JPH06314542A - Method for forming barrier of plasma display panel - Google Patents
Method for forming barrier of plasma display panelInfo
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- JPH06314542A JPH06314542A JP12483193A JP12483193A JPH06314542A JP H06314542 A JPH06314542 A JP H06314542A JP 12483193 A JP12483193 A JP 12483193A JP 12483193 A JP12483193 A JP 12483193A JP H06314542 A JPH06314542 A JP H06314542A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、プラズマディスプレイ
パネル（以下、ＰＤＰと記す）の製造工程に係わるもの
であり、詳しくはＰＤＰにおけるライン状障壁の形成方
法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a manufacturing process of a plasma display panel (hereinafter referred to as PDP), and more particularly to a method of forming a line barrier in a PDP.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来、ＰＤＰにおける障壁の形成方法と
しては、ガラス基板上にガラスペーストをスクリーン印
刷によりパターン状に重ねて印刷を行い、このペースト
を乾燥、焼成して所望の障壁を形成する方法が一般的で
あったが、この方法は工程が複雑であると共に良好な線
幅精度が得られ難いことから、最近では、ガラス基板上
にガラスペーストを所定の厚さで塗布して乾燥させ、そ
の上に耐サブトラクティブ性を有するマスク層をパター
ン状に形成してから、このサブトラクティブ用マスク層
を介してサンドブラストや液体ホーニングにより所望パ
ターンの障壁を形成する所謂サブトラクティブ加工法に
よる障壁の形成方法が提案されている。2. Description of the Related Art Conventionally, as a method of forming a barrier in a PDP, a glass paste is screen-printed on a glass substrate in a pattern form and printed, and the paste is dried and fired to form a desired barrier. Was common, but this method is complicated and difficult to obtain a good line width accuracy, recently, a glass paste is applied to a glass substrate at a predetermined thickness and dried, A mask layer having a subtractive resistance is formed thereon in a pattern, and then a barrier having a desired pattern is formed by sandblasting or liquid honing through the mask layer for subtractive, so-called a subtractive processing method for forming a barrier. A method has been proposed.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】上記したサブトラクテ
ィブ加工法によりライン状の障壁を形成する場合、通常
は図１の（ａ）に示すように、ガラス基板１上に障壁用
のガラスペースト２を塗布して乾燥させ、その上に一定
幅のサブトラクティブ用マスク層３を形成している。こ
の形状をしたマスク層３を介してサブトラクティブ加工
を行うと、マスク層３の両端を除く部分では両脇からし
かガラスペースト２が研削されないのに比べ、マスク層
３の両端では研削が進むため（ｂ）に示すように障壁２
ａの両端部分における形状が逆台形状となり、所望の障
壁パターンを得ようと更に研削を行うと徐々にライン両
端の障壁幅が細くなり、ついには（ｃ）に示すようにマ
スク層３の剥離が起こり、剥離した部分の障壁２ａは研
削が進むため所望パターンの障壁が得られないという問
題点があった。When a line-shaped barrier is formed by the subtractive processing method described above, a glass paste 2 for barrier is usually provided on a glass substrate 1 as shown in FIG. 1 (a). After coating and drying, a subtractive mask layer 3 having a constant width is formed thereon. When the subtractive processing is performed through the mask layer 3 having this shape, the glass paste 2 is ground only from both sides in the portion excluding both ends of the mask layer 3, whereas the grinding progresses at both ends of the mask layer 3. Barrier 2 as shown in (b)
The shape at both end portions of a becomes an inverted trapezoidal shape, and when further grinding is performed in order to obtain a desired barrier pattern, the barrier width at both ends of the line is gradually reduced, and finally the mask layer 3 is peeled off as shown in (c). Then, the barrier 2a in the peeled portion has a problem that a barrier having a desired pattern cannot be obtained because grinding progresses.
【０００４】本発明は、上記のような問題点に鑑みなさ
れたものであり、その目的とするところは、サブトラク
ティブ加工時にマスク層の剥離を起こすことなく所望パ
ターンの障壁が形成できるプラズマディスプレイパネル
の障壁形成方法を提供することにある。The present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is a plasma display panel in which a barrier having a desired pattern can be formed without causing peeling of a mask layer during subtractive processing. Another object of the present invention is to provide a method for forming a barrier.
【０００５】[0005]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明のプラズマディスプレイパネルの障壁形成方
法は、ガラス基板上に障壁用のガラスペーストを所定の
厚さで塗布して乾燥させ、その上にライン状のサブトラ
クティブ用マスク層を形成した後、該サブトラクティブ
用マスク層を介してのサブトラクティブ加工によりライ
ン状の障壁を形成するプラズマディスプレイパネルの障
壁形成方法において、前記サブトラクティブ用マスク層
における両端部分の幅を広くすることを特徴としてお
り、この場合のサブトラクティブ加工はサンドブラスト
を用いるものであっても液体ホーニングを用いるもので
あってもよい。In order to achieve the above object, the method for forming a barrier of a plasma display panel according to the present invention comprises applying a glass paste for a barrier to a glass substrate in a predetermined thickness and drying the paste. In the barrier forming method of a plasma display panel, a line-shaped subtractive mask layer is formed thereon, and then a line-shaped barrier is formed by subtractive processing through the subtractive mask layer. The mask layer is characterized in that the width of both end portions is widened, and the subtractive processing in this case may be either sandblasting or liquid honing.
【０００６】そして、上記サブトラクティブ用マスク層
はフォトレジストを用いてフォトリソ法により形成する
ことができる。The subtractive mask layer can be formed by a photolithography method using a photoresist.
【０００７】[0007]
【作用】上述の構成からなる障壁形成方法では、サブト
ラクティブ用マスク層がその両端の広い部分でガラスペ
ーストと密着しているため、サブトラクティブ加工時に
マスク層の両端部分の下側に位置するガラスペーストの
研削が進んでもそこから剥離が起こるのが防止される。In the method of forming a barrier having the above structure, since the subtractive mask layer is in close contact with the glass paste at the wide portions at both ends thereof, the glass positioned below the both end portions of the mask layer during the subtractive processing. Even if the paste is further ground, peeling from the paste is prevented.
【０００８】[0008]
【実施例】以下、図２及び図３を参照しながら本発明の
実施例を説明する。Embodiments of the present invention will be described below with reference to FIGS.
【０００９】まず、電極を形成したガラス基板１の上に
ブレードコーター或いはスクリーン印刷により膜厚１５
０μｍで障壁用のガラスペースト２を塗布して乾燥させ
る。次いでその上にジアゾニウム塩添加ＰＶＡをスピン
ナー、ローラーコーター等で膜厚１０〜１５μｍに塗布
し、室温で乾燥させた後、マスクパターンを介して露光
を行った。露光条件は、３６５ｎｍで測定した時に強度
７００μＷ／ｃｍ2 、照射量４００ｍＪ／ｃｍ2 であ
る。露光後、水に１〜２分浸漬してからスプレー現像を
行って、図２に示すように、ガラスペースト２上にサブ
トラクティブ用マスク層３を形成した。本実施例では、
マスク層３を３００μｍピッチ（ライン幅１００μｍ、
スペース幅２００μｍ）で設けるとともに、その両端の
幅を１６０μｍとして台形状に広くした。First, a film having a thickness of 15 is formed on the glass substrate 1 on which electrodes are formed by a blade coater or screen printing.
The glass paste 2 for barrier is applied with a thickness of 0 μm and dried. Then, PVA with a diazonium salt added thereto was applied to a film thickness of 10 to 15 μm by a spinner, a roller coater or the like, dried at room temperature, and then exposed through a mask pattern. The exposure conditions are an intensity of 700 μW / cm 2 and an irradiation dose of 400 mJ / cm 2 when measured at 365 nm. After the exposure, the film was immersed in water for 1 to 2 minutes and then spray-developed to form a subtractive mask layer 3 on the glass paste 2 as shown in FIG. In this embodiment,
The mask layer 3 has a pitch of 300 μm (line width 100 μm,
The space width is 200 μm) and the width of both ends is 160 μm, which is wide in a trapezoidal shape.
【００１０】その後、研磨材としてアルミナ♯１０００
を用い、噴射圧力３ｋｇｆ／ｃｍ2、ノズルと基板１の
距離１８５ｍｍ、スキャン速度３０ｍｍ／ｓｅｃの条件
でサンドブラストすることによりガラスペースト２の不
要部分を除去し、図３に示すようにマスク層３の下に障
壁２ａを残した。このサンドブラスト加工中においてマ
スク層３が剥離することなく、ガラスペースト２に密着
した状態でサンドブラスト加工が行えた。続いて、マス
ク層３を剥離材で除去し、これとは別に電極及び蛍光層
を形成した前面板と合わせてＰＤＰを作製し良好な結果
を得た。Thereafter, alumina # 1000 was used as an abrasive.
Using a spraying pressure of 3 kgf / cm 2 , a nozzle-substrate 1 distance of 185 mm, and a scan speed of 30 mm / sec to perform sandblasting to remove unnecessary portions of the glass paste 2 and remove the mask layer 3 from the mask layer 3 as shown in FIG. Barrier 2a was left underneath. During this sandblasting, the sandblasting could be performed in a state of being in close contact with the glass paste 2 without the mask layer 3 peeling off. Subsequently, the mask layer 3 was removed with a release material, and separately from this, a PDP was prepared together with a front plate on which electrodes and fluorescent layers were formed, and good results were obtained.
【００１１】なお、上記実施例では、サブトラクティブ
用マスク層３の両端を台形状に広くした例を挙げたが、
例えば図４に示すように湾曲状に広くしてもよく、要は
サブトラクティブ加工時に剥離を起こさないように広い
密着領域を持つ形状でありさえすれば任意の形状を採る
ことができる。In the above embodiment, both ends of the subtractive mask layer 3 are widened into a trapezoidal shape.
For example, as shown in FIG. 4, it may be wide in a curved shape, and any point can be adopted as long as it has a wide contact area so as not to cause peeling during subtractive processing.
【００１２】本発明において、サブトラクティブ用マス
ク層を形成する材料であるフォトレジストとしては、上
記実施例に挙げたものの他に、ＯＳＢＲと称されるネガ
型の液体レジストをはじめとして以下に述べる種々の感
光性樹脂を使用できる。In the present invention, as the photoresist which is the material for forming the subtractive mask layer, in addition to the photoresists mentioned in the above-mentioned examples, various negative photoresists called OSBR are described below. The photosensitive resin of can be used.
【００１３】例えば、水溶性樹脂マトリックス及び光重
合性多官能モノマーを主成分として含有する感光性樹脂
を使用することができる。この水溶性樹脂マトリックス
としては、ポリビニールアルコール−ポリ酢酸ビニル−
クロトン酸共重合体の部分ケン化物、ポリビニールアル
コール−ポリ酢酸ビニル−メタクリル酸、アルコール可
溶性ナイロンを用いることができ、一方、光重合性多官
能モノマーとしては、ペンタエリスリトールトリアクリ
レート、テトラアクリレート、メタアクリレートを用い
ることができる。そして、この種の感光性樹脂を使用し
た場合には、サブトラクティブ加工後、過ヨウ素酸ナト
リウム水溶液でマスク層を剥離するものである。For example, a photosensitive resin containing a water-soluble resin matrix and a photopolymerizable polyfunctional monomer as main components can be used. As the water-soluble resin matrix, polyvinyl alcohol-polyvinyl acetate-
Partially saponified crotonic acid copolymer, polyvinyl alcohol-polyvinyl acetate-methacrylic acid, alcohol-soluble nylon can be used, while as the photopolymerizable polyfunctional monomer, pentaerythritol triacrylate, tetraacrylate, meta Acrylate can be used. When a photosensitive resin of this type is used, the mask layer is peeled off with an aqueous sodium periodate solution after the subtractive processing.
【００１４】また、ポリビニールアルコール、ポリ酢酸
ビニルエマルジョン及びジアゾ樹脂を主成分として含有
する感光性樹脂、或いは、感光性ポリビニールアルコー
ル、ポリビニールアルコール及びポリ酢酸ビニルエマル
ジョンを主成分として含有する感光性樹脂を使用するこ
とができる。前者の場合、例えば、ポリビニールアルコ
ールを１０重量部、ポリ酢酸ビニルエマルジョンを固形
分５０％で２０〜６０重量部、ジアゾ樹脂を０．５〜
１．５重量部の割合で配合したものを用いるとよい。後
者の場合、感光性ポリビニールアルコールとしては、ポ
リアルコールの水酸基の一部にフォルミルスチリルピリ
ジニウム基（スチルバリゾリウム基）を有するものを用
いることができる。そして、これらの感光性樹脂を使用
した場合には、サブトラクティブ加工後、次亜塩素酸ソ
ーダ、過ハロゲン酸水溶液でマスク層を剥離するもので
ある。Further, a photosensitive resin containing polyvinyl alcohol, polyvinyl acetate emulsion and diazo resin as main components, or a photosensitive resin containing photosensitive polyvinyl alcohol, polyvinyl alcohol and polyvinyl acetate emulsion as main components. Resins can be used. In the case of the former, for example, 10 parts by weight of polyvinyl alcohol, 20 to 60 parts by weight of polyvinyl acetate emulsion with a solid content of 50%, and 0.5 to 50 parts of diazo resin are used.
It is preferable to use a mixture of 1.5 parts by weight. In the latter case, as the photosensitive polyvinyl alcohol, one having a formylstyrylpyridinium group (stilvalizolium group) in a part of the hydroxyl group of the polyalcohol can be used. When these photosensitive resins are used, the mask layer is peeled off with a sodium hypochlorite or perhalogen acid aqueous solution after the subtractive processing.
【００１５】また、ゼラチン、アクリルアミド誘導体及
びレドックス光重合開始剤を主成分として含有する感光
性樹脂を使用することができる。このアクリルアミド重
合体としては、アクリルアミド又はＮ，Ｎ’−メチレン
ビスアクリルアミドを用いることができ、レドックス光
重合開始剤としては、クエン酸鉄(III) アンモニウム又
はしゅう酸鉄(III) アンモニウムを用いることができ
る。そして、この感光性樹脂を使用した場合には、サブ
トラクティブ加工後、蛋白質分解酵素でマスク層を剥離
するものである。Further, a photosensitive resin containing gelatin, an acrylamide derivative and a redox photopolymerization initiator as main components can be used. As the acrylamide polymer, acrylamide or N, N'-methylenebisacrylamide can be used, and as the redox photopolymerization initiator, iron (III) ammonium citrate or iron (III) ammonium oxalate can be used. it can. When this photosensitive resin is used, the mask layer is removed with a proteolytic enzyme after the subtractive processing.
【００１６】[0016]
【発明の効果】以上説明したように、本発明は、ガラス
基板上に障壁用のガラスペーストを所定の厚さで塗布し
て乾燥させ、その上にライン状のサブトラクティブ用マ
スク層を形成した後、該サブトラクティブ用マスク層を
介してのサブトラクティブ加工によりライン状の障壁を
形成するプラズマディスプレイパネルの障壁形成方法に
おいて、前記サブトラクティブ用マスク層における両端
部分の幅を広くするようにしたので、サブトラクティブ
加工時にマスク層の両端部分の下側に位置するガラスペ
ーストの研削が進んでもそこから剥離を起こすことな
く、マスク層全体がガラスペーストに密着した状態を維
持してサブトラクティブ加工が行われることから、良好
なパターンの障壁を形成することができる。As described above, according to the present invention, a glass paste for a barrier is applied to a glass substrate in a predetermined thickness and dried, and a line-shaped subtractive mask layer is formed thereon. After that, in the barrier forming method of the plasma display panel in which the line-shaped barrier is formed by the subtractive processing through the subtractive mask layer, the width of both end portions of the subtractive mask layer is increased. , Even if the glass paste located under the both ends of the mask layer is ground during the subtractive processing, peeling does not occur from the ground and the entire mask layer is kept in close contact with the glass paste and the subtractive processing is performed. Therefore, a barrier having a good pattern can be formed.
【図１】サブトラクティブ加工による従来の障壁形成方
法を示す工程図である。FIG. 1 is a process drawing showing a conventional barrier formation method by subtractive processing.
【図２】サブトラクティブ用マスク層を形成した状態を
示す斜視図である。FIG. 2 is a perspective view showing a state in which a subtractive mask layer is formed.
【図３】サンドブラスト加工を施した状態を示す斜視図
である。FIG. 3 is a perspective view showing a state where sandblasting is performed.
【図４】別形状のサブトラクティブ用マスク層を形成し
た状態を示す斜視図である。FIG. 4 is a perspective view showing a state in which a subtractive mask layer having another shape is formed.
１ ガラス基板 ２ ガラスペースト ２ａ 障壁 ３ サブトラクティブ用マスク層 1 Glass Substrate 2 Glass Paste 2a Barrier 3 Subtractive Mask Layer
Claims (4)
を所定の厚さで塗布して乾燥させ、その上にライン状の
サブトラクティブ用マスク層を形成した後、該サブトラ
クティブ用マスク層を介してのサブトラクティブ加工に
よりライン状の障壁を形成するプラズマディスプレイパ
ネルの障壁形成方法において、前記サブトラクティブ用
マスク層における両端部分の幅を広くすることを特徴と
するプラズマディスプレイパネルの障壁形成方法。1. A glass paste for a barrier is applied on a glass substrate to a predetermined thickness and dried, and a linear subtractive mask layer is formed on the glass paste, and then the subtractive mask layer is interposed. A barrier forming method for a plasma display panel, wherein a line-shaped barrier is formed by subtractive processing, wherein the width of both end portions of the subtractive mask layer is widened.
を用いることを特徴とする請求項１記載のプラズマディ
スプレイパネルの障壁形成方法。2. The method for forming a barrier of a plasma display panel according to claim 1, wherein sandblasting is used for the subtractive processing.
を用いることを特徴とする請求項１記載のプラズマディ
スプレイパネルの障壁形成方法。3. The method for forming a barrier of a plasma display panel according to claim 1, wherein liquid honing is used for the subtractive processing.
材料としてフォトレジストを用いることを特徴とする請
求項１，２又は３記載のプラズマディスプレイパネルの
障壁形成方法。4. The method for forming a barrier of a plasma display panel according to claim 1, wherein a photoresist is used as a material for forming the subtractive mask layer.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12483193A JP3229708B2 (en) | 1993-04-30 | 1993-04-30 | Method for forming barrier of plasma display panel |
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|---|---|---|---|
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Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
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| JPH06314542A true JPH06314542A (en) | 1994-11-08 |
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|---|---|
| JP (1) | JP3229708B2 (en) |
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1993
- 1993-04-30 JP JP12483193A patent/JP3229708B2/en not_active Expired - Fee Related
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