JP2001197773A - Ｐｗｍ制御装置、モータ駆動装置、ステージ装置、露光装置、およびこの露光装置により製造したデバイスおよびデバイスの製造方法 - Google Patents
Ｐｗｍ制御装置、モータ駆動装置、ステージ装置、露光装置、およびこの露光装置により製造したデバイスおよびデバイスの製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 高精度、高Ｓ／Ｎ比、低コスト、小容積、低
重量なモータ駆動装置を可能とするＰＷＭ制御装置を提
供すること。特に、このＰＷＭ制御装置を使用したモー
タ駆動装置、このモータ駆動装置を使用したステージ装
置、このステージ装置を使用した露光装置、この露光装
置により製造したデバイスおよびデバイスの製造方法を
提供すること。 【解決手段】ＰＷＭ方式を利用したモータ駆動装置にお
いて、出力電流を供給するスイッチングＦＥＴＱ１、Ｑ
２に接続される電源には、３相交流２００Ｖをダイオー
ドで整流したのみの電源を使用する。この電源には、リ
ップル成分を含むが、このリップル成分による電源変動
に応じて、入力信号Ｉをわり算するわり算回路１０４を
設ける。このわり算回路１０４により、電源が大きな値
側に変動する場合は入力信号Ｉを小さな値にするように
調整し、出力電流ＯＵＴを電源のリップルによる変動の
影響を受けないようにする。
重量なモータ駆動装置を可能とするＰＷＭ制御装置を提
供すること。特に、このＰＷＭ制御装置を使用したモー
タ駆動装置、このモータ駆動装置を使用したステージ装
置、このステージ装置を使用した露光装置、この露光装
置により製造したデバイスおよびデバイスの製造方法を
提供すること。 【解決手段】ＰＷＭ方式を利用したモータ駆動装置にお
いて、出力電流を供給するスイッチングＦＥＴＱ１、Ｑ
２に接続される電源には、３相交流２００Ｖをダイオー
ドで整流したのみの電源を使用する。この電源には、リ
ップル成分を含むが、このリップル成分による電源変動
に応じて、入力信号Ｉをわり算するわり算回路１０４を
設ける。このわり算回路１０４により、電源が大きな値
側に変動する場合は入力信号Ｉを小さな値にするように
調整し、出力電流ＯＵＴを電源のリップルによる変動の
影響を受けないようにする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ＰＷＭ制御装置、
モータ駆動装置、ステージ装置、露光装置、この露光装
置により製造したデバイスおよびデバイスの製造方法に
関する。
モータ駆動装置、ステージ装置、露光装置、この露光装
置により製造したデバイスおよびデバイスの製造方法に
関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体露光装置は、レチクル（あるいは
マスク）を搭載するレチクルステージ、ウェハを搭載す
るウェハステージ、レチクルに形成されたパターンをウ
ェハに投影露光する投影光学系などから構成される。各
ステージはモータおよびモータを駆動するモータ駆動装
置により適宜駆動され、レチクルに形成されたパターン
がウェハの所定の位置に正確に投影露光される。各ステ
ージを駆動するモータにはリニアモータが使用され、そ
のリニアモータを駆動する回路には高効率なＰＷＭ（パ
ルス幅変調）増幅回路が使用される。投影露光装置のス
テージは、高精度に駆動する必要があるため、このＰＷ
Ｍ増幅回路には高精度かつ高Ｓ／Ｎ比の性能が求められ
る。従って、電源にはレギュレーションが十分に取られ
たスイッチングレギュレータなどが使用される。
マスク）を搭載するレチクルステージ、ウェハを搭載す
るウェハステージ、レチクルに形成されたパターンをウ
ェハに投影露光する投影光学系などから構成される。各
ステージはモータおよびモータを駆動するモータ駆動装
置により適宜駆動され、レチクルに形成されたパターン
がウェハの所定の位置に正確に投影露光される。各ステ
ージを駆動するモータにはリニアモータが使用され、そ
のリニアモータを駆動する回路には高効率なＰＷＭ（パ
ルス幅変調）増幅回路が使用される。投影露光装置のス
テージは、高精度に駆動する必要があるため、このＰＷ
Ｍ増幅回路には高精度かつ高Ｓ／Ｎ比の性能が求められ
る。従って、電源にはレギュレーションが十分に取られ
たスイッチングレギュレータなどが使用される。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、大容量なスイ
ッチングレギュレータは高価であり、容積、重量もかさ
み、半導体露光装置の容積、重量がこのスイッチングレ
ギュレータによって大きく占められるという問題が発生
していた。一方、トランスレスな簡単な電源の使用で
は、電源周波数の高周波成分が増幅回路の出力に残留
し、高精度かつ高Ｓ／Ｎ比の性能が確保できないという
問題が発生していた。
ッチングレギュレータは高価であり、容積、重量もかさ
み、半導体露光装置の容積、重量がこのスイッチングレ
ギュレータによって大きく占められるという問題が発生
していた。一方、トランスレスな簡単な電源の使用で
は、電源周波数の高周波成分が増幅回路の出力に残留
し、高精度かつ高Ｓ／Ｎ比の性能が確保できないという
問題が発生していた。
【０００４】本発明の目的は、高精度、高Ｓ／Ｎ比、低
コスト、小容積、低重量なモータ駆動装置を可能とする
ＰＷＭ制御装置を提供することにある。また、このＰＷ
Ｍ制御装置を使用したモータ駆動装置、このモータ駆動
装置を使用したステージ装置、このステージ装置を使用
した露光装置、この露光装置により製造したデバイスお
よびデバイスの製造方法を提供することにある。
コスト、小容積、低重量なモータ駆動装置を可能とする
ＰＷＭ制御装置を提供することにある。また、このＰＷ
Ｍ制御装置を使用したモータ駆動装置、このモータ駆動
装置を使用したステージ装置、このステージ装置を使用
した露光装置、この露光装置により製造したデバイスお
よびデバイスの製造方法を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】以下、実施の形態を示す
図２、４〜６を参照して、括弧内にその対応する要素の
符号をつけて本発明を説明する。上記目的を達成するた
めに、請求項１のＰＷＭ制御装置は、三角波を生成する
三角波生成回路（１０１）と、入力信号（Ｉ）と三角波
とを比較し、入力信号（Ｉ）の電圧レベルに応じたパル
ス幅のＰＷＭ信号を出力する比較器（１０３）と、所定
の電源（１１０）に接続され、該電源（１１０）からの
電圧をＰＷＭ信号に基づいてオンオフして出力するスイ
ッチング素子（Ｑ１、Ｑ２）と、ＰＷＭ信号のデューテ
ィ比を所定の電源（１１０）の電圧レベルの変動に応じ
て調整する調整回路（１０４）とを備えるようにしたも
のである。請求項２の発明は、請求項１記載のＰＷＭ制
御装置において、調整回路（１０４）を、入力信号
（Ｉ）を電源（１１０）の電圧レベルでわり算する回路
としたものである。請求項３の発明は、請求項１記載の
ＰＷＭ制御装置において、調整回路（２０１）を、電源
（１１０）の電圧レベルの変動に応じて三角波の振幅を
調整する回路としたものである。請求項４の発明は、請
求項３記載のＰＷＭ制御装置において、調整回路（２０
１）を、三角波生成回路（１０１）から出力された三角
波を電源（１１０）の電圧レベルでかけ算する回路とし
たものである。請求項５の発明は、請求項３記載のＰＷ
Ｍ制御装置において、調整回路（３０１）を、電源（１
１０）の電圧レベルの変動に比例して三角波生成回路
（１０１）に供給する三角波生成回路用電源（３０１）
の電圧レベルを調整する回路としたものである。請求項
６の発明は、請求項３記載のＰＷＭ制御装置において、
三角波生成回路（１０１）を、２つの異なる信号レベル
（Ｓ１、Ｓ２）を所定の周波数で交互にスイッチングす
るスイッチング回路（４０２、４０３）と、スイッチン
グ回路（４０２、４０３）の出力を積分して三角波を出
力する積分回路（Ｒ４１、Ｃ４１、Ｕ４１）とから構成
されるようにし、調整回路（４０４）を、電源（１１
０）の電圧レベルの変動に比例して信号レベル差が変化
する２つの異なる信号レベルを出力する増幅回路とした
ものである。請求項７のＰＷＭ制御装置は、三角波を生
成する三角波生成回路（１０１）と、入力信号（Ｉ）と
三角波とを比較し、入力信号（Ｉ）の電圧レベルに応じ
たパルス幅のＰＷＭ信号を出力する比較器（１０３）
と、電源（１１０）が接続され、該電源（１１０）から
の電圧をＰＷＭ信号に基づいてオンオフして出力するス
イッチング素子（Ｑ１、Ｑ２）と、比較器（１０３）に
入力される入力信号（Ｉ）の電圧レベルを電源（１１
０）の変化する電圧レベルに応じて調整する調整回路
（１０４）とを備えるようにしたものである。請求項８
のＰＷＭ制御装置は、三角波を生成する三角波生成回路
（１０１）と、入力信号（Ｉ）と三角波とを比較し、入
力信号（Ｉ）の電圧レベルに応じたパルス幅のＰＷＭ信
号を出力する比較器（１０３）と、電源（１１０）が接
続され、該電源（１１０）からの電圧をＰＷＭ信号に基
づいてオンオフして出力するスイッチング素子（Ｑ１、
Ｑ２）と、三角波の振幅を電源（１１０）の変化する電
圧レベルに応じて調整する調整回路（２０１）とを備え
るようにしたものである。請求項９のモータ駆動装置
は、請求項１〜８のいずれか１項に記載のＰＷＭ制御装
置を備えた電流増幅回路を備えるようにしたものであ
る。請求項１０のステージ装置は、移動対象物を搭載す
るステージと、移動対象物を移動させるためにステージ
を駆動するモータと、モータを駆動する請求項９記載の
モータ駆動装置とを備えるようにしたものである。請求
項１１の発明は、露光により基板上に所定のパターンを
形成する露光装置に適用され、マスクおよび基板のいず
れか一方を搭載して移動させる請求項１０に記載のステ
ージ装置を少なくとも備えるようにしたものである。請
求項１２のデバイスは、請求項１１記載の露光装置によ
って製造されるようにしたものである。請求項１３のデ
バイス製造方法は、請求項１１記載の露光装置を用意
し、該露光装置によって露光を行う工程を有するように
したものである。請求項１４の発明は、入力信号の電圧
レベルに応じたパルス幅を有するＰＷＭ信号に基づいて
電源からの電圧をオンオフして出力するＰＷＭ制御方法
に適用され、電源の電圧レベルの変動に基づいてＰＷＭ
信号の変調度（デューティ比）を調整するようにしたも
のである。
図２、４〜６を参照して、括弧内にその対応する要素の
符号をつけて本発明を説明する。上記目的を達成するた
めに、請求項１のＰＷＭ制御装置は、三角波を生成する
三角波生成回路（１０１）と、入力信号（Ｉ）と三角波
とを比較し、入力信号（Ｉ）の電圧レベルに応じたパル
ス幅のＰＷＭ信号を出力する比較器（１０３）と、所定
の電源（１１０）に接続され、該電源（１１０）からの
電圧をＰＷＭ信号に基づいてオンオフして出力するスイ
ッチング素子（Ｑ１、Ｑ２）と、ＰＷＭ信号のデューテ
ィ比を所定の電源（１１０）の電圧レベルの変動に応じ
て調整する調整回路（１０４）とを備えるようにしたも
のである。請求項２の発明は、請求項１記載のＰＷＭ制
御装置において、調整回路（１０４）を、入力信号
（Ｉ）を電源（１１０）の電圧レベルでわり算する回路
としたものである。請求項３の発明は、請求項１記載の
ＰＷＭ制御装置において、調整回路（２０１）を、電源
（１１０）の電圧レベルの変動に応じて三角波の振幅を
調整する回路としたものである。請求項４の発明は、請
求項３記載のＰＷＭ制御装置において、調整回路（２０
１）を、三角波生成回路（１０１）から出力された三角
波を電源（１１０）の電圧レベルでかけ算する回路とし
たものである。請求項５の発明は、請求項３記載のＰＷ
Ｍ制御装置において、調整回路（３０１）を、電源（１
１０）の電圧レベルの変動に比例して三角波生成回路
（１０１）に供給する三角波生成回路用電源（３０１）
の電圧レベルを調整する回路としたものである。請求項
６の発明は、請求項３記載のＰＷＭ制御装置において、
三角波生成回路（１０１）を、２つの異なる信号レベル
（Ｓ１、Ｓ２）を所定の周波数で交互にスイッチングす
るスイッチング回路（４０２、４０３）と、スイッチン
グ回路（４０２、４０３）の出力を積分して三角波を出
力する積分回路（Ｒ４１、Ｃ４１、Ｕ４１）とから構成
されるようにし、調整回路（４０４）を、電源（１１
０）の電圧レベルの変動に比例して信号レベル差が変化
する２つの異なる信号レベルを出力する増幅回路とした
ものである。請求項７のＰＷＭ制御装置は、三角波を生
成する三角波生成回路（１０１）と、入力信号（Ｉ）と
三角波とを比較し、入力信号（Ｉ）の電圧レベルに応じ
たパルス幅のＰＷＭ信号を出力する比較器（１０３）
と、電源（１１０）が接続され、該電源（１１０）から
の電圧をＰＷＭ信号に基づいてオンオフして出力するス
イッチング素子（Ｑ１、Ｑ２）と、比較器（１０３）に
入力される入力信号（Ｉ）の電圧レベルを電源（１１
０）の変化する電圧レベルに応じて調整する調整回路
（１０４）とを備えるようにしたものである。請求項８
のＰＷＭ制御装置は、三角波を生成する三角波生成回路
（１０１）と、入力信号（Ｉ）と三角波とを比較し、入
力信号（Ｉ）の電圧レベルに応じたパルス幅のＰＷＭ信
号を出力する比較器（１０３）と、電源（１１０）が接
続され、該電源（１１０）からの電圧をＰＷＭ信号に基
づいてオンオフして出力するスイッチング素子（Ｑ１、
Ｑ２）と、三角波の振幅を電源（１１０）の変化する電
圧レベルに応じて調整する調整回路（２０１）とを備え
るようにしたものである。請求項９のモータ駆動装置
は、請求項１〜８のいずれか１項に記載のＰＷＭ制御装
置を備えた電流増幅回路を備えるようにしたものであ
る。請求項１０のステージ装置は、移動対象物を搭載す
るステージと、移動対象物を移動させるためにステージ
を駆動するモータと、モータを駆動する請求項９記載の
モータ駆動装置とを備えるようにしたものである。請求
項１１の発明は、露光により基板上に所定のパターンを
形成する露光装置に適用され、マスクおよび基板のいず
れか一方を搭載して移動させる請求項１０に記載のステ
ージ装置を少なくとも備えるようにしたものである。請
求項１２のデバイスは、請求項１１記載の露光装置によ
って製造されるようにしたものである。請求項１３のデ
バイス製造方法は、請求項１１記載の露光装置を用意
し、該露光装置によって露光を行う工程を有するように
したものである。請求項１４の発明は、入力信号の電圧
レベルに応じたパルス幅を有するＰＷＭ信号に基づいて
電源からの電圧をオンオフして出力するＰＷＭ制御方法
に適用され、電源の電圧レベルの変動に基づいてＰＷＭ
信号の変調度（デューティ比）を調整するようにしたも
のである。
【０００６】なお、上記課題を解決するための手段の項
では、分かりやすく説明するため実施の形態の図と対応
づけたが、これにより本発明が実施の形態に限定される
ものではない。
では、分かりやすく説明するため実施の形態の図と対応
づけたが、これにより本発明が実施の形態に限定される
ものではない。
【０００７】
【発明の実施の形態】−第１の実施形態− まず、本発明のＰＷＭ制御装置（ＰＷＭ回路）を使用し
たモータ駆動装置によりステージが駆動される投影露光
装置について説明をする。
たモータ駆動装置によりステージが駆動される投影露光
装置について説明をする。
【０００８】図１は投影露光装置の概略構成を示す図で
ある。投影露光装置は、レチクルのパターンの縮小像を
ウエハの各ショット領域に露光するステッパー型（ステ
ップアンドリピート型）の投影露光装置である。なお、
第１の実施の形態ではレチクルという用語を使用する
が、本明細書では、レチクルもマスクもウェハ上に投影
すべきパターンが形成されたものとして同義のものとし
て扱う。図１において、照明光学系１からの露光光ＩＬ
が、ダイクロイックミラー２により反射されてレチクル
Ｒのパターン領域を照明する。ダイクロイックミラー２
により反射された後の露光光ＩＬの光軸に平行にＺ軸を
取り、Ｚ軸に垂直な２次元平面内で図１の紙面に平行な
方向にＸ軸を、図１の紙面に垂直な方向にＹ軸を取る。
ある。投影露光装置は、レチクルのパターンの縮小像を
ウエハの各ショット領域に露光するステッパー型（ステ
ップアンドリピート型）の投影露光装置である。なお、
第１の実施の形態ではレチクルという用語を使用する
が、本明細書では、レチクルもマスクもウェハ上に投影
すべきパターンが形成されたものとして同義のものとし
て扱う。図１において、照明光学系１からの露光光ＩＬ
が、ダイクロイックミラー２により反射されてレチクル
Ｒのパターン領域を照明する。ダイクロイックミラー２
により反射された後の露光光ＩＬの光軸に平行にＺ軸を
取り、Ｚ軸に垂直な２次元平面内で図１の紙面に平行な
方向にＸ軸を、図１の紙面に垂直な方向にＹ軸を取る。
【０００９】レチクルＲは、レチクル側Ｙステージ３
Ｙ、およびレチクル側Ｘステージ３Ｘを介してレチクル
ベース４上に搭載される。レチクル側Ｘステージ３Ｘは
レチクルベース４に対して固定子５Ａ、および可動子５
Ｂよりなるリニアモータ（以下、「リニアモータ５」と
呼ぶ）を介してＸ方向に駆動され、レチクル側Ｙステー
ジ３Ｙはレチクル側Ｘステージ３Ｘに対して不図示のリ
ニアモータによりＹ方向に駆動される。
Ｙ、およびレチクル側Ｘステージ３Ｘを介してレチクル
ベース４上に搭載される。レチクル側Ｘステージ３Ｘは
レチクルベース４に対して固定子５Ａ、および可動子５
Ｂよりなるリニアモータ（以下、「リニアモータ５」と
呼ぶ）を介してＸ方向に駆動され、レチクル側Ｙステー
ジ３Ｙはレチクル側Ｘステージ３Ｘに対して不図示のリ
ニアモータによりＹ方向に駆動される。
【００１０】また、レチクル側Ｙステージ３Ｙ上にＸ軸
用の移動鏡６Ｘ、および不図示のＹ軸用の移動鏡が固定
され、移動鏡６Ｘ、および外部に設置されたＸ軸用のレ
チクル側のレーザ干渉計（以下、「レチクル干渉計」と
いう）７Ｘによりレチクル側Ｘステージ３ＸのＸ座標Ｘ
Ｒが計測される。不図示のＹ軸用の移動鏡、およびＹ軸
用のレチクル干渉計７Ｙによりレチクル側Ｙステージ３
ＹのＹ座標が計測される。計測されたＸ座標ＸＲおよび
Ｙ座標ＹＲは、装置全体の動作を統括制御する中央制御
系８にコネクタ１７、１８を介して供給される。レチク
ル側Ｙステージ３Ｙ、レチクル側Ｘステージ３Ｘ、レチ
クルベース４、Ｘ軸のリニアモータ５、およびＹ軸のリ
ニアモータよりなるステージ系をレチクルステージ装置
３と呼ぶ。
用の移動鏡６Ｘ、および不図示のＹ軸用の移動鏡が固定
され、移動鏡６Ｘ、および外部に設置されたＸ軸用のレ
チクル側のレーザ干渉計（以下、「レチクル干渉計」と
いう）７Ｘによりレチクル側Ｘステージ３ＸのＸ座標Ｘ
Ｒが計測される。不図示のＹ軸用の移動鏡、およびＹ軸
用のレチクル干渉計７Ｙによりレチクル側Ｙステージ３
ＹのＹ座標が計測される。計測されたＸ座標ＸＲおよび
Ｙ座標ＹＲは、装置全体の動作を統括制御する中央制御
系８にコネクタ１７、１８を介して供給される。レチク
ル側Ｙステージ３Ｙ、レチクル側Ｘステージ３Ｘ、レチ
クルベース４、Ｘ軸のリニアモータ５、およびＹ軸のリ
ニアモータよりなるステージ系をレチクルステージ装置
３と呼ぶ。
【００１１】露光光ＩＬのもとで、レチクルＲのパター
ンの像は、投影倍率β（βは例えば１／５）の投影光学
系ＰＬを介して縮小されてウエハＷ上の各ショット領域
に投影露光される。ウエハＷは、ウエハ側Ｙステージ１
０Ｙ、およびウエハ側Ｘステージ１０Ｘを介してウエハ
ベース１１上に搭載され、ウエハ側Ｘステージ１０Ｘは
ウエハベース１１に対して固定子１２Ａ、および可動子
１２Ｂよりなるリニアモータ（以下、「リニアモータ１
２」と呼ぶ）を介してＸ方向に駆動され、ウエハ側Ｙス
テージ１０Ｙはウエハ側Ｘステージ１０Ｘに対して不図
示のリニアモータによりＹ方向に駆動される。
ンの像は、投影倍率β（βは例えば１／５）の投影光学
系ＰＬを介して縮小されてウエハＷ上の各ショット領域
に投影露光される。ウエハＷは、ウエハ側Ｙステージ１
０Ｙ、およびウエハ側Ｘステージ１０Ｘを介してウエハ
ベース１１上に搭載され、ウエハ側Ｘステージ１０Ｘは
ウエハベース１１に対して固定子１２Ａ、および可動子
１２Ｂよりなるリニアモータ（以下、「リニアモータ１
２」と呼ぶ）を介してＸ方向に駆動され、ウエハ側Ｙス
テージ１０Ｙはウエハ側Ｘステージ１０Ｘに対して不図
示のリニアモータによりＹ方向に駆動される。
【００１２】また、ウエハ側Ｙステージ１０Ｙ上にＸ軸
用の移動鏡１３Ｘ、および不図示のＹ軸用の移動鏡が固
定され、移動鏡１３Ｘ、および外部に設置されたＸ軸用
のウエハ側のレーザ干渉計（以下、「ウエハ干渉計」と
いう）１４Ｘによりウエハ側Ｘステージ１０ＸのＸ座標
ＸＷが計測され、不図示のＹ軸用の移動鏡、およびＹ軸
用のウエハ干渉計１４Ｙによりウエハ側Ｙステージ１０
ＹのＹ座標ＹＷが計測され、計測されたＸ座標ＸＷおよ
びＹ座標ＹＷは、中央制御系８にコネクタ１９、２０を
介して供給される。ウエハ側Ｙステージ１０Ｙ、ウエハ
側Ｘステージ１０Ｘ、ウエハベース１１、Ｘ軸用のリニ
アモータ１２、Ｙ軸用のリニアモータ、並びにウエハＷ
のＺ方向への位置および傾斜角を制御するＺレベリング
ステージ（不図示）よりなるステージ系をウエハステー
ジ装置１０と呼ぶ。
用の移動鏡１３Ｘ、および不図示のＹ軸用の移動鏡が固
定され、移動鏡１３Ｘ、および外部に設置されたＸ軸用
のウエハ側のレーザ干渉計（以下、「ウエハ干渉計」と
いう）１４Ｘによりウエハ側Ｘステージ１０ＸのＸ座標
ＸＷが計測され、不図示のＹ軸用の移動鏡、およびＹ軸
用のウエハ干渉計１４Ｙによりウエハ側Ｙステージ１０
ＹのＹ座標ＹＷが計測され、計測されたＸ座標ＸＷおよ
びＹ座標ＹＷは、中央制御系８にコネクタ１９、２０を
介して供給される。ウエハ側Ｙステージ１０Ｙ、ウエハ
側Ｘステージ１０Ｘ、ウエハベース１１、Ｘ軸用のリニ
アモータ１２、Ｙ軸用のリニアモータ、並びにウエハＷ
のＺ方向への位置および傾斜角を制御するＺレベリング
ステージ（不図示）よりなるステージ系をウエハステー
ジ装置１０と呼ぶ。
【００１３】第１の実施の形態では、リニアモータとし
て３相リニアモータを使用する。例えばリニアモータ１
２を例に説明する。リニアモータ１２は固定子１２Ａと
可動子１２Ｂとで構成され、固定子１２Ａは３相の電機
子コイル（不図示）からなり、可動子１２Ｂはウエハ側
Ｘステージ１０Ｘの側面に極性が順次反転してＸ方向に
並べて固定された４個の永久磁石（不図示）からなる。
すなわち、リニアモータ１２はムービング・マグネット
型のリニア同期モータである。なお、可動子側に電機子
コイルを収納したムービング・コイル型のリニアモータ
を使用してもよい。
て３相リニアモータを使用する。例えばリニアモータ１
２を例に説明する。リニアモータ１２は固定子１２Ａと
可動子１２Ｂとで構成され、固定子１２Ａは３相の電機
子コイル（不図示）からなり、可動子１２Ｂはウエハ側
Ｘステージ１０Ｘの側面に極性が順次反転してＸ方向に
並べて固定された４個の永久磁石（不図示）からなる。
すなわち、リニアモータ１２はムービング・マグネット
型のリニア同期モータである。なお、可動子側に電機子
コイルを収納したムービング・コイル型のリニアモータ
を使用してもよい。
【００１４】中央制御系８は、レチクルステージ駆動系
１５を介してレチクル側のＸ軸用のリニアモータ５およ
びＹ軸用のリニアモータの動作を制御してレチクルＲの
位置決めを行うと共に、ウエハステージ駆動系１６を介
してウエハ側のＸ軸用のリニアモータ１２およびＹ軸用
のリニアモータの動作を制御してウエハＷの位置決めを
行う。このような制御により、レチクルＲのパターン
は、ウエハＷの各ショット領域に縮小されて露光され
る。
１５を介してレチクル側のＸ軸用のリニアモータ５およ
びＹ軸用のリニアモータの動作を制御してレチクルＲの
位置決めを行うと共に、ウエハステージ駆動系１６を介
してウエハ側のＸ軸用のリニアモータ１２およびＹ軸用
のリニアモータの動作を制御してウエハＷの位置決めを
行う。このような制御により、レチクルＲのパターン
は、ウエハＷの各ショット領域に縮小されて露光され
る。
【００１５】レチクルステージ駆動系１５およびウエハ
ステージ駆動系１６は、各リニアモータ５、１２をそれ
ぞれ駆動するモータ駆動装置を搭載する。以下、このモ
ータ駆動装置について詳細に説明する。
ステージ駆動系１６は、各リニアモータ５、１２をそれ
ぞれ駆動するモータ駆動装置を搭載する。以下、このモ
ータ駆動装置について詳細に説明する。
【００１６】図２は、一つのリニアモータを駆動するモ
ータ駆動装置の回路構成を示す図である。各リニアモー
タ５、１２を駆動するすべてのモータ駆動装置は原理的
には共通するので、ここでは、代表して一つのリニアモ
ータ５を駆動する一つのモータ駆動装置について説明す
る。図２のモータ駆動装置は、入力信号Ｉの電圧レベル
に応じてリニアモータ５に流す電流を制御する電流制御
装置（電流増幅回路）である。中央制御系８は、所定の
プログラムにより、レチクル干渉計７Ｘからの信号によ
りレチクルステージ３ＸのＸ座標を検出し、適宜リニア
モータ５をＸ方向に駆動すべく、駆動信号（入力信号
Ｉ）を演算して出力する。
ータ駆動装置の回路構成を示す図である。各リニアモー
タ５、１２を駆動するすべてのモータ駆動装置は原理的
には共通するので、ここでは、代表して一つのリニアモ
ータ５を駆動する一つのモータ駆動装置について説明す
る。図２のモータ駆動装置は、入力信号Ｉの電圧レベル
に応じてリニアモータ５に流す電流を制御する電流制御
装置（電流増幅回路）である。中央制御系８は、所定の
プログラムにより、レチクル干渉計７Ｘからの信号によ
りレチクルステージ３ＸのＸ座標を検出し、適宜リニア
モータ５をＸ方向に駆動すべく、駆動信号（入力信号
Ｉ）を演算して出力する。
【００１７】図２のモータ駆動装置は、入力信号Ｉの電
圧レベルに対してＰＷＭ（パルス幅変調）方式を使用し
て出力電流を制御する。図２において、三角波生成回路
１０１は、抵抗Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、コンデンサＣ１、オ
ペアンプＵ１、Ｕ２により構成され、所定の周波数およ
び振幅を有する三角波を出力する。入力信号Ｉは±（正
負）の符号を有する信号であり、三角波も±に同一振幅
で振れる周期信号である。差分検出器１０２は、図に示
すように、抵抗Ｒ４、Ｒ５、コンデンサＣ２、オペアン
プＵ３により構成され、入力信号Ｉと電流センサ１０９
（後述）からの信号を比較し、その差分を増幅して出力
する。比較器１０３は、コンパレータＵ５により構成さ
れ、三角波生成回路１０１からの三角波とわり算回路１
０４（後述）を介して入力される入力信号Ｉを比較し
て、ＰＷＭ信号（パルス幅変調された信号）を出力す
る。すなわち、入力信号Ｉをパルス幅変調した信号を出
力する。なお、このパルス幅変調方式は公知な内容であ
る。
圧レベルに対してＰＷＭ（パルス幅変調）方式を使用し
て出力電流を制御する。図２において、三角波生成回路
１０１は、抵抗Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、コンデンサＣ１、オ
ペアンプＵ１、Ｕ２により構成され、所定の周波数およ
び振幅を有する三角波を出力する。入力信号Ｉは±（正
負）の符号を有する信号であり、三角波も±に同一振幅
で振れる周期信号である。差分検出器１０２は、図に示
すように、抵抗Ｒ４、Ｒ５、コンデンサＣ２、オペアン
プＵ３により構成され、入力信号Ｉと電流センサ１０９
（後述）からの信号を比較し、その差分を増幅して出力
する。比較器１０３は、コンパレータＵ５により構成さ
れ、三角波生成回路１０１からの三角波とわり算回路１
０４（後述）を介して入力される入力信号Ｉを比較し
て、ＰＷＭ信号（パルス幅変調された信号）を出力す
る。すなわち、入力信号Ｉをパルス幅変調した信号を出
力する。なお、このパルス幅変調方式は公知な内容であ
る。
【００１８】比較器１０３の出力であるＰＷＭ信号はフ
ォトカプラ１０５でレベルシフトされ、ＰＷＭドライバ
１０６に入力される。このとき、インバータ１０７で反
転した信号もＰＷＭドライバ１０６に入力される。ＰＷ
Ｍドライバ１０６はブリッジ回路により構成され、ＰＷ
Ｍ信号に基づきスイッチング用ＦＥＴＱ１、Ｑ２をスイ
ッチング駆動する。ローパスフィルタ１０８は、コイル
Ｌ１とコンデンサＣ３により構成され、スイッチング用
ＦＥＴＱ１、Ｑ２の出力信号からスイッチング成分を取
り除き、所望の出力信号ＯＵＴを生成する。
ォトカプラ１０５でレベルシフトされ、ＰＷＭドライバ
１０６に入力される。このとき、インバータ１０７で反
転した信号もＰＷＭドライバ１０６に入力される。ＰＷ
Ｍドライバ１０６はブリッジ回路により構成され、ＰＷ
Ｍ信号に基づきスイッチング用ＦＥＴＱ１、Ｑ２をスイ
ッチング駆動する。ローパスフィルタ１０８は、コイル
Ｌ１とコンデンサＣ３により構成され、スイッチング用
ＦＥＴＱ１、Ｑ２の出力信号からスイッチング成分を取
り除き、所望の出力信号ＯＵＴを生成する。
【００１９】ローパスフィルタ１０８からの出力信号Ｏ
ＵＴは、電流センサ１０９でその電流成分が検出され、
前述の差分検出器１０２にフィードバックされる。電流
センサ９は、ホール素子により構成され、流れる電流に
応じた電圧を生成する。このように、出力電流を検出し
てフィードバックしているので、図２のモータ駆動装置
は出力電流制御装置（電流増幅器）として働く。なお、
電流センサ１０９は、ホール素子の代わりに抵抗および
増幅回路により構成してもよい。
ＵＴは、電流センサ１０９でその電流成分が検出され、
前述の差分検出器１０２にフィードバックされる。電流
センサ９は、ホール素子により構成され、流れる電流に
応じた電圧を生成する。このように、出力電流を検出し
てフィードバックしているので、図２のモータ駆動装置
は出力電流制御装置（電流増幅器）として働く。なお、
電流センサ１０９は、ホール素子の代わりに抵抗および
増幅回路により構成してもよい。
【００２０】スイッチング用ＦＥＴＱ１、Ｑ２の電源
は、電源回路１１０により供給される。電源回路１１０
は、ダイオードＤ１〜Ｄ６により構成され、３相２００
Ｖの交流電源を整流したのみの電源を供給する。電源回
路１１０は、３相２００Ｖの交流電源を整流したのみの
電源であるため、図３に示すようなリップルを含んだ電
源１１２となる。このリップルは、３相２００Ｖが５０
Ｈｚであると３００Ｈｚのリップルとなる。
は、電源回路１１０により供給される。電源回路１１０
は、ダイオードＤ１〜Ｄ６により構成され、３相２００
Ｖの交流電源を整流したのみの電源を供給する。電源回
路１１０は、３相２００Ｖの交流電源を整流したのみの
電源であるため、図３に示すようなリップルを含んだ電
源１１２となる。このリップルは、３相２００Ｖが５０
Ｈｚであると３００Ｈｚのリップルとなる。
【００２１】ところで、このリップルを含んだ電源１１
２をそのままスイッチング用ＦＥＴＱ１、Ｑ２の電源と
して使用すると、スイッチング用ＦＥＴＱ１、Ｑ２の出
力信号はこのリップルの影響を受けたノイズ成分を有す
る信号となる。そこで、本実施の形態のモータ駆動装置
では、電源１１２のリップル成分の影響を除去するため
にわり算回路１０４を使用する。
２をそのままスイッチング用ＦＥＴＱ１、Ｑ２の電源と
して使用すると、スイッチング用ＦＥＴＱ１、Ｑ２の出
力信号はこのリップルの影響を受けたノイズ成分を有す
る信号となる。そこで、本実施の形態のモータ駆動装置
では、電源１１２のリップル成分の影響を除去するため
にわり算回路１０４を使用する。
【００２２】差動増幅器１１１は、抵抗Ｒ９〜Ｒ１２お
よびオペアンプＵ６により構成され、電源１１２の電圧
を検出して所定の係数で増幅してわり算回路１０４に入
力する。わり算回路１０４は、わり算器Ｕ４とわり算の
係数を決める抵抗Ｒ６、Ｒ７から構成され、差分検出回
路１０２からの信号を差動増幅器１１１からの信号でわ
り算して、その結果を比較器１０３へ入力する。すなわ
ち、出力電流がフィードバックされた後の入力信号Ｉは
電源１１２の電圧レベルでわり算された後比較器１０３
に入力される。具体的には、電源１１２が大きな値に変
動する場合は入力信号Ｉは小さくなるように補正され、
電源１１２が小さな値に変動する場合は入力信号Ｉは大
きくなるように補正される。
よびオペアンプＵ６により構成され、電源１１２の電圧
を検出して所定の係数で増幅してわり算回路１０４に入
力する。わり算回路１０４は、わり算器Ｕ４とわり算の
係数を決める抵抗Ｒ６、Ｒ７から構成され、差分検出回
路１０２からの信号を差動増幅器１１１からの信号でわ
り算して、その結果を比較器１０３へ入力する。すなわ
ち、出力電流がフィードバックされた後の入力信号Ｉは
電源１１２の電圧レベルでわり算された後比較器１０３
に入力される。具体的には、電源１１２が大きな値に変
動する場合は入力信号Ｉは小さくなるように補正され、
電源１１２が小さな値に変動する場合は入力信号Ｉは大
きくなるように補正される。
【００２３】わり算回路１０４および差動増幅器１１１
の回路定数は、入力信号Ｉが一定の値の場合に、リップ
ル成分を含んだ電源１１２がスイッチング用ＦＥＴＱ
１、Ｑ２に供給されても、出力信号ＯＵＴはリップルの
影響を受けない一定の値を示すように決められる。
の回路定数は、入力信号Ｉが一定の値の場合に、リップ
ル成分を含んだ電源１１２がスイッチング用ＦＥＴＱ
１、Ｑ２に供給されても、出力信号ＯＵＴはリップルの
影響を受けない一定の値を示すように決められる。
【００２４】なお、図２の回路では、入力信号Ｉは±の
符号を有する電圧信号であり、電圧が±ゼロのとき、出
力電流ＯＵＴをゼロとすべくＰＷＭ信号のデューティ比
は５０％となるように調整されている。入力信号Ｉが正
方向に変化すると、出力電流ＯＵＴは入力信号Ｉの大き
さに応じて正方向に流れるように、ＰＷＭ信号のデュー
ティ比は５０％より小さくなるように変化する。一方、
入力信号Ｉが負方向に変化すると、出力電流ＯＵＴは入
力信号Ｉの大きさに応じて負方向に流れるように、ＰＷ
Ｍ信号のデューティ比は５０％より大きくなるように変
化する。上記の説明で、単に入力信号Ｉの大きさと言っ
ている場合は入力信号Ｉの絶対値の大きさを指すもので
ある。
符号を有する電圧信号であり、電圧が±ゼロのとき、出
力電流ＯＵＴをゼロとすべくＰＷＭ信号のデューティ比
は５０％となるように調整されている。入力信号Ｉが正
方向に変化すると、出力電流ＯＵＴは入力信号Ｉの大き
さに応じて正方向に流れるように、ＰＷＭ信号のデュー
ティ比は５０％より小さくなるように変化する。一方、
入力信号Ｉが負方向に変化すると、出力電流ＯＵＴは入
力信号Ｉの大きさに応じて負方向に流れるように、ＰＷ
Ｍ信号のデューティ比は５０％より大きくなるように変
化する。上記の説明で、単に入力信号Ｉの大きさと言っ
ている場合は入力信号Ｉの絶対値の大きさを指すもので
ある。
【００２５】このように、ＰＷＭ方式による回路（単に
ＰＷＭ回路と言う）では、入力信号Ｉの大きさに応じて
ＰＷＭ信号のデューティ比（変調度）を変化させて出力
信号ＯＵＴ（第１の実施の形態では出力電流）を制御す
るが、第１の実施の形態のＰＷＭ回路は、電源１１２の
変動に応じてこのＰＷＭ信号のデューティ比を調整する
ものである。具体的には、電源１１２が大きな値に変動
する場合には、出力電流ＯＵＴが目標電流より大きくな
ってしまうため、出力電流ＯＵＴを小さくすべくＰＷＭ
信号のデューティ比を５０％に近づけるよう調整する。
第１の実施の形態では、この調整のために、入力信号Ｉ
を電源１１２の大きさによりわり算するわり算回路１０
４を挿入している。すなわち、電源１１２が大きく変動
する場合は、入力信号Ｉはわり算回路１０４により小さ
な値になるように制御され、その結果ＰＷＭ信号のデュ
ーティ比は５０％に近づくことになり、出力電流ＯＵＴ
は小さくなるように調整される。
ＰＷＭ回路と言う）では、入力信号Ｉの大きさに応じて
ＰＷＭ信号のデューティ比（変調度）を変化させて出力
信号ＯＵＴ（第１の実施の形態では出力電流）を制御す
るが、第１の実施の形態のＰＷＭ回路は、電源１１２の
変動に応じてこのＰＷＭ信号のデューティ比を調整する
ものである。具体的には、電源１１２が大きな値に変動
する場合には、出力電流ＯＵＴが目標電流より大きくな
ってしまうため、出力電流ＯＵＴを小さくすべくＰＷＭ
信号のデューティ比を５０％に近づけるよう調整する。
第１の実施の形態では、この調整のために、入力信号Ｉ
を電源１１２の大きさによりわり算するわり算回路１０
４を挿入している。すなわち、電源１１２が大きく変動
する場合は、入力信号Ｉはわり算回路１０４により小さ
な値になるように制御され、その結果ＰＷＭ信号のデュ
ーティ比は５０％に近づくことになり、出力電流ＯＵＴ
は小さくなるように調整される。
【００２６】このようにして、電源回路１１０の電源電
圧レベル１１２の変動に応じて、出力電流を調整してい
るので、電源回路には従来のように高精度にレギュレー
ションが取られた電源を設ける必要がない。図２の回路
では、単に３相２００Ｖを整流するダイオードＤ１〜Ｄ
６のみで構成された電源１１０が使用されているのみで
ある。これにより、極めて大きく、電源の低コスト化、
小容積化、低重量化が実現でき、しかも、露光装置など
に求められる高精度、高Ｓ／Ｎ比なモータの駆動も可能
としている。その結果、ステージ装置やこのステージ装
置を使用した露光装置などにおいて、高精度、高Ｓ／Ｎ
比なステージの駆動を維持しながら、低コスト化、小容
積化、低重量化が実現できる。
圧レベル１１２の変動に応じて、出力電流を調整してい
るので、電源回路には従来のように高精度にレギュレー
ションが取られた電源を設ける必要がない。図２の回路
では、単に３相２００Ｖを整流するダイオードＤ１〜Ｄ
６のみで構成された電源１１０が使用されているのみで
ある。これにより、極めて大きく、電源の低コスト化、
小容積化、低重量化が実現でき、しかも、露光装置など
に求められる高精度、高Ｓ／Ｎ比なモータの駆動も可能
としている。その結果、ステージ装置やこのステージ装
置を使用した露光装置などにおいて、高精度、高Ｓ／Ｎ
比なステージの駆動を維持しながら、低コスト化、小容
積化、低重量化が実現できる。
【００２７】なお、上記の実施の形態において、ＰＷＭ
信号におけるデューティ比の変化の方向と出力電流ＯＵ
Ｔの電流の方向の関係は、回路構成によっては逆の場合
もある。
信号におけるデューティ比の変化の方向と出力電流ＯＵ
Ｔの電流の方向の関係は、回路構成によっては逆の場合
もある。
【００２８】−第２の実施形態− 第２の実施の形態では、第１の実施の形態における図２
のモータ駆動装置の他の実施の形態を説明する。第２の
実施の形態のモータ駆動装置も、第１の実施の形態と同
様に図１の投影露光装置に使用される。従って、投影露
光装置の説明は省略し、投影露光装置については図１を
参照して以下説明する。
のモータ駆動装置の他の実施の形態を説明する。第２の
実施の形態のモータ駆動装置も、第１の実施の形態と同
様に図１の投影露光装置に使用される。従って、投影露
光装置の説明は省略し、投影露光装置については図１を
参照して以下説明する。
【００２９】図４は、一つのリニアモータを駆動するモ
ータ駆動装置の回路構成を示す図である。第１の実施の
形態の図２のモータ駆動装置と異なる点は、差分検出回
路１０２からの出力側に設けたわり算回路１０４をやめ
て、三角波生成回路１０１の出力側にかけ算回路２０１
を設けた点である。その他の部分は、図２のモータ駆動
装置と共通するので、共通する構成要素には同一符号を
付しその説明を省略する。
ータ駆動装置の回路構成を示す図である。第１の実施の
形態の図２のモータ駆動装置と異なる点は、差分検出回
路１０２からの出力側に設けたわり算回路１０４をやめ
て、三角波生成回路１０１の出力側にかけ算回路２０１
を設けた点である。その他の部分は、図２のモータ駆動
装置と共通するので、共通する構成要素には同一符号を
付しその説明を省略する。
【００３０】かけ算回路２０１は、かけ算器Ｕ２１とか
け算の係数を決める抵抗Ｒ２１、２２から構成され、三
角波生成回路１０１からの三角波を差動増幅器１１１か
らの信号でかけ算して、その結果を比較器１０３へ入力
する。具体的には、電源１１２が大きな値に変動する場
合は三角波の振幅は大きくなるように補正され、電源１
１２が小さな値に変動する場合は三角波の振幅は小さく
なるように補正される。
け算の係数を決める抵抗Ｒ２１、２２から構成され、三
角波生成回路１０１からの三角波を差動増幅器１１１か
らの信号でかけ算して、その結果を比較器１０３へ入力
する。具体的には、電源１１２が大きな値に変動する場
合は三角波の振幅は大きくなるように補正され、電源１
１２が小さな値に変動する場合は三角波の振幅は小さく
なるように補正される。
【００３１】かけ算回路２０１および差動増幅器１１１
の回路定数は、入力信号Ｉが一定の値の場合に、リップ
ル成分を含んだ電源１１２がスイッチング用ＦＥＴＱ
１、Ｑ２に供給されても、出力信号ＯＵＴはリップルの
影響を受けない一定の値を示すように決められる。
の回路定数は、入力信号Ｉが一定の値の場合に、リップ
ル成分を含んだ電源１１２がスイッチング用ＦＥＴＱ
１、Ｑ２に供給されても、出力信号ＯＵＴはリップルの
影響を受けない一定の値を示すように決められる。
【００３２】第１の実施の形態と同様に、入力信号Ｉは
±の符号を有する電圧信号であり、電圧が±ゼロのと
き、出力電流ＯＵＴをゼロとすべくＰＷＭ信号のデュー
ティ比は５０％となるように調整されている。入力信号
Ｉの変化とＰＷＭ信号のデューティ比の変化の関係は第
１の実施の形態で説明した通りであるのでここではその
説明を省略する。
±の符号を有する電圧信号であり、電圧が±ゼロのと
き、出力電流ＯＵＴをゼロとすべくＰＷＭ信号のデュー
ティ比は５０％となるように調整されている。入力信号
Ｉの変化とＰＷＭ信号のデューティ比の変化の関係は第
１の実施の形態で説明した通りであるのでここではその
説明を省略する。
【００３３】第２の実施の形態におけるＰＷＭ回路も、
電源１１２の変動に応じてＰＷＭ信号のデューティ比を
調整するものである。具体的には、電源１１２が大きな
値に変動する場合には、出力電流ＯＵＴが目標電流より
大きくなってしまうため、出力電流ＯＵＴを小さくすべ
くＰＷＭ信号のデューティ比を５０％に近づけるよう調
整する。第１の実施の形態では、この調整のために、三
角波生成回路１０１の出力である三角波信号を電源１１
２の大きさによってかけ算するかけ算回路２０１を挿入
している。
電源１１２の変動に応じてＰＷＭ信号のデューティ比を
調整するものである。具体的には、電源１１２が大きな
値に変動する場合には、出力電流ＯＵＴが目標電流より
大きくなってしまうため、出力電流ＯＵＴを小さくすべ
くＰＷＭ信号のデューティ比を５０％に近づけるよう調
整する。第１の実施の形態では、この調整のために、三
角波生成回路１０１の出力である三角波信号を電源１１
２の大きさによってかけ算するかけ算回路２０１を挿入
している。
【００３４】これは、図４の回路構成において、比較器
１０３に入力される信号レベルが同一レベルである場合
に、三角波の振幅が大きくなると、ＰＷＭ信号のデュー
ティ比は５０％に近づくことを利用するものである。従
って、電源１１２が大きな値になるように変動する場合
は、三角波はかけ算回路２０１により大きな振幅になる
ように制御され、その結果ＰＷＭ信号のデューティ比は
５０％に近づくことになり、出力電流ＯＵＴは小さくな
るように調整される。
１０３に入力される信号レベルが同一レベルである場合
に、三角波の振幅が大きくなると、ＰＷＭ信号のデュー
ティ比は５０％に近づくことを利用するものである。従
って、電源１１２が大きな値になるように変動する場合
は、三角波はかけ算回路２０１により大きな振幅になる
ように制御され、その結果ＰＷＭ信号のデューティ比は
５０％に近づくことになり、出力電流ＯＵＴは小さくな
るように調整される。
【００３５】このように、第２の実施の形態において
も、電源回路１１０の電源電圧レベル１１２の変動に応
じて、出力電流を調整しているので、電源回路には従来
のように高精度にレギュレーションが取られた電源を設
ける必要がない。その結果、第１の実施の形態と同一の
効果を奏する。
も、電源回路１１０の電源電圧レベル１１２の変動に応
じて、出力電流を調整しているので、電源回路には従来
のように高精度にレギュレーションが取られた電源を設
ける必要がない。その結果、第１の実施の形態と同一の
効果を奏する。
【００３６】−第３の実施形態− 第３の実施の形態では、第１の実施の形態における図２
のモータ駆動装置の他の実施の形態を説明する。第３の
実施の形態のモータ駆動装置も、第１の実施の形態と同
様に図１の投影露光装置に使用される。従って、投影露
光装置の説明は省略し、投影露光装置については図１を
参照して以下説明する。
のモータ駆動装置の他の実施の形態を説明する。第３の
実施の形態のモータ駆動装置も、第１の実施の形態と同
様に図１の投影露光装置に使用される。従って、投影露
光装置の説明は省略し、投影露光装置については図１を
参照して以下説明する。
【００３７】図５は、一つのリニアモータを駆動するモ
ータ駆動装置の回路構成を示す図である。第１の実施の
形態の図２のモータ駆動装置と異なる点は、差分検出回
路１０２からの出力側に設けたわり算回路１０４をやめ
て、三角波生成回路１０１に供給する三角波用電源回路
３０１を設けた点である。差動増幅器１１１も削除され
ている。その他の部分は、図２のモータ駆動装置と共通
するので、共通する構成要素には同一符号を付しその説
明を省略する。
ータ駆動装置の回路構成を示す図である。第１の実施の
形態の図２のモータ駆動装置と異なる点は、差分検出回
路１０２からの出力側に設けたわり算回路１０４をやめ
て、三角波生成回路１０１に供給する三角波用電源回路
３０１を設けた点である。差動増幅器１１１も削除され
ている。その他の部分は、図２のモータ駆動装置と共通
するので、共通する構成要素には同一符号を付しその説
明を省略する。
【００３８】三角波用電源回路３０１は、抵抗Ｒ３１、
Ｒ３２、Ｒ３３、Ｒ３４とオペアンプＵ３１とからなる
差動増幅器と抵抗３５、３６とオペアンプＵ３２とから
なる反転増幅器とから構成される。この差動増幅器で電
源１１２の電圧に応じた電圧信号Ｖ−を生成し、反転増
幅器で符号を反転した電圧信号Ｖ＋を生成する。三角波
用電源回路３０１で生成された電圧Ｖ＋と電圧Ｖ−は、
三角波生成回路１０１のオペアンプＵ１、Ｕ２の±電源
として供給される。
Ｒ３２、Ｒ３３、Ｒ３４とオペアンプＵ３１とからなる
差動増幅器と抵抗３５、３６とオペアンプＵ３２とから
なる反転増幅器とから構成される。この差動増幅器で電
源１１２の電圧に応じた電圧信号Ｖ−を生成し、反転増
幅器で符号を反転した電圧信号Ｖ＋を生成する。三角波
用電源回路３０１で生成された電圧Ｖ＋と電圧Ｖ−は、
三角波生成回路１０１のオペアンプＵ１、Ｕ２の±電源
として供給される。
【００３９】三角波生成回路１０１で生成される三角波
の振幅は、オペアンプＵ１、Ｕ２に供給される電源レベ
ルに応じて変化する。第３の実施の形態は、この性質を
利用して第２の実施の形態と同様に三角波の振幅を調整
するものである。具体的には、電源１１２が大きな値に
変動する場合は、三角波用電源回路３０１で生成される
電圧Ｖ＋と電圧Ｖ−との電位差は大きな値になるように
制御される。これによって、三角波生成回路１０１で生
成される三角波の振幅も大きくなるように補正される。
同様に、電源１１２が小さな値に変動する場合は三角波
の振幅は小さくなるように補正される。
の振幅は、オペアンプＵ１、Ｕ２に供給される電源レベ
ルに応じて変化する。第３の実施の形態は、この性質を
利用して第２の実施の形態と同様に三角波の振幅を調整
するものである。具体的には、電源１１２が大きな値に
変動する場合は、三角波用電源回路３０１で生成される
電圧Ｖ＋と電圧Ｖ−との電位差は大きな値になるように
制御される。これによって、三角波生成回路１０１で生
成される三角波の振幅も大きくなるように補正される。
同様に、電源１１２が小さな値に変動する場合は三角波
の振幅は小さくなるように補正される。
【００４０】三角波用電源回路３０１の回路定数は、電
圧Ｖ＋、Ｖ−が三角波生成回路１０１の電源として適し
た電圧レベルになるように、かつ、入力信号Ｉが一定の
値の場合に、リップル成分を含んだ電源１１２がスイッ
チング用ＦＥＴＱ１、Ｑ２に供給されても、出力信号Ｏ
ＵＴはリップルの影響を受けない一定の値を示すように
決められる。
圧Ｖ＋、Ｖ−が三角波生成回路１０１の電源として適し
た電圧レベルになるように、かつ、入力信号Ｉが一定の
値の場合に、リップル成分を含んだ電源１１２がスイッ
チング用ＦＥＴＱ１、Ｑ２に供給されても、出力信号Ｏ
ＵＴはリップルの影響を受けない一定の値を示すように
決められる。
【００４１】三角波の振幅とＰＷＭ信号のデューティ比
の関係は、第２の実施の形態で説明した通りであるの
で、ここではその説明を省略する。
の関係は、第２の実施の形態で説明した通りであるの
で、ここではその説明を省略する。
【００４２】このように、第３の実施の形態において
も、電源回路１１０の電源電圧レベル１１２の変動に応
じて、出力電流を調整しているので、電源回路には従来
のように高精度にレギュレーションが取られた電源を設
ける必要がない。その結果、第１の実施の形態と同一の
効果を奏する。
も、電源回路１１０の電源電圧レベル１１２の変動に応
じて、出力電流を調整しているので、電源回路には従来
のように高精度にレギュレーションが取られた電源を設
ける必要がない。その結果、第１の実施の形態と同一の
効果を奏する。
【００４３】−第４の実施形態− 第４の実施の形態では、第１の実施の形態における図２
のモータ駆動装置の他の実施の形態を説明する。第４の
実施の形態のモータ駆動装置も、第１の実施の形態と同
様に図１の投影露光装置に使用される。従って、投影露
光装置の説明は省略し、投影露光装置については図１を
参照して以下説明する。
のモータ駆動装置の他の実施の形態を説明する。第４の
実施の形態のモータ駆動装置も、第１の実施の形態と同
様に図１の投影露光装置に使用される。従って、投影露
光装置の説明は省略し、投影露光装置については図１を
参照して以下説明する。
【００４４】図６は、一つのリニアモータを駆動するモ
ータ駆動装置の回路構成を示す図である。第１の実施の
形態の図２のモータ駆動装置と異なる点は、差分検出回
路１０２からの出力側に設けたわり算回路１０４をや
め、三角波生成回路１０１の代わりに他の三角波生成回
路４０１を設けた点である。また、差動増幅器１１１も
削除され、電源１１２の変動に応じて変化する±の三角
波レベル信号Ｓ１、Ｓ２を生成する三角波レベル信号生
成回路４０４を設けている。その他の部分は、図２のモ
ータ駆動装置と共通するので、共通する構成要素には同
一符号を付しその説明を省略する。
ータ駆動装置の回路構成を示す図である。第１の実施の
形態の図２のモータ駆動装置と異なる点は、差分検出回
路１０２からの出力側に設けたわり算回路１０４をや
め、三角波生成回路１０１の代わりに他の三角波生成回
路４０１を設けた点である。また、差動増幅器１１１も
削除され、電源１１２の変動に応じて変化する±の三角
波レベル信号Ｓ１、Ｓ２を生成する三角波レベル信号生
成回路４０４を設けている。その他の部分は、図２のモ
ータ駆動装置と共通するので、共通する構成要素には同
一符号を付しその説明を省略する。
【００４５】三角波生成回路４０１は、三角波の周期を
決めるＯＳＣ（発振器）４０３と、ＯＳＣ４０３からの
信号を受けて＋三角波レベル信号Ｓ１と−の三角波レベ
ル信号Ｓ２間を交互にスイッチングするスイッチング素
子４０２と、スイッチング素子４０２からの出力信号を
積分する抵抗４１とコンデンサ４１とオペアンプＵ４１
とからなる積分回路とから構成される。この積分回路か
らは、三角波が出力され比較器１０３に入力される。三
角波の振幅は、±三角波レベル信号Ｓ１、Ｓ２の電圧レ
ベルとＯＳＣ４０３の周期と抵抗Ｒ４１とコンデンサＣ
４１の値等によって決まる。第３の実施の形態では、こ
のうち三角波レベル信号Ｓ１、Ｓ２の電圧レベルを変化
させることによって三角波の振幅を調整するようにした
ものである。三角波の振幅を調整するという点では、第
２の実施の形態および第３の実施の形態と同様である。
決めるＯＳＣ（発振器）４０３と、ＯＳＣ４０３からの
信号を受けて＋三角波レベル信号Ｓ１と−の三角波レベ
ル信号Ｓ２間を交互にスイッチングするスイッチング素
子４０２と、スイッチング素子４０２からの出力信号を
積分する抵抗４１とコンデンサ４１とオペアンプＵ４１
とからなる積分回路とから構成される。この積分回路か
らは、三角波が出力され比較器１０３に入力される。三
角波の振幅は、±三角波レベル信号Ｓ１、Ｓ２の電圧レ
ベルとＯＳＣ４０３の周期と抵抗Ｒ４１とコンデンサＣ
４１の値等によって決まる。第３の実施の形態では、こ
のうち三角波レベル信号Ｓ１、Ｓ２の電圧レベルを変化
させることによって三角波の振幅を調整するようにした
ものである。三角波の振幅を調整するという点では、第
２の実施の形態および第３の実施の形態と同様である。
【００４６】三角波レベル信号Ｓ１、Ｓ２は三角波レベ
ル信号生成回路４０４によって生成される。三角波レベ
ル信号生成回路４０４は、抵抗Ｒ４２、Ｒ４３、Ｒ４
４、Ｒ４５とオペアンプＵ４２とからなる差動増幅器と
抵抗４６、４７とオペアンプＵ４３とからなる反転増幅
器とから構成される。この差動増幅器で電源１１２の電
圧に応じた−三角波レベル信号Ｓ１を生成し、反転増幅
器でこの信号Ｓ１の符号を反転した＋三角波レベル信号
Ｓ２を生成する。三角波レベル信号で生成された±三角
波レベル信号Ｓ１、Ｓ２は三角波生成回路４０１のスイ
ッチング素子４０２に入力される。
ル信号生成回路４０４によって生成される。三角波レベ
ル信号生成回路４０４は、抵抗Ｒ４２、Ｒ４３、Ｒ４
４、Ｒ４５とオペアンプＵ４２とからなる差動増幅器と
抵抗４６、４７とオペアンプＵ４３とからなる反転増幅
器とから構成される。この差動増幅器で電源１１２の電
圧に応じた−三角波レベル信号Ｓ１を生成し、反転増幅
器でこの信号Ｓ１の符号を反転した＋三角波レベル信号
Ｓ２を生成する。三角波レベル信号で生成された±三角
波レベル信号Ｓ１、Ｓ２は三角波生成回路４０１のスイ
ッチング素子４０２に入力される。
【００４７】このように構成された三角波レベル信号生
成回路４０４と三角波生成回路４０１とにより、電源１
１２の変動に応じた振幅の三角波が生成される。具体的
には、電源１１２が大きな値に変動する場合は、三角波
レベル信号生成回路４０４で生成された±三角波レベル
信号Ｓ１、Ｓ２間の電位差は大きな値になるように制御
される。これによって、三角波生成回路４０１で生成さ
れる三角波の振幅も大きくなるように補正される。同様
に、電源１１２が小さな値に変動する場合は三角波の振
幅は小さくなるように補正される。
成回路４０４と三角波生成回路４０１とにより、電源１
１２の変動に応じた振幅の三角波が生成される。具体的
には、電源１１２が大きな値に変動する場合は、三角波
レベル信号生成回路４０４で生成された±三角波レベル
信号Ｓ１、Ｓ２間の電位差は大きな値になるように制御
される。これによって、三角波生成回路４０１で生成さ
れる三角波の振幅も大きくなるように補正される。同様
に、電源１１２が小さな値に変動する場合は三角波の振
幅は小さくなるように補正される。
【００４８】三角波レベル信号生成回路４０４および三
角波生成回路４０１の各回路定数は、三角波の振幅が図
６のＰＷＭ回路として適切な電圧レベルになるように、
かつ、入力信号Ｉが一定の値の場合に、リップル成分を
含んだ電源１１２がスイッチング用ＦＥＴＱ１、Ｑ２に
供給されても、出力信号ＯＵＴはリップルの影響を受け
ない一定の値を示すように決められる。
角波生成回路４０１の各回路定数は、三角波の振幅が図
６のＰＷＭ回路として適切な電圧レベルになるように、
かつ、入力信号Ｉが一定の値の場合に、リップル成分を
含んだ電源１１２がスイッチング用ＦＥＴＱ１、Ｑ２に
供給されても、出力信号ＯＵＴはリップルの影響を受け
ない一定の値を示すように決められる。
【００４９】三角波の振幅とＰＷＭ信号のデューティ比
の関係は、第２の実施の形態で説明した通りであるの
で、ここではその説明を省略する。
の関係は、第２の実施の形態で説明した通りであるの
で、ここではその説明を省略する。
【００５０】このように、第４の実施の形態において
も、電源回路１１０の電源電圧レベル１１２の変動に応
じて、出力電流を調整しているので、電源回路には従来
のように高精度にレギュレーションが取られた電源を設
ける必要がない。その結果、第１の実施の形態と同一の
効果を奏する。
も、電源回路１１０の電源電圧レベル１１２の変動に応
じて、出力電流を調整しているので、電源回路には従来
のように高精度にレギュレーションが取られた電源を設
ける必要がない。その結果、第１の実施の形態と同一の
効果を奏する。
【００５１】なお、図１の投影露光装置で用いられるリ
ニアモータとして、互いに位相の異なる３相の電流を印
加して駆動する同期型リニアモータが知られている。こ
のようなリニアモータでは、各相の電流に対してＰＷＭ
方式による電流増幅を行うことになる。その場合、図６
の電源回路１１０、三角波レベル信号生成回路４０４、
および、三角波生成回路４０１のＯＳＣ４０３とスイッ
チング素子４０２とを各相で共有されるように構成して
もよい。そして、三角波生成回路４０１のうち、抵抗Ｒ
４１とコンデンサＣ４１とオペアンプＵ４１とからなる
積分回路を各相用の回路毎に設ければよい。
ニアモータとして、互いに位相の異なる３相の電流を印
加して駆動する同期型リニアモータが知られている。こ
のようなリニアモータでは、各相の電流に対してＰＷＭ
方式による電流増幅を行うことになる。その場合、図６
の電源回路１１０、三角波レベル信号生成回路４０４、
および、三角波生成回路４０１のＯＳＣ４０３とスイッ
チング素子４０２とを各相で共有されるように構成して
もよい。そして、三角波生成回路４０１のうち、抵抗Ｒ
４１とコンデンサＣ４１とオペアンプＵ４１とからなる
積分回路を各相用の回路毎に設ければよい。
【００５２】また、複数のリニアモータを有し、これら
を駆動するために複数のモータ駆動装置を備えた装置で
あっても、同様に、電源回路１１０、三角波レベル信号
生成回路４０４、および、三角波生成回路４０１のおＳ
Ｃ４０３とスイッチング素子４０２とを各リニアモータ
の駆動装置で共有するようにしてもよい。こうすること
で、モータに印加される各電流の間で三角波の同期を取
ることができ、ビート信号等のノイズの発生を防止する
ことができる。
を駆動するために複数のモータ駆動装置を備えた装置で
あっても、同様に、電源回路１１０、三角波レベル信号
生成回路４０４、および、三角波生成回路４０１のおＳ
Ｃ４０３とスイッチング素子４０２とを各リニアモータ
の駆動装置で共有するようにしてもよい。こうすること
で、モータに印加される各電流の間で三角波の同期を取
ることができ、ビート信号等のノイズの発生を防止する
ことができる。
【００５３】モータ駆動装置のＰＷＭ増幅回路が電源電
圧の影響を受けるということは、ＰＷＭ増幅回路がルー
プゲインを変えてこの電源電圧による出力電流の変化を
吸収しているということである。その結果、ゲインや位
相の周波数特性が変化してしまう。そこで、上記第１〜
第４の実施の形態では、電源電圧の変化に基づき、例え
ば、入力信号の電圧や三角波の振幅を演算処理すること
により、ループゲインが電源電圧の変動の影響を受けな
いようにしたものである。これにより、電源が多少不安
定であったりリップルを含んでいる場合でも、高精度の
モータ駆動装置を実現することができる。
圧の影響を受けるということは、ＰＷＭ増幅回路がルー
プゲインを変えてこの電源電圧による出力電流の変化を
吸収しているということである。その結果、ゲインや位
相の周波数特性が変化してしまう。そこで、上記第１〜
第４の実施の形態では、電源電圧の変化に基づき、例え
ば、入力信号の電圧や三角波の振幅を演算処理すること
により、ループゲインが電源電圧の変動の影響を受けな
いようにしたものである。これにより、電源が多少不安
定であったりリップルを含んでいる場合でも、高精度の
モータ駆動装置を実現することができる。
【００５４】上記第１〜第４の実施の形態では、電源と
して３相２００Ｖを整流したものに適用する例を示した
が、本発明は、この内容に限定する必要はない。レギュ
レーションが十分に取られていないあらゆる種類の電源
を使用する場合に適用できる。
して３相２００Ｖを整流したものに適用する例を示した
が、本発明は、この内容に限定する必要はない。レギュ
レーションが十分に取られていないあらゆる種類の電源
を使用する場合に適用できる。
【００５５】また、電源の変動に応じて調整する回路に
ついても、上記の実施の形態に限定する必要はない。Ｐ
ＷＭ回路のスイッチング素子に供給する電源の変動に応
じて、ＰＷＭ信号のデューティ比が調整できるあらゆる
回路を採用することができる。特に、三角波の振幅を調
整する回路の具体例をいくつか例示しているが、三角波
の振幅を調整する他のあらゆる回路ももちろん採用する
ことができる。
ついても、上記の実施の形態に限定する必要はない。Ｐ
ＷＭ回路のスイッチング素子に供給する電源の変動に応
じて、ＰＷＭ信号のデューティ比が調整できるあらゆる
回路を採用することができる。特に、三角波の振幅を調
整する回路の具体例をいくつか例示しているが、三角波
の振幅を調整する他のあらゆる回路ももちろん採用する
ことができる。
【００５６】上記の実施の形態では、ＰＷＭ電流増幅回
路として示したが、本発明は、ＰＷＭ電圧増幅回路にも
適用できる。
路として示したが、本発明は、ＰＷＭ電圧増幅回路にも
適用できる。
【００５７】上記の実施の形態では、本発明のＰＷＭ回
路の応用として、モータ駆動装置、およびそれを利用し
たステージ装置、およびそのステージ装置を利用した投
影露光装置の例を示したが、この内容に限定する必要は
ない。本発明は、ＰＷＭ回路を応用するあらゆる回路お
よび装置に適用できる。この場合に、ＰＷＭ回路のスイ
ッチング素子に供給する電源のレギュレーションが十分
でないとき、本発明の効果を奏する。
路の応用として、モータ駆動装置、およびそれを利用し
たステージ装置、およびそのステージ装置を利用した投
影露光装置の例を示したが、この内容に限定する必要は
ない。本発明は、ＰＷＭ回路を応用するあらゆる回路お
よび装置に適用できる。この場合に、ＰＷＭ回路のスイ
ッチング素子に供給する電源のレギュレーションが十分
でないとき、本発明の効果を奏する。
【００５８】本実施形態の露光装置として、マスクと基
板とを同期移動してマスクのパターンを露光する走査型
の露光装置にも適用することができる。走査型の露光装
置は、例えば、米国特許第５，４７３，４１０号に開示
されており、本発明はこのような露光装置にも適用可能
である。
板とを同期移動してマスクのパターンを露光する走査型
の露光装置にも適用することができる。走査型の露光装
置は、例えば、米国特許第５，４７３，４１０号に開示
されており、本発明はこのような露光装置にも適用可能
である。
【００５９】本実施形態の露光装置として、投影光学系
を用いることなくマスクと基板とを密接させてマスクの
パターンを露光するプロキシミティ露光装置にも適用す
ることができる。
を用いることなくマスクと基板とを密接させてマスクの
パターンを露光するプロキシミティ露光装置にも適用す
ることができる。
【００６０】露光装置の用途としては半導体製造用の露
光装置に限らない。例えば、角型のガラスプレートに液
晶表示素子パターンを露光する液晶用の露光装置や、薄
膜磁気ヘッドを製造するための露光装置にも広く適当で
きる。
光装置に限らない。例えば、角型のガラスプレートに液
晶表示素子パターンを露光する液晶用の露光装置や、薄
膜磁気ヘッドを製造するための露光装置にも広く適当で
きる。
【００６１】本実施形態の露光装置の光源としては、ｇ
線（４３６ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎｍ）、ＫｒＦエキシ
マレーザ（２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザ（１９
３ｎｍ）、Ｆ2レーザ（１５７ｎｍ）のみならず、Ｘ線
や電子線などの荷電粒子線を用いることができる。例え
ば、電子線を用いる場合には電子銃として、熱電子放射
型のランタンヘキサボライト（LaB6）、タンタル（Ta）
を用いることができる。さらに、電子線を用いる場合
は、マスクを用いる構成としてもよいし、マスクを用い
ずに電子線による直接描画によって基板上にパターンを
形成する構成としてもよい。
線（４３６ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎｍ）、ＫｒＦエキシ
マレーザ（２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザ（１９
３ｎｍ）、Ｆ2レーザ（１５７ｎｍ）のみならず、Ｘ線
や電子線などの荷電粒子線を用いることができる。例え
ば、電子線を用いる場合には電子銃として、熱電子放射
型のランタンヘキサボライト（LaB6）、タンタル（Ta）
を用いることができる。さらに、電子線を用いる場合
は、マスクを用いる構成としてもよいし、マスクを用い
ずに電子線による直接描画によって基板上にパターンを
形成する構成としてもよい。
【００６２】投影光学系の倍率は縮小系のみならず等倍
および拡大系のいずれでもよい。
および拡大系のいずれでもよい。
【００６３】投影光学系としては、エキシマレーザなど
の遠紫外線を用いる場合は硝材として石英や蛍石などの
遠紫外線を透過する材料を用いればよい。また、Ｆ2レ
ーザやＸ線を用いる場合は反射屈折系または屈折系の光
学系にし（レチクルも反射型タイプのものを用いる）、
また、電子線を用いる場合には光学系として電子レンズ
および偏向器からなる電子光学系を用いればよい。な
お、電子線が通過する光路は真空状態にすることはいう
までもない。
の遠紫外線を用いる場合は硝材として石英や蛍石などの
遠紫外線を透過する材料を用いればよい。また、Ｆ2レ
ーザやＸ線を用いる場合は反射屈折系または屈折系の光
学系にし（レチクルも反射型タイプのものを用いる）、
また、電子線を用いる場合には光学系として電子レンズ
および偏向器からなる電子光学系を用いればよい。な
お、電子線が通過する光路は真空状態にすることはいう
までもない。
【００６４】波長２００ｎｍ程度以下の真空紫外光（Ｖ
ＵＶ光）を用いる露光装置では、投影光学系として反射
屈折型の光学系を用いることも考えられる。反射屈折型
の光学系としては、例えば、特開平８−１７１０５４号
公報およびこれに対応する米国特許第５，６６８，６７
２号、並びに特開平１０−２０１９５号公報およびこれ
に対応する米国特許第５，８３５，２７５号等に開示さ
れている、反射光学素子としてビームスプリッタと凹面
鏡とを有する反射屈折型の光学系を用いることができ
る。また、特開平８−３３４６９５号公報およびこれに
対応する米国特許第５，６８９，３７７号、並びに特開
平１０-３０３９号公報およびこれに対応する米国特許
出願第８７３，６０５号（出願日：１９９７年６月１２
日）等に開示された、反射光学素子としてビームスプリ
ッタを用いず凹面鏡等を有する反射屈折型の光学系を用
いることができる。本発明はこのような投影光学系を備
えた露光装置にも適用可能である。
ＵＶ光）を用いる露光装置では、投影光学系として反射
屈折型の光学系を用いることも考えられる。反射屈折型
の光学系としては、例えば、特開平８−１７１０５４号
公報およびこれに対応する米国特許第５，６６８，６７
２号、並びに特開平１０−２０１９５号公報およびこれ
に対応する米国特許第５，８３５，２７５号等に開示さ
れている、反射光学素子としてビームスプリッタと凹面
鏡とを有する反射屈折型の光学系を用いることができ
る。また、特開平８−３３４６９５号公報およびこれに
対応する米国特許第５，６８９，３７７号、並びに特開
平１０-３０３９号公報およびこれに対応する米国特許
出願第８７３，６０５号（出願日：１９９７年６月１２
日）等に開示された、反射光学素子としてビームスプリ
ッタを用いず凹面鏡等を有する反射屈折型の光学系を用
いることができる。本発明はこのような投影光学系を備
えた露光装置にも適用可能である。
【００６５】この他、米国特許第５，０３１，９７６
号、５，４８８，２２９号、および５，７１７，５１８
号に開示された、複数の屈折光学素子と２枚のミラー
（凹面鏡である主鏡と、反射素子または平行平面板の入
射面と反対側に反射面が形成される裏面鏡である副鏡）
とを同一軸上に配置し、その複数の屈折光学素子によっ
て形成されるレチクルパターンの中間像を、主鏡と副鏡
とによってウエハ上に再結像させる反射屈折型の光学系
を用いてもよい。この反射屈折型の光学系では、複数の
屈折光学素子に続けて主鏡と副鏡とが配置され、照明光
が主鏡の一部を通ってウエハ上に達することになる。
号、５，４８８，２２９号、および５，７１７，５１８
号に開示された、複数の屈折光学素子と２枚のミラー
（凹面鏡である主鏡と、反射素子または平行平面板の入
射面と反対側に反射面が形成される裏面鏡である副鏡）
とを同一軸上に配置し、その複数の屈折光学素子によっ
て形成されるレチクルパターンの中間像を、主鏡と副鏡
とによってウエハ上に再結像させる反射屈折型の光学系
を用いてもよい。この反射屈折型の光学系では、複数の
屈折光学素子に続けて主鏡と副鏡とが配置され、照明光
が主鏡の一部を通ってウエハ上に達することになる。
【００６６】さらに、反射屈折型の投影光学系として
は、例えば、円形のイメージフィールドを有し、かつ物
体面側および像面側が共にテレセントリックであるとと
もに、その投影倍率が１／４倍または１／５倍となる縮
小系を用いてもよい。この反射屈折型の投影光学系を備
えた走査型露光装置の場合、照明光の照射領域が、投影
光学系の視野内でその光軸を略中心とし、かつレチクル
またはウエハの走査方向と略直交する方向に沿って延び
る矩形スリット状に規定されるタイプであってもよい。
このような走査型露光装置によれば、例えば、波長１５
７ｎｍのＦ2レーザ光を露光用照明光として用いても１
００ｎｍＬ／Ｓパターン程度の微細パターンをウエハ上
に高精度に転写することが可能である。本発明はこのよ
うな投影光学系を備えた露光装置にも適用可能である。
は、例えば、円形のイメージフィールドを有し、かつ物
体面側および像面側が共にテレセントリックであるとと
もに、その投影倍率が１／４倍または１／５倍となる縮
小系を用いてもよい。この反射屈折型の投影光学系を備
えた走査型露光装置の場合、照明光の照射領域が、投影
光学系の視野内でその光軸を略中心とし、かつレチクル
またはウエハの走査方向と略直交する方向に沿って延び
る矩形スリット状に規定されるタイプであってもよい。
このような走査型露光装置によれば、例えば、波長１５
７ｎｍのＦ2レーザ光を露光用照明光として用いても１
００ｎｍＬ／Ｓパターン程度の微細パターンをウエハ上
に高精度に転写することが可能である。本発明はこのよ
うな投影光学系を備えた露光装置にも適用可能である。
【００６７】ウエハステージやレチクルステージのリニ
アモータは、エアベアリングを用いたエア浮上型や、ロ
ーレンツ力またはリアクタンス力を用いた磁気浮上型の
どちらを用いてもよい。また、ステージは、ガイドに沿
って移動するタイプでもよいし、ガイドを設けないガイ
ドレスタイプでもよい。
アモータは、エアベアリングを用いたエア浮上型や、ロ
ーレンツ力またはリアクタンス力を用いた磁気浮上型の
どちらを用いてもよい。また、ステージは、ガイドに沿
って移動するタイプでもよいし、ガイドを設けないガイ
ドレスタイプでもよい。
【００６８】ステージの駆動装置として平面モ−タを用
いる場合、磁石ユニットと電機子ユニットのいずれか一
方をステージに接続し、磁石ユニットと電機子ユニット
の他方をステージの移動面側に設ければよい。なお、平
面モータとしては、例えば、特開平１１−２７９２５号
に開示されている構成を用いることができる。
いる場合、磁石ユニットと電機子ユニットのいずれか一
方をステージに接続し、磁石ユニットと電機子ユニット
の他方をステージの移動面側に設ければよい。なお、平
面モータとしては、例えば、特開平１１−２７９２５号
に開示されている構成を用いることができる。
【００６９】ウエハステージの移動により発生する反力
は、例えば、特開平８−１６６４７５号公報に記載され
ているように、フレーム部材を用いて機械的に床（大
地）に逃がしてもよい。本発明はこのような反力処理機
構を備えたウエハステージにも適用可能である。
は、例えば、特開平８−１６６４７５号公報に記載され
ているように、フレーム部材を用いて機械的に床（大
地）に逃がしてもよい。本発明はこのような反力処理機
構を備えたウエハステージにも適用可能である。
【００７０】レチクルステージの移動により発生する反
力は、例えば、特開平８−３３０２２４号公報に記載さ
れているように、フレーム部材を用いて機械的に床（大
地）に逃がしてもよい。本発明はこのような反力処理機
構を備えたレチクルステージにも適用可能である。
力は、例えば、特開平８−３３０２２４号公報に記載さ
れているように、フレーム部材を用いて機械的に床（大
地）に逃がしてもよい。本発明はこのような反力処理機
構を備えたレチクルステージにも適用可能である。
【００７１】本願発明における実施の形態の露光装置
は、本願特許請求の範囲に挙げられた各構成要素(eleme
nts)を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電
気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで
製造される。これら各種精度を確保するために、この組
み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を
達成するための調整、各種機械系については機械的精度
を達成するための調整、各種電気系については電気的精
度を達成するための調整が行われる。各種サブシステム
から露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相
互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配
管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装
置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み
立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステ
ムの露光装置への組み立て工程が終了した後、電気調
整、動作確認等を含む総合調整が行われ、露光装置全体
としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造
は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルーム
で行うことが望ましい。
は、本願特許請求の範囲に挙げられた各構成要素(eleme
nts)を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電
気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで
製造される。これら各種精度を確保するために、この組
み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を
達成するための調整、各種機械系については機械的精度
を達成するための調整、各種電気系については電気的精
度を達成するための調整が行われる。各種サブシステム
から露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相
互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配
管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装
置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み
立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステ
ムの露光装置への組み立て工程が終了した後、電気調
整、動作確認等を含む総合調整が行われ、露光装置全体
としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造
は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルーム
で行うことが望ましい。
【００７２】半導体デバイスは、図７に示すように、デ
バイスの機能・性能設計を行うステップＳ３０１、この
設計ステップに基づいたマスク（レチクル）を製作する
ステップＳ３０２、シリコン材料からウエハを製造する
ステップＳ３０３、前述した実施形態の露光装置により
レチクルのパターンをウエハに露光するウエハ処理ステ
ップＳ３０４、デバイス組み立てステップ（ダイシング
工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む）Ｓ３
０５、検査ステップＳ３０６等を経て製造される。
バイスの機能・性能設計を行うステップＳ３０１、この
設計ステップに基づいたマスク（レチクル）を製作する
ステップＳ３０２、シリコン材料からウエハを製造する
ステップＳ３０３、前述した実施形態の露光装置により
レチクルのパターンをウエハに露光するウエハ処理ステ
ップＳ３０４、デバイス組み立てステップ（ダイシング
工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む）Ｓ３
０５、検査ステップＳ３０６等を経て製造される。
【００７３】以下、デバイスの製造方法についてさらに
詳細に説明する。図７には、デバイス（ＩＣやＬＳＩの
半導体チップ、液晶パネル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘッド、
マイクロマシン等）の製造例の一例を示すフローチャー
トが示されている。図７に示すように、まず、ステップ
Ｓ３０１（設計ステップ）において、デバイスの機能・
性能設計（例えば、半導体デバイスの回路設計等）を行
い、その機能を実現するためのパターン設計を行う。引
き続き、ステップＳ３０２（マスク製作ステップ）にお
いて、設計した回路パターンを形成したマスク（レチク
ル）を製作する。一方、ステップＳ３０３（ウエハ製造
ステップ）において、シリコン等の材料を用いてウエハ
を製造する。
詳細に説明する。図７には、デバイス（ＩＣやＬＳＩの
半導体チップ、液晶パネル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘッド、
マイクロマシン等）の製造例の一例を示すフローチャー
トが示されている。図７に示すように、まず、ステップ
Ｓ３０１（設計ステップ）において、デバイスの機能・
性能設計（例えば、半導体デバイスの回路設計等）を行
い、その機能を実現するためのパターン設計を行う。引
き続き、ステップＳ３０２（マスク製作ステップ）にお
いて、設計した回路パターンを形成したマスク（レチク
ル）を製作する。一方、ステップＳ３０３（ウエハ製造
ステップ）において、シリコン等の材料を用いてウエハ
を製造する。
【００７４】次に、ステップＳ３０４（ウエハ処理ステ
ップ）において、ステップＳ３０１〜ステップＳ３０３
で用意したマスク（レチクル）とウエハを用いて、後述
するように、リソグラフィ技術等によってウエハ上に実
際の回路等を形成する。次いで、ステップＳ３０５（デ
バイス組立てステップ）において、ステップＳ３０４で
処理されたウエハを用いてデバイス組立てを行う。この
ステップＳ３０５には、ダイシング工程、ボンディング
工程、およびパッケージング工程（チップ封入）等の工
程が必要に応じて含まれる。
ップ）において、ステップＳ３０１〜ステップＳ３０３
で用意したマスク（レチクル）とウエハを用いて、後述
するように、リソグラフィ技術等によってウエハ上に実
際の回路等を形成する。次いで、ステップＳ３０５（デ
バイス組立てステップ）において、ステップＳ３０４で
処理されたウエハを用いてデバイス組立てを行う。この
ステップＳ３０５には、ダイシング工程、ボンディング
工程、およびパッケージング工程（チップ封入）等の工
程が必要に応じて含まれる。
【００７５】最後に、ステップＳ３０６（検査ステッ
プ）において、ステップＳ３０５で作製されたデバイス
の動作確認デスト、耐久性テスト等の検査を行う。こう
した工程を経た後にデバイスが完成し、このデバイスが
出荷される。
プ）において、ステップＳ３０５で作製されたデバイス
の動作確認デスト、耐久性テスト等の検査を行う。こう
した工程を経た後にデバイスが完成し、このデバイスが
出荷される。
【００７６】図８には、半導体デバイスの場合におけ
る、前記ステップＳ３０４の詳細なフロー例が示されて
いる。図８において、ステップＳ３１１（酸化ステッ
プ）においては、ウエハの表面を酸化させる。ステップ
Ｓ３１２（ＣＶＤステップ）においては、ウエハ表面に
絶縁膜を形成する。ステップＳ３１３（電極形成ステッ
プ）においては、蒸着によってウエハ上に電極を形成す
る。ステップＳ３１４（イオン打込みステップ）におい
ては、ウエハにイオンを打ち込む。以上のステップＳ３
１１〜ステップＳ３１４のそれぞれは、ウエハ処理の各
段階の前処理工程を構成しており、各段階において必要
な処理に応じて選択されて実行される。
る、前記ステップＳ３０４の詳細なフロー例が示されて
いる。図８において、ステップＳ３１１（酸化ステッ
プ）においては、ウエハの表面を酸化させる。ステップ
Ｓ３１２（ＣＶＤステップ）においては、ウエハ表面に
絶縁膜を形成する。ステップＳ３１３（電極形成ステッ
プ）においては、蒸着によってウエハ上に電極を形成す
る。ステップＳ３１４（イオン打込みステップ）におい
ては、ウエハにイオンを打ち込む。以上のステップＳ３
１１〜ステップＳ３１４のそれぞれは、ウエハ処理の各
段階の前処理工程を構成しており、各段階において必要
な処理に応じて選択されて実行される。
【００７７】ウエハプロセスの各段階において、上述の
前処理工程が終了すると、以下のようにして後処理工程
が実行される。この後処理工程では、まず、ステップＳ
３１５（レジスト形成ステップ）において、ウエハに感
光剤を塗布する。引き続き、ステップＳ３１６（露光ス
テップ）において、本実施の形態の露光装置を用いてマ
スク（レチクル）の回路パターンをウエハに転写する。
次に、ステップＳ３１７（現像ステップ）において露光
されたウエハを現像し、ステップＳ３１８（エッチング
ステップ）においてレジストが残存している部分以外の
露出部材表面をエッチングにより取り去る。そして、ス
テップＳ３１９（レジスト除去ステップ）において、エ
ッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。
前処理工程が終了すると、以下のようにして後処理工程
が実行される。この後処理工程では、まず、ステップＳ
３１５（レジスト形成ステップ）において、ウエハに感
光剤を塗布する。引き続き、ステップＳ３１６（露光ス
テップ）において、本実施の形態の露光装置を用いてマ
スク（レチクル）の回路パターンをウエハに転写する。
次に、ステップＳ３１７（現像ステップ）において露光
されたウエハを現像し、ステップＳ３１８（エッチング
ステップ）においてレジストが残存している部分以外の
露出部材表面をエッチングにより取り去る。そして、ス
テップＳ３１９（レジスト除去ステップ）において、エ
ッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。
【００７８】これらの前処理と後処理とを繰り返し行う
ことによって、ウエハ上に多重に回路パターンが形成さ
れる。
ことによって、ウエハ上に多重に回路パターンが形成さ
れる。
【００７９】
【発明の効果】本発明は、以上説明したように構成して
いるので、次のような効果を奏する。ＰＷＭ制御装置に
供給される電源レベルの変動に応じてＰＷＭ信号のデュ
ーティ比を調整しているので、電源回路には高精度にレ
ギュレーションが取られた電源を設ける必要がない。例
えば、単に３相交流をダイオードで整流したのみの電源
でもよく、極めて大きな、電源の低コスト化、小容積
化、低重量化が実現でき、かつ、高精度、高Ｓ／Ｎ比な
ＰＷＭ制御装置の応用を可能にしている。例えば、モー
タを駆動するモータの駆動装置、このモータ駆動装置を
利用したステージ装置、このステージ装置を利用した露
光装置などにおいて、高精度、高Ｓ／Ｎ比な制御を維持
しながら、低コスト化、小容積化、低重量化が実現でき
る。
いるので、次のような効果を奏する。ＰＷＭ制御装置に
供給される電源レベルの変動に応じてＰＷＭ信号のデュ
ーティ比を調整しているので、電源回路には高精度にレ
ギュレーションが取られた電源を設ける必要がない。例
えば、単に３相交流をダイオードで整流したのみの電源
でもよく、極めて大きな、電源の低コスト化、小容積
化、低重量化が実現でき、かつ、高精度、高Ｓ／Ｎ比な
ＰＷＭ制御装置の応用を可能にしている。例えば、モー
タを駆動するモータの駆動装置、このモータ駆動装置を
利用したステージ装置、このステージ装置を利用した露
光装置などにおいて、高精度、高Ｓ／Ｎ比な制御を維持
しながら、低コスト化、小容積化、低重量化が実現でき
る。
【図１】投影露光装置の概略構成を示す図である。
【図２】第１の実施の形態における、リニアモータを駆
動するモータ駆動装置の回路構成を示す図である。
動するモータ駆動装置の回路構成を示す図である。
【図３】リップルを含んだ電源の様子を説明する図であ
る。
る。
【図４】第２の実施の形態における、リニアモータを駆
動するモータ駆動装置の回路構成を示す図である。
動するモータ駆動装置の回路構成を示す図である。
【図５】第３の実施の形態における、リニアモータを駆
動するモータ駆動装置の回路構成を示す図である。
動するモータ駆動装置の回路構成を示す図である。
【図６】第４の実施の形態における、リニアモータを駆
動するモータ駆動装置の回路構成を示す図である。
動するモータ駆動装置の回路構成を示す図である。
【図７】半導体製造工程を説明するフローチャートを示
す図。
す図。
【図８】図７のステップＳ３０４の詳細なフローチャー
トを示す図。
トを示す図。
Ｒ レチクル Ｗ ウエハ ＩＬ 露光光 ＰＬ 投影光学系 １ 照明光学系 ２ ダイクロイックミラー ３Ｘ レチクル側Ｘステージ ３Ｙ レチクル側Ｙステージ ４ レチクルベース ５Ａ，１２Ａ リニアモータの固定子 ５Ｂ，１２Ｂ リニアモータの可動子 ６Ｘ 移動鏡 ７Ｘ、７Ｙ レチクル干渉計 ８ 中央制御系 １０Ｘ ウエハ側Ｘステージ １０Ｙ ウエハ側Ｙステージ １１ ウエハベース １３Ｘ 移動鏡 １４Ｘ、１４Ｙ ウエハ干渉計 １５ レチクルステージ駆動系 １６ ウエハステージ駆動系 １０１、４０１ 三角波生成回路 １０２ 差分検出器 １０３ 比較器 １０４ わり算回路１０４ １０５ フォトカプラ １０６ ＰＷＭドライバ １０７ インバータ １０８ ローパスフィルタ １０９ 電流センサ １１０ 電源回路 １１１ 差動増幅器 １１２ 電源信号 ２０１ かけ算回路 ３０１ 三角波用電源回路 ４０２ スイッチング素子 ４０３ ＯＳＣ Ｉ 入力信号 ＯＵＴ 出力信号 Ｒ 抵抗 Ｃ コンデンサ Ｄ ダイオード Ｑ１、Ｑ２ スイッチング用ＦＥＴ Ｕ１〜Ｕ３、Ｕ５〜Ｕ７、Ｕ３１、Ｕ３２、Ｕ４１〜Ｕ
４３ オペアンプ Ｕ４ わり算器 Ｕ２１ かけ算器 Ｓ１、Ｓ２ 三角波レベル信号
４３ オペアンプ Ｕ４ わり算器 Ｕ２１ かけ算器 Ｓ１、Ｓ２ 三角波レベル信号
Claims (14)
- 【請求項１】三角波を生成する三角波生成回路と、 前記入力信号と前記三角波とを比較し、前記入力信号の
電圧レベルに応じたパルス幅のＰＷＭ信号を出力する比
較器と、 所定の電源に接続され、該電源からの電圧を前記ＰＷＭ
信号に基づいてオンオフして出力するスイッチング素子
と、 前記ＰＷＭ信号のデューティ比を前記所定の電源の電圧
レベルの変動に応じて調整する調整回路とを備えること
を特徴とするＰＷＭ制御装置。 - 【請求項２】請求項１記載のＰＷＭ制御装置において、 前記調整回路は、前記入力信号を前記電源の電圧レベル
でわり算する回路であることを特徴とするＰＷＭ制御装
置。 - 【請求項３】請求項１記載のＰＷＭ制御装置において、 前記調整回路は、前記電源の電圧レベルの変動に応じて
前記三角波の振幅を調整する回路であることを特徴とす
るＰＷＭ制御装置。 - 【請求項４】請求項３記載のＰＷＭ制御装置において、 前記調整回路は、前記三角波生成回路から出力された三
角波を前記電源の電圧レベルでかけ算する回路であるこ
とを特徴とするＰＷＭ制御装置。 - 【請求項５】請求項３記載のＰＷＭ制御装置において、 前記調整回路は、前記電源の電圧レベルの変動に比例し
て前記三角波生成回路に供給する三角波生成回路用電源
の電圧レベルを調整する回路であることを特徴とするＰ
ＷＭ制御装置。 - 【請求項６】請求項３記載のＰＷＭ制御装置において、 前記三角波生成回路は、２つの異なる信号レベルを所定
の周波数で交互にスイッチングするスイッチング回路
と、前記スイッチング回路の出力を積分して三角波を出
力する積分回路とから構成され、 前記調整回路は、前記電源の電圧レベルの変動に比例し
て信号レベル差が変化する前記２つの異なる信号レベル
を出力する増幅回路であることを特徴とするＰＷＭ制御
装置。 - 【請求項７】三角波を生成する三角波生成回路と、 前記入力信号と前記三角波とを比較し、前記入力信号の
電圧レベルに応じたパルス幅のＰＷＭ信号を出力する比
較器と、 電源が接続され、該電源からの電圧を前記ＰＷＭ信号に
基づいてオンオフして出力するスイッチング素子と、 前記比較器に入力される前記入力信号の電圧レベルを前
記電源の変化する電圧レベルに応じて調整する調整回路
とを備えることを特徴とするＰＷＭ制御装置。 - 【請求項８】三角波を生成する三角波生成回路と、 前記入力信号と前記三角波とを比較し、前記入力信号の
電圧レベルに応じたパルス幅のＰＷＭ信号を出力する比
較器と、 電源が接続され、該電源からの電圧を前記ＰＷＭ信号に
基づいてオンオフして出力するスイッチング素子と、 前記三角波の振幅を前記電源の変化する電圧レベルに応
じて調整する調整回路とを備えることを特徴とするＰＷ
Ｍ制御装置。 - 【請求項９】請求項１〜８のいずれか１項に記載のＰＷ
Ｍ制御装置を備えた電流増幅回路を備えることを特徴と
するモータ駆動装置。 - 【請求項１０】移動対象物を搭載するステージと、 前記移動対象物を移動させるために前記ステージを駆動
するモータと、 前記モータを駆動する請求項９記載のモータ駆動装置と
を備えることを特徴とするステージ装置。 - 【請求項１１】露光により基板上に所定のパターンを形
成する露光装置であって、 マスクおよび基板のいずれか一方を搭載して移動させる
請求項１０に記載のステージ装置を少なくとも備えるこ
とを特徴とする露光装置。 - 【請求項１２】請求項１１記載の露光装置によって製造
されたことを特徴とするデバイス。 - 【請求項１３】請求項１１記載の露光装置を用意し、該
露光装置によって露光を行う工程を有することを特徴と
するデバイスの製造方法。 - 【請求項１４】入力信号の電圧レベルに応じたパルス幅
を有するＰＷＭ信号に基づいて電源からの電圧をオンオ
フして出力するＰＷＭ制御方法において、 前記電源の電圧レベルの変動に基づいて前記ＰＷＭ信号
の変調度（デューティ比）を調整することを特徴とする
ＰＷＭ制御方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000005323A JP2001197773A (ja) | 2000-01-14 | 2000-01-14 | Ｐｗｍ制御装置、モータ駆動装置、ステージ装置、露光装置、およびこの露光装置により製造したデバイスおよびデバイスの製造方法 |
| US09/758,271 US6414857B2 (en) | 2000-01-14 | 2001-01-12 | Pulse width modulated control apparatus and method of using the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000005323A JP2001197773A (ja) | 2000-01-14 | 2000-01-14 | Ｐｗｍ制御装置、モータ駆動装置、ステージ装置、露光装置、およびこの露光装置により製造したデバイスおよびデバイスの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001197773A true JP2001197773A (ja) | 2001-07-19 |
| JP2001197773A5 JP2001197773A5 (ja) | 2007-03-01 |
Family
ID=18534001
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000005323A Pending JP2001197773A (ja) | 2000-01-14 | 2000-01-14 | Ｐｗｍ制御装置、モータ駆動装置、ステージ装置、露光装置、およびこの露光装置により製造したデバイスおよびデバイスの製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6414857B2 (ja) |
| JP (1) | JP2001197773A (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003037986A (ja) * | 2001-07-25 | 2003-02-07 | Nikon Corp | モータ駆動装置、ステージ装置、およびそれを備えた露光装置 |
| JP2003047282A (ja) * | 2001-07-26 | 2003-02-14 | Nikon Corp | 電流制御装置、モータ駆動装置、ステージ装置、およびそれを備えた露光装置 |
| JP2003088170A (ja) * | 2001-09-07 | 2003-03-20 | Hitachi Metals Ltd | リニアモータ用通電制御回路 |
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|---|---|---|---|---|
| US6690230B2 (en) * | 2001-05-17 | 2004-02-10 | International Rectifier Corporation | Active common mode filter connected in A-C line |
| US6819076B2 (en) * | 2002-05-02 | 2004-11-16 | International Rectifier Corporation | Active EMI filter with magnetoresistive sensor for common mode noise current |
| US20040146461A1 (en) * | 2003-01-29 | 2004-07-29 | Vincenzo Giuliano | Oral contrast media composition for computerized axial tomographic examinations and method |
| EP1500979A1 (en) * | 2003-07-21 | 2005-01-26 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US7453228B2 (en) * | 2006-04-07 | 2008-11-18 | Asml Netherlands B.V. | Method for controlling a positioning device, positioning device, and lithographic apparatus provided with a positioning device |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56117577A (en) * | 1980-02-19 | 1981-09-16 | Toshiba Corp | Controller for inverter |
| US4445167A (en) * | 1981-10-05 | 1984-04-24 | Tokyo Shibaura Denki Kabushiki Kaisha | Inverter system |
| JP3257505B2 (ja) * | 1998-03-31 | 2002-02-18 | 株式会社村田製作所 | 圧電トランスインバータ |
| EP0961396B1 (en) * | 1998-05-28 | 2005-09-28 | Ibiden Co., Ltd. | Motor-driving circuit |
| JP2000217370A (ja) * | 1999-01-25 | 2000-08-04 | Mitsubishi Electric Corp | パルス幅変調方式によるｉｃ出力回路 |
-
2000
- 2000-01-14 JP JP2000005323A patent/JP2001197773A/ja active Pending
-
2001
- 2001-01-12 US US09/758,271 patent/US6414857B2/en not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003037986A (ja) * | 2001-07-25 | 2003-02-07 | Nikon Corp | モータ駆動装置、ステージ装置、およびそれを備えた露光装置 |
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20010015901A1 (en) | 2001-08-23 |
| US6414857B2 (en) | 2002-07-02 |
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