JP3310407B2 - Method for forming barrier of plasma display panel - Google Patents
Method for forming barrier of plasma display panelInfo
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Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、プラズマディスプレイ
パネル(以下、PDPと記す)の製造工程に係わるもの
であり、詳しくはPDPの放電空間を構成する障壁の形
成方法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a process for manufacturing a plasma display panel (hereinafter, referred to as PDP), and more particularly to a method for forming a barrier constituting a discharge space of a PDP.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、PDPにおける障壁の形成方法と
しては、ガラス基板上にガラスペーストをスクリーン印
刷によりパターン状に重ねて印刷を行い、このペースト
を乾燥、焼成して所望の障壁を形成する方法が一般的で
あったが、この方法は工程が複雑であるとともに良好な
線幅精度が得られ難いことから、最近では、ガラス基板
上にガラスペーストを所定の厚さで塗布して乾燥させ、
その上に耐サンドブラスト性を有するマスクをパターン
状に形成してから、このサンドブラスト用マスクを介し
てサンドブラスト加工を行うことによりガラスペースト
を研削して所望パターンの障壁を形成する方法が提案さ
れている。2. Description of the Related Art Conventionally, as a method of forming a barrier in a PDP, a glass paste is superimposed on a glass substrate in a pattern by screen printing, and the paste is dried and fired to form a desired barrier. However, since this method is complicated and it is difficult to obtain good line width accuracy, recently, a glass paste is applied to a predetermined thickness on a glass substrate and dried,
A method has been proposed in which a mask having sand blast resistance is formed thereon in a pattern, and then the glass paste is ground by performing sand blasting through the sand blast mask to form a barrier of a desired pattern. .
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】上記したサンドブラス
ト加工法により障壁を形成する場合、研削力の弱い研磨
材を使用すると加工時間が長くなり、逆に研削力の強い
研磨材を用いると加工時間が短縮されはするものの、良
好な形状の障壁が得られなかったり、電極やガラスなど
の下部面に与えるダメージが大きくなるという問題点が
あった。このダメージを防止するために、下部面を保護
膜で覆うことも提案されてはいるが、工程が増えるとい
う問題点がある。When a barrier is formed by the above-mentioned sand blasting method, the processing time is prolonged when an abrasive material having a low grinding force is used, and conversely, when an abrasive material having a strong grinding force is used, the processing time becomes longer. Although shortened, there is a problem that a barrier having a good shape cannot be obtained, and damage to the lower surface such as an electrode and glass is increased. Although it has been proposed to cover the lower surface with a protective film in order to prevent this damage, there is a problem that the number of steps is increased.
【0004】本発明は、上記のような問題点に鑑みなさ
れたものであり、その目的とするところは、保護膜など
を使用せずともサンドブラスト加工時に下部面に対する
ダメージが少なくて済み、しかも短時間で形状の良好な
障壁を形成することのできるPDPの障壁形成方法を提
供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and has as its object to reduce the damage to the lower surface during sandblasting without using a protective film or the like, and to reduce the damage. It is an object of the present invention to provide a PDP barrier forming method capable of forming a well-shaped barrier in a short time.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明は、ガラス基板上に障壁用のガラスペース
ト層を形成し、その上にパターン状のサンドブラスト用
マスクを形成した後、該サンドブラスト用マスクを介し
てのサンドブラスト加工により障壁を形成するプラズマ
ディスプレイパネルの障壁形成方法において、強い研削
力で1次研削を行った後、これに引き続いて弱い研削力
で2次研削を行うことを特徴とする。In order to achieve the above object, the present invention provides a method for forming a barrier glass paste layer on a glass substrate and forming a patterned sandblast mask on the glass paste layer. In the method for forming a barrier of a plasma display panel in which a barrier is formed by sandblasting through the sandblasting mask, primary grinding is performed with a strong grinding force, and then secondary grinding is performed with a weak grinding force. It is characterized by.
【0006】ここで、研削力は研磨材の種類、例えば、
形状、大きさ、比重等の異なる粉体を使用することでそ
の強弱を変えることができる。或いは、サンドブラスト
加工時における噴射圧力、噴射量、噴射距離等の条件を
変えるようにしてもよい。Here, the grinding force depends on the type of the abrasive, for example,
The strength can be changed by using powders having different shapes, sizes, specific gravities and the like. Alternatively, conditions such as the injection pressure, the injection amount, and the injection distance during sandblasting may be changed.
【0007】[0007]
【作用】上述の構成からなる障壁形成方法では、1次研
削により途中の深さまで短時間でガラスペーストが研削
された後、2次研削により下部面の受けるダメージを少
なくして残りのガラスペーストの仕上げ研削が行われ
る。In the barrier forming method having the above-described structure, the glass paste is ground in a short time by the primary grinding to an intermediate depth, and the secondary grinding reduces the damage to the lower surface to reduce the remaining glass paste. Finish grinding is performed.
【0008】[0008]
【実施例】以下、図1及び図2を参照しながら本発明の
実施例を説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS.
【0009】まず、図1の(a)に示すように、電極1
を形成したガラス基板2の上に障壁用のガラスペースト
をブレードコーター或いはスクリーン印刷により膜厚1
50μmで塗布して乾燥させることでガラスペースト層
3を形成する。次いで、マスク材としてジアゾニウム塩
添加PVAを用い、(b)に示すように、ガラスペース
ト層3の上にその膜厚が10〜15μmとなるようスピ
ンナー、ローラーコーター、ブレードコーター等により
塗布し、室温で乾燥させてマスク層4を形成してから、
マスクパターン5を介して露光を行った。露光条件は、
365nmで測定した時に強度700μW/cm2 、照
射量400mJ/cm2 である。露光後、水に1〜2分
浸漬してからスプレー現像を行って、(c)に示す如く
ガラスペースト層3上にサンドブラスト用マスク6を形
成した。First, as shown in FIG.
A glass paste for a barrier is coated on a glass substrate 2 on which a film is formed by a blade coater or screen printing.
The glass paste layer 3 is formed by applying and drying at 50 μm. Next, using PVA with a diazonium salt as a mask material, as shown in (b), the glass paste layer 3 is coated with a spinner, a roller coater, a blade coater or the like so as to have a thickness of 10 to 15 μm. To form a mask layer 4 and then
Exposure was performed via the mask pattern 5. Exposure conditions are
When measured at 365 nm, the intensity is 700 μW / cm 2 and the irradiation dose is 400 mJ / cm 2 . After the exposure, the film was immersed in water for 1 to 2 minutes, and then spray-developed to form a sandblast mask 6 on the glass paste layer 3 as shown in FIG.
【0010】その後、乾燥工程を経てから、図2の
(d)に示すように、サンドブラスト用マスク6を介し
てサンドブラスト加工による1次研削を行ってガラスペ
ースト層3の不要部分を途中の深さまで除去した。この
1次研削では、研磨材として粉砕形状のアルミナ♯10
00を使用し、噴射圧力3kgf/cm2 、ノズルと基
板との距離185mm、スキャン速度30mm/sec
の条件でサンドブラスト加工を行った。引き続いて、
(e)に示すように、サンドブラスト加工による2次研
削を行ってガラスペースト層3の不要部分の残りを除去
した。この2次研削では、研磨材として球形のガラスビ
ーズを使用し、前記したのと同じ条件でサンドブラスト
加工を行った。次いで、マスク6を剥離剤により除去
し、(f)に示す如く基板1上にガラスペーストからな
る障壁7のパターンを得た後、焼成工程を経て障壁7を
基板に密着させた。これにより電極1の表面のダメージ
が極めて少なく、障壁7の下部のエッジライン形状が良
好となったパターンが得られた。Then, after a drying step, as shown in FIG. 2D, primary grinding by sandblasting is performed through a sandblasting mask 6 to reduce unnecessary portions of the glass paste layer 3 to an intermediate depth. Removed. In this primary grinding, pulverized alumina of 10% was used as an abrasive.
Using a jet pressure of 3 kgf / cm 2 , a distance between the nozzle and the substrate of 185 mm, and a scan speed of 30 mm / sec.
Sandblasting was performed under the following conditions. Subsequently,
As shown in (e), secondary grinding by sandblasting was performed to remove unnecessary portions of the glass paste layer 3. In this secondary grinding, spherical glass beads were used as an abrasive, and sandblasting was performed under the same conditions as described above. Next, the mask 6 was removed with a stripping agent, and a pattern of the barrier 7 made of a glass paste was obtained on the substrate 1 as shown in (f), and then the barrier 7 was brought into close contact with the substrate through a firing step. As a result, a pattern was obtained in which the damage on the surface of the electrode 1 was extremely small and the edge line shape under the barrier 7 was good.
【0011】なお、上記の実施例では電極を形成した基
板に障壁を形成する場合の例について説明したが、本発
明は電極を設けない基板に障壁を形成する場合について
も同様に適用できるものである。In the above embodiment, an example in which a barrier is formed on a substrate on which electrodes are formed has been described. However, the present invention can be similarly applied to a case in which a barrier is formed on a substrate on which electrodes are not provided. is there.
【0012】[0012]
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係るPD
Pの障壁形成方法は、ガラス基板上に障壁用のガラスペ
ースト層を形成し、その上にパターン状のサンドブラス
ト用マスクを形成した後、該サンドブラスト用マスクを
介してのサンドブラスト加工により障壁を形成するプラ
ズマディスプレイパネルの障壁形成方法において、強い
研削力で1次研削を行った後、これに続いて弱い研削力
で2次研削を行うようにしたので、1次研削により途中
の深さまで短時間でガラスペーストが研削された後、2
次研削により下部面の受けるダメージを少なくして残り
のガラスペーストの仕上げ研削が行われることから、サ
ンドブラスト加工時に下部面に対するダメージを減少さ
せることができ、しかも短時間で形状の良好な障壁を形
成することができる。また、電極等を覆う保護膜などを
使用する必要がないという利点もある。As described above, the PD according to the present invention is
In the barrier formation method of P, a glass paste layer for a barrier is formed on a glass substrate, a mask for sandblasting is formed on the glass paste layer, and then a barrier is formed by sandblasting through the mask for sandblasting. In the method for forming a barrier of a plasma display panel, the primary grinding is performed with a strong grinding force, and then the secondary grinding is performed with a weak grinding force. After the glass paste is ground, 2
Next grinding reduces the damage on the lower surface and finish grinding of the remaining glass paste reduces damage to the lower surface during sandblasting, and forms a well-shaped barrier in a short time can do. Another advantage is that it is not necessary to use a protective film or the like that covers the electrodes and the like.
【図1】本発明に係るプラズマディスプレイパネルの障
壁形成方法の実施例を示す前半の工程図である。FIG. 1 is a first half process diagram showing an embodiment of a method for forming a barrier of a plasma display panel according to the present invention.
【図2】図1に続く後半の工程図である。FIG. 2 is a process chart of the latter half following FIG. 1;
2 ガラス基板 3 ガラスペースト層 6 サンドブラスト用マスク 2 Glass substrate 3 Glass paste layer 6 Sand blast mask
Claims (1)
層を形成し、その上にパターン状のサンドブラスト用マ
スクを形成した後、該サンドブラスト用マスクを介して
のサンドブラスト加工により障壁を形成するプラズマデ
ィスプレイパネルの障壁形成方法において、強い研削力
で1次研削を行った後、これに引き続いて弱い研削力で
2次研削を行うことを特徴とするプラズマディスプレイ
パネルの障壁形成方法。1. A plasma display in which a glass paste layer for a barrier is formed on a glass substrate, a mask for sandblasting is formed on the glass paste layer, and a barrier is formed by sandblasting through the mask for sandblasting. A method for forming a barrier for a plasma display panel, comprising: performing primary grinding with a strong grinding force, followed by secondary grinding with a weak grinding force.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20696193A JP3310407B2 (en) | 1993-07-30 | 1993-07-30 | Method for forming barrier of plasma display panel |
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Publication Number | Publication Date |
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JPH0745192A JPH0745192A (en) | 1995-02-14 |
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KR100519913B1 (en) * | 2002-08-30 | 2005-10-10 | 주식회사 파티클로지 | Method for fabricaring a barrier rib of plasma display panel |
KR20050072915A (en) * | 2004-01-08 | 2005-07-13 | 엘지전자 주식회사 | Partition manufacturing method of plasma display panel |
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1993
- 1993-07-30 JP JP20696193A patent/JP3310407B2/en not_active Expired - Lifetime
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