JP2001216927A - Ｘ線ターゲット - Google Patents
Ｘ線ターゲットInfo
- Publication number
- JP2001216927A JP2001216927A JP2000028647A JP2000028647A JP2001216927A JP 2001216927 A JP2001216927 A JP 2001216927A JP 2000028647 A JP2000028647 A JP 2000028647A JP 2000028647 A JP2000028647 A JP 2000028647A JP 2001216927 A JP2001216927 A JP 2001216927A
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- Japan
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- ray
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- substance
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Abstract
(57)【要約】
【課題】ターゲットに微小球や微小ロッドを用い、さら
に、そのターゲットをベリリューム等の板に埋め込んで
熱伝導を良くしたことにより、微小ターゲットの支持を
可能にしたＸ線ターゲットを提供する。 【解決手段】ターゲットとターゲット支持部材からなる
Ｘ線ターゲットにおいて、前記ターゲットは、Ｘ線の輝
度を上げるために、ターゲットの断面積をなるべく小さ
く、かつ原子番号の大きな物質で構成したことを特徴と
するＸ線ターゲット。
に、そのターゲットをベリリューム等の板に埋め込んで
熱伝導を良くしたことにより、微小ターゲットの支持を
可能にしたＸ線ターゲットを提供する。 【解決手段】ターゲットとターゲット支持部材からなる
Ｘ線ターゲットにおいて、前記ターゲットは、Ｘ線の輝
度を上げるために、ターゲットの断面積をなるべく小さ
く、かつ原子番号の大きな物質で構成したことを特徴と
するＸ線ターゲット。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はＸ線発生装置に関
し、特にＸ線の輝度を上げることができるＸ線ターゲッ
ト技術に関するものである。
し、特にＸ線の輝度を上げることができるＸ線ターゲッ
ト技術に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来より、制動放射を利用するＸ線発生
装置のターゲットには、回転対陰極を用いる方法と、シ
ンクロトロンの電子軌道上に細線を挿入する方法があ
る。
装置のターゲットには、回転対陰極を用いる方法と、シ
ンクロトロンの電子軌道上に細線を挿入する方法があ
る。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】前者は、発熱を除去す
るためにターゲットを回転し、輝度を上げるためには、
電子ビームを絞る工夫をしている。しかし、この方法で
は、空間電荷効果による制限のためＸ線の輝度をあげる
には限界がある。また後者は輝度を上げるためにターゲ
ットを細線にし、冷却をするために細線を循環させてい
る。しかし、細線は、引っ張り力に耐えるために細くす
る上で限界があり、従って、ターゲットの微小化には限
界があった。また、輝度をあげるためにターゲットを小
さくすると熱伝導性が悪くなるために、ターゲットは融
解するか蒸発するという問題がある。
るためにターゲットを回転し、輝度を上げるためには、
電子ビームを絞る工夫をしている。しかし、この方法で
は、空間電荷効果による制限のためＸ線の輝度をあげる
には限界がある。また後者は輝度を上げるためにターゲ
ットを細線にし、冷却をするために細線を循環させてい
る。しかし、細線は、引っ張り力に耐えるために細くす
る上で限界があり、従って、ターゲットの微小化には限
界があった。また、輝度をあげるためにターゲットを小
さくすると熱伝導性が悪くなるために、ターゲットは融
解するか蒸発するという問題がある。
【０００４】そこで本発明は、ターゲットをできるだけ
小さくしながら、かつターゲットの冷却効果を上げるこ
とができるＸ線ターゲットを提供し、上述のような問題
点を解決することを目的とする。
小さくしながら、かつターゲットの冷却効果を上げるこ
とができるＸ線ターゲットを提供し、上述のような問題
点を解決することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明が採用した技術解
決手段は、Ｘ線発生装置において、Ｘ線の輝度を上げる
ためには、まずターゲットの断面積をなるべく小さく
し、かつ原子番号の大きな物質を使用したＸ線ターゲッ
トである。
決手段は、Ｘ線発生装置において、Ｘ線の輝度を上げる
ためには、まずターゲットの断面積をなるべく小さく
し、かつ原子番号の大きな物質を使用したＸ線ターゲッ
トである。
【０００６】また、Ｘ線発生装置において、ターゲット
の断面積をなるべく小さくしてＸ線発生効率を大きくす
るために、ターゲットを球状あるいは棒状にしたことを
特徴とするＸ線ターゲットである。
の断面積をなるべく小さくしてＸ線発生効率を大きくす
るために、ターゲットを球状あるいは棒状にしたことを
特徴とするＸ線ターゲットである。
【０００７】また、Ｘ線発生装置において、ターゲット
を原子番号の小さな物質で支持するか、原子番号の小さ
な物質中に埋め込んだことを特徴とするＸ線ターゲット
である。
を原子番号の小さな物質で支持するか、原子番号の小さ
な物質中に埋め込んだことを特徴とするＸ線ターゲット
である。
【０００８】さらに、前記の原子番号の小さな物質とし
てベリリュームあるいは炭素を用いたことを特徴とする
Ｘ線ターゲットである。
てベリリュームあるいは炭素を用いたことを特徴とする
Ｘ線ターゲットである。
【０００９】
【実施の形態】本発明に係る実施の形態を図１を参照し
て説明すると、図１はＸ線ターゲットに電子ビームを照
射し、Ｘ線ビームを発生している状態の斜視図である。
図において、１は電子ビーム、２はターゲット、３はタ
ーゲット支持板、４はＸ線ビームであり、Ｘ線ターゲッ
トはターゲット支持板３とこの支持板３に埋め込んだタ
ーゲット２によって構成されており、このＸ線ターゲッ
トに対して周知の電子ビーム発生装置から電子ビーム１
が発射される。
て説明すると、図１はＸ線ターゲットに電子ビームを照
射し、Ｘ線ビームを発生している状態の斜視図である。
図において、１は電子ビーム、２はターゲット、３はタ
ーゲット支持板、４はＸ線ビームであり、Ｘ線ターゲッ
トはターゲット支持板３とこの支持板３に埋め込んだタ
ーゲット２によって構成されており、このＸ線ターゲッ
トに対して周知の電子ビーム発生装置から電子ビーム１
が発射される。
【００１０】前記ターゲット２は直径略１０ミクロンの
棒状の鉛で構成されており、またターゲット支持板３は
ベリリウムでできた厚さ（１ｍｍ）の適宜大きさの板で
構成され、前記ターゲット２はターゲット支持板３内の
中心部に明けられた略１０ミクロンの孔内にターゲット
支持板３の厚さに対応する長さで埋め込まれている。な
おターゲット支持板３内に明ける１０ミクロンの穴は、
レーザー加工で明けることができる。
棒状の鉛で構成されており、またターゲット支持板３は
ベリリウムでできた厚さ（１ｍｍ）の適宜大きさの板で
構成され、前記ターゲット２はターゲット支持板３内の
中心部に明けられた略１０ミクロンの孔内にターゲット
支持板３の厚さに対応する長さで埋め込まれている。な
おターゲット支持板３内に明ける１０ミクロンの穴は、
レーザー加工で明けることができる。
【００１１】なお、ターゲット２の断面積は、Ｘ線の輝
度を上げるためにできるだけ小さい方がよいが、電子ビ
ーム１の太さとの関係で必要に応じて最適な断面積を選
定する。また、ターゲット２の形状は、前記棒状形状以
外にターゲットの断面を可能な限り小さくするために球
形、楕円球などを使用することができ、さらにターゲッ
トの材質は、Ｘ線の発生効率が原子番号の自乗に比例す
ることから、鉛、タングステン、金、白金、ビスマス、
ウラン等の原子番号６０以上の物質が良い。
度を上げるためにできるだけ小さい方がよいが、電子ビ
ーム１の太さとの関係で必要に応じて最適な断面積を選
定する。また、ターゲット２の形状は、前記棒状形状以
外にターゲットの断面を可能な限り小さくするために球
形、楕円球などを使用することができ、さらにターゲッ
トの材質は、Ｘ線の発生効率が原子番号の自乗に比例す
ることから、鉛、タングステン、金、白金、ビスマス、
ウラン等の原子番号６０以上の物質が良い。
【００１２】ターゲット支持板３はターゲット２を支持
するとともに、ターゲット２を冷却する機能を有してい
る。このため、ターゲット支持板３の材料は、ベリリウ
ム以外に、グラファイトやアルミなど原子番号の小さい
物質を使用するのが良い。また支持板の厚さは略１ｍｍ
に限定することなく、ターゲット２の冷却機能、ターゲ
ットの支持機能の面から、最適な厚さを選択する。
するとともに、ターゲット２を冷却する機能を有してい
る。このため、ターゲット支持板３の材料は、ベリリウ
ム以外に、グラファイトやアルミなど原子番号の小さい
物質を使用するのが良い。また支持板の厚さは略１ｍｍ
に限定することなく、ターゲット２の冷却機能、ターゲ
ットの支持機能の面から、最適な厚さを選択する。
【００１３】上記構成からなるＸ線ターゲットによるＸ
線発生の作用について説明すると、電子ビーム発生装置
から発射された所定の太さの電子ビームがターゲット２
に照射されると、ターゲットからＸ線ビーム４が発生す
る。この時、Ｘ線の発生効率は、原子番号の自乗に比例
するため、原子番号の大きな物資からなるターゲット２
からＸ線が発生する。またターゲット２を支持している
ターゲット支持板３は、原子番号の小さい物質で構成さ
れているため、この支持板からのＸ線発生は無視するこ
とができる。また、ターゲット２の周囲はグラファイト
等からなる冷却機能の高い物質からなるターゲット支持
部材で支持された（あるいは支持部材内に埋め込まれ
た）構成となっているため、ターゲット２で発生した熱
は支持部材３を介して効果的に周囲に放散させることが
でき、ターゲット２を冷却するための特別な機構が不要
となっている。ターゲットの断面積は、利用法により選
択できるが、例えばＸ線写真を撮る場合、このターゲッ
トの断面積は、そのまま画像の分解能にかかわるもので
あり、小さい程精細な像となる。
線発生の作用について説明すると、電子ビーム発生装置
から発射された所定の太さの電子ビームがターゲット２
に照射されると、ターゲットからＸ線ビーム４が発生す
る。この時、Ｘ線の発生効率は、原子番号の自乗に比例
するため、原子番号の大きな物資からなるターゲット２
からＸ線が発生する。またターゲット２を支持している
ターゲット支持板３は、原子番号の小さい物質で構成さ
れているため、この支持板からのＸ線発生は無視するこ
とができる。また、ターゲット２の周囲はグラファイト
等からなる冷却機能の高い物質からなるターゲット支持
部材で支持された（あるいは支持部材内に埋め込まれ
た）構成となっているため、ターゲット２で発生した熱
は支持部材３を介して効果的に周囲に放散させることが
でき、ターゲット２を冷却するための特別な機構が不要
となっている。ターゲットの断面積は、利用法により選
択できるが、例えばＸ線写真を撮る場合、このターゲッ
トの断面積は、そのまま画像の分解能にかかわるもので
あり、小さい程精細な像となる。
【００１４】以上本発明に係わる実施形態について説明
したが、本発明はその精神または主要な特徴から逸脱す
ることなく、他のいかなる形でも実施できる。そのた
め、前述の実施形態はあらゆる点で単なる例示にすぎず
限定的に解釈してはならない。
したが、本発明はその精神または主要な特徴から逸脱す
ることなく、他のいかなる形でも実施できる。そのた
め、前述の実施形態はあらゆる点で単なる例示にすぎず
限定的に解釈してはならない。
【００１５】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明によ
れば、ターゲットを支持するターゲット支持板を原子番
号の小さい物質（グラファイト等）で構成したことによ
り、ターゲットを微小にしたことにより起こる発熱の問
題を解決することができ、結果として、Ｘ線発生に微小
ターゲトを利用する道を開いた。即ち、微小ターゲット
の利用によりＸ線発生装置の高輝度化に道を開くことが
できた。また、従来のようなターゲットを冷却するため
の回転機構等を不要とすることができた。等の優れた効
果を奏することができる。
れば、ターゲットを支持するターゲット支持板を原子番
号の小さい物質（グラファイト等）で構成したことによ
り、ターゲットを微小にしたことにより起こる発熱の問
題を解決することができ、結果として、Ｘ線発生に微小
ターゲトを利用する道を開いた。即ち、微小ターゲット
の利用によりＸ線発生装置の高輝度化に道を開くことが
できた。また、従来のようなターゲットを冷却するため
の回転機構等を不要とすることができた。等の優れた効
果を奏することができる。
【図１】Ｘ線ターゲットに電子ビームを照射し、Ｘ線ビ
ームを発生している状態の斜視図である。
ームを発生している状態の斜視図である。
１．電子ビーム ２．Ｘ線ターゲット ３．ターゲト支持板 ４．Ｘ線ビーム
Claims (5)
- 【請求項１】ターゲットとターゲット支持部材からなる
Ｘ線ターゲットにおいて、前記ターゲットは、Ｘ線の輝
度を上げるために、ターゲットの断面積をなるべく小さ
く、かつ原子番号の大きな物質で構成したことを特徴と
するＸ線ターゲット。 - 【請求項２】前記ターゲットはターゲット支持部材によ
って支持するか、ターゲット支持部材内に埋め込んだこ
とを特徴とする請求項１に記載のＸ線ターゲット。 - 【請求項３】前記ターゲットは、断面積をなるべく小さ
くしてＸ線発生効率を大きくするために、球状または棒
状に形成したことを特徴とする請求項１または請求項２
に記載のＸ線ターゲット。 - 【請求項４】前記ターゲット支持部材は、原子番号の小
さな物質で構成したことを特徴とする請求項１〜請求項
３のいずれかに記載のＸ線ターゲット。 - 【請求項５】前記原子番号の小さな物質としてベリリュ
ームあるいは炭素を用いたことを特徴とする請求項４に
記載のＸ線ターゲット。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000028647A JP2001216927A (ja) | 2000-02-07 | 2000-02-07 | Ｘ線ターゲット |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000028647A JP2001216927A (ja) | 2000-02-07 | 2000-02-07 | Ｘ線ターゲット |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001216927A true JP2001216927A (ja) | 2001-08-10 |
Family
ID=18554019
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000028647A Pending JP2001216927A (ja) | 2000-02-07 | 2000-02-07 | Ｘ線ターゲット |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001216927A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007123022A (ja) * | 2005-10-27 | 2007-05-17 | Shimadzu Corp | Ｘ線源およびそれに用いられるターゲット |
| WO2008078477A1 (ja) * | 2006-12-22 | 2008-07-03 | Stanley Electric Co., Ltd. | Ｘ線発生装置 |
| JP2011071101A (ja) * | 2009-08-31 | 2011-04-07 | Hamamatsu Photonics Kk | Ｘ線発生装置 |
| CN102013378A (zh) * | 2009-09-04 | 2011-04-13 | 东京毅力科创株式会社 | X射线产生用靶、x射线产生装置以及x射线产生用靶的制造方法 |
| WO2011104011A3 (de) * | 2010-02-25 | 2012-01-26 | DüRR DENTAL AG | Röntgenröhre sowie system zur herstellung von röntgenbildern für die zahnmedizinische oder kieferorthopädische diagnostik |
-
2000
- 2000-02-07 JP JP2000028647A patent/JP2001216927A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007123022A (ja) * | 2005-10-27 | 2007-05-17 | Shimadzu Corp | Ｘ線源およびそれに用いられるターゲット |
| WO2008078477A1 (ja) * | 2006-12-22 | 2008-07-03 | Stanley Electric Co., Ltd. | Ｘ線発生装置 |
| JP2011071101A (ja) * | 2009-08-31 | 2011-04-07 | Hamamatsu Photonics Kk | Ｘ線発生装置 |
| CN102013378A (zh) * | 2009-09-04 | 2011-04-13 | 东京毅力科创株式会社 | X射线产生用靶、x射线产生装置以及x射线产生用靶的制造方法 |
| US8416920B2 (en) | 2009-09-04 | 2013-04-09 | Tokyo Electron Limited | Target for X-ray generation, X-ray generator, and method for producing target for X-ray generation |
| TWI497556B (zh) * | 2009-09-04 | 2015-08-21 | Tokyo Electron Ltd | X-ray generation device, X-ray generation device, and X-ray generation target |
| WO2011104011A3 (de) * | 2010-02-25 | 2012-01-26 | DüRR DENTAL AG | Röntgenröhre sowie system zur herstellung von röntgenbildern für die zahnmedizinische oder kieferorthopädische diagnostik |
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Legal Events
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040106 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040219 |
|
| A977 | Report on retrieval |
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|
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050726 |
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| RD07 | Notification of extinguishment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7427 Effective date: 20050913 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050926 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20050913 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20051028 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060131 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060606 |