JP2001217677A - 音叉型圧電振動片及びその製造方法、その周波数調整加工装置、音叉型圧電振動子 - Google Patents
音叉型圧電振動片及びその製造方法、その周波数調整加工装置、音叉型圧電振動子Info
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- JP2001217677A JP2001217677A JP2000023117A JP2000023117A JP2001217677A JP 2001217677 A JP2001217677 A JP 2001217677A JP 2000023117 A JP2000023117 A JP 2000023117A JP 2000023117 A JP2000023117 A JP 2000023117A JP 2001217677 A JP2001217677 A JP 2001217677A
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- tuning
- piezoelectric vibrating
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- type piezoelectric
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- Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【解決手段】 2個の腕部を有する音叉形状の水晶素子
片2を準備し、両腕部の先端に水晶面が露出する重り部
9a、9bを設けるように、水晶素子片の表面に電極5
a〜7a、5b〜7bを成膜する。反応性イオンエッチ
ング装置によりフレオン系ガスをイオン源として、反応
性のイオン化した粒子を重り部に照射することにより重
り部表面を部分的に除去して、その周波数を調整する。 【効果】 水晶振動片の材料自体の質量を減らして周波
数調整するので、重り部に電極膜を設ける必要が無く、
工数の大幅削減により生産効率が向上し、電極材料使用
量の大幅減少により製造コストが大幅に低減する。更
に、優れたエージング特性の高精度で高信頼性の音叉型
水晶振動子が得られる。
片2を準備し、両腕部の先端に水晶面が露出する重り部
9a、9bを設けるように、水晶素子片の表面に電極5
a〜7a、5b〜7bを成膜する。反応性イオンエッチ
ング装置によりフレオン系ガスをイオン源として、反応
性のイオン化した粒子を重り部に照射することにより重
り部表面を部分的に除去して、その周波数を調整する。 【効果】 水晶振動片の材料自体の質量を減らして周波
数調整するので、重り部に電極膜を設ける必要が無く、
工数の大幅削減により生産効率が向上し、電極材料使用
量の大幅減少により製造コストが大幅に低減する。更
に、優れたエージング特性の高精度で高信頼性の音叉型
水晶振動子が得られる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、音叉型圧電振動子
に関し、特に音叉型圧電振動片の周波数調整を行う方法
及びそのための装置、並びにその方法を用いて製造され
る音叉型圧電振動片に関する。
に関し、特に音叉型圧電振動片の周波数調整を行う方法
及びそのための装置、並びにその方法を用いて製造され
る音叉型圧電振動片に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、音叉型水晶振動子が様々な電
子機器の発振回路に周波数制御素子として採用されてい
る。音叉型水晶振動子の振動数即ち周波数は、主として
水晶振動片の腕の長さ及び幅によって決定され、一般に
その腕の先端の質量を変えることによって調整されてい
る。従来から良く知られた周波数の調整方法では、その
製造工程において周波数を測定しながら、各腕の励振電
極より先端の重り部に、真空蒸着またはスパッタリング
により重り材を付着させて調整する。この方法では、電
極部分をマスキングして重り材を付着させるため、工数
が多くなって生産効率の向上が図れず、左右の腕で重り
にばらつきが生じ易く、品質を低下させたり、またマス
キングの際に膜ずれが生じて周波数ドリフトの原因とな
るなどの問題があった。
子機器の発振回路に周波数制御素子として採用されてい
る。音叉型水晶振動子の振動数即ち周波数は、主として
水晶振動片の腕の長さ及び幅によって決定され、一般に
その腕の先端の質量を変えることによって調整されてい
る。従来から良く知られた周波数の調整方法では、その
製造工程において周波数を測定しながら、各腕の励振電
極より先端の重り部に、真空蒸着またはスパッタリング
により重り材を付着させて調整する。この方法では、電
極部分をマスキングして重り材を付着させるため、工数
が多くなって生産効率の向上が図れず、左右の腕で重り
にばらつきが生じ易く、品質を低下させたり、またマス
キングの際に膜ずれが生じて周波数ドリフトの原因とな
るなどの問題があった。
【0003】そこで最近は、振動片の各腕の励振電極よ
り先端の重り部に予め金属膜重りを付着しておき、周波
数を測定しながらレーザビームにより重りを除去して調
整する方法が採用されている。この方法では、振動片の
各腕先端の重り部を電極膜と同じ薄膜の領域とその上に
更にAu、Agなどの金属を付着させて約10倍程度の
膜厚にした厚膜の領域とで構成し、最初に厚膜領域をレ
ーザ除去して粗調整した後、薄膜領域をレーザ除去して
微調整する。更に最近では、例えば特開平7−4607
3号公報、特開平8−181558号公報に記載される
ように、レーザビームに代えてスパッタエッチング又は
イオンビームを用いて電極膜を除去することにより、圧
電素子の周波数調整を行う方法が開発されている。
り先端の重り部に予め金属膜重りを付着しておき、周波
数を測定しながらレーザビームにより重りを除去して調
整する方法が採用されている。この方法では、振動片の
各腕先端の重り部を電極膜と同じ薄膜の領域とその上に
更にAu、Agなどの金属を付着させて約10倍程度の
膜厚にした厚膜の領域とで構成し、最初に厚膜領域をレ
ーザ除去して粗調整した後、薄膜領域をレーザ除去して
微調整する。更に最近では、例えば特開平7−4607
3号公報、特開平8−181558号公報に記載される
ように、レーザビームに代えてスパッタエッチング又は
イオンビームを用いて電極膜を除去することにより、圧
電素子の周波数調整を行う方法が開発されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来のレーザビームによる周波数調整方法は、重り部
に薄膜領域と厚膜領域とを設けるため工数が多くなり、
生産効率が低下し、コストの低減を図れない。更に、熱
加工であるため、レーザ除去後に重り部のAg膜が酸化
したり水分を吸着する虞があり、それにより周波数の長
期安定性(エージング特性)が低下し、経年変化率1pp
m /年のような高精度の品質が要求される場合には不向
きである。また、スパッタエッチングやイオンビームエ
ッチングを用いた方法でも、同様に重り部に金属膜を形
成する必要があるため工数が多くなり、十分な生産効率
の向上及びコスト低減が図れないという問題がある。
た従来のレーザビームによる周波数調整方法は、重り部
に薄膜領域と厚膜領域とを設けるため工数が多くなり、
生産効率が低下し、コストの低減を図れない。更に、熱
加工であるため、レーザ除去後に重り部のAg膜が酸化
したり水分を吸着する虞があり、それにより周波数の長
期安定性(エージング特性)が低下し、経年変化率1pp
m /年のような高精度の品質が要求される場合には不向
きである。また、スパッタエッチングやイオンビームエ
ッチングを用いた方法でも、同様に重り部に金属膜を形
成する必要があるため工数が多くなり、十分な生産効率
の向上及びコスト低減が図れないという問題がある。
【0005】そこで、本発明の目的は、音叉型圧電振動
片の製造において、周波数調整工程を簡単にし、それに
より工数を削減して生産効率の向上及びコストの低減を
図ることができ、しかも精度良く周波数調整でき、製造
後も重り部の材質変化等で周波数が変化したりしない優
れたエージング特性を有し、高品質で高信頼性の音叉型
圧電振動片、振動子を提供することにある。
片の製造において、周波数調整工程を簡単にし、それに
より工数を削減して生産効率の向上及びコストの低減を
図ることができ、しかも精度良く周波数調整でき、製造
後も重り部の材質変化等で周波数が変化したりしない優
れたエージング特性を有し、高品質で高信頼性の音叉型
圧電振動片、振動子を提供することにある。
【0006】また、本発明の目的は、そのような周波数
調整工程をインライン化して音叉型圧電振動片を製造す
る方法、及びそれに適した音叉型圧電振動片の周波数調
整加工装置を提供することにある。
調整工程をインライン化して音叉型圧電振動片を製造す
る方法、及びそれに適した音叉型圧電振動片の周波数調
整加工装置を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、上述し
た目的を達成するために、2個の腕部を有する音叉形状
の圧電体素子片を準備する工程と、両腕部の先端に圧電
体素子片の材料面が露出する重り部を設けるように、圧
電体素子片の表面に電極を成膜する工程と、反応性のイ
オン化した粒子を照射することにより重り部の表面を部
分的に除去して周波数を調整する工程とを備えることを
特徴とする音叉型圧電振動片の製造方法が提供される。
た目的を達成するために、2個の腕部を有する音叉形状
の圧電体素子片を準備する工程と、両腕部の先端に圧電
体素子片の材料面が露出する重り部を設けるように、圧
電体素子片の表面に電極を成膜する工程と、反応性のイ
オン化した粒子を照射することにより重り部の表面を部
分的に除去して周波数を調整する工程とを備えることを
特徴とする音叉型圧電振動片の製造方法が提供される。
【0008】このようにイオン流を用いた反応性イオン
エッチングにより圧電体素子片の材料自体の質量を減ら
して周波数を調整することによって、各腕部先端の重り
部に電極膜を形成する必要が無くなるので、工数が大幅
に削減され、かつ電極材料の使用量を大幅に低減するこ
とができる。しかも、加工後の重り部表面は、従来の電
極膜のように酸化したり水分を吸着するなどして劣化
し、周波数の経時変化に影響を与える虞がない。
エッチングにより圧電体素子片の材料自体の質量を減ら
して周波数を調整することによって、各腕部先端の重り
部に電極膜を形成する必要が無くなるので、工数が大幅
に削減され、かつ電極材料の使用量を大幅に低減するこ
とができる。しかも、加工後の重り部表面は、従来の電
極膜のように酸化したり水分を吸着するなどして劣化
し、周波数の経時変化に影響を与える虞がない。
【0009】また、周波数の調整工程がドライエッチン
グであることから、圧電振動片の周波数をモニターしな
がら、周波数調整を行うことができる。従って、より精
度良くかつより短時間で周波数を調整することが可能に
なる。通常周波数の合わせ込みは、エッチング条件を変
化させることによって行うことができる。
グであることから、圧電振動片の周波数をモニターしな
がら、周波数調整を行うことができる。従って、より精
度良くかつより短時間で周波数を調整することが可能に
なる。通常周波数の合わせ込みは、エッチング条件を変
化させることによって行うことができる。
【0010】或る実施例では、重り部表面を部分的に除
去する加工レートを、モニターされる周波数に対応して
減少させることにより、例えば大まかな粗調整から最終
的な微調整へと段階的に又は連続的に変化させ、周波数
を目標値により高精度に合わせ込むことができる。
去する加工レートを、モニターされる周波数に対応して
減少させることにより、例えば大まかな粗調整から最終
的な微調整へと段階的に又は連続的に変化させ、周波数
を目標値により高精度に合わせ込むことができる。
【0011】反応性のイオン化した粒子を生成するため
のイオン材料としては、加工される素子片を形成する圧
電体材料により適当な反応ガスを選択することができ、
例えばフレオン系ガスを用いることができる。更に、フ
レオン系ガスに加えて酸素ガスを使用すると、照射され
た反応性イオン化粒子の寿命を長くして加工を促進かつ
安定させることができる。
のイオン材料としては、加工される素子片を形成する圧
電体材料により適当な反応ガスを選択することができ、
例えばフレオン系ガスを用いることができる。更に、フ
レオン系ガスに加えて酸素ガスを使用すると、照射され
た反応性イオン化粒子の寿命を長くして加工を促進かつ
安定させることができる。
【0012】本発明の或る側面によれば、真空チャンバ
と、該真空チャンバ内において、音叉型圧電振動片の両
腕部先端に設けた圧電体素子片の材料面を露出させた重
り部に、反応性のイオン化した粒子を照射する手段と、
前記反応性のイオン化粒子を生成するためのイオン材料
の供給源と、音叉型圧電振動片の電極に接続してその周
波数を測定する手段とを備えることを特徴とする音叉型
圧電振動片の周波数調整加工装置が提供される。これに
より、音叉型圧電振動片の製造工程において、上述した
本発明の周波数調整を容易に、従来の音叉型圧電振動片
の製造工程にインライン化して実現することができる。
と、該真空チャンバ内において、音叉型圧電振動片の両
腕部先端に設けた圧電体素子片の材料面を露出させた重
り部に、反応性のイオン化した粒子を照射する手段と、
前記反応性のイオン化粒子を生成するためのイオン材料
の供給源と、音叉型圧電振動片の電極に接続してその周
波数を測定する手段とを備えることを特徴とする音叉型
圧電振動片の周波数調整加工装置が提供される。これに
より、音叉型圧電振動片の製造工程において、上述した
本発明の周波数調整を容易に、従来の音叉型圧電振動片
の製造工程にインライン化して実現することができる。
【0013】更に、音叉型圧電振動片を真空チャンバ内
に搬入・搬出する搬送機構を備えると、従来の音叉型圧
電振動片の製造工程に連続して、圧電振動片の周波数調
整加工を自動化することができる。
に搬入・搬出する搬送機構を備えると、従来の音叉型圧
電振動片の製造工程に連続して、圧電振動片の周波数調
整加工を自動化することができる。
【0014】或る実施例では、搬送機構の搬送方向に沿
って、加工レートが異なる複数の反応性のイオン化した
粒子の照射手段を設けることにより、圧電振動片の周波
数を粗調整から最終的な微調整へと段階的に変化させな
がら、目標値により高精度に合わせ込むことができる。
って、加工レートが異なる複数の反応性のイオン化した
粒子の照射手段を設けることにより、圧電振動片の周波
数を粗調整から最終的な微調整へと段階的に変化させな
がら、目標値により高精度に合わせ込むことができる。
【0015】別の実施例では、反応性イオン化粒子の照
射手段とそれにより加工される音叉型圧電振動片との離
隔距離を変化させる加工レート調整手段を更に備える
と、同じ1つの反応性イオン化粒子の照射手段で粗調整
から微調整まで対応することができる。
射手段とそれにより加工される音叉型圧電振動片との離
隔距離を変化させる加工レート調整手段を更に備える
と、同じ1つの反応性イオン化粒子の照射手段で粗調整
から微調整まで対応することができる。
【0016】更に、周波数の測定手段がモニターする音
叉型圧電振動片の周波数に対応して、前記加工レート調
整手段を制御する手段を備えると、加工中の振動片の周
波数に応じて加工レートを制御することができるので、
より高精度に周波数を合わせ込むことができる。
叉型圧電振動片の周波数に対応して、前記加工レート調
整手段を制御する手段を備えると、加工中の振動片の周
波数に応じて加工レートを制御することができるので、
より高精度に周波数を合わせ込むことができる。
【0017】本発明の別の側面によれば、基端部から長
手方向に延長する2個の腕部を有する音叉形状の圧電体
素子片からなり、その表面に形成された電極パターン
と、両腕部の先端に圧電体素子片の材料面が露出する重
り部とを備え、該重り部が周波数調整のために部分的に
除去されていることを特徴とする音叉型圧電振動片が提
供される。特に、上述した本発明の方法を用いて、重り
部を部分的に除去した音叉型圧電振動片が提供される。
手方向に延長する2個の腕部を有する音叉形状の圧電体
素子片からなり、その表面に形成された電極パターン
と、両腕部の先端に圧電体素子片の材料面が露出する重
り部とを備え、該重り部が周波数調整のために部分的に
除去されていることを特徴とする音叉型圧電振動片が提
供される。特に、上述した本発明の方法を用いて、重り
部を部分的に除去した音叉型圧電振動片が提供される。
【0018】本発明の更に別の側面によれば、このよう
な音叉型圧電振動片と、該圧電振動片をその基端部にお
いてマウントするプラグと、該プラグにマウントされた
前記圧電振動片を気密に収納するケースとを備えること
を特徴とする音叉型圧電振動子が提供される。
な音叉型圧電振動片と、該圧電振動片をその基端部にお
いてマウントするプラグと、該プラグにマウントされた
前記圧電振動片を気密に収納するケースとを備えること
を特徴とする音叉型圧電振動子が提供される。
【0019】
【発明の実施の形態】図1は、本発明を適用した音叉型
水晶振動子1を示しており、音叉形状の水晶振動片2
が、その基端部においてプラグ3に片持ち式に支持され
ている。この水晶振動子は、後述するように周波数調整
を行った後、有底円筒状の金属ケース4内に気密に封止
されて完成する。
水晶振動子1を示しており、音叉形状の水晶振動片2
が、その基端部においてプラグ3に片持ち式に支持され
ている。この水晶振動子は、後述するように周波数調整
を行った後、有底円筒状の金属ケース4内に気密に封止
されて完成する。
【0020】水晶振動片2の表面には、平面電極5a、
5bと側面電極6a、6bと、前記電極から引き出され
た接続用のランド7a、7bとからなる電極パターンが
形成されている。前記電極パターンは、例えば先ず従来
工程に従って水晶原石からウェハを所定の寸法及び厚さ
に切り出しかつ研磨し、ウェットエッチングにより所定
の音叉形状を有する多数の水晶素子片を形成した後、そ
の表面に電極材料をスパッタリング又は蒸着することに
より形成される。前記各ランドには、プラグ3の2本の
リード線8の各上端部に接続され、該リード線と前記電
極とを電気的に接続している。水晶振動片2の左右腕部
の先端には、その表面に電極膜が形成されておらず、該
振動片を構成する材料の水晶面がそのまま露出した重り
部9a、9bが設けられている。本実施例では、これら
重り部表面の材料を、図2及び図3に示す加工装置を用
いてドライエッチングすることにより部分的に除去し
て、水晶振動片2の周波数を調整する。
5bと側面電極6a、6bと、前記電極から引き出され
た接続用のランド7a、7bとからなる電極パターンが
形成されている。前記電極パターンは、例えば先ず従来
工程に従って水晶原石からウェハを所定の寸法及び厚さ
に切り出しかつ研磨し、ウェットエッチングにより所定
の音叉形状を有する多数の水晶素子片を形成した後、そ
の表面に電極材料をスパッタリング又は蒸着することに
より形成される。前記各ランドには、プラグ3の2本の
リード線8の各上端部に接続され、該リード線と前記電
極とを電気的に接続している。水晶振動片2の左右腕部
の先端には、その表面に電極膜が形成されておらず、該
振動片を構成する材料の水晶面がそのまま露出した重り
部9a、9bが設けられている。本実施例では、これら
重り部表面の材料を、図2及び図3に示す加工装置を用
いてドライエッチングすることにより部分的に除去し
て、水晶振動片2の周波数を調整する。
【0021】本実施例の加工装置は、真空チャンバ10
の内部を矢印Aで示す移動方向に沿って多数の水晶振動
片1を一定の間隔で搬送するコンベア装置11などの搬
送機構を備える。真空チャンバ10には、コンベア装置
の移動方向に沿って所定の間隔をおいて、該コンベア装
置上の水晶振動片1に向けてイオン流を照射するイオン
ガンからなる2個の反応性イオンエッチング装置12
a、12bが設けられている。前記イオンガンは、それ
ぞれ接地されたステンレス製円筒状外周部の中心に、該
外周部とは絶縁されかつ外部の交流電源(例えば、1
3.56MHz)13a、13bに接続されたステンレ
ス製電極棒を備える。反応性イオンエッチング装置12
a、12bと対向する水晶振動片1との間には、それぞ
れ駆動装置14a、14bによって開閉されるシャッタ
15a、15bが設けられている。更に図3に示すよう
に、前記各シャッタと水晶振動片1との間には、イオン
流の照射を規制するマスク16a、16bが配置されて
いる。
の内部を矢印Aで示す移動方向に沿って多数の水晶振動
片1を一定の間隔で搬送するコンベア装置11などの搬
送機構を備える。真空チャンバ10には、コンベア装置
の移動方向に沿って所定の間隔をおいて、該コンベア装
置上の水晶振動片1に向けてイオン流を照射するイオン
ガンからなる2個の反応性イオンエッチング装置12
a、12bが設けられている。前記イオンガンは、それ
ぞれ接地されたステンレス製円筒状外周部の中心に、該
外周部とは絶縁されかつ外部の交流電源(例えば、1
3.56MHz)13a、13bに接続されたステンレ
ス製電極棒を備える。反応性イオンエッチング装置12
a、12bと対向する水晶振動片1との間には、それぞ
れ駆動装置14a、14bによって開閉されるシャッタ
15a、15bが設けられている。更に図3に示すよう
に、前記各シャッタと水晶振動片1との間には、イオン
流の照射を規制するマスク16a、16bが配置されて
いる。
【0022】コンベア装置11の前記各反応性イオンエ
ッチング装置と反対側には、それぞれ駆動装置17a、
17bによって対応する水晶振動子1のリード線8と接
触・離反するように前後に駆動されるプローブ18a、
18bが設けられている。前記各プローブは、水晶振動
子の周波数測定系を構成するフィクスチャ即ちインピー
ダンス整合回路19a、19bと周波数カウンタ20
a、20bとにそれぞれ接続されている。
ッチング装置と反対側には、それぞれ駆動装置17a、
17bによって対応する水晶振動子1のリード線8と接
触・離反するように前後に駆動されるプローブ18a、
18bが設けられている。前記各プローブは、水晶振動
子の周波数測定系を構成するフィクスチャ即ちインピー
ダンス整合回路19a、19bと周波数カウンタ20
a、20bとにそれぞれ接続されている。
【0023】更に真空チャンバ10には、排気手段とし
てメカニカルブースタポンプ21及びロータリポンプ2
2が接続され、かつ該真空チャンバ内にイオン源として
反応ガスを供給するためのガス供給源23及びエッチン
グを促進するアシストガスを供給するためのガス供給源
24とが接続されている。また、前記シャッタの駆動装
置14a、14b、前記プローブの駆動装置17a、1
7b及び周波数カウンタ20a、20bは、共通の外部
演算処理装置25に電気的に接続されている。
てメカニカルブースタポンプ21及びロータリポンプ2
2が接続され、かつ該真空チャンバ内にイオン源として
反応ガスを供給するためのガス供給源23及びエッチン
グを促進するアシストガスを供給するためのガス供給源
24とが接続されている。また、前記シャッタの駆動装
置14a、14b、前記プローブの駆動装置17a、1
7b及び周波数カウンタ20a、20bは、共通の外部
演算処理装置25に電気的に接続されている。
【0024】次に、図2及び図3の加工装置を用いて、
水晶振動子1の周波数を調整する工程について説明す
る。先ず、両ポンプ21、22を駆動して真空チャンバ
10内部を133×10-3Pa程度まで真空排気した後、
各ガス供給源23、24から所定の反応ガス及びアシス
トガスを供給する。本実施例では、反応ガスとしてCF
4またはC2F6のようなフレオン系ガスを使用し、か
つアシストガスとして酸素を導入する。この状態で交流
電源13a、13bから所定の電圧を反応性イオンエッ
チング装置12a、12bに印加すると、前記イオンガ
ンの電極棒と外周部との間でプラズマが発生し、それに
よりフッ素ラジカル及び酸素ラジカル等のイオン化され
た粒子が生成される。この反応性のイオン化された粒子
は、イオン流となって、前方の水晶振動子に向けて照射
される。
水晶振動子1の周波数を調整する工程について説明す
る。先ず、両ポンプ21、22を駆動して真空チャンバ
10内部を133×10-3Pa程度まで真空排気した後、
各ガス供給源23、24から所定の反応ガス及びアシス
トガスを供給する。本実施例では、反応ガスとしてCF
4またはC2F6のようなフレオン系ガスを使用し、か
つアシストガスとして酸素を導入する。この状態で交流
電源13a、13bから所定の電圧を反応性イオンエッ
チング装置12a、12bに印加すると、前記イオンガ
ンの電極棒と外周部との間でプラズマが発生し、それに
よりフッ素ラジカル及び酸素ラジカル等のイオン化され
た粒子が生成される。この反応性のイオン化された粒子
は、イオン流となって、前方の水晶振動子に向けて照射
される。
【0025】コンベア装置11は、各水晶振動子1がそ
れぞれ対応する反応性イオンエッチング装置12a、1
2bの正面の所定の照射位置に来ると停止する。次に、
駆動装置17a、17bを駆動して各プローブ18a、
18bをそれぞれ対応する水晶振動子のリード線8に接
続させる。次に、駆動装置14a、14bを駆動してシ
ャッタ15a、15bを開くと、図4に示すように前記
各反応性イオンエッチング装置から照射されるイオン流
26がマスク16a、16bを通過して水晶振動子の重
り部に照射される。これにより、前記マスクで選択され
た各水晶振動子の重り部9a、9b表面の領域の材料が
物理的かつ化学的にエッチングされ、部分的に除去され
る。このとき、酸素をアシストガスとして導入したこと
により、イオン流中のフッ素プラズマの寿命を長くし
て、加工を安定させることができ、しかも分離した炭素
原子を二酸化炭素にして排出することができる。
れぞれ対応する反応性イオンエッチング装置12a、1
2bの正面の所定の照射位置に来ると停止する。次に、
駆動装置17a、17bを駆動して各プローブ18a、
18bをそれぞれ対応する水晶振動子のリード線8に接
続させる。次に、駆動装置14a、14bを駆動してシ
ャッタ15a、15bを開くと、図4に示すように前記
各反応性イオンエッチング装置から照射されるイオン流
26がマスク16a、16bを通過して水晶振動子の重
り部に照射される。これにより、前記マスクで選択され
た各水晶振動子の重り部9a、9b表面の領域の材料が
物理的かつ化学的にエッチングされ、部分的に除去され
る。このとき、酸素をアシストガスとして導入したこと
により、イオン流中のフッ素プラズマの寿命を長くし
て、加工を安定させることができ、しかも分離した炭素
原子を二酸化炭素にして排出することができる。
【0026】本実施例では、予め第1の反応性イオンエ
ッチング装置12aと第2の反応性イオンエッチング装
置12bとで加工レートが異なるように、即ちコンベア
移動方向Aに沿って下流側の加工レートが小さくなるよ
うに設定されている。イオン流照射中の各水晶振動子の
周波数は、プローブ18a、18bからフィクスチャ1
9a、19bを介してそれぞれ周波数カウンタ20a、
20bにより計測され、演算処理装置25に送られる。
ッチング装置12aと第2の反応性イオンエッチング装
置12bとで加工レートが異なるように、即ちコンベア
移動方向Aに沿って下流側の加工レートが小さくなるよ
うに設定されている。イオン流照射中の各水晶振動子の
周波数は、プローブ18a、18bからフィクスチャ1
9a、19bを介してそれぞれ周波数カウンタ20a、
20bにより計測され、演算処理装置25に送られる。
【0027】加工レートが高い第1の反応性イオンエッ
チング装置では、目的の周波数に対して或る一定の範囲
まで近付ける周波数の粗調整が行われ、加工レートの低
い第2のエッチング装置では、目的の周波数に合わせ込
む微調整が行われる。演算処理装置25は、各周波数カ
ウンタ20a、20bから送られる加工中の周波数デー
タに基づいて、それが所定の目的値に達すると駆動装置
14a、14bを動作させ、シャッタ15a、15bを
閉じてイオン流を遮断することにより、各水晶振動子の
周波数調整加工を制御する。
チング装置では、目的の周波数に対して或る一定の範囲
まで近付ける周波数の粗調整が行われ、加工レートの低
い第2のエッチング装置では、目的の周波数に合わせ込
む微調整が行われる。演算処理装置25は、各周波数カ
ウンタ20a、20bから送られる加工中の周波数デー
タに基づいて、それが所定の目的値に達すると駆動装置
14a、14bを動作させ、シャッタ15a、15bを
閉じてイオン流を遮断することにより、各水晶振動子の
周波数調整加工を制御する。
【0028】別の実施例では、前記各反応性イオンエッ
チング装置と対向する水晶振動子との距離を、適当な駆
動手段を用いて段階的に又は連続的に変化させることに
より、加工レートを制御することができる。この場合、
第1及び第2の反応性イオンエッチング装置の加工レー
トを同一にし、同時に2個の水晶振動子の周波数調整を
行うこともできる。
チング装置と対向する水晶振動子との距離を、適当な駆
動手段を用いて段階的に又は連続的に変化させることに
より、加工レートを制御することができる。この場合、
第1及び第2の反応性イオンエッチング装置の加工レー
トを同一にし、同時に2個の水晶振動子の周波数調整を
行うこともできる。
【0029】前記各シャッタが閉じてイオン流の照射が
遮断され、周波数調整が終了すると、駆動装置17a、
17bを駆動して各プローブ18a、18bを水晶振動
子のリード線8から解除する。最後に、コンベア装置1
1を駆動して、加工済みの水晶振動子を真空チャンバ1
0内から搬出し、又は次の照射位置に移動させる。この
工程を繰り返すことにより、多数の音叉型水晶振動子を
自動的にモニターしながら所望の値又は範囲に周波数調
整することができる。
遮断され、周波数調整が終了すると、駆動装置17a、
17bを駆動して各プローブ18a、18bを水晶振動
子のリード線8から解除する。最後に、コンベア装置1
1を駆動して、加工済みの水晶振動子を真空チャンバ1
0内から搬出し、又は次の照射位置に移動させる。この
工程を繰り返すことにより、多数の音叉型水晶振動子を
自動的にモニターしながら所望の値又は範囲に周波数調
整することができる。
【0030】(実施例)図1に示す音叉型水晶振動子に
ついて、以下のエッチング条件で周波数調整を行った。 反応ガス及び流量: CF4 0.01〜0.2 L/min O1/2 0.001〜0.05 L/min 放電時の真空度: 1.33〜133 Pa 使用電源及び出力: 高周波交流電源 13.56MHz 粗調時:100〜400W 微調時:20〜200W
ついて、以下のエッチング条件で周波数調整を行った。 反応ガス及び流量: CF4 0.01〜0.2 L/min O1/2 0.001〜0.05 L/min 放電時の真空度: 1.33〜133 Pa 使用電源及び出力: 高周波交流電源 13.56MHz 粗調時:100〜400W 微調時:20〜200W
【0031】上記条件に従って本発明の方法により周波
数調整した水晶振動子の周波数と、比較例として従来の
レーザ加工による周波数調整を行った水晶振動子の周波
数について、その経時変化をそれぞれ測定したところ、
図5に示すような結果が得られた。同図から分かるよう
に、本発明を適用した水晶振動子は、周波数の経時変化
が大幅に小さくなっており、良好なエージング特性を示
すことが分かる。
数調整した水晶振動子の周波数と、比較例として従来の
レーザ加工による周波数調整を行った水晶振動子の周波
数について、その経時変化をそれぞれ測定したところ、
図5に示すような結果が得られた。同図から分かるよう
に、本発明を適用した水晶振動子は、周波数の経時変化
が大幅に小さくなっており、良好なエージング特性を示
すことが分かる。
【0032】以上本発明の好適な実施例について詳細に
説明したが、本発明の上記実施例に様々な変更・変形を
加えて実施することができる。例えば、エッチング条件
は真空チャンバの容積やイオンガンと水晶振動子との距
離等の要件によって様々に適当に設定される。イオン流
によるエッチングにおけるイオン源としての反応ガス
は、フレオン系ガス以外にAr等の不活性ガスを用いる
ことができる。また、反応性イオンエッチング装置は、
上記以外の様々な構造のものを使用でき、真空チャンバ
にコンベア装置の移動方向に沿って3つ以上の多数の装
置を配設することができる。
説明したが、本発明の上記実施例に様々な変更・変形を
加えて実施することができる。例えば、エッチング条件
は真空チャンバの容積やイオンガンと水晶振動子との距
離等の要件によって様々に適当に設定される。イオン流
によるエッチングにおけるイオン源としての反応ガス
は、フレオン系ガス以外にAr等の不活性ガスを用いる
ことができる。また、反応性イオンエッチング装置は、
上記以外の様々な構造のものを使用でき、真空チャンバ
にコンベア装置の移動方向に沿って3つ以上の多数の装
置を配設することができる。
【0033】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の音叉型圧
電振動片の製造方法によれば、反応性イオンエッチング
により圧電体素子片の材料自体の質量を減らして周波数
を調整することにより、圧電振動片の各腕部先端の重り
部に電極膜を形成する必要が無いので、工数が大幅に削
減して生産効率が向上し、かつ電極材料の使用量を大幅
に減少しかつ重り部を成膜するためのマスク等が不要に
なるので、製造コストを大幅に低減することができる。
更に、従来のような加工後の重り部表面の劣化による周
波数の経時変化が無く、優れたエージング特性の高精度
で安定した高信頼性の音叉型圧電振動片、及び振動子が
得られる。
電振動片の製造方法によれば、反応性イオンエッチング
により圧電体素子片の材料自体の質量を減らして周波数
を調整することにより、圧電振動片の各腕部先端の重り
部に電極膜を形成する必要が無いので、工数が大幅に削
減して生産効率が向上し、かつ電極材料の使用量を大幅
に減少しかつ重り部を成膜するためのマスク等が不要に
なるので、製造コストを大幅に低減することができる。
更に、従来のような加工後の重り部表面の劣化による周
波数の経時変化が無く、優れたエージング特性の高精度
で安定した高信頼性の音叉型圧電振動片、及び振動子が
得られる。
【0034】また、本発明の周波数調整加工装置によれ
ば、音叉型圧電振動片の製造工程にインライン化して、
上述した本発明の周波数調整を容易に実現でき、高品質
の音叉型圧電振動片を効率良く製造することができる。
ば、音叉型圧電振動片の製造工程にインライン化して、
上述した本発明の周波数調整を容易に実現でき、高品質
の音叉型圧電振動片を効率良く製造することができる。
【図1】本発明による音叉型水晶振動片の実施例を示す
平面図。
平面図。
【図2】本発明による周波数調整加工装置の実施例の構
成を示す概略ブロック図。
成を示す概略ブロック図。
【図3】図2の周波数調整加工装置を示す概略斜視図。
【図4】振動片の周波数調整を行う工程を示す概略図。
【図5】本発明による水晶振動子のエージング特性を従
来例と比較して示す線図。
来例と比較して示す線図。
1 音叉型水晶振動子 2 水晶振動片 3 プラグ 4 金属ケース 5a、5b 平面電極 6a、6b 側面電極 7a、7b ランド 8 リード線 9a、9b 重り部 10 真空チャンバ 11 コンベア装置 12a、12b 反応性イオンエッチング装置 13a、13b 交流電源 14a、14b 駆動装置 15a、15b シャッタ 16a、16b マスク 17a、17b 駆動装置 18a、18b プローブ 19a、19b フィクスチャ 20a、20b 周波数カウンタ 21 メカニカルブースタポンプ 22 ロータリポンプ 23、24 ガス供給源 25 演算処理装置 26 イオン流
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成12年2月3日(2000.2.3)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0030
【補正方法】変更
【補正内容】
【0030】(実施例)図1に示す音叉型水晶振動子に
ついて、以下のエッチング条件で周波数調整を行った。 反応ガス及び流量: CF4 0.01〜0.2 L/min O2 0.001〜0.05 L/min 放電時の真空度: 1.33〜133 Pa 使用電源及び出力: 高周波交流電源 13.56MHz 粗調時:100〜400W 微調時:20〜200W
ついて、以下のエッチング条件で周波数調整を行った。 反応ガス及び流量: CF4 0.01〜0.2 L/min O2 0.001〜0.05 L/min 放電時の真空度: 1.33〜133 Pa 使用電源及び出力: 高周波交流電源 13.56MHz 粗調時:100〜400W 微調時:20〜200W
Claims (14)
- 【請求項1】 2個の腕部を有する音叉形状の圧電体
素子片を準備する工程と、前記両腕部の先端に前記圧電
体素子片の材料面が露出する重り部を設けるように、前
記圧電体素子片の表面に電極を成膜する工程と、反応性
のイオン化した粒子を照射することにより前記重り部の
表面を部分的に除去して周波数を調整する工程とを備え
ることを特徴とする音叉型圧電振動片の製造方法。 - 【請求項2】 前記周波数をモニターしながら調整す
ることを特徴とする請求項1に記載の音叉型圧電振動片
の製造方法。 - 【請求項3】 モニターされる前記周波数に対応し
て、前記重り部表面を部分的に除去する加工レートを減
少させることを特徴とする請求項2に記載の音叉型圧電
振動片の製造方法。 - 【請求項4】 前記加工レートを段階的に変化させる
ことを特徴とする請求項3に記載の音叉型圧電振動片の
製造方法。 - 【請求項5】 前記反応性のイオン化した粒子を生成
するイオン材料がフレオン系ガスであることを特徴とす
る請求項1乃至4のいずれかに記載の音叉型圧電振動片
の製造方法。 - 【請求項6】 更に酸素ガスを使用することを特徴と
する請求項5に記載の音叉型圧電振動片の製造方法。 - 【請求項7】 真空チャンバと、前記真空チャンバ内
において、音叉型圧電振動片の両腕部先端に設けた圧電
体素子片の材料面を露出させた重り部に、反応性のイオ
ン化した粒子を照射する手段と、前記反応性のイオン化
した粒子を生成するイオン材料の供給源と、前記音叉型
圧電振動片の電極に接続してその周波数を測定する手段
とを備えることを特徴とする音叉型圧電振動片の周波数
調整加工装置。 - 【請求項8】 前記音叉型圧電振動片を前記真空チャ
ンバ内に搬入・搬出する搬送機構を更に備えることを特
徴とする請求項7に記載の音叉型圧電振動片の周波数調
整加工装置。 - 【請求項9】 前記搬送機構の搬送方向に沿って、加
工レートが異なる複数の前記反応性のイオン化した粒子
を照射する手段を備えることを特徴とする請求項8に記
載の音叉型圧電振動片の周波数調整加工装置。 - 【請求項10】 前記反応性のイオン化した粒子を照射
する手段とそれにより加工される前記音叉型圧電振動片
との離隔距離を変化させる加工レート調整手段を更に備
えることを特徴とする請求項7乃至9のいずれかに記載
の音叉型圧電振動片の周波数調整加工装置。 - 【請求項11】 前記周波数を測定する手段によりモニ
ターされる前記音叉型圧電振動片の周波数に対応して、
前記加工レート調整手段を制御する手段を備えることを
特徴とする請求項10に記載の音叉型圧電振動片の周波
数調整加工装置。 - 【請求項12】 基端部から長手方向に延長する2個の
腕部を有する音叉形状の圧電体素子片からなり、その表
面に形成された電極パターンと、前記両腕部の先端に前
記圧電体素子片の材料面が露出する重り部とを備え、前
記重り部が周波数調整のために部分的に除去されている
ことを特徴とする音叉型圧電振動片。 - 【請求項13】 請求項1乃至6のいずれかに記載の方
法により前記重り部が部分的に除去されていることを特
徴とする音叉型圧電振動片。 - 【請求項14】 請求項12又は13に記載の音叉型圧
電振動片と、前記圧電振動片を前記基端部においてマウ
ントするプラグと、前記プラグにマウントされた前記圧
電振動片を気密に収納するケースとを備えることを特徴
とする音叉型圧電振動子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000023117A JP2001217677A (ja) | 2000-01-31 | 2000-01-31 | 音叉型圧電振動片及びその製造方法、その周波数調整加工装置、音叉型圧電振動子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000023117A JP2001217677A (ja) | 2000-01-31 | 2000-01-31 | 音叉型圧電振動片及びその製造方法、その周波数調整加工装置、音叉型圧電振動子 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001217677A true JP2001217677A (ja) | 2001-08-10 |
Family
ID=18549322
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000023117A Withdrawn JP2001217677A (ja) | 2000-01-31 | 2000-01-31 | 音叉型圧電振動片及びその製造方法、その周波数調整加工装置、音叉型圧電振動子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2001217677A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003273700A (ja) * | 2002-01-11 | 2003-09-26 | Piedekku Gijutsu Kenkyusho:Kk | 水晶発振器と水晶発振器の製造方法 |
JP2007003319A (ja) * | 2005-06-23 | 2007-01-11 | Seiko Instruments Inc | 水晶振動子の特性測定装置および特性測定方法 |
JP2008022184A (ja) * | 2006-07-12 | 2008-01-31 | Seiko Instruments Inc | 圧電振動片及び圧電振動片の製造方法、圧電振動子、並びに、圧電振動子を備える発振器、電子機器、及び電波時計 |
JP2010246142A (ja) * | 2010-06-09 | 2010-10-28 | Epson Toyocom Corp | 振動片及び振動子の製造方法 |
US7872404B2 (en) | 2007-12-17 | 2011-01-18 | Seiko Instruments Inc. | Piezoelectric vibrating reed device having improved electrode design |
JP2013058519A (ja) * | 2011-09-07 | 2013-03-28 | Seiko Epson Corp | シャッター装置、シャッター装置の制御方法および周波数調整方法 |
-
2000
- 2000-01-31 JP JP2000023117A patent/JP2001217677A/ja not_active Withdrawn
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003273700A (ja) * | 2002-01-11 | 2003-09-26 | Piedekku Gijutsu Kenkyusho:Kk | 水晶発振器と水晶発振器の製造方法 |
JP4074935B2 (ja) * | 2002-01-11 | 2008-04-16 | 有限会社ピエデック技術研究所 | 水晶発振器と水晶発振器の製造方法 |
JP2007003319A (ja) * | 2005-06-23 | 2007-01-11 | Seiko Instruments Inc | 水晶振動子の特性測定装置および特性測定方法 |
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JP2010246142A (ja) * | 2010-06-09 | 2010-10-28 | Epson Toyocom Corp | 振動片及び振動子の製造方法 |
JP2013058519A (ja) * | 2011-09-07 | 2013-03-28 | Seiko Epson Corp | シャッター装置、シャッター装置の制御方法および周波数調整方法 |
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