JP2001202875A - Method of forming rib of plasma display panel and rib formed by the same - Google Patents

Method of forming rib of plasma display panel and rib formed by the same

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JP2001202875A
JP2001202875A JP2000008762A JP2000008762A JP2001202875A JP 2001202875 A JP2001202875 A JP 2001202875A JP 2000008762 A JP2000008762 A JP 2000008762A JP 2000008762 A JP2000008762 A JP 2000008762A JP 2001202875 A JP2001202875 A JP 2001202875A
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JP
Japan
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rib
mixed air
substrate
width
speed
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JP2000008762A
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Hide Kurosawa
秀 黒澤
Koichi Asahi
晃一 旭
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Dai Nippon Printing Co Ltd
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Dai Nippon Printing Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To form a good shape of rib without lowering of cut ability when a rib of plasma display panel is formed by the sand blast machining method. SOLUTION: A density of grinder material in mixed air after blasting is set to 50-200 g/m3, and the maximum value in a collision speed of the mixed air to a substrate is set to the range of 45-70 m/s. As the amount and speed of the grinder material, which entrained in the air and blasted, is proper, a good shape if rib can always be formed without lowering of the grinder speed. The rib 3 can satisfy the condition of 0<= (WB-WT)<=40 μm, 0<=(WT-Wmin)<=20 μm. If the bottom width WB is larger by above 40 μm than the head width WT, the unevenness in wider skirt may be generated, also if the minimum width Wmin is smaller by above 20 μm than the head width WT, the rib is thin to weaken the strength.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネル(以下、PDPと記す)の製造工程に関する
ものであり、詳しくはPDPの放電空間を構成するリブ
をサンドブラスト加工法により形成する技術分野に属す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a process for manufacturing a plasma display panel (hereinafter referred to as "PDP"), and more particularly to a technical field of forming a rib constituting a discharge space of a PDP by a sandblasting method. .

【0002】[0002]

【従来の技術】一般にPDPは、2枚の対向するガラス
基板にそれぞれ規則的に配列した一対の電極を設け、そ
の間にNe,Xe等を主体とするガスを封入した構造に
なっている。そして、これらの電極間に電圧を印加し、
電極周辺の微小なセル内で放電を発生させることによ
り、各セルを発光させて表示を行うようにしている。情
報表示をするためには、規則的に並んだセルを選択的に
放電発光させる。このPDPには、電極が放電空間に露
出している直流型(DC型)と絶縁層で覆われている交
流型(AC型)の2タイプがあり、双方とも表示機能や
駆動方法の違いによって、さらにリフレッシュ駆動方式
とメモリー駆動方式とに分類される。
2. Description of the Related Art In general, a PDP has a structure in which a pair of electrodes arranged regularly on two opposing glass substrates are provided, and a gas mainly composed of Ne, Xe or the like is sealed between the electrodes. Then, a voltage is applied between these electrodes,
By generating a discharge in a minute cell around the electrode, each cell emits light to perform display. In order to display information, regularly arranged cells are selectively caused to emit light. There are two types of PDPs, a direct current type (DC type) in which the electrodes are exposed to the discharge space, and an alternating current type (AC type) in which the electrodes are covered with an insulating layer. And a refresh driving method and a memory driving method.

【0003】図1にAC型PDPの一構成例を示す。こ
の図は前面板と背面板を離した状態で示したもので、図
示のように2枚のガラス基板1,2が互いに平行に且つ
対向して配設されており、両者は背面板となるガラス基
板2上に互いに平行に設けられたリブ3により一定の間
隔に保持されるようになっている。前面板となるガラス
基板1の背面側には透明電極である維持電極4と金属電
極であるバス電極5とで構成される複合電極が互いに平
行に形成され、これを覆って誘電体層6が形成されてお
り、さらにその上に保護層7(MgO層)が形成されて
いる。また、背面板となるガラス基板2の前面側には前
記複合電極と直交するようにリブ3の間に位置してアド
レス電極8が互いに平行に形成されており、これを覆っ
て誘電体層9が形成され、さらにリブ3の壁面とセル底
面を覆うようにして蛍光体層10が設けられている。こ
のAC型PDPは面放電型であって、前面板上の複合電
極間に交流電圧を印加し、放電させる構造である。そし
てこの放電により生じる紫外線により蛍光体層10を発
光させ、前面板を透過する光を観察者が視認するように
なっている。
FIG. 1 shows a configuration example of an AC type PDP. This figure shows the front plate and the back plate separated from each other. As shown in the figure, two glass substrates 1 and 2 are arranged in parallel and opposed to each other, and both become the back plate. The ribs 3 provided on the glass substrate 2 in parallel with each other are held at regular intervals. On the back side of the glass substrate 1 serving as a front plate, composite electrodes composed of a sustain electrode 4 which is a transparent electrode and a bus electrode 5 which is a metal electrode are formed in parallel with each other, and a dielectric layer 6 is covered thereover. The protective layer 7 (MgO layer) is further formed thereon. On the front side of the glass substrate 2 serving as the back plate, address electrodes 8 are formed between the ribs 3 so as to be orthogonal to the composite electrodes and are formed in parallel with each other. Are formed, and a phosphor layer 10 is provided so as to cover the wall surface of the rib 3 and the cell bottom surface. This AC type PDP is of a surface discharge type, and has a structure in which an AC voltage is applied between composite electrodes on the front panel to discharge. Then, the phosphor layer 10 emits light by the ultraviolet light generated by the discharge, so that an observer can visually recognize the light transmitted through the front plate.

【0004】このようなPDPにおける背面板上のリブ
は、従来はスクリーン印刷による重ね刷りで形成されて
いたが、最近では精度の点から所謂サンドブラスト法に
より形成されることが多くなっている。この方法でリブ
を形成する場合、低融点ガラス粉末、耐火物フィラーな
どの無機粉体を主成分又は成分とし、これに適当なバイ
ンダー樹脂及び溶剤を添加してなるリブペーストを基板
上に塗布して乾燥させることでリブ材料層を形成し、そ
の上に耐サンドブラスト性の有る感光性樹脂組成物層を
設けた後、フォトリソグラフィー法でセル画定用マスク
にパターニングし、そのサンドブラスト用マスクの上方
の噴射ノズルから研削材を含む混合エアーを噴射するこ
とによりリブ材料層の不要部分を除去し、次いで耐サン
ドブラスト用マスクを除去してから焼成する手順が採ら
れている。そして、その研削材として、ガラスビーズ、
SiC、SiO2 、Al2 3 、ZrO2 等の無機粉体
が使用されている。
Conventionally, the ribs on the back plate of such a PDP have been formed by overprinting by screen printing. However, recently, the ribs are often formed by a so-called sand blast method from the viewpoint of accuracy. When ribs are formed by this method, a low-melting glass powder, an inorganic powder such as a refractory filler is used as a main component or a component, and a rib paste obtained by adding an appropriate binder resin and a solvent thereto is applied to a substrate. After forming a rib material layer by drying and providing a photosensitive resin composition layer having sandblast resistance thereon, the rib material layer is patterned into a cell defining mask by a photolithography method. A procedure is employed in which unnecessary portions of the rib material layer are removed by injecting mixed air containing abrasives from an injection nozzle, and then a sandblast resistant mask is removed before firing. And, as the abrasive, glass beads,
Inorganic powders such as SiC, SiO 2 , Al 2 O 3 and ZrO 2 are used.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】上記したサンドブラス
ト法によるリブ形成では、噴射ノズルから噴射される研
削材により図2(A)に示す如くリブ3をなるべく垂直
に研削することが重要である。すなわち、図2(B)に
示すように裾野が広がった形状では、リブ3の加工ムラ
が生じやすく、図2(C)に示すようにサイドエッチが
入りすぎた形状では、リブ3の最も細い部分の線幅が細
すぎ、サンドブラスト用マスクの剥離時にリブ3が倒れ
てしまう可能性がある。このように垂直にできるだけ近
い形状のリブを形成することが必要であるが、従来は研
削材の噴射条件を経験的に決めていたため、常に良好な
形状のリブを形成するのが難しいという問題点があっ
た。
In the above-described rib formation by the sand blast method, it is important to grind the ribs 3 as vertically as possible as shown in FIG. That is, in the shape in which the skirt is widened as shown in FIG. 2B, the processing unevenness of the rib 3 is apt to occur, and in the shape in which the side etch is excessively formed as shown in FIG. The line width of the portion is too small, and there is a possibility that the rib 3 falls down when the mask for sandblasting is peeled off. As described above, it is necessary to form a rib having a shape as close as possible to the vertical, but conventionally, it is difficult to always form a rib having a good shape because the injection condition of the abrasive is empirically determined. was there.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記の問題点を解決する
ために、本発明は、研削速度の低下がなく、良好なリブ
形状が得られるように、噴射した混合エアー中の研削材
の量を規定し、さらには混合エアーの噴射速度をも規定
することとしている。そして、このように研削材の噴射
条件を適切なものに設定してサンドブラスト加工を行う
ことにより、研削能力を落とすことなく、常に良好な形
状のリブを形成することができる。
SUMMARY OF THE INVENTION In order to solve the above-mentioned problems, the present invention has been made to reduce the amount of abrasive in the injected mixed air so as to obtain a good rib shape without lowering the grinding speed. , And also the injection speed of the mixed air. By performing the sand blasting with the abrasive material jetting conditions set to be appropriate in this manner, a rib having a good shape can always be formed without reducing the grinding ability.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】本発明は、基板上にリブ材料層を
形成し、その上に耐サンドブラスト用マスクをパターン
状に形成した後、そのマスクの上方から研削材を含む混
合エアーを噴射することによりリブ材料層の不要部分を
除去し、次いで耐サンドブラスト用マスクを除去してか
ら、焼成工程を経て所望パターンのリブを形成する工程
を含むPDPのリブ形成方法において、噴射直後の混合
エアー中の研削材の濃度を50〜200g/m3 に設定
したものである。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS In the present invention, a rib material layer is formed on a substrate, a mask for sandblasting is formed on the rib material layer in a pattern, and then mixed air containing abrasives is jetted from above the mask. By removing unnecessary portions of the rib material layer, and then removing the anti-sandblast mask, a method of forming a rib of a PDP including a step of forming a rib having a desired pattern through a firing step is performed. Is set to a concentration of 50 to 200 g / m 3 .

【0008】混合エアー中の研削材の濃度が200g/
3 を越えると、研削材の量が多すぎる状態となり、研
削材自体の衝突で研削材が横方向に移動するため、リブ
の研削においてサイドエッチ量が増えてしまう。つまり
リブは中央部がへこんだ形状になる。このような形状に
なるとリブの強度が不足してしまう。逆に混合エアー中
の研削材の濃度が50g/m3 に満たないと、研削材が
少なすぎる状態になり、その結果、研削能力が小さすぎ
て研削時間がかかりすぎることになる。
[0008] The concentration of the abrasive in the mixed air is 200 g /
If it exceeds m 3 , the amount of the abrasive will be too large, and the abrasive will move laterally due to the collision of the abrasive itself, so that the side etch amount will increase in the grinding of the ribs. That is, the rib has a concave shape at the center. With such a shape, the strength of the rib is insufficient. Conversely, when the concentration of the abrasive in the mixed air is less than 50 g / m 3 , the amount of the abrasive is too small, and as a result, the grinding ability is too small and the grinding time is too long.

【0009】また、上記のように混合エアー中の研削材
の濃度を規定するのに加え、混合エアーの基板に対する
衝突速度の最大値を45〜70m/sの範囲に設定する
ことが望ましい。混合エアーの基板に対する衝突速度が
70m/sを越えると、リブの形状は良好になるが、下
に位置する誘電体層や電極にダメージを与えやすくな
る。さらには、サンドブラスト用マスクの端部が剥がれ
やすくなり、リブ欠陥の原因となる。一方、混合エアー
の基板に対する衝突速度が45m/sに満たないと、リ
ブ研削能力が小さすぎて研削時間がかかりすぎることに
なる。
Further, in addition to defining the concentration of the abrasive in the mixed air as described above, it is desirable to set the maximum value of the collision speed of the mixed air to the substrate in the range of 45 to 70 m / s. If the collision speed of the mixed air with the substrate exceeds 70 m / s, the rib shape becomes good, but the underlying dielectric layer and electrode are easily damaged. Furthermore, the edge of the sandblast mask is easily peeled off, which causes rib defects. On the other hand, if the collision speed of the mixed air to the substrate is less than 45 m / s, the rib grinding ability is too small and the grinding time is too long.

【0010】上記の如く噴射ノズルから噴射した直後の
混合エアー中の研削材の濃度を規定し、さらに混合エア
ーの基板に対する衝突速度を規定することにより、良好
な形状のリブが形成される。サイズ的に言えば、図3に
示すように、リブ3の底部幅、頂部幅、最小リブ幅をそ
れぞれWB 、WT 、Wmin とすると、焼成前の形状が次
の関係式(1)及び(2)を満たすリブ3が形成され
る。 0≦(WB −WT )≦40μm・・・・(1) 0≦(WT −Wmin )≦20μm・・・(2)
As described above, by defining the concentration of the abrasive in the mixed air immediately after being injected from the injection nozzle and further defining the collision speed of the mixed air with the substrate, a rib having a good shape is formed. Speaking sizes, as shown in FIG. 3, the bottom width of the rib 3, W top width, the minimum rib width, respectively B, W T, When W min, the shape before firing the next equation (1) And a rib 3 satisfying (2) is formed. 0 ≦ (W B -W T) ≦ 40μm ···· (1) 0 ≦ (W T -W min) ≦ 20μm ··· (2)

【0011】底部幅WB が頂部幅WT より40μm以上
大きいと、裾野が広いので加工ムラが生じやすくなり、
また最小リブ幅Wmin が頂部幅WT より20μm以上小
さいと、細くなりすぎてリブの強度が弱くなる。
[0011] bottom width W B is 40μm or more larger than the top width W T, becomes so wide foot processing unevenness is likely to occur,
If the minimum rib width W min is smaller than the top width W T by 20 μm or more, the rib becomes too thin and the strength of the rib is weakened.

【0012】[0012]

【実施例】以下、PDPの基板上に高精細リブを形成す
る一連の工程を挙げて本発明を詳細に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described in detail below with reference to a series of steps for forming high-definition ribs on a PDP substrate.

【0013】(電極の形成工程)平面的な大きさが10
00×600mmで厚さが2.8mmであるガラス基板
を用意し、その片側の表面に150μmの間隔で平行な
ストライプ状をなす多数の電極をスクリーン印刷で形成
する。
(Electrode forming step) The planar size is 10
A glass substrate having a size of 00 × 600 mm and a thickness of 2.8 mm is prepared, and a large number of parallel striped electrodes are formed by screen printing on one surface of the glass substrate at intervals of 150 μm.

【0014】(リブ材料層の形成工程)このガラス基板
の電極側の全表面に、下記組成Aのリブペーストをダイ
コーターで一括コーティングし、150℃で30分間乾
燥して固化させてリブ材料層を形成する。
(Rib material layer forming step) A rib paste having the following composition A is coated on the entire surface of the glass substrate on the electrode side by a die coater, dried at 150 ° C. for 30 minutes and solidified to form a rib material layer. To form

【0015】 −組成A− ・ガラスフリット 100重量部 (主成分:PbO、SiO2 (無アルカリ)、平均粒径3μm) ・Al2 3 (顔料) 7重量部 ・ZrO2 (骨材) 7重量部 ・エチルセルロース(樹脂) 6重量部 ・テルピネオール(溶剤) 25重量部 ・ブチルカルビトール(溶剤) 10重量部—Composition A— 100 parts by weight of glass frit (main component: PbO, SiO 2 (alkali-free), average particle size 3 μm) 7 parts by weight of Al 2 O 3 (pigment) 7 ZrO 2 (aggregate) 7 Parts by weight ・ Ethyl cellulose (resin) 6 parts by weight ・ Terpineol (solvent) 25 parts by weight ・ Butyl carbitol (solvent) 10 parts by weight

【0016】(サンドブラスト用マスクの形成工程)リ
ブ材料層の全表面にドライフィルム(東京応化工業
(株)製「オーディルBF603」)をラミネートし、
露光及びそれに続く現像を行い、リブ材料層上にサンド
ブラスト用マスクとしてパターン状のレジスト層を形成
する。現像液は炭酸ナトリウム0.2%水溶液を使用す
る。なお、本実施例のレジスト層のパターンは幅50μ
mで間隔100μmの平行なストライプ状をなしてお
り、ガラス基板の表面上の電極がレジスト層の間隔10
0μmの間のほぼ中央に位置するように配置する。
(Step of forming a mask for sandblasting) A dry film ("Audil BF603" manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) is laminated on the entire surface of the rib material layer.
Exposure and subsequent development are performed to form a patterned resist layer as a sandblast mask on the rib material layer. As the developing solution, a 0.2% aqueous solution of sodium carbonate is used. Note that the pattern of the resist layer of the present embodiment has a width of 50 μm.
m, the electrodes on the surface of the glass substrate are in parallel stripes with a distance of 10 μm.
It is arranged so as to be located approximately at the center between 0 μm.

【0017】(サンドブラスト加工工程)基板は多数の
搬送ローラ上を移動させてブラスト加工室内に搬入す
る。そして、基板、すなわちガラス基板の表面にリブ材
料層とレジスト層を形成した被加工物におけるリブ材料
層とレジスト層の側に向けて噴射ノズルから研削材を噴
射する。本実施例では、研削材として平均粒径11.5
μmのアルミナ(フジミインコーポレーテッド製「WA
#1000」)を使用する。
(Sand blasting process) The substrate is moved on a number of transport rollers and is carried into the blasting chamber. Then, the abrasive is sprayed from a spray nozzle toward the rib material layer and the resist layer side of the workpiece having the rib material layer and the resist layer formed on the surface of the substrate, that is, the glass substrate. In this embodiment, the abrasive has an average particle size of 11.5.
μm alumina (Fujimi Incorporated “WA
# 1000 ”).

【0018】加工室では、基板の搬送方向に直交する方
向に往復移動するタイプの噴射ノズルを8本設けてい
る。各噴射ノズルとしては、150mm×0.5mmの
スリットからほぼ垂直に研削材を噴射するスリットノズ
ルを採用してある。このスリットノズルはそれ自体が従
来の丸ノズル(10mmφ)よりも広い噴射分布を持っ
ているが、さらに加工均一性を向上させるために、噴射
ノズルの駆動速度を速くしている。
In the processing chamber, eight injection nozzles of a type which reciprocate in a direction orthogonal to the substrate transfer direction are provided. As each of the injection nozzles, a slit nozzle that injects the abrasive almost vertically from a slit of 150 mm × 0.5 mm is employed. The slit nozzle itself has a wider spray distribution than the conventional round nozzle (10 mmφ), but the driving speed of the spray nozzle is increased to further improve the processing uniformity.

【0019】加工室内では、上記ガラス基板におけるレ
ジスト層及びリブ材料層の側に研削材を圧空と共に噴射
して、レジスト層の真下のリブ材料層以外の部分のリブ
材料層を研削除去してリブをパターニングする。このよ
うにしてパターニングしたリブは、幅が50μm、高さ
が150μmで、各リブ間の間隔は100μmである。
具体的には、ブラスト加工室内で噴射ノズルから基板に
おけるレジスト層とリブ材料層の側に研削材を噴射する
と、レジスト層の真下のリブ材料層はレジストで保護さ
れるので研削材で研削ないし彫刻されないが、レジスト
層の真下のリブ材料層以外の部分のリブ材料層はすべて
研削除去される。
In the processing chamber, a grinding material is sprayed together with the compressed air onto the glass substrate on the side of the resist layer and the rib material layer, and the rib material layer other than the rib material layer immediately below the resist layer is ground and removed. Is patterned. The rib patterned in this manner has a width of 50 μm, a height of 150 μm, and an interval between the ribs of 100 μm.
Specifically, when a grinding material is sprayed from the spray nozzle to the resist layer and the rib material layer side of the substrate in the blasting chamber, the rib material layer immediately below the resist layer is protected by the resist, so the grinding material is ground or engraved with the grinding material. However, all the rib material layers other than the rib material layer immediately below the resist layer are removed by grinding.

【0020】(焼成工程)ガラス基板の表面にリブを形
成した被加工物は、低融点ガラスの鉛ガラスが完全に溶
融してバインダーが焼却する温度まで徐々に加熱するこ
とにより、リブを構成する低融点ガラスとレジストの各
バインダーが完全に燃焼され且つ低融点ガラスが溶解し
て焼成されてリブが形成される。
(Firing Step) The workpiece on which the ribs are formed on the surface of the glass substrate is gradually heated to a temperature at which the lead glass of the low melting point glass is completely melted and the binder is incinerated, thereby forming the ribs. The low melting glass and the binder of the resist are completely burned, and the low melting glass is melted and fired to form ribs.

【0021】以上の工程でリブを形成するが、本実施例
では、種々の条件で研削材を噴射して上記サンドブラス
ト加工を行うことでテストを実施した。
The ribs are formed by the above steps. In this embodiment, a test was performed by injecting abrasives under various conditions and performing the above sandblasting.

【0022】まず、第1のテストとして、混合エアーの
基板に対する衝突速度が50m/sになるようにし、混
合エアー中の研削材の濃度を変えて上記基板に対するサ
ンドブラスト加工を行い、研削速度とサイドエッチにつ
いての評価を行った。その結果は表1のようである。こ
の表1から分かるように、混合エアー中の研削材の濃度
が200g/m3 を越えると、研削速度は良好ではある
ものの、サイドエッチ量が許容範囲を越えて大きくなっ
た。また、混合エアー中の研削材の濃度が50g/m3
に満たないと、研削速度が小さくなってしまった。
First, as a first test, the collision speed of the mixed air with the substrate was set to 50 m / s, the concentration of the abrasive in the mixed air was changed, and the substrate was subjected to sandblasting, and the grinding speed and the side speed were measured. The etch was evaluated. The results are as shown in Table 1. As can be seen from Table 1, when the concentration of the abrasive in the mixed air exceeds 200 g / m 3 , although the grinding speed is good, the amount of side etching becomes larger than the allowable range. The concentration of the abrasive in the mixed air is 50 g / m 3.
If it does not, the grinding speed has decreased.

【0023】[0023]

【表1】 [Table 1]

【0024】第2のテストとして、混合エアー中の研削
材の濃度が100g/m3 になるようにし、混合エアー
の基板に対する衝突速度を変えて上記基板に対するサン
ドブラスト加工を行い、研削速度とマスク剥がれについ
ての評価を行った。その結果は表2のようである。この
表2から分かるように、混合エアーの基板に対する衝突
速度が70m/sを越えると、レジストの剥がれが見ら
れた。また、混合エアーの基板に対する衝突速度が45
m/sに満たないと、研削速度が小さくなってしまっ
た。
In a second test, the concentration of the abrasive in the mixed air was adjusted to 100 g / m 3 , the sandblasting of the substrate was performed by changing the collision speed of the mixed air with the substrate, and the grinding speed and mask peeling were performed. Was evaluated. Table 2 shows the results. As can be seen from Table 2, when the collision speed of the mixed air with the substrate exceeded 70 m / s, the resist was peeled off. Further, the collision speed of the mixed air with the substrate is 45
When the speed was less than m / s, the grinding speed was reduced.

【0025】[0025]

【表2】 [Table 2]

【0026】[0026]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
PDPのリブをサンドブラスト法により形成するに際
し、噴射直後の混合エアー中の研削材の濃度を50〜2
00g/m3 に設定し、さらには混合エアーの基板に対
する衝突速度の最大値を45〜70m/sの範囲に設定
したことにより、エアーに乗せて噴射する研削材の量と
速度が適切なものになることから、研削速度が落ちるこ
となく、常に良好な形状のリブを形成することができ
る。
As described above, according to the present invention,
When forming the ribs of the PDP by the sandblasting method, the concentration of the abrasive in the mixed air immediately after the injection is set to 50 to 2
Set 00g / m 3, more by the maximum value of the impact velocity relative to the substrate of the mixed air is set to a range of 45~70m / s, the amount and speed of the grinding material to be injected is put in the air is appropriate Therefore, a rib having a good shape can always be formed without lowering the grinding speed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】プラズマディスプレイパネルの一例をその前面
板と背面板とを離間状態で示す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing an example of a plasma display panel in which a front plate and a back plate are separated from each other.

【図2】リブの形状を説明するための断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view for explaining the shape of a rib.

【図3】リブの各部の寸法を定義するための説明図であ
る。
FIG. 3 is an explanatory diagram for defining dimensions of each part of a rib.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,2 ガラス基板 3 リブ 4 維持電極 5 バス電極 6 誘電体槽 7 保護槽 8 アドレス電極 9 誘電体槽 10 蛍光体層 1, 2 glass substrate 3 rib 4 sustain electrode 5 bus electrode 6 dielectric tank 7 protection tank 8 address electrode 9 dielectric tank 10 phosphor layer

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板上にリブ材料層を形成し、その上に
耐サンドブラスト用マスクをパターン状に形成した後、
そのマスクの上方から研削材を含む混合エアーを噴射す
ることによりリブ材料層の不要部分を除去し、次いで耐
サンドブラスト用マスクを除去してから、焼成工程を経
て所望パターンのリブを形成する工程を含むプラズマデ
ィスプレイパネルのリブ形成方法において、噴射直後の
混合エアー中の研削材の濃度を50〜200g/m3
設定したことを特徴とするプラズマディスプレイパネル
のリブ形成方法。
After a rib material layer is formed on a substrate and a sandblast resistant mask is formed thereon in a pattern,
Unnecessary portions of the rib material layer are removed by injecting mixed air containing abrasives from above the mask, and then the sandblast resistant mask is removed, and then a firing process is performed to form a rib having a desired pattern. A method of forming a rib for a plasma display panel, comprising: setting a concentration of an abrasive in mixed air immediately after injection to 50 to 200 g / m 3 .
【請求項2】 混合エアーの基板に対する衝突速度の最
大値を45〜70m/sの範囲に設定したことを特徴と
する請求項1に記載のプラズマディスプレイパネルのリ
ブ形成方法。
2. The method according to claim 1, wherein the maximum value of the collision velocity of the mixed air against the substrate is set in a range of 45 to 70 m / s.
【請求項3】 請求項1又は2に記載のリブ形成方法に
より形成されたリブであって、リブの底部幅、頂部幅、
最小リブ幅をそれぞれWB 、WT 、Wmin とした時に、
焼成前の形状が次の関係式(1)及び(2)を満たすこ
とを特徴とするプラズマディスプレイパネルのリブ。 0≦(WB −WT )≦40μm・・・・(1) 0≦(WT −Wmin )≦20μm・・・(2)
3. A rib formed by the rib forming method according to claim 1 or 2, wherein a bottom width, a top width, and a width of the rib are determined.
Minimum rib width, respectively W B, W T, when the W min,
A rib for a plasma display panel, wherein a shape before firing satisfies the following relational expressions (1) and (2). 0 ≦ (W B -W T) ≦ 40μm ···· (1) 0 ≦ (W T -W min) ≦ 20μm ··· (2)
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