JP2001201852A - 造影可能なコーティングを有する製品 - Google Patents

造影可能なコーティングを有する製品

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JP2001201852A
JP2001201852A JP2000353560A JP2000353560A JP2001201852A JP 2001201852 A JP2001201852 A JP 2001201852A JP 2000353560 A JP2000353560 A JP 2000353560A JP 2000353560 A JP2000353560 A JP 2000353560A JP 2001201852 A JP2001201852 A JP 2001201852A
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carboxylic acid
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acid derivative
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マイケル・イエーツ
Celin Savariar-Hauck
セリン・サヴァリアー−ハウク
Gerhard Hauck
ゲルハルト・ハウク
Hans-Joachim Timpe
ハンス−ヨアヒム・ティンペ
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Kodak Graphics Holding Inc
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 水性現像液中に溶解する加熱領域、及び上記
現像液中に不溶性のままである非加熱領域に関して、コ
ーティングが良好な現像性を示し続ける一方で、コーテ
ィングは特定の有機溶媒に対する抵抗性を改良されてい
るような、新規なシステムの改良の提供。 【解決手段】 セルロース性ポリマーのカルボン酸誘導
体、並びに６００−１４００ｍｍの波長範囲で入射光を
吸収しそれを熱に変換する化合物を含むフィルム形成組
成物であって、基板上のコーティングとして提供され、
画像形成のため加熱され、水性現像液にさらされた場
合、加熱された領域が水性現像液中に溶解し、加熱され
ておらず有機溶媒に抵抗性である領域が後に残るという
特性を有する組成物を提供すること。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば印刷回路の
ような石版印刷版または電気的部品を作製するための、
造影可能なコーティングを有する製品を造影する方法に
関する。
【０００２】
【従来の技術】一般的に使用されるタイプの石版印刷版
前駆体（この用語によって、露光及び現像前のコート化
印刷版を意味する）は、アルミニウム基板に適用された
放射線感受性コーティングを有する。ポジ型前駆体は、
適切な波長の放射線に画像形成のため露光された後、現
像液中で非露光領域より露光領域で可溶性となる放射線
感受性コーティングを有する。コーティングの残存した
画像部のみが、インキ受容性である。
【０００３】画像領域と非画像領域の間の差異は、露光
工程において生じ、そこでフィルムが良好な接触を確保
するために真空で印刷版前駆体に適用される。次いで印
刷版前駆体は、放射線供給源に露光される；従来これ
は、ＵＶ放射線供給源である。ポジ型印刷版前駆体が使
用される場合、印刷版前駆体中の画像に対応するフィル
ムの領域は、光が印刷版前駆体に達しないように不透明
であり、非画像領域に対応するフィルム上の領域は透明
で、コーティングへの光の透過を許容し、コーティング
はより可溶性となり、現像の際に除去される。
【０００４】印刷回路のような電気的部品の製造におい
て、放射線への露光及び現像の後、レジストパターン
が、例えば下部に存在する銅ホイルをエッチングするこ
とによって、下部に存在する電気的要素上にパターンを
形成するためのマスクとして使用される。高解像の要求
及びエッチング法に対する高い抵抗性の必要のため、ポ
ジ型システムは広く使用されている。特に、主にアルカ
リ可溶性ノボラック樹脂より成るアルカリ現像可能なポ
ジ型レジストが主として使用されている。
【０００５】その製造がレジストを使用する電気的部品
のタイプは、印刷配線板（ＰＷＢ）、レジスターのよう
な不活性な要素を含む厚型及び薄型フィルム回路、コン
デンサー及びインダクタンスコイル；マルチチップ装置
（ＭＤＣ）；並びに積算回路（ＩＣ）を含む。これらは
全て、印刷回路として分類される。
【０００６】造影可能な組成物はまた、マスクを形成す
るためにプラスチックフィルムに適用されてもよい。必
要なパターンが、マスク上に形成され、次いでそれは、
例えば印刷版または電気的部品前駆体上にパターンを形
成する後の加工工程におけるスクリーンとして使用され
る。
【０００７】数年に亘ってＵＶ放射線を使用するポジ型
システムの実際に全ての商業的な提供物において共通
に、アルカリ可溶性フェノール性樹脂及びナフトキノン
ジアジド（ＮＱＤ）誘導体を含む組成物が使用されてい
る。ＮＱＤ誘導体は、樹脂と混合して使用される単純な
ＮＱＤ化合物、または例えばＮＱＤスルホニルクロリド
での樹脂のエステル化によって、光活性化ＮＱＤ部分が
樹脂自体に化学的に結合されているＮＱＤ樹脂エステル
である。
【０００８】米国特許第3,802,855号は、ナフトキノン-
(1,2)-ジアジド-(2)-5-スルホン酸誘導体を含むＵＶ感
受性ポジ型印刷版を記載し、その印刷寿命は、ポリマー
性カルボン酸を含ませることによって改良されると言わ
れている。例示されるポリマー性カルボン酸は、セルソ
ースアセテート水素フタレート、コロホニウム含有樹
脂、スチレン−マレイン酸コポリマーを含むカルボキシ
ル基、オイルフリーアルキド樹脂、脂肪酸フリーフタレ
ート樹脂、及びポリ（ビニル水素フタレート）である。
米国特許第3,802,885号の実施例１は、ポリマー性カル
ボン酸、ノボラック樹脂、及び2,3,4-トリヒドロキシベ
ンゾフェノントリス-[ナフトキノン-(1,2)-ジアジド-
(2)-5-スルホナート]をそれぞれ含む数多くの組成物を
記載する。各上記組成物を、印刷版コーティングとして
試験し、２００，０００コピー以上の見積もり寿命
（「ランレングス」）を有することを見出した。ポリマ
ー性カルボン酸を含まない比較組成物は、２０回転後に
版表面への画像の微弱な接着のため達成できなかった。
【０００９】多くの印刷版のランレングスは、その現像
後に熱処理工程（「バーニング工程」）にかけられるこ
とによって顕著に増大できる。しかしながら、現像され
た版をバーニング工程にかけることは、常に望ましいま
たは実施可能であるわけではない。
【００１０】ＮＱＤ技術が制限されるにつれて、ＵＶ感
受性ポジ型コーティングの実行性に対する要求が増大し
ている。さらに、デジタル及びレーザー画像形成技術
は、コーティングに関して新たな要求を産み出してい
る。
【００１１】我々は、新たな要求に適合する、新規なポ
ジ型熱感受性システムを発明した。我々の新規なシステ
ム及び方法は、我々の特許出願WO 97/39894, WO 99/017
96,WO 99/01795, WO 99/08879, WO 99/21715, WO 99/21
725及びWO 99/11458の主題である。
【００１２】熱は、針のような加熱体を使用する伝導に
よって、または荷電粒子照射によって、または好ましく
は赤外線照射によって記載されたコーティングに輸送さ
れ、次いでコーティングは適切な赤外線吸収剤を含む。
【００１３】我々の新規なシステムは、非常に効率的で
あり、現像後のバーニング工程なしで印刷機にランレン
グスを与えるが、有機溶媒に対する抵抗性を改良するこ
とが望ましい。ポジ型印刷版コーティングはしばしば、
印刷室環境で使用される化学薬品に対して貧弱な抵抗性
しか有さない。例えば、初期印刷の後に印刷版から特定
のインキを拭き取るために使用される溶媒は、残存コー
ティングを分解し、再作動及びさらなる使用を不可能に
するかもしれない。特定のインキ及び湿し水は、コーテ
ィングを攻撃する有機溶媒を含むであろう。これらの欠
点は、ノボラック樹脂を含むコーティングで特に顕著で
ある。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】有機溶媒に対する改良
された抵抗性を有する熱感受性コーティング、特に印刷
工程及び印刷回路板の製造で使用されるものを提供する
ことが、本発明の実施態様の目的である。
【００１５】
【課題を解決するための手段】我々は、水性現像液中に
溶解する加熱領域、及び上記現像液中に不溶性のままで
ある非加熱領域に関して、コーティングが良好な現像性
を示し続ける一方で、コーティングは特定の有機溶媒に
対する抵抗性を改良されているような、上述の新規なシ
ステムの改良を提供する方法を発明した。
【００１６】我々は、一般的にポリマー性カルボン酸
が、この改良を達成するために有効であることを見出さ
なかった。しかしながら驚くべきことに、我々は、一つ
の特定のクラスのポリマー性カルボン酸が有効であるこ
とを見出した。
【００１７】本発明の第一の特徴点に従って、セルロー
ス性ポリマーのカルボン酸誘導体、及び６００−１４０
０ｎｍの波長範囲で入射光を吸収し、それを熱に変換す
る化合物を含むフィルム形成組成物が提供され、該組成
物は、基板上の固体のコーティングとして提供された場
合、造影可能なように加熱された領域が、水性現像液中
に選択的に溶解し、加熱されていない領域が後に残存す
るという特性を有する。
【００１８】適切なことに、上記残存する非加熱領域
は、有機溶媒に対する良好な抵抗性を有する。好ましく
は残存する非加熱領域は、同様な方法で処理された、セ
ルロース性ポリマーのカルボン酸誘導体を含まない、該
当するコーティングの残存する非加熱領域よりも、有機
溶媒に対して抵抗性である。
【００１９】該組成物は、溶媒を含む液体組成物、また
は例えば基板上のコーティングといった固体組成物であ
り、上記組成物は、液体組成物からの溶媒の蒸発によっ
て形成される。
【００２０】本明細書において、構成成分の重量パーセ
ンテージは、固体組成物を参考として表される。
【００２１】セルロース性ポリマーのカルボン酸誘導体
の存在は、例えば石油エーテル、アルカンジオール、例
えばヘキサジオール、他のグリコール、グリコールエー
テル、直鎖アルカノール、例えばエタノール、分枝アル
カノール、例えばイソプロパノール及び1-メトキシプロ
パン-2-オール、シクロアルカノール、例えばシクロヘ
キサノール、及びベータ−ケトアルカノール、例えばジ
アセトンアルコール（即ち4-ヒドロキシ-4-メチル-2-ペ
ンタノン）といった特定の有機溶媒に対する改良された
抵抗性を組成物に与えると解される。我々がここで組成
物またはコーティングに関して有機溶媒に対して抵抗性
であるという場合、我々は、これらのクラスの少なくと
も一つ（即ち石油エーテル；グリコール及びグリコール
エーテル；並びにアルカノール）の有機溶媒、より好ま
しくはこれらの少なくとも二つの有機溶媒、最も好まし
くはこれらの全ての３種類の有機溶媒に対して好ましく
は抵抗性である組成物またはコーティングを指す。
【００２２】該組成物は、セルロース性ポリマーのカル
ボン酸誘導体を一つの樹脂構成成分として有する、樹脂
ブレンドを含んでもよい。
【００２３】
【発明の実施の形態】適切には、セルロース性ポリマー
のカルボン酸誘導体は、組成物の重量の、少なくとも
０．２５％、好ましくは少なくとも０．５％、より好ま
しくは少なくとも１％、さらにより好ましくは少なくと
も２％、最も好ましくは少なくとも５％、とりわけ少な
くとも８％を占める。
【００２４】適切には、セルロース性ポリマーのカルボ
ン酸誘導体は、組成物の重量の、５０％まで、好ましく
は３０％まで、より好ましくは２０％まで、さらにより
好ましくは１６％まで、最も好ましくは１２％までを占
める。
【００２５】好ましくは、セルロース性ポリマーのカル
ボン酸誘導体の酸の数は、少なくとも５０，より好まし
くは少なくとも８０，最も好ましくは少なくとも１００
である。
【００２６】好ましくは、セルロース性ポリマーのカル
ボン酸誘導体の酸の数は、２１０を越えない、好ましく
は１８０を越えない。
【００２７】「酸の数」は、１グラムの酸性化合物を中
和するのに必要とされる水酸化カリウムのミリグラム数
である。
【００２８】上記セルロース性ポリマーのカルボン酸誘
導体は、セルロースアルカノエート、特にセルロースア
セテートのカルボン酸誘導体であり得る。
【００２９】上記セルロース性ポリマーのカルボン酸誘
導体は、セルロース性ポリマーと、カルボン酸、特にそ
の酸無水物との反応生成物であってもよい。カルボン酸
及び酸無水物は、以下の式によって定義され得る：
【化１】 [式中、Ｙは以下の式が適切である： −（ＣＲ1Ｒ2）n−または−ＣＲ5＝ＣＲ6− 式中、ｎは１から６の整数を表し、Ｒ1は独立に水素原
子またはアルキル基を表し（ｎが１より大きい場合、Ｒ
1基は互いに同一である必要はない）、Ｒ2は水素原子ま
たはアルキル基を表し（ｎが１より大きい場合、Ｒ2基
は互いに同一である必要はない）、Ｒ5は水素原子また
はアルキル基を表し、Ｒ6は水素原子またはアルキル基
を表し、またはＲ5及びＲ6は、−ＣＲ5＝ＣＲ6−基が任
意にアリールまたはヘテロアリール基で置換されるよう
な鎖を表す]。
【００３０】いずれかのアルキル基は、適切にＣ1-6ア
ルキル基、好ましくはＣ1-4アルキル基、最も好ましく
はメチル基である。
【００３１】任意に置換されたアリール基は、任意に置
換されたナフチル、または好ましくは任意に置換された
フェニル基であってもよい（関連する無水物はフタル酸
無水物であるように）。
【００３２】任意に置換されたヘテロアリールは、適切
に１以上、好ましくは１または２が酸素、硫黄または窒
素から選択されるヘテロ原子である、５または６員環原
子を含んでもよい。好ましいヘテロアリール基は、１の
酸素原子、または１の硫黄原子、または１若しくは２の
窒素原子を有する。
【００３３】アリールまたはヘテロアリール基の任意に
置換基は、ハロゲン原子、Ｃ1-4ハロアルキル、シア
ノ、Ｃ1-4アルコキシ、及びカルボン酸基から適宜に選
択され得る。適宜に１−３の置換基が存在するが、好ま
しいアリールまたはヘテロアリール基は置換されていな
い。
【００３４】最も好ましいＹは、以下の基から選択され
る：
【化２】 [式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5及びＲ6のそれぞれは
独立に、水素原子またはアルキル基を表す]。
【００３５】特に好ましいセルロース性ポリマーのカル
ボン酸誘導体は、ＣＡＰ（セルロースアセテートフタレ
ート）、ＣＡＨＰ（セルロースアセテート水素フタレー
ト−CAS No 9004-38-0）及びＣＡＴ（セルロースアセテ
ートトリメリテート−CAS No52907-01-4）の名称の下で
商業的に入手可能な物質である。セルロースアセテート
プロピオネート(CAS No 9004-39-1)及びセルロースアセ
テートブチレート(CAS No 9004-36-8)もまた商業的に入
手可能であり、有用であり得る。
【００３６】本発明において、セルロース性ポリマー
は、カルボン酸官能性を有するが、例えばヒドロキシル
基若しくはアルコキシ基、またはアミド官能性を含む基
といったさらなる官能基を有してもよいという必要性が
ある。
【００３７】好ましくは該組成物は、さらなる樹脂構成
成分として、ヒドロキシル基を有するポリマーを含む。
好ましくはさらなる樹脂構成成分、またはさらなる樹脂
構成成分全体は、上記セルロース性ポリマーのカルボン
酸誘導体、または上記セルロース性ポリマーのカルボン
酸誘導体全体より、大きい重量で存在する。好ましくは
該組成物は、該組成物の全重量に基づく重量として、少
なくとも４０％以上、より好ましくは少なくとも５０
％、さらにより好ましくは少なくとも７０％、最も好ま
しくは少なくとも８０％の上記さらなる樹脂構成成分、
または上記さらなる樹脂構成成分全体を含む。
【００３８】本発明における特に有用なフェノール性樹
脂は、適切なフェノール、例えばフェノール自体、Ｃ−
アルキル置換フェノール（クレゾール、キシレノール、
p-tert-ブチル-フェノール、p-フェニルフェノール、及
びノニルフェノール）、ジフェノール、例えばビスフェ
ノール−Ａ（2,2-ビス(4-ヒドロキシフェニル)プロパ
ン）と、適切なアルデヒド、例えばホルムアルデヒド、
クロラール、アセトアルデヒド及びフルフラールデヒド
及び／またはケトン、例えばアセトンとの間の縮合反応
生成物である。縮合のための調製経路に依存して、各種
の構造及び特性を有するフェノール物質の範囲が形成で
きる。本発明において特に有用なものは、ノボラック樹
脂、レゾール樹脂、及びノボラック／レゾール樹脂混合
物である。最も好ましくは、ノボラック樹脂である。触
媒のタイプ及びフェノール樹脂の調製において使用され
る反応物のモル比は、その分子構造を決定し、それ故樹
脂の物性を決定する。０．５：１から１．１の間、好ま
しくは０．５：１から０．８：１のアルデヒド：フェノ
ールの比、並びに酸性触媒が、ノボラック樹脂を調製す
るために使用される。
【００３９】適切なノボラック樹脂の例として、以下の
一般式を有するものが挙げられる：
【化３】
【００４０】該組成物、特にフェノール性樹脂、好まし
くはノボラック樹脂とセルロース性ポリマーのカルボン
酸誘導体との混合物中に含まれるのに適した他のポリマ
ーは、以下のものが含まれる：スチレンのポリマー若し
くはコポリマー、ヒドロキシスチレン、特に4-ヒドロキ
シスチレンまたは3-メチル-4-ヒドロキシスチレンのポ
リマー若しくはコポリマー、アルコキシスチレン、特に
4-メトキシスチレンのポリマー若しくはコポリマー、ア
クリル酸のポリマー若しくはコポリマー、メタクリル酸
のポリマー若しくはコポリマー、アクリロニトリルのポ
リマー若しくはコポリマー、アクリルアミドのポリマー
若しくはコポリマー、ビニルアルコールのポリマー若し
くはコポリマー、アクリレートポリマー若しくはコポリ
マー、メタクリルアミドのポリマー若しくはコポリマ
ー、スルホンアミド若しくはイミドポリマー若しくはコ
ポリマー、マレイミド若しくはアルキルマレイミド若し
くはジアルキルマレイミドのポリマー若しくはコポリマ
ー、マレイン酸無水物（部分的加水分解形態を含む）の
ポリマー若しくはコポリマー、ヒドロキシセルロース若
しくはカルボキシセルロース。
【００４１】非常の多くの化合物、またはその組み合わ
せが、本発明の好ましい実施態様における放射線吸収化
合物として利用できる。
【００４２】放射線吸収化合物は、有用には黒色体若し
くは広いバンドの吸収体である顔料であり得る。それ
は、カーボンブラックまたはグラファイトのようなカー
ボンであり得る。それは、BASFによって提供されるHeli
ogen Green、またはNH Laboratoriesによって提供され
るNigrosine Base NG1、またはAldrichによって提供さ
れるMilori Blue (C.I. Pigment Blue 27)のような、商
業的に入手可能な顔料であり得る。
【００４３】放射線吸収化合物は、画像形成に対して選
択される放射線を吸収し、それを熱に変換できる赤外線
吸収色素が有用であり得る。
【００４４】好ましい赤外線吸収化合物は、その吸収ス
ペクトルが本発明の方法において使用される（好ましい
実施態様において）レーザーの波長アウトプットで顕著
であるものである。有用には、それはフタロシアニン顔
料のような有機顔料または色素であり得る。またはそれ
は、スクアリリウム、メロシアニン、シアニン、インド
リジン、ピリリウム、若しくは金属ジチオリンクラスの
色素若しくは顔料であり得る。
【００４５】適切には、放射線吸収化合物は、存在する
場合、コーティングの全重量の少なくとも０．２５％、
好ましくは少なくとも０．５％、より好ましくは少なく
とも１％、最も好ましくは少なくとも２％を構成する。
適切には、放射線吸収化合物は、存在する場合、コーテ
ィングの全重量の２５％まで、好ましくは２０％まで、
最も好ましくは１５％までを構成する。一つより多い放
射線吸収化合物が存在してもよい。上記化合物の割合に
対するここでの参照は、その全含有量である。
【００４６】組成物は、一つ以上の不溶化剤を含んでも
よく、該不溶化剤は、基板上のコーティングとして提供
された場合、コーティングの非加熱領域が、不溶化剤を
含まない対応する組成物と比較して、水性現像液中での
可溶性に劣るという特性を組成物に与える。
【００４７】上記不溶化剤は、組成物のポリマーに共有
結合してもよく、またはそれに共有結合しない化合物で
もよい。上記不溶化剤は、以下のものから選択できる： − WO 99/01795に記載された官能基。 − WO 99/01796に記載されたジアジド部分（特にキノ
ンジアジド部分）である 分離した可逆的不溶化剤化合物。 − WO 97/39894, WO 99/08879, WO 99/11458, WO 99/2
1715及びWO 99/21725に記載された、ジアジド部分では
ない分離した可逆的不溶化剤化合物。記載された例は、
窒素含有化合物を含み、そこで少なくとも一つの窒素原
子が、第四級化されているか、若しくは複素環に取り込
まれている；または第四級化されており、複素環に取り
込まれている。有用な第四級化窒素含有化合物の例は、
Victoria Blue (CI Basic Blue 7)、Crystal Violet (G
entian Violet, CI Basic Violet 3)、及びEthyl Viole
t (CI Basic Violet 4)のような、カチオン性トリアリ
ールメタン色素である。WO 97/39894は、この技術の石
版印刷の応用を記載し、WO 99/08879は、この技術の電
気的部品の応用を記載する。WO 99/21715は、組成物を
有する製品の製造の一部として実施される加熱処理の使
用によってもたらされるこの技術の改良を記載する。WO
99/21725は、特定の現像液抵抗性補助物、特にシロキ
サン化合物の使用によってもたらされるこの技術に対す
る改良を記載する。
【００４８】本発明の特定の有用な組成物は、基板上の
コーティングとして提供された場合、水性現像液中のコ
ーティングの可溶性が、環境の紫外線放射によって実質
的に増大しないという特性を有する。
【００４９】本発明の特定の好ましい組成物は、ジアジ
ド部分、特にキノンジアジド部分を含まない。
【００５０】本発明が熱画像形成に適用する特定の組成
物に関して、現像液中での溶解性が一過的に増大するコ
ーティングの領域を生産すると解される。一定時間後、
上記領域は、初期の溶解性の非造影化レベルに部分的ま
たは全体的に戻るであろう。かくして、上記好ましいコ
ーティングの機能の態様は、修飾手段の熱誘導性溶解を
必要としないが、とりわけリフォーム可能な物理化学的
錯体の崩壊を必要とする。結果として上記実施態様にお
いて、前駆体は、画像形成のための加熱にさらす期間が
２０時間以下、好ましくは約１２０分以内、最も好まし
くは５分以内で現像液と接触される。
【００５１】かくして本発明の特に好ましい組成物は、
赤外線放射を熱に変換する赤外線吸収化合物、及びWO 9
7/39894またはWO 99/08879に記載された上記分離した可
逆的不溶化剤化合物；または赤外線放射を熱に変換し、
可逆的不溶化剤化合物としても機能する赤外線吸収化合
物；例えば上記特徴の両者を有するシアニン色素を有す
る。
【００５２】適切には、可逆的不溶化剤化合物は、存在
する場合（放射線吸収化合物として機能するかどうかに
関わらず）、組成物の全重量の少なくとも０．２５％、
好ましくは少なくとも０．５％、より好ましくは少なく
とも１％、最も好ましくは少なくとも２％、好ましくは
１５％まで、より好ましくは２５％までを構成する。上
記化合物の割合に対するここでの参照は、その全含有量
である。
【００５３】適切には、組成物は、好ましくは組成物の
１−１０重量％を構成する、WO 99/21725に定義された
現像液抵抗性手段、適切にはシロキサンを含む。好まし
いシロキサンは、一つ以上の任意に置換されたアルキル
またはフェニル基によって置換され、最も好ましくはフ
ェニルアルキルシロキサン及びジアルキルシロキサンで
ある。好ましいシロキサンは、１０から１００の間の−
Ｓｉ（Ｒ1）（Ｒ2）Ｏ−繰り返し単位を有する。シロキ
サンは、エチレンオキシド及び／またはプロピレンオキ
シドで共重合されていてもよい。好ましいシロキサンに
関するさらなる情報として、WO 99/21725中の定義が挙
げられ得る。
【００５４】本発明の組成物は、多くのポジ型コーティ
ングに存在するような、安定化添加剤、不活性着色剤、
及びさらなる不活性ポリマー性バインダーといった他の
成分を含んでもよい。
【００５５】本発明の第二の特徴点に従って、上述の組
成物を含む、基板上のコーティングを有するポジ型石版
印刷版前駆体または電気的部品前駆体が提供される。
【００５６】コーティングは、所望のコーティングを形
成するために、溶媒が蒸発によって除去された、組成物
の液体形態から生産されてもよい。
【００５７】基板上のコーティングの提供の後、生じた
前駆体は、その製造の一部として安定化加熱処理工程に
かけてもよい。我々は、少なくとも４０℃、好ましくは
少なくとも４５℃、最も好ましくは少なくとも５０℃の
温度で加熱処理を実施することを好む。上限として、我
々は、９０℃を超えない、好ましくは８５℃を越えな
い、最も好ましくは６０℃を超えない温度を使用するこ
とを好む。一般的に、最大の温度が組成物のガラス転移
温度（Ｔｇ）（１０℃／分の加熱速度で微分スキャニン
グカロリーメーター（ＤＳＣ）によって測定される）を
越えない加熱温度が好ましい。上記熱処理は、前駆体の
スタックまたは前駆体コイルに対して適切には実施さ
れ、それが効果的である。
【００５８】我々は、少なくとも４時間、好ましくは少
なくとも２４時間、最も好ましくは少なくとも４８時間
の熱処理を実施することを好む。
【００５９】好ましくは上記熱処理は、例えば水不透過
性物質中に前駆体（または好ましくはそのスタック若し
くはコイル）を包むことによって、及び／または湿度コ
ントロールを使用することによって、前駆体から水分の
除去を阻害する条件下で行う。上記熱処理に関するさら
なる情報として、WO 99/21715が参照できる。
【００６０】コーティングは、機械的特性を改良するた
めにポリマー性粒子を含んでもよい。適切にはポリマー
性粒子は、コーティングの少なくとも０．２５重量％、
好ましくは少なくとも０．５重量％、より好ましくは少
なくとも１重量％、さらにより好ましくは少なくとも２
重量％、最も好ましくは少なくとも５重量％、とりわけ
少なくとも７重量％を構成する。
【００６１】適切にはポリマー性粒子は、コーティング
の５０％まで、好ましくは４０％まで、より好ましくは
３０％まで、さらにより好ましくは２５％まで、最も好
ましくは２０％まで、とりわけ１４％までを構成する。
【００６２】本明細書において、重量パーセンテージ
は、有機溶媒を含まない固体のコーティングに対して表
される。
【００６３】好ましくはポリマー性粒子の平均径は、走
査型電子顕微鏡及びスケールを使用した操作によって実
際に測定して、０．５−１５マイクロメーター、好まし
くは１−１０マイクロメーター、とりわけ３−７マイク
ロメーターの範囲である。好ましくは、かくして測定さ
れたポリマー性粒子の平均径は、コーティングの平均的
な厚さよりも大きい。本発明がどのように作用するかに
ついて如何なる理論にも結びつけられないが、粒子の存
在が、ストレス緩和効果を有し、及び／またはクラック
終結を容易にする；及び／またはそれらは表面から突き
出て、目的物に接触する部分であり、かくして目的物と
の接触からコーティングの残存を保護するものと我々は
解する。
【００６４】粒子とマトリックス材料との間の界面での
表面の膨張が重要な因子であるとも解される。
【００６５】本発明における使用のための好ましい粒子
は、コーティング内に均一に分散し、比較的低い臨界表
面膨張（γc）を有するものである。臨界表面膨張
（γc）は、Principles of Polymer Science, 第３版,
Ferdinand Rodriguez, ISBN 0891161767, 第367-370頁
で議論されている。ここで与えられた数字は、２０℃で
ここに記載された標準試験によって測定される。
【００６６】好ましくは粒子は、５０ｍｉｌｌｉ−Ｎｍ
-1より小さい、好ましくは４０より小さい、より好まし
くは３５より小さい、とりわけ２５より小さいγc値を
有する材料より成る。全ての中で最も好ましいものは、
２０より小さいγc値である。
【００６７】好ましくはポリマー性粒子は、任意に置換
されたポリオレフィン、ポリアミド、及びポリアクリル
酸粒子から選択される。より好ましくはそれらは、ポリ
オレフィン、及びハロゲン化、特にフッ素化ポリオレフ
ィンから選択される。ポリエチレン及びポリテトラフル
オロエチレン粒子（γc値は典型的にそれぞれ約３１ｍ
ｉｌｌｉ−Ｎｍ-1及び約１８．５である）が特に好まし
い。
【００６８】本発明の第三の特徴点に従って、ここに定
義される本発明の前駆体を製造する方法が適用される。
該方法は、ここに定義される安定化熱処理工程を含む。
【００６９】基板は、金属層を含んでもよい。好ましい
金属は、アルミニウム、亜鉛、銅、及びチタンを含む。
【００７０】印刷版前駆体として企図される本発明の実
施態様における基板は、非インキ受容性であるように整
列されてもよい。上記基板は、湿し水を使用する従来の
石版印刷において使用するための親水性表面を有しても
よく、またはウォーターレス印刷において使用するため
に適したインキ防止表面を有してもよい。
【００７１】印刷応用のために、基板はアルミニウムで
あってもよく、それは放射線感受性組成物をそこにコー
ト可能なように、およびその表面を印刷背景として機能
させ得るように、石版分野で周知の通常の砂目立て、陽
極処理及び陽極後処理を受けている。石版の分野で本発
明において使用できる別の基板は、写真産業で使用され
ているプラスチック材料ベースまたは処理化ペーパーベ
ースである。特に有用なプラスチック材料ベースは、そ
の表面を親水性にするように下塗りされているポリエチ
レンテレフタレートである。コロナ放電処理されている
コート化ペーパーとも称されるものも使用できる。
【００７２】好ましい印刷版は、親水性表面及びオレフ
ィン性インキ受容コーティングを有する基板である。
【００７３】電気的部品の応用のために、基板は、銅シ
ート、例えば銅／プラスチックラミネートを含んでもよ
い。画像形成及び現像の後、エッチング剤が、例えば印
刷回路に残っている露光金属領域を除去するために使用
され得る。
【００７４】特定のマスク応用のため、基板はプラスチ
ックフィルムでもよい。
【００７５】かくして好ましい実施態様として、ポジ型
パターンは、本発明の方法によってなされたパターン形
成露光及び前駆体の現像の後に得ら得る。パターン形成
露光の間に加熱を受けた後のコーティングの現像溶解性
は、対応する非露光コーティングの可溶性より大きい。
好ましい実施態様として、この溶解性の差異は、さらな
る構成成分によって、及び／またはここに記載され、か
つ参照されている我々の早期の特許出願に記載された樹
脂修飾によって増大される。好ましくは上記処理は、パ
ターン形成露光前にポリマー性組成物の溶解性を減少す
る。後のパターン形成露光に際して、コーティングの露
光領域は、非露光領域よりも現像液中に溶解性となる。
それ故パターン形成露光に際して、非露光コーティング
と露光コーティングの溶解性の差異の変化が存在する。
かくして露光領域において、コーティングはパターンを
形成するように溶解する。
【００７６】本発明の方法によって生産されたコート化
前駆体は、記録材料と接触されるように配置された元の
画像の背景の領域から透過されるまたは反射される高強
度の放射線の短い継続時間にさらすことによって、間接
的に加熱されるパターン形成で使用されてもよい。
【００７７】現像液は、コーティングの性質に依存する
が、好ましくは水性現像液である。水性現像液の一般的
な構成成分は、界面活性剤、エチレンジアミンテトラ酢
酸の塩のようなキレート剤、ベンジルアルコール及びフ
ェノキシエタノールのような有機溶媒、リン酸塩、及び
無機メタシリケート、水酸化物、及び二カルボン酸塩の
ようなアルカリ構成成分、並びに上述の混合物である。
【００７８】適切には本発明のフィルム形成組成物は、
アルカリ現像液に本来的に可溶性である。適切には、そ
れは一つ以上の不溶化剤によってアルカリ現像液中に不
溶性となり得る。好ましくはコーティングとして提供さ
れる使用において、それは水のような中性液体中よりも
アルカリ現像液中で溶解性である。特定の有用なコーテ
ィングは、水のような中性液体中で実質的に不溶性であ
る。
【００７９】好ましくは水性現像液は、一つ以上の無機
若しくは有機メタシリケートを含むアルカリ現像液であ
る。
【００８０】本明細書において、コーティングが現像液
溶解性であると述べる場合、それは実践的な現像工程に
おいて有用な程度に、選択された現像液中に溶解性であ
ることを意味する。コーティングが現像液不溶性である
と述べる場合、それは実践的な現像工程において有用な
程度に、選択された現像液中に可溶性ではないことを意
味する。
【００８１】本発明の第四の特徴点に従って、ここに定
義される本発明のポジ型前駆体から、印刷版、マスク、
または電気的部品を調製する方法が提供され、該方法は
以下の工程を含む： （ｉ）コーティングを加熱して画像形成する工程；及び （ｉｉ）現像液を使用してコーティングの加熱領域を除
去する工程。
【００８２】選択された領域の加熱は、赤外線電磁放射
線の使用によって、上述の放射線吸収化合物を好ましく
は含むコーティング、または別個の層として提供された
放射線吸収化合物に好ましくは影響する。別法として荷
電粒子放射線が、熱を運搬するために使用できる。別法
として熱は、コーティングにまたは基板の逆の表面に適
用される加熱体によって直接運搬できる。この場合、放
射線吸収化合物は必要ではない。
【００８３】好ましい方法として、露光に使用される電
磁放射線は、少なくとも６５０ｎｍ、好ましくは少なく
とも７００ｎｍ、より好ましくは少なくとも７５０ｎｍ
の波長を有する。最も好ましくはそれは少なくとも８０
０ｎｍである。適切には放射線は、１３５０ｎｍ未満
の、好ましくは１３００ｎｍ未満の、より好ましくは１
２００ｎｍ未満の、最も好ましくは１１５０ｎｍ未満の
波長を有する。
【００８４】放射線は、デジタル制御の下でレーザーに
よって輸送できる。本発明の方法のために適したコーテ
ィングを露光するために使用できるレーザーの例とし
て、６００ｎｍから１４００ｎｍの間、とりわけ７００
ｎｍから１２００ｎｍの間で放出するセミコンダクター
ダイオードレーザーが含まれる。一つの例は、１０６４
ｎｍで放射するNd YAGレーザーであり、別の例は、８３
０ｎｍで放射するCreo Trendsetter熱画像セッターで使
用されるダイオードレーザーであるが、十分な画像形成
力を有し、その放射線が熱を生ずるようにコーティング
に吸収されるいずれかのレーザーが使用できる。
【００８５】本発明の第五の特徴点に従って、第四の特
徴点の方法によって生産された、コーティング上にパタ
ーンを有する製品が提供される。該製品は、マスクまた
は電気的部品であり得るが、好ましくは印刷のために準
備された印刷版である。もし所望であれば、上記印刷版
は、さらなるランレングスの増大のため、化学的現像の
後にバーニング工程を受けてもよいが、これはほとんど
の印刷応用について必要ではない。
【００８６】本発明の第六の特徴点として、基板上にコ
ーティングを有する熱造影可能な印刷版前駆体、若しく
は電気的部品前駆体、若しくはマスク前駆体が提供さ
れ、該コーティングは、セルロース性ポリマーのカルボ
ン酸誘導体、及び６００−１４００ｎｍの波長範囲で入
射光を吸収し、それを熱に変換する化合物を含み、該組
成物は、基板上のコーティングとして提供され、画像形
成加熱され水性現像液にかけられた場合、加熱された領
域が、水性現像液中に溶解し、加熱されていない領域が
後に残存する；ここでコーティングは、セルロース性ポ
リマーのカルボン酸誘導体を含まない（つまり、セルロ
ース性ポリマーのカルボン酸誘導体によって構成されて
いる重量割合が、コーティングの他のポリマー性物質に
よって代わりに構成されている）対応するコーティング
と比較して、改良された化学的抵抗性を有する。
【００８７】本発明の第七の特徴点に従って、印刷版前
駆体、若しくは電気的部品前駆体、若しくはマスク前駆
体に提供された熱造影可能なコーティングの化学的抵抗
性を改良する方法が提供され、該方法は、前駆体の製造
の間に、コーティングを提供する組成物中へのセルロー
ス性ポリマーのカルボン酸誘導体の取り込みを含み、こ
こで生じたコーティングは、セルロース性ポリマーのカ
ルボン酸誘導体を含まない（つまり、セルロース性ポリ
マーのカルボン酸誘導体によって構成され値得る重量割
合が、コーティングの他のポリマー性物質によって代わ
りに構成されている）対応するコーティングと比較し
て、改良された化学的抵抗性を有する。
【００８８】本発明は、我々がなした先の発明と結びつ
いていることは明らかであり、以下の特許出願の内容
は、ここに参考として完全に取り込まれる：WO 97/3989
4, WO 99/01795, WO 99/01796, WO 99/21715. WO 99/21
725, WO 99/08879及びWO 99/11458。
【００８９】以下の実施例は、上記記載された本発明を
より特定して説明するように機能するが、如何なる方法
においての本発明を制限することを意味しない。
【００９０】
【実施例】実施例１ 1-メトキシプロパン-2-オール：1,3-ジオキソラン：メ
タノール、１５：４５：４０容量比を含む１３ｇの溶媒
混合物中に、０．７５ｇのＰＤ−１４０Ａ（ノボラック
樹脂、Borden Co., USA)、０．１５ｇのＰＭＰ９２（メ
タクリルアミドのコポリマー、N-フェニルマレイミド及
び、アミノフェノールと反応したメタクリルオキシエチ
ルイソシアネートであるＡＰＫ、DIC, Japan)、０．１
０ｇのＣＡＰ（セルロースアセテート／フタレート、酸
の数１４０、Eastman Chemical Co., USA)、０．０３ｇ
のEthyl Violet（塩基性バイオレット４、Aldrich, Dor
set, UK)及び０．０４ｇのＡＤＳ ８３０Ａ（ＩＲ色
素、ADS Corp., Canada)を溶解することによって、コー
ティング製剤を調製した。該溶液を電気的に砂目立てら
れ、陽極化され、ポリビニルリン酸シールされたアルミ
ニウム基板に、ワイアー吹き付けバーを使用してコート
し、オーブン中で９０℃で４分乾燥させ、１．９ｇ／ｍ
2のコーティング重量を有する印刷版前駆体を得た。
【００９１】Ethylバイオレットは、以下の構造を有す
る：
【化４】
【００９２】ＡＤＳ ８３０Ａは、以下の構造を有す
る：
【化５】
【００９３】前駆体を、０．７Ｗの出力で８７０ｎｍの
レーザーダイオードで乾燥後直ぐに造影し、回転ドラム
に乗せ、単一の直線と固形化露光領域を得た。造影後直
ぐの、カリウムウォーターガラス現像器、Developer 20
00M (Kodak Polychrome Graphics)での現像により、良
好なポジの画像を得た。版が１５秒後良好な現像性を示
し、造影領域は、１２０秒より長い間、Developer 2000
Mに対する抵抗性を示した。
【００９４】露光及び現像版の溶媒抵抗性を評価するた
めに、以下の実験方法を使用した：１０×１０ｃｍの版
の断片を、石油エーテル：イソプロパノール（８５：１
５容量比）より成るプランケット洗浄溶媒混合物に浸し
た。この実験（及びここに記録された他の実験）におい
て、浸液の１分の時間工程を使用し（１分、２分、３
分、４分、５分及び６分）、各段階で版をPolytamワイ
プで穏やかに拭き取り、次いで溶液から取り出してコー
ティングが失われているかどうか調べた。これを版の色
の変化によって評価した。ブランケット洗浄混合物に対
する抵抗性は、４分より長かった。同じ性能は、溶媒と
して精製ジアセトンアルコールでの浸液で見出された。
【００９５】失われたコーティングの重量を測定するた
めの重量測定法を、同じ石油エーテル：イソプロパノー
ル混合物の５０ｍｌ中に版の１０ｃｍ×１０ｃｍ断片を
配置することによって実施した。版上の最初のコーティ
ングの重量は周知であった。４分間の浸液時間の後、断
片を混合物から取り出し、９０℃で４分オーブン中で乾
燥し、次いで再計量した。この方法において、コーティ
ングの重量損失は、全コーティング重量の２重量％であ
ると測定された。
【００９６】実施例２ １３ｇの溶媒混合物（1-メトキシプロパン-2-オール：
1,3-ジオキソラン：メタノール、１５：４５：４０容量
比）中に、０．７５ｇのＰＤ−１４０Ａ、０．１５ｇの
ＰＭＰ９２、０．１０ｇのＡＣ３５−２（アミド基を含
むセルロースアセテート／フタレート誘導体、酸の数６
１、３．６８ｇのフェニルオキサゾリン及び２．４８ｇ
のエチルオキサゾリンと反応した４０ｇのＣＡＰ樹脂を
使用する、DE 195 18 110に記載された実施例３の方法
によって調製された）、０．０３ｇのEthyl Violet及び
０．０４ｇのＡＤＳ ８３０Ａを溶解することによっ
て、コーティング製剤を調製した。該溶液を電気的に砂
目立てられ、陽極化され、ポリビニルリン酸シールされ
た基板に、ワイアー吹き付けバーを使用してコートし、
オーブン中で９０℃で４分乾燥させ、２．０ｇ／ｍ2の
コーティング重量を有する印刷版前駆体を得た。
【００９７】前駆体を、０．７Ｗの出力で８７０ｎｍの
レーザーダイオードで乾燥後直ぐに造影し、回転ドラム
に乗せ、単一の直線と固形化露光領域を得た。該版を造
影後直ぐに現像し、Developer 2000Mにおいて２０秒の
残存時間後にポジ画像を得た。
【００９８】実施例１に記載された実験方法によって測
定された、石油エーテル：イソプロパノール（８５：１
５容量比）のブランケット洗浄混合物に対する抵抗性
は、４分より長かった。
【００９９】実施例３ ３０ｍｌの溶媒混合物（n-ブタノール：メタノール：メ
チルエチルケトン、２０：４５：３５容量比）中に、
３．１ｇのＰＤ−１４０Ａ、０．４ｇのＣＡＰ、０．１
６ｇのＥＣ ２１１７（ＩＲ色素、FEW Wolfen, German
y)、０．０８ｇのＡＤＳ １０６０Ａ（ＩＲ色素、ADS C
orp., Canada)、０．０８ｇのN-ベンジルキノリンブロ
マイド、０．１０ｇのＯＢ ６１３（トリアリールメタ
ン色素、Orient Chemical Industry, Co., Japan)を溶
解することによって、コーティング製剤を調製した。該
溶液を電気的に砂目立てられ、陽極化され、ポリビニル
リン酸シールされた基板に、ワイアー吹き付けバーを使
用してコートし、オーブン中で９０℃で４分乾燥させ、
２．１ｇ／ｍ2のコーティング重量を有する印刷版前駆
体を得た。
【０１００】ＡＤＳ １０６０Ａの構造は、以下のもの
である：
【化６】
【０１０１】前駆体を、０．７Ｗの出力で８７０ｎｍの
レーザーダイオードで乾燥後直ぐに造影し、回転ドラム
に乗せ、単一の直線と固形化露光領域を得た。現像液
は、８７ｇの蒸留水中に、１０．５９ｇのナトリウムメ
タシリケート、２．２ｇのナトリウムトリホスフェート
12-ヒドレート、０．１５ｇのナトリウムモノホスフェ
ート、０．１８ｇのTRILON B（エチレンジアミンテトラ
酢酸のテトラナトリウム塩、BASF AG)を溶解することよ
り成った。該版を造影後直ぐにこの混合物で現像し、２
０秒の残存時間後にポジ画像を得た。
【０１０２】実施例１に記載された実験方法によって測
定された、石油エーテル：イソプロパノール（８５：１
５容量比）のブランケット洗浄混合物に対する抵抗性
は、４分より長かった。
【０１０３】比較実施例１ １３ｇの溶媒混合物（1-メトキシプロパン-2-オール：
1,3-ジオキソラン：メタノール、１５：４５：４０容量
比）中に、０．８５ｇのＰＤ−１４０Ａ、０．１５ｇの
ＰＭＰ９２、０．０３ｇのEthyl Violet及び０．０４ｇ
のＡＤＳ ８３０Ａを溶解することによって、コーティ
ング溶液を調製した。該溶液を電気的に砂目立てられ、
陽極化され、ポリビニルリン酸シールされた基板に、ワ
イアー吹き付けバーを使用してコートし、オーブン中で
９０℃で４分乾燥させ、１．９ｇ／ｍ2のコーティング
重量を有する印刷版前駆体を得た。
【０１０４】前駆体を、０．７Ｗの出力で８７０ｎｍの
レーザーダイオードで乾燥後直ぐに造影し、回転ドラム
に乗せ、単一の直線と固形化露光領域を得た。該版を、
カリウムウォーターガラス現像器、Developer 3000M(Ko
dak Polychrome Graphics)を使用して、造影後直ぐに現
像した。
【０１０５】実施例１に記載された実験方法によって測
定された、ブランケット洗浄混合物（石油エーテル：イ
ソプロパノール、８５：１５容量比）に対する抵抗性
は、１分未満であった。
【０１０６】比較実施例２ １３ｇの溶媒混合物（1-メトキシプロパン-2-オール：
1,3-ジオキソラン：メタノール、１５：４５：４０容量
比）中に、０．７５ｇのＰＤ−１４０Ａ、０．３０ｇの
ＺＨ ８０５０（ノボラック樹脂、DIC, Japan)、０．１
５ｇのＰＭＰ９２、０．０３ｇのEthyl Violet及び０．
０４ｇのＡＤＳ ８３０Ａを溶解することによって、コ
ーティング溶液を調製した。該溶液を電気的に砂目立て
られ、陽極化され、ポリビニルリン酸シールされた基板
に、ワイアー吹き付けバーを使用してコートし、オーブ
ン中で９０℃で４分乾燥させ、１．９ｇ／ｍ2のコーテ
ィング重量を有する印刷版前駆体を得た。
【０１０７】前駆体を、０．７Ｗの出力で８７０ｎｍの
レーザーダイオードで乾燥後直ぐに造影し、回転ドラム
に乗せ、単一の直線と固形化露光領域を得た。該版を、
Developer 2000Mにおいて、造影後直ぐに現像した。
【０１０８】実施例１に記載された実験方法によって測
定された、ブランケット洗浄混合物（石油エーテル：イ
ソプロパノール、８５：１５容量比）に対する抵抗性
は、１分未満であった。
【０１０９】比較実施例３ １３ｇの溶媒混合物（n-ブタノール：メタノール：メチ
ルエチルケトン、２０：４５：３５容量比）中に、３．
５ｇのＰＤ−１４０Ａ、０．１６ｇのＥＣ ２１１７、
０．０８ｇのＡＤＳ １０６０Ａ、０．０８ｇのN-ベン
ジルキノリンブロマイド、０．１０ｇのＯＢ ６１３を
溶解することによって、コーティング製剤を調製した。
該溶液を電気的に砂目立てられ、陽極化され、ポリビニ
ルリン酸シールされたアルミニウム基板にコートし、オ
ーブン中で９０℃で４分乾燥させ、２．１ｇ／ｍ2のコ
ーティング重量を有する印刷版前駆体を得た。
【０１１０】前駆体を、０．７Ｗの出力で８７０ｎｍの
レーザーダイオードで乾燥後直ぐに造影し、回転ドラム
に乗せ、単一の直線と固形化露光領域を得た。この版の
現像のために、実施例３に記載された現像液を使用し、
現像を造影後直ぐに実施した。
【０１１１】実施例１に記載された実験方法によって測
定された、ブランケット洗浄混合物（石油エーテル：イ
ソプロパノール、８５：１５容量比）に対する抵抗性
は、１分未満であった。
【０１１２】実施例４及び比較実施例４ 以下の表１に与えられた割合で、1-メトキシプロパン-2
-オール中に以下の物質を溶解することによって、コー
ティング製剤を調製した。
【０１１３】Bakelite, UK社製の１：１のフェノール／
クレゾールノボラック樹脂であるＬＢ６５６４は、以下
の構造を有する：
【化７】
【０１１４】Bakelite, UK社製のクレゾールノボラック
樹脂であるＬＢ７４４は、以下の構造を有する：
【化８】
【０１１５】Allied Signal, Middlesex, UKL社製のＩ
Ｒ色素であるＫＦ６５４Ｂ ＰＩＮＡは、以下の構造を
有すると解される：
【化９】
【０１１６】Aldrich, Dorset, UK社製の塩基性バイオ
レットC.I. 42555, Gentian VioletであるCrystal Viol
etは、以下の構造を有する：
【化１０】
【０１１７】Silikophen P50X、フェニルメチルシロキ
サンであるＰ５０Ｘは、Tego Chemie, Germany社製であ
る。
【０１１８】Cellulose Acetate Hydrogen Phthalateで
あるＣＡＨＰは、Aldrich社製である。
【０１１９】
【表１】
【０１２０】０．３ｍｍの厚さの塩酸で砂目立てられ、
陽極化され、リン酸化されたアルミニウム基板にワイア
ー吹き付けバーで該溶液をコートし、Werner Mathis A
G, Germanyによって提供されたMathisラブドライアーオ
ーブン中で１１０℃で９０秒乾燥させた。前駆体をスタ
ックし、ポリエチレンコートペーパー（Samuel Grant,
Leeds, UKによって提供されたポリエチレンコートペー
パーＮｏ２２，６ｇｍ- 2）を使用して、該スタックの上
部と下部に配置された別の１０のブランクと各前駆体の
間に交互に重ねて挿入し、その後ポリエチレンコートペ
ーパー(SamuelGrantによって提供されたマットブラック
低密度ポリエチレン２０ｇｍ-2でコートされた、ブリー
チされておらず上薬をかけていないKraftペーパー９０
ｇｍ-2）でスタック全体をラップし、接着テープ(SELLO
TAPE)でシールした。ラップされたスタックを、Sanyo G
allenkamp of Leicester, UKによって提供されたSanyoG
allenkamp環境チェンバー、モデルNo HCC 019. PEI.F中
で５５℃で７２時間熱処理した。
【０１２１】前駆体を、２００ｍＪ／ｃｍ2の画像形成
エネルギー密度で、８３０ｍｍで照射することによって
Creo Trendsetter 3244画像セッターで造影し、７５０
ｍｍ／分の速度で２２．５℃で１４重量％のナトリウム
メタシリケートペンタヒドレート現像液を含むKodak Po
lychrome Graphics Mercury Mk 5プロセッサー中で、画
像形成の直ぐ後に現像した。２から９５％のドットを、
Colour-Data SystemsLtd, Wirral, UKから入手可能なGr
etag D19C Densitometerで測定した。
【０１２２】５０％チェッカー盤パターンの断片もま
た、前駆体に関して造影し、次いでそれを上述のように
加工した。版のサンプルを６×１０ｃｍ2の断片に切断
し、半分の領域の縦方向を、５０％着色によってカバー
し、他の半分を固形の領域によってカバーした。該サン
プルを１０，２０及び３０分間湿し水１または２（以下
参照）中に浸液し、注意深く洗浄して乾燥した。
【０１２３】 湿し水１： 湿し水２： イソプロピルアルコール１６５ｇ イソプロピルアルコール１６５ｇ SUBSTIFIX ４４ｇ COMBIFIX ４４ｇ 水 ８００ｇ 水 ８００ｇ
【０１２４】COMBIFIXとSUBSTIFIXは、Horstmann-Stein
berg of Germanyから入手可能な標準的な湿し水添加物
である。それぞれは界面活性剤を含み、プリンターがそ
れらを加え、同様の製品が、基板のインクをフリーに維
持し、水を軟化させ、版の表面にインクを分散するため
に、示し水に加えられる。
【０１２５】その結果が、表２（画像形成試験）、並び
に図１（湿し水１中の湿し抵抗性）及び図２（湿し水２
中の湿し抵抗性）の写真に示されている。図１におい
て、１０分の浸液での４の別個の領域が現れている。４
の領域の上部二つは、５０％の露出を受け、４の領域の
下部二つは、完全な露光を受けた。１０分の浸液の後、
TESA 4122接着テープの断片を、５０％程度と固体の領
域をカバーするようにサンプルの右半分の側に沿って上
部から下部に配置し、次いで緩まったコーティングを除
去するように一つの鋭い動きで迅速に剥がした。固体の
領域は顕著に分解され、５０％の領域はいくつかのコー
ティングのロスを受けることが示されているであろう。
それぞれ２０分及び３０分間浸液されたプレート１のサ
ンプルで実施された同じ試験は、実質的に完全なコーテ
ィングの除去を生じた。これは、２０分の領域の右半分
の側に沿った二つの明るい四角形によって、並びに２０
分の領域の右半分の側に沿った二つの明るい四角形によ
って示される。
【０１２６】対照的に、本発明に従ったコーティングを
有する図１のプレート２は、１０分間の浸液の後、非常
にわずかのみ分解を受け、２０分の浸液で比較プレート
１よりもすっと少ない分解を受け、並びに２０分の浸液
の後でのみ実質的な分解を受けた。
【０１２７】そこで図２を考慮すると、比較プレート１
についてコーティングは３０分の浸液の後実質的に完全
に除去され、２０分後に顕著に分解した。対照的にプレ
ート２に関しては、３０分後の浸液でさえコーティング
の損失は実際に存在しなかった。
【０１２８】
【表２】
【０１２９】上述のものと同様な実験を、酸性セルロー
ス化合物の代わりに以下のタイプの化合物を使用して実
施した：メタクリル酸／アクリル酸タイプのポリマー性
酸；マレイン酸のコポリマー；酸性ポリエステル(BASF
社製のPHTALOPAL,酸の数１９０−２０５）；酸性コロホ
ニウム誘導体(R. Kaemer社製のROKRALAT VP 1449,酸の
数７０−９０）；酸性ポリビニルアセタール（米国特許
第5,700,619号に記載されたもの）。しかしながら、上
記化合物は、酸性セルロース化合物によって示された溶
媒抵抗特性を示さなかった。
【０１３０】上述の製品は、以下の商標名を有すると思
われる：PD-140A, PMP 92, CAP, ADS 830A, DOWANOL P
M, Developer 2000M, Developer 3000, EC 2117, ADS 1
060A,OB 613, TRILON B, PLURIOL P600, ZH 8050, LB 6
564, LB 744, KF 654, SILIKOPHEN P50X, COMBIFIX, SU
BSTIFIX, PHTHALOPAL, ROKRALAT VP, SELLOTAPE, POLYT
AM及びTESA 4122。
【０１３１】本発明は、上述の特異的な実施態様に関し
て記載されているが、各種の変更及び修飾が本発明の範
囲から離れることなく記載された実施態様になし得るこ
とは、当業者に明らかであり、本発明の範囲は添付され
た特許請求の範囲にのみ制限される。開示された実施態
様は、主に例示として提供される。
【図面の簡単な説明】
【図１】 図１は、湿し水１（実施例４を参照）を使用
した、前駆体に画像形成され、次いで加工されたチェッ
カー盤パターンの写真である。
【図２】 図２は、湿し水２（実施例４を参照）を使用
した、前駆体に画像形成され、次いで加工されたチェッ
カー盤パターンの写真である。
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０３Ｆ 7/033 Ｇ０３Ｆ 7/033 7/075 ５２１ 7/075 ５２１ 7/38 ５０１ 7/38 ５０１ Ｈ０５Ｋ 3/06 Ｈ０５Ｋ 3/06 Ｈ (72)発明者 セリン・サヴァリアー−ハウク ドイツ・37534・バーデンハウゼン・ア ム・ブライテンベルゲ・14 (72)発明者 ゲルハルト・ハウク ドイツ・37534・バーデンハウゼン・ア ム・ブライテンベルゲ・14 (72)発明者 ハンス−ヨアヒム・ティンペ ドイツ・37520・オステローデ・アム・ハ ルツ・バウムホフシュトラーベ・165

Claims (25)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 セルロース性ポリマーのカルボン酸誘導
    体、並びに６００−１４００ｍｍの波長範囲で入射光を
    吸収しそれを熱に変換する化合物を含むフィルム形成組
    成物であって、基板上のコーティングとして提供され、
    画像形成のため加熱され、水性現像液にさらされた場
    合、加熱された領域が水性現像液中に溶解し、加熱され
    ておらず有機溶媒に抵抗性である領域が後に残るという
    特性を有する組成物。
  2. 【請求項２】 セルロース性ポリマーのカルボン酸誘導
    体が、組成物の重量の０．２５−５０％を提供する、請
    求項１記載の組成物。
  3. 【請求項３】 セルロース性ポリマーのカルボン酸誘導
    体が、組成物の重量の２−３０％を提供する、請求項２
    記載の組成物。
  4. 【請求項４】 セルロース性ポリマーのカルボン酸誘導
    体が、組成物の重量の５−２０％を提供する、請求項３
    記載の組成物。
  5. 【請求項５】 セルロース性ポリマーのカルボン酸誘導
    体が、組成物の重量の８−１２％を提供する、請求項４
    記載の組成物。
  6. 【請求項６】 セルロース性ポリマーのカルボン酸誘導
    体の酸の数が、５０−２１０の範囲である、請求項１記
    載の組成物。
  7. 【請求項７】 該酸の数が１００−１８０である、請求
    項６記載の組成物。
  8. 【請求項８】 上記セルロース性ポリマーのカルボン酸
    誘導体が、セルロースアセテートのカルボン酸誘導体で
    ある、請求項１記載の組成物。
  9. 【請求項９】 上記セルロース性ポリマーのカルボン酸
    誘導体が、セルロースアセテートのフタレート誘導体で
    ある、請求項８記載の組成物。
  10. 【請求項１０】 セルロース性ポリマーのカルボン酸誘
    導体が、ＣＡＰ、ＣＡＨＰ及びＣＡＴとして周知の物質
    から選択される、請求項１記載の組成物。
  11. 【請求項１１】 一つの構成成分として上記セルロース
    性ポリマーのカルボン酸誘導体と、さらなる樹脂構成成
    分としてスチレンのポリマー若しくはコポリマー、ヒド
    ロキシスチレンのポリマー若しくはコポリマー、アルコ
    キシスチレンのポリマー若しくはコポリマー、アクリル
    酸のポリマー若しくはコポリマー、メタクリル酸のポリ
    マー若しくはコポリマー、アクリロニトリルのポリマー
    若しくはコポリマー、アクリルアミドのポリマー若しく
    はコポリマー、ビニルアルコールのポリマー若しくはコ
    ポリマー、アクリレートポリマー若しくはコポリマー、
    メタクリルアミドのポリマー若しくはコポリマー、スル
    ホンアミド若しくはイミドポリマー若しくはコポリマ
    ー、マレイミド若しくはアルキルマレイミド若しくはジ
    アルキルマレイミドのポリマー若しくはコポリマー、マ
    レイン酸無水物のポリマー若しくはコポリマー、ヒドロ
    キシセルロース若しくはカルボキシセルロースから選択
    される物質とを有する樹脂ブレンドを含む、請求項１記
    載の組成物。
  12. 【請求項１２】 一つの構成成分として上記セルロース
    性ポリマーのカルボン酸誘導体と、さらなる樹脂構成成
    分としてヒドロキシル基を有するポリマーとを有する樹
    脂ブレンドを含む、請求項１記載の組成物。
  13. 【請求項１３】 上記さらなる樹脂構成成分が、フェノ
    ール性樹脂及びポリ（ヒドロキシスチレン）樹脂から選
    択される、請求項１２記載の組成物。
  14. 【請求項１４】 該組成物に、基板上のコーティングと
    して提供された場合、コーティングの非加熱領域が、非
    溶解剤を含まない対応する組成物と比較して、水性現像
    液中での溶解性に劣るという特性を与えるための一つ以
    上の非溶解剤を含む、請求項１記載の組成物。
  15. 【請求項１５】 基板上のコーティングとして提供され
    た場合、水性現像液中でのコーティングの溶解性が、環
    境の紫外線照射によって増大しない特性を有する、請求
    項１記載の組成物。
  16. 【請求項１６】 シアニン色素を含む、請求項１記載の
    組成物。
  17. 【請求項１７】 カチオン性トリアリールメタン色素を
    含む、請求項１記載の組成物。
  18. 【請求項１８】 コーティングの重量の０．１−１０％
    のシロキサンポリマーを含む、請求項１記載の組成物。
  19. 【請求項１９】 基板上のコーティングを有し、該コー
    ティングが請求項１記載の組成物を含む、する、ポジ型
    印刷版前駆体、若しくは電気的部品前駆体、若しくはマ
    スク前駆体。
  20. 【請求項２０】 （ｉ）基板上にコーティングを準備す
    ること；並びに （ｉｉ）コーティングした基板を安定化熱処理にかける
    こと； の工程を含む、請求項１９記載の印刷版前駆体、若しく
    は電気的部品前駆体、若しくはマスク前駆体の製造方
    法。
  21. 【請求項２１】 熱処理が、４０−９０℃の範囲の温度
    で少なくとも４時間実施される、請求項２０記載の方
    法。
  22. 【請求項２２】 ｉ）コーティングを加熱して画像形成
    すること；並びに ｉｉ）現像液を使用してコーティングの加熱領域を除去
    すること； の工程を含む、請求項１９記載のポジ型印刷版前駆体、
    若しくは電気的部品前駆体、若しくはマスク前駆体から
    の、印刷版、若しくは電気的部品、若しくはマスクの調
    製方法。
  23. 【請求項２３】 請求項２２記載の方法によって調製さ
    れた、印刷版、電気的部品、若しくはマスク。
  24. 【請求項２４】 基板上のコーティングを有する熱造影
    可能な印刷版前駆体、若しくは電気的部品前駆体、若し
    くはマスク前駆体であって、該コーティングは、セルロ
    ース性ポリマーのカルボン酸誘導体、並びに６００−１
    ４００ｍｍの波長範囲で入射光を吸収し、それを熱に変
    換する化合物を含み、該コーティングは、加熱して画像
    形成され、水性現像液にさらされた場合、加熱された領
    域が水性現像液中に溶解し、加熱されていない領域が後
    に残り；該コーティングがセルロース性ポリマーのカル
    ボン酸誘導体を含まない対応するコーティングと比較し
    て、改良された化学的抵抗性を有する前駆体。
  25. 【請求項２５】 印刷版前駆体、若しくは電気的部品前
    駆体、若しくはマスク前駆体に提供される熱造影可能な
    コーティングの化学的抵抗性の改良方法であって、該方
    法は、前駆体の製造の間に、コーティングを提供するた
    めの組成物中にセルロース性ポリマーのカルボン酸誘導
    体の取り込みを含み；該コーティングは、セルロース性
    ポリマーのカルボン酸誘導体を含まない対応するコーテ
    ィングと比較して、改良された化学的抵抗性を有する方
    法。
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Families Citing this family (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB9722862D0 (en) * 1997-10-29 1997-12-24 Horsell Graphic Ind Ltd Pattern formation
US6824879B2 (en) 1999-06-10 2004-11-30 Honeywell International Inc. Spin-on-glass anti-reflective coatings for photolithography
KR100804873B1 (ko) 1999-06-10 2008-02-20 얼라이드시그날 인코퍼레이티드 포토리소그래피용 ｓｏｇ 반사방지 코팅
US6706466B1 (en) * 1999-08-03 2004-03-16 Kodak Polychrome Graphics Llc Articles having imagable coatings
US6884568B2 (en) * 2000-10-17 2005-04-26 Kodak Polychrome Graphics, Llc Stabilized infrared-sensitive polymerizable systems
US7056639B2 (en) * 2001-08-21 2006-06-06 Eastman Kodak Company Imageable composition containing an infrared absorber with counter anion derived from a non-volatile acid
US6673514B2 (en) * 2001-09-07 2004-01-06 Kodak Polychrome Graphics Llc Imagable articles and compositions, and their use
CN1606713B (zh) 2001-11-15 2011-07-06 霍尼韦尔国际公司 用于照相平版印刷术的旋涂抗反射涂料
ATE359913T1 (de) * 2001-11-22 2007-05-15 Koenig & Bauer Ag Verfahren zum betrieb eines druckwerkes
DE10239505B4 (de) * 2002-08-28 2005-05-04 Kodak Polychrome Graphics Gmbh Wärmeempfindlicher positiv arbeitender Lithographie-Druckplattenvorläufer mit hoher Chemikalienbeständigkeit
DE10307521A1 (de) * 2003-02-21 2004-09-09 Kodak Polychrome Graphics Gmbh Wärmeempfindlicher positiv arbeitender Lithographie-Druckplattenläufer mit hoher Chemikalienbeständigkeit
US8053159B2 (en) 2003-11-18 2011-11-08 Honeywell International Inc. Antireflective coatings for via fill and photolithography applications and methods of preparation thereof
KR20060110329A (ko) * 2003-11-21 2006-10-24 야마모토카세이 카부시키카이샤 폴리메틴 화합물의 비용매화물 형태의 결정 및 이의 제조방법
DE102005048193A1 (de) * 2005-10-07 2007-04-19 Kodak Polychrome Graphics Gmbh Zweischichtige wärmeempfindliche bebilderbare Elemente mit saurem Cellulosederivat in der Deckschicht
EP1849600B1 (en) 2006-04-25 2013-12-11 Eastman Kodak Company Bakeable radiation-sensitive elements with a high resistance to chemicals
GB2439734A (en) * 2006-06-30 2008-01-09 Peter Andrew Reath Bennett Coating for a lithographic precursor and use thereof
US8642246B2 (en) 2007-02-26 2014-02-04 Honeywell International Inc. Compositions, coatings and films for tri-layer patterning applications and methods of preparation thereof
US7582407B2 (en) * 2007-07-09 2009-09-01 Eastman Kodak Company Imageable elements with low pH developer solubility
EP2194429A1 (en) 2008-12-02 2010-06-09 Eastman Kodak Company Gumming compositions with nano-particles for improving scratch sensitivity in image and non-image areas of lithographic printing plates
US20100227269A1 (en) 2009-03-04 2010-09-09 Simpson Christopher D Imageable elements with colorants
US8557877B2 (en) 2009-06-10 2013-10-15 Honeywell International Inc. Anti-reflective coatings for optically transparent substrates
ATE555904T1 (de) 2009-08-10 2012-05-15 Eastman Kodak Co Lithografische druckplattenvorläufer mit betahydroxy-alkylamid-vernetzern
US8383319B2 (en) 2009-08-25 2013-02-26 Eastman Kodak Company Lithographic printing plate precursors and stacks
EP2293144B1 (en) 2009-09-04 2012-11-07 Eastman Kodak Company Method of drying lithographic printing plates after single-step-processing
US20110097666A1 (en) 2009-10-27 2011-04-28 Celin Savariar-Hauck Lithographic printing plate precursors
US8936899B2 (en) 2012-09-04 2015-01-20 Eastman Kodak Company Positive-working lithographic printing plate precursors and use
US20110111134A1 (en) * 2009-11-09 2011-05-12 YewSavin, Inc. Systems and Methods of Preparation of Photovoltaic Films and Devices
US8632940B2 (en) 2011-04-19 2014-01-21 Eastman Kodak Company Aluminum substrates and lithographic printing plate precursors
US8864898B2 (en) 2011-05-31 2014-10-21 Honeywell International Inc. Coating formulations for optical elements
US8722308B2 (en) 2011-08-31 2014-05-13 Eastman Kodak Company Aluminum substrates and lithographic printing plate precursors
US20130255515A1 (en) 2012-03-27 2013-10-03 Celin Savariar-Hauck Positive-working lithographic printing plate precursors
CN103879168B (zh) * 2012-12-21 2016-02-17 乐凯华光印刷科技有限公司 一种长印程热敏版
JP6803842B2 (ja) 2015-04-13 2020-12-23 ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッドＨｏｎｅｙｗｅｌｌ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｉｎｃ． オプトエレクトロニクス用途のためのポリシロキサン製剤及びコーティング
US9588429B1 (en) 2015-09-03 2017-03-07 Eastman Kodak Company Lithographic developer composition and method of use

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3802885A (en) 1967-08-15 1974-04-09 Algraphy Ltd Photosensitive lithographic naphthoquinone diazide printing plate with aluminum base
GB1245924A (en) 1967-09-27 1971-09-15 Agfa Gevaert Improvements relating to thermo-recording
EP0162017B1 (de) 1984-05-17 1991-08-21 Ciba-Geigy Ag Homo- und Copolymere, Verfahren zu deren Vernetzung und derenVerwendung
US4947348A (en) * 1987-03-25 1990-08-07 Kollmorgen Corporation Densitometer method and system for identifying and analyzing printed targets
US4859758A (en) * 1987-11-16 1989-08-22 The Sherwin-Williams Company Acid-functional polymers derived from cellulose ester-unsaturated alcohol copolymers, which are reacted with cyclic anhydrides
DE19524851C2 (de) 1995-07-07 1998-05-07 Sun Chemical Corp Acetalpolymere und Verwendung derselben in lichtempfindlichen Zusammensetzungen und für lithographische Druckplatten
RU2153986C2 (ru) 1996-04-23 2000-08-10 Хорселл Грэфик Индастриз Лимитед Термочувствительная композиция и способ ее применения для изготовления литографической печатной формы
US5672458A (en) * 1996-07-29 1997-09-30 Eastman Kodak Company Laser dye or pigment removal imaging process
BR9810545A (pt) 1997-07-05 2000-09-05 Kodak Polychrome Graphics Llc Métodos para a formação de configuração
JP2003533707A (ja) 1997-08-14 2003-11-11 コダック ポリクロム グラフィックス カンパニーリミテッド マスク及び電子パーツの製造方法
GB9722861D0 (en) 1997-10-29 1997-12-24 Horsell Graphic Ind Ltd Improvements in relation to the manufacture of lithographic printing forms
US6060217A (en) 1997-09-02 2000-05-09 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermal lithographic printing plates
GB9722862D0 (en) 1997-10-29 1997-12-24 Horsell Graphic Ind Ltd Pattern formation
US6174652B1 (en) * 1999-09-30 2001-01-16 Eastman Kodak Company Stable coating composition
US6296982B1 (en) * 1999-11-19 2001-10-02 Kodak Polychrome Graphics Llc Imaging articles

Also Published As

Publication number Publication date
EP1101607A1 (en) 2001-05-23
DE60028505T2 (de) 2006-12-21
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