６を形成する。次にガラス基板２にお
いて溝４で区画された領域の各々について検査した後、
切断工程（工程ＳＴ８）において溝４に沿ってガラス基
板２を切断して複屈折板１を得る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光学機器に用いら
れる１／４波長板等の複屈折板の製造方法に関するもの
である。さらに詳しくは、光学材料を基板表面に斜めに
蒸着した斜め蒸着膜を利用した複屈折板の製造方法に関
するものである。
れる１／４波長板等の複屈折板の製造方法に関するもの
である。さらに詳しくは、光学材料を基板表面に斜めに
蒸着した斜め蒸着膜を利用した複屈折板の製造方法に関
するものである。
【０００２】
【従来の技術】複屈折板としては、光学異方性結晶を加
工したもの、高分子フィルムを伸延したもの、液晶を利
用したもの、斜め蒸着膜を利用したもの等がある。これ
らの複屈折板のうち、斜め蒸着膜を利用したものは、た
とえば、特開昭５９−４９５０８号公報に開示されてい
るように、複屈折性を備えた膜を広い領域にわたって一
度に形成することができるので、製造コストを低減でき
るとして注目を浴びている。
工したもの、高分子フィルムを伸延したもの、液晶を利
用したもの、斜め蒸着膜を利用したもの等がある。これ
らの複屈折板のうち、斜め蒸着膜を利用したものは、た
とえば、特開昭５９−４９５０８号公報に開示されてい
るように、複屈折性を備えた膜を広い領域にわたって一
度に形成することができるので、製造コストを低減でき
るとして注目を浴びている。
【０００３】このような斜め蒸着膜を利用した複屈折板
は、たとえば、図３を参照して説明する方法により製造
される。ここに示す製造方法では、図３に示すように、
まず、工程ＳＴ１１で直径１００ｍｍの透明なガラス基
板２を用意した後、工程ＳＴ１２においてガラス基板２
の裏面に裏面反射防止膜３を蒸着形成する。裏面反射防
止膜３の材料としてはフッ化マグネシウム（Ｍｇ
Ｆ2）、二酸化チタン（ＴｉＯ2）、酸化アルミ（Ａｌ2
Ｏ3）、二酸化珪素（ＳｉＯ2）等が使用される。
は、たとえば、図３を参照して説明する方法により製造
される。ここに示す製造方法では、図３に示すように、
まず、工程ＳＴ１１で直径１００ｍｍの透明なガラス基
板２を用意した後、工程ＳＴ１２においてガラス基板２
の裏面に裏面反射防止膜３を蒸着形成する。裏面反射防
止膜３の材料としてはフッ化マグネシウム（Ｍｇ
Ｆ2）、二酸化チタン（ＴｉＯ2）、酸化アルミ（Ａｌ2
Ｏ3）、二酸化珪素（ＳｉＯ2）等が使用される。
【０００４】次に工程ＳＴ１３では、ガラス基板２の表
面に下地膜５を形成する。下地膜５は、次の工程ＳＴ１
４で形成する斜め蒸着膜６とガラス基板２との密着性を
高めるためのものであり、材料としては五酸化タンタル
（Ｔａ2Ｏ5）、酸化珪素（ＳｉＯ）等が使用される。
面に下地膜５を形成する。下地膜５は、次の工程ＳＴ１
４で形成する斜め蒸着膜６とガラス基板２との密着性を
高めるためのものであり、材料としては五酸化タンタル
（Ｔａ2Ｏ5）、酸化珪素（ＳｉＯ）等が使用される。
【０００５】次に工程ＳＴ１４では、斜め蒸着膜６を蒸
着形成する。斜め蒸着される光学材料としては五酸化タ
ンタル（Ｔａ2Ｏ5）が使用される。五酸化タンタル（Ｔ
ａ2Ｏ5）は、斜め蒸着されることにより複屈折作用を有
する。
着形成する。斜め蒸着される光学材料としては五酸化タ
ンタル（Ｔａ2Ｏ5）が使用される。五酸化タンタル（Ｔ
ａ2Ｏ5）は、斜め蒸着されることにより複屈折作用を有
する。
【０００６】次に工程ＳＴ１５では、斜め蒸着膜６の表
面に表面反射防止膜７を蒸着形成する。表面反射防止膜
７としては二酸化チタン（ＴｉＯ2）、二酸化珪素（Ｓ
ｉＯ2）、五酸化タンタル（Ｔａ2Ｏ5）等が使用され
る。
面に表面反射防止膜７を蒸着形成する。表面反射防止膜
７としては二酸化チタン（ＴｉＯ2）、二酸化珪素（Ｓ
ｉＯ2）、五酸化タンタル（Ｔａ2Ｏ5）等が使用され
る。
【０００７】すべての膜を形成してから、工程ＳＴ１６
では、図４に示すように、ガラス基板２を切断予定線Ｌ
に沿って３ｍｍ角の素子サイズに切断（ダイシング）し
て複数の複屈折板１を得る。
では、図４に示すように、ガラス基板２を切断予定線Ｌ
に沿って３ｍｍ角の素子サイズに切断（ダイシング）し
て複数の複屈折板１を得る。
【０００８】しかる後に、工程ＳＴ１７において複屈折
板１の特性を検査する。
板１の特性を検査する。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
複屈折板１の製造方法では、工程ＳＴ１６においてガラ
ス基板２をたとえば３ｍｍ角の小さい複屈折板１に切断
してから、工程ＳＴ１７で特性検査を行なっているの
で、複屈折板１が取り扱いにくい。このため、検査工程
に大変、手間がかかるという問題点がある。
複屈折板１の製造方法では、工程ＳＴ１６においてガラ
ス基板２をたとえば３ｍｍ角の小さい複屈折板１に切断
してから、工程ＳＴ１７で特性検査を行なっているの
で、複屈折板１が取り扱いにくい。このため、検査工程
に大変、手間がかかるという問題点がある。
【００１０】なお、３ｍｍ角の複屈折板１に切断する前
のガラス基板２の状態で特性検査を行なえば、取り扱い
が容易であるが、斜め蒸着膜６を形成した後、ガラス基
板２を切断する前と、工程ＳＴ１６でガラス基板２を複
屈折板１に切断した時とでは、複屈折板１の特性である
リタデーション（位相の差）が変わってしまうため、ガ
ラス基板２の状態で特性検査を行なうことはできない。
すなわち、ガラス基板２に斜め蒸着膜６を形成した状態
で斜め蒸着膜６が応力をもっており、この応力の大きさ
は、斜め蒸着膜６が形成された面積によって変動するた
め、工程ＳＴ１６でガラス基板２を複屈折板１に切断す
る前の状態で検査しても、ガラス基板２から切り出した
各複屈折板１の特性を正確に判定できないのである。
のガラス基板２の状態で特性検査を行なえば、取り扱い
が容易であるが、斜め蒸着膜６を形成した後、ガラス基
板２を切断する前と、工程ＳＴ１６でガラス基板２を複
屈折板１に切断した時とでは、複屈折板１の特性である
リタデーション（位相の差）が変わってしまうため、ガ
ラス基板２の状態で特性検査を行なうことはできない。
すなわち、ガラス基板２に斜め蒸着膜６を形成した状態
で斜め蒸着膜６が応力をもっており、この応力の大きさ
は、斜め蒸着膜６が形成された面積によって変動するた
め、工程ＳＴ１６でガラス基板２を複屈折板１に切断す
る前の状態で検査しても、ガラス基板２から切り出した
各複屈折板１の特性を正確に判定できないのである。
【００１１】以上の問題点に鑑みて、本発明の課題は、
光学材料が斜め蒸着された基板を複屈折板に切断する前
であっても、複屈折板に切断した後の特性を正確に検査
することのできる複屈折板の製造方法を提案することに
ある。
光学材料が斜め蒸着された基板を複屈折板に切断する前
であっても、複屈折板に切断した後の特性を正確に検査
することのできる複屈折板の製造方法を提案することに
ある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
め、本発明では、光学材料を基板上へ斜めに蒸着するこ
とにより複屈折を有する斜め蒸着膜を形成する斜め蒸着
工程と、前記斜め蒸着膜が形成された前記基板を切断し
て該基板から複数の複屈折板を切り出す切断工程とを有
する複屈折板の製造方法において、前記斜め蒸着工程を
行なう前に、前記基板の側に前記複屈折板のサイズに合
わせて溝を形成する溝形成工程を行い、前記斜め蒸着工
程では、前記斜め蒸着膜が前記溝内で途切れるように前
記斜め蒸着膜を形成することを特徴とする。
め、本発明では、光学材料を基板上へ斜めに蒸着するこ
とにより複屈折を有する斜め蒸着膜を形成する斜め蒸着
工程と、前記斜め蒸着膜が形成された前記基板を切断し
て該基板から複数の複屈折板を切り出す切断工程とを有
する複屈折板の製造方法において、前記斜め蒸着工程を
行なう前に、前記基板の側に前記複屈折板のサイズに合
わせて溝を形成する溝形成工程を行い、前記斜め蒸着工
程では、前記斜め蒸着膜が前記溝内で途切れるように前
記斜め蒸着膜を形成することを特徴とする。
【００１３】また、本発明において、前記斜め蒸着工程
を行った後、前記切断工程を行う前に、前記溝で区画さ
れた各領域毎に複屈折板としての特性を検査する検査工
程を行う。
を行った後、前記切断工程を行う前に、前記溝で区画さ
れた各領域毎に複屈折板としての特性を検査する検査工
程を行う。
【００１４】本発明では、斜め蒸着工程を行なう前に溝
形成工程で基板の側に溝を形成しておくため、斜め蒸着
工程で基板に対して斜め蒸着を行なったとき、斜め蒸着
膜は、溝を挟んで各々が独立した状態にある。従って、
基板を切断する前に斜め蒸着膜に存在する応力は、基板
を切断した後における応力と同様である。しかも、溝
は、複屈折板のサイズに合わせて形成されているので、
溝で区画された各領域の斜め蒸着膜に対する検査結果
は、基板から複屈折板を切り出した状態で各複屈折板の
斜め蒸着膜を検査した結果と高い精度で一致する。ま
た、検査工程では、たとえば３ｍｍ角といった小さな複
屈折板を取り扱う必要がなく、大きな基板の状態で検査
するので、検査試料の取り扱いが容易である。それ故、
検査工程の作業効率を高めることができる。
形成工程で基板の側に溝を形成しておくため、斜め蒸着
工程で基板に対して斜め蒸着を行なったとき、斜め蒸着
膜は、溝を挟んで各々が独立した状態にある。従って、
基板を切断する前に斜め蒸着膜に存在する応力は、基板
を切断した後における応力と同様である。しかも、溝
は、複屈折板のサイズに合わせて形成されているので、
溝で区画された各領域の斜め蒸着膜に対する検査結果
は、基板から複屈折板を切り出した状態で各複屈折板の
斜め蒸着膜を検査した結果と高い精度で一致する。ま
た、検査工程では、たとえば３ｍｍ角といった小さな複
屈折板を取り扱う必要がなく、大きな基板の状態で検査
するので、検査試料の取り扱いが容易である。それ故、
検査工程の作業効率を高めることができる。
【００１５】本発明において、前記切断工程では、前記
溝に沿って前記基板を切断することが好ましい。すなわ
ち、溝形成工程で形成した溝をそのまま、切断工程で切
断予定線（スクライブ線）として利用することが好まし
い。このように構成すると、切断工程において切断予定
線を設定する必要がない。また、溝内においては斜め蒸
着膜が途切れているので、切断工程を行なう際、斜め蒸
着膜に多大な応力がかからないという利点もある。
溝に沿って前記基板を切断することが好ましい。すなわ
ち、溝形成工程で形成した溝をそのまま、切断工程で切
断予定線（スクライブ線）として利用することが好まし
い。このように構成すると、切断工程において切断予定
線を設定する必要がない。また、溝内においては斜め蒸
着膜が途切れているので、切断工程を行なう際、斜め蒸
着膜に多大な応力がかからないという利点もある。
【００１６】本発明において、前記溝の幅は、前記切断
工程で前記基板を切断するときの切断幅よりも広いこと
が好ましい。
工程で前記基板を切断するときの切断幅よりも広いこと
が好ましい。
【００１７】
【発明の実施の形態】添付図面を参照して、本発明の複
屈折板の製造方法を説明しながら、斜め蒸着膜を利用し
た複屈折板の構成を説明する。なお、本発明を適用した
複屈折板およびその製造方法は、基本的な構成が従来の
技術と共通するので、共通する部分には同一の符号を付
して説明する。
屈折板の製造方法を説明しながら、斜め蒸着膜を利用し
た複屈折板の構成を説明する。なお、本発明を適用した
複屈折板およびその製造方法は、基本的な構成が従来の
技術と共通するので、共通する部分には同一の符号を付
して説明する。
【００１８】図１は、本発明の複屈折板の製造方法を示
す工程図である。図２は、図１に示す各工程のうち、斜
め蒸着工程で基板上に斜め蒸着膜を形成する様子を示す
説明図である。
す工程図である。図２は、図１に示す各工程のうち、斜
め蒸着工程で基板上に斜め蒸着膜を形成する様子を示す
説明図である。
【００１９】図１に示すように、本発明の複屈折板の製
造方法では、まず、工程ＳＴ１で直径１００ｍｍの透明
なガラス基板２を用意した後、工程ＳＴ２でガラス基板
２の裏面に反射防止膜３を蒸着する。反射防止膜として
は、従来と同様、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ2）、二
酸化チタン（ＴｉＯ2）、酸化アルミ（Ａｌ2Ｏ3）、二
酸化珪素（ＳｉＯ2）等が使用される。
造方法では、まず、工程ＳＴ１で直径１００ｍｍの透明
なガラス基板２を用意した後、工程ＳＴ２でガラス基板
２の裏面に反射防止膜３を蒸着する。反射防止膜として
は、従来と同様、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ2）、二
酸化チタン（ＴｉＯ2）、酸化アルミ（Ａｌ2Ｏ3）、二
酸化珪素（ＳｉＯ2）等が使用される。
【００２０】次に工程ＳＴ３（溝形成工程）で、ガラス
基板２の表面に溝４をダイサーで形成した後、ガラス基
板２を洗浄して削り屑を除去する。ここで形成する溝４
は、このガラス基板２から切り出される複屈折板のサイ
ズに合わせたものであり、溝４によって区画形成された
領域が個々の複屈折板となる。従って、溝４は、図４に
示すように、従来技術においてガラス基板２を切断した
ときの切断線Ｌと重なるように格子状に形成される。
基板２の表面に溝４をダイサーで形成した後、ガラス基
板２を洗浄して削り屑を除去する。ここで形成する溝４
は、このガラス基板２から切り出される複屈折板のサイ
ズに合わせたものであり、溝４によって区画形成された
領域が個々の複屈折板となる。従って、溝４は、図４に
示すように、従来技術においてガラス基板２を切断した
ときの切断線Ｌと重なるように格子状に形成される。
【００２１】ここで、溝４は、後述する斜め蒸着工程に
おいてガラス基板２に対して斜め蒸着膜を形成したと
き、この斜め蒸着膜が溝４の内部で途切れる幅および深
さとする。また、溝４は、後述する切断工程で切断（ダ
イシング）するときの切り幅（切断幅）より広くしてお
くことが好ましい。
おいてガラス基板２に対して斜め蒸着膜を形成したと
き、この斜め蒸着膜が溝４の内部で途切れる幅および深
さとする。また、溝４は、後述する切断工程で切断（ダ
イシング）するときの切り幅（切断幅）より広くしてお
くことが好ましい。
【００２２】次に工程ＳＴ４では、ガラス基板２の表面
に下地膜５を蒸着形成する。下地膜５は、ガラス基板２
と斜め蒸着膜との密着を高めるためのものであり、五酸
化タンタル（Ｔａ2Ｏ5）、酸化珪素（ＳｉＯ）等が使用
される。ここで、ガラス基板２の表面には、工程ＳＴ３
において溝４が形成されているので、この溝４に対応す
る凹凸は、下地膜５を形成した後もガラス基板２の表面
に反映された状態にある。
に下地膜５を蒸着形成する。下地膜５は、ガラス基板２
と斜め蒸着膜との密着を高めるためのものであり、五酸
化タンタル（Ｔａ2Ｏ5）、酸化珪素（ＳｉＯ）等が使用
される。ここで、ガラス基板２の表面には、工程ＳＴ３
において溝４が形成されているので、この溝４に対応す
る凹凸は、下地膜５を形成した後もガラス基板２の表面
に反映された状態にある。
【００２３】次に工程ＳＴ５（斜め蒸着工程）で、下地
膜５の表面（ガラス基板２の上）に対して斜め蒸着を行
なって斜め蒸着膜６を形成する。斜め蒸着膜６として
は、五酸化タンタル（Ｔａ2Ｏ5）が使用される。
膜５の表面（ガラス基板２の上）に対して斜め蒸着を行
なって斜め蒸着膜６を形成する。斜め蒸着膜６として
は、五酸化タンタル（Ｔａ2Ｏ5）が使用される。
【００２４】本形態において、ガラス基板２の表面に
は、工程ＳＴ３で溝４が形成されているので、斜め蒸着
膜６は溝４内で途切れる。従って、斜め蒸着膜６は、溝
４で区画された領域毎に独立して形成される。
は、工程ＳＴ３で溝４が形成されているので、斜め蒸着
膜６は溝４内で途切れる。従って、斜め蒸着膜６は、溝
４で区画された領域毎に独立して形成される。
【００２５】この様子を、図２を参照して詳述する。図
２において、工程ＳＴ５で斜め蒸着を行うとき、加熱に
より蒸発した材料６ａは、矢印で示すように、下地膜５
の形成されたガラス基板２の基板面に対して斜め方向か
ら堆積する。このとき、本形態では、ガラス基板２に溝
４が形成されているので、この溝４に起因する凹凸の凸
部の一方側部分６ｂのみに材料が堆積し、溝４の底部４
ａなどといった凸部の影になった部分には材料が堆積し
ない。それ故、斜め蒸着膜６は、ガラス基板２上に不連
続に形成されることになる。
２において、工程ＳＴ５で斜め蒸着を行うとき、加熱に
より蒸発した材料６ａは、矢印で示すように、下地膜５
の形成されたガラス基板２の基板面に対して斜め方向か
ら堆積する。このとき、本形態では、ガラス基板２に溝
４が形成されているので、この溝４に起因する凹凸の凸
部の一方側部分６ｂのみに材料が堆積し、溝４の底部４
ａなどといった凸部の影になった部分には材料が堆積し
ない。それ故、斜め蒸着膜６は、ガラス基板２上に不連
続に形成されることになる。
【００２６】次に工程ＳＴ６では、真空蒸着法により、
斜め蒸着膜６の表面に表面反射防止膜７を蒸着形成す
る。表面反射防止膜７としては二酸化チタン（Ｔｉ
Ｏ2）、二酸化珪素（ＳｉＯ2）、五酸化タンタル（Ｔａ
2Ｏ5）等が使用される。
斜め蒸着膜６の表面に表面反射防止膜７を蒸着形成す
る。表面反射防止膜７としては二酸化チタン（Ｔｉ
Ｏ2）、二酸化珪素（ＳｉＯ2）、五酸化タンタル（Ｔａ
2Ｏ5）等が使用される。
【００２７】本形態では、この工程ＳＴ６が終了した時
点で、工程ＳＴ７（検査工程）でガラス基板２において
溝４により区画形成された各領域に対して、膜質やリタ
デーションなどといった複屈折板としての特性を検査す
る。
点で、工程ＳＴ７（検査工程）でガラス基板２において
溝４により区画形成された各領域に対して、膜質やリタ
デーションなどといった複屈折板としての特性を検査す
る。
【００２８】しかる後に工程Ｓ７（切断工程）では、工
程ＳＴ３でガラス基板２に対して格子状に形成した溝４
に沿ってガラス基板２を切断し、このガラス基板２から
３ｍｍ角の複屈折板１を切り出す。その結果、ガラス基
板２の裏面に裏面反射防止膜３を備え、ガラス基板２の
表面に下地膜５、斜め蒸着膜６および表面反射防止膜７
がこの順に積層された複屈折板１が完成する。
程ＳＴ３でガラス基板２に対して格子状に形成した溝４
に沿ってガラス基板２を切断し、このガラス基板２から
３ｍｍ角の複屈折板１を切り出す。その結果、ガラス基
板２の裏面に裏面反射防止膜３を備え、ガラス基板２の
表面に下地膜５、斜め蒸着膜６および表面反射防止膜７
がこの順に積層された複屈折板１が完成する。
【００２９】このように、本形態の複屈折板１の製造方
法では、斜め蒸着工程（工程ＳＴ５）を行なう前に溝形
成工程（工程ＳＴ３）でガラス基板２に溝４を形成して
おくため、斜め蒸着工程でガラス基板２に対して斜め蒸
着を行なったとき、斜め蒸着膜６は溝４内で途切れた状
態に形成される。従って、斜め蒸着膜６は、溝４を挟ん
で各々が独立した状態にあるので、斜め蒸着膜６に存在
する応力は、ガラス基板２を切断する前であっても、ガ
ラス基板２を切断した後における応力と同様である。し
かも、溝４は、複屈折板１のサイズに合わせて形成され
ているので、溝４で区画された各領域の斜め蒸着膜６の
特性を検査すれば、ガラス基板２を切断する前の検査で
あっても、各領域の斜め蒸着膜６に対する検査結果は、
ガラス基板２から複屈折板１を切り出した状態で各複屈
折板１の斜め蒸着膜６を検査した結果と高い精度で一致
する。また、検査工程（工程ＳＴ７）では、たとえば３
ｍｍ角といった小さな複屈折板１を取り扱う必要がな
く、大きなガラス基板２の状態で検査するので、検査試
料の取り扱いが容易である。それ故、検査工程の作業効
率を高めることができる。
法では、斜め蒸着工程（工程ＳＴ５）を行なう前に溝形
成工程（工程ＳＴ３）でガラス基板２に溝４を形成して
おくため、斜め蒸着工程でガラス基板２に対して斜め蒸
着を行なったとき、斜め蒸着膜６は溝４内で途切れた状
態に形成される。従って、斜め蒸着膜６は、溝４を挟ん
で各々が独立した状態にあるので、斜め蒸着膜６に存在
する応力は、ガラス基板２を切断する前であっても、ガ
ラス基板２を切断した後における応力と同様である。し
かも、溝４は、複屈折板１のサイズに合わせて形成され
ているので、溝４で区画された各領域の斜め蒸着膜６の
特性を検査すれば、ガラス基板２を切断する前の検査で
あっても、各領域の斜め蒸着膜６に対する検査結果は、
ガラス基板２から複屈折板１を切り出した状態で各複屈
折板１の斜め蒸着膜６を検査した結果と高い精度で一致
する。また、検査工程（工程ＳＴ７）では、たとえば３
ｍｍ角といった小さな複屈折板１を取り扱う必要がな
く、大きなガラス基板２の状態で検査するので、検査試
料の取り扱いが容易である。それ故、検査工程の作業効
率を高めることができる。
【００３０】また、溝形成工程（工程ＳＴ３）で形成し
た溝４をそのまま、切断工程（工程ＳＴ８）で切断予定
線（スクライブ線）として利用するので、切断工程など
において切断予定線をわざわざ設定する必要がない。ま
た、溝４内においては斜め蒸着膜６が途切れているの
で、切断工程を行なう際、溝４に沿ってガラス基板２を
切断すれば、斜め蒸着膜６に多大な応力がかからないと
いう利点もある。
た溝４をそのまま、切断工程（工程ＳＴ８）で切断予定
線（スクライブ線）として利用するので、切断工程など
において切断予定線をわざわざ設定する必要がない。ま
た、溝４内においては斜め蒸着膜６が途切れているの
で、切断工程を行なう際、溝４に沿ってガラス基板２を
切断すれば、斜め蒸着膜６に多大な応力がかからないと
いう利点もある。
【００３１】なお、上記形態では、ガラス基板２に溝４
を形成したが、下地膜５を形成した後、この下地膜５を
フォトリソグラフィ技術を用いて部分的に除去すること
により溝４を形成してもよい。
を形成したが、下地膜５を形成した後、この下地膜５を
フォトリソグラフィ技術を用いて部分的に除去すること
により溝４を形成してもよい。
【００３２】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の複屈折板
の製造方法においては、斜め蒸着工程を行なう前に溝形
成工程で基板の側に溝を形成しておくため、斜め蒸着工
程で基板に対して斜め蒸着を行なったとき、斜め蒸着膜
は、溝を挟んで各々が独立した状態にある。従って、基
板を切断する前に斜め蒸着膜に存在する応力は、基板を
切断した後における応力と同様である。しかも、溝は、
複屈折板のサイズに合わせて形成されているので、溝で
区画された各領域の斜め蒸着膜に対する検査結果は、基
板から複屈折板を切り出した状態で各複屈折板の斜め蒸
着膜を検査した結果と高い精度で一致する。また、検査
工程では、たとえば３ｍｍ角といった小さな複屈折板を
取り扱う必要がなく、大きな基板の状態で検査するの
で、検査試料の取り扱いが容易である。それ故、検査工
程の作業効率を高めることができる。
の製造方法においては、斜め蒸着工程を行なう前に溝形
成工程で基板の側に溝を形成しておくため、斜め蒸着工
程で基板に対して斜め蒸着を行なったとき、斜め蒸着膜
は、溝を挟んで各々が独立した状態にある。従って、基
板を切断する前に斜め蒸着膜に存在する応力は、基板を
切断した後における応力と同様である。しかも、溝は、
複屈折板のサイズに合わせて形成されているので、溝で
区画された各領域の斜め蒸着膜に対する検査結果は、基
板から複屈折板を切り出した状態で各複屈折板の斜め蒸
着膜を検査した結果と高い精度で一致する。また、検査
工程では、たとえば３ｍｍ角といった小さな複屈折板を
取り扱う必要がなく、大きな基板の状態で検査するの
で、検査試料の取り扱いが容易である。それ故、検査工
程の作業効率を高めることができる。
【図１】本発明の複屈折板の製造方法を示す工程図であ
る。
る。
【図２】図１に示す各工程のうち、斜め蒸着工程におい
て基板上に斜め蒸着膜を形成す様子を示す説明図であ
る。
て基板上に斜め蒸着膜を形成す様子を示す説明図であ
る。
【図３】従来の複屈折板の製造方法を示す工程図であ
る。
る。
【図４】ガラス基板から複屈折板を切り出すときの切断
線を示す説明図である。
線を示す説明図である。
１ 複屈折板 ２ ガラス基板 ３ 裏面反射防止膜 ４ 溝 ５ 下地膜 ６ 斜め蒸着膜 ７ 表面反射防止膜
Claims (4)
- 【請求項１】 光学材料を基板上へ斜めに蒸着すること
により複屈折を有する斜め蒸着膜を形成する斜め蒸着工
程と、前記斜め蒸着膜が形成された前記基板を切断して
該基板から複数の複屈折板を切り出す切断工程とを有す
る複屈折板の製造方法において、 前記斜め蒸着工程を行なう前に、前記基板の側に対して
前記複屈折板のサイズに合わせて溝を形成する溝形成工
程を行い、 前記斜め蒸着工程では、前記斜め蒸着膜が前記溝内で途
切れるように前記斜め蒸着膜を形成することを特徴とす
る複屈折板の製造方法。 - 【請求項２】 請求項１において、前記斜め蒸着工程を
行った後、前記切断工程を行う前に、前記溝で区画され
た各領域毎に複屈折板としての特性を検査する検査工程
を行うことを特徴とする複屈折板の製造方法。 - 【請求項３】 請求項１または２において、前記切断工
程では、前記溝に沿って前記基板を切断することを特徴
とする複屈折板の製造方法。 - 【請求項４】 請求項３において、前記溝の幅は、前記
切断工程で前記基板を切断するときの切断幅よりも広い
ことを特徴とする複屈折板の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000039273A JP2001228327A (ja) | 2000-02-17 | 2000-02-17 | 複屈折板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000039273A JP2001228327A (ja) | 2000-02-17 | 2000-02-17 | 複屈折板の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001228327A true JP2001228327A (ja) | 2001-08-24 |
Family
ID=18562861
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000039273A Pending JP2001228327A (ja) | 2000-02-17 | 2000-02-17 | 複屈折板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001228327A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005309357A (ja) * | 2003-08-28 | 2005-11-04 | Sanyo Electric Co Ltd | 波長板およびそれを用いた光学装置 |
| JP2007188060A (ja) * | 2005-12-06 | 2007-07-26 | Jds Uniphase Corp | 薄膜光学リターダ |
| JP2010101950A (ja) * | 2008-10-21 | 2010-05-06 | Fujinon Corp | 斜方蒸着による複屈折素子製造方法 |
-
2000
- 2000-02-17 JP JP2000039273A patent/JP2001228327A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005309357A (ja) * | 2003-08-28 | 2005-11-04 | Sanyo Electric Co Ltd | 波長板およびそれを用いた光学装置 |
| JP4511285B2 (ja) * | 2003-08-28 | 2010-07-28 | 三洋電機株式会社 | 波長板およびそれを用いた光学装置 |
| JP2007188060A (ja) * | 2005-12-06 | 2007-07-26 | Jds Uniphase Corp | 薄膜光学リターダ |
| JP2010101950A (ja) * | 2008-10-21 | 2010-05-06 | Fujinon Corp | 斜方蒸着による複屈折素子製造方法 |
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