JP2001196499A - 組立中に選択されるインピーダンスの導体を持つ半導体パッケージ - Google Patents
組立中に選択されるインピーダンスの導体を持つ半導体パッケージInfo
- Publication number
- JP2001196499A JP2001196499A JP2000394486A JP2000394486A JP2001196499A JP 2001196499 A JP2001196499 A JP 2001196499A JP 2000394486 A JP2000394486 A JP 2000394486A JP 2000394486 A JP2000394486 A JP 2000394486A JP 2001196499 A JP2001196499 A JP 2001196499A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- conductor
- conductors
- impedance
- main
- auxiliary
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Abandoned
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/58—Structural electrical arrangements for semiconductor devices not otherwise provided for, e.g. in combination with batteries
- H01L23/64—Impedance arrangements
- H01L23/66—High-frequency adaptations
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/498—Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
- H01L23/49811—Additional leads joined to the metallisation on the insulating substrate, e.g. pins, bumps, wires, flat leads
- H01L23/49816—Spherical bumps on the substrate for external connection, e.g. ball grid arrays [BGA]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/52—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
- H01L23/522—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames including external interconnections consisting of a multilayer structure of conductive and insulating layers inseparably formed on the semiconductor body
- H01L23/5222—Capacitive arrangements or effects of, or between wiring layers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/52—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
- H01L23/522—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames including external interconnections consisting of a multilayer structure of conductive and insulating layers inseparably formed on the semiconductor body
- H01L23/528—Geometry or layout of the interconnection structure
- H01L23/5286—Arrangements of power or ground buses
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/58—Structural electrical arrangements for semiconductor devices not otherwise provided for, e.g. in combination with batteries
- H01L23/64—Impedance arrangements
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L24/49—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2223/00—Details relating to semiconductor or other solid state devices covered by the group H01L23/00
- H01L2223/58—Structural electrical arrangements for semiconductor devices not otherwise provided for
- H01L2223/64—Impedance arrangements
- H01L2223/66—High-frequency adaptations
- H01L2223/6605—High-frequency electrical connections
- H01L2223/6627—Waveguides, e.g. microstrip line, strip line, coplanar line
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/0554—External layer
- H01L2224/0555—Shape
- H01L2224/05552—Shape in top view
- H01L2224/05554—Shape in top view being square
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
- H01L2224/16—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48225—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
- H01L2224/48227—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/49—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
- H01L2224/491—Disposition
- H01L2224/4912—Layout
- H01L2224/49175—Parallel arrangements
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/49—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
- H01L2224/494—Connecting portions
- H01L2224/4943—Connecting portions the connecting portions being staggered
- H01L2224/49433—Connecting portions the connecting portions being staggered outside the semiconductor or solid-state body
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L24/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/00014—Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01004—Beryllium [Be]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01005—Boron [B]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01006—Carbon [C]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01013—Aluminum [Al]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01029—Copper [Cu]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01074—Tungsten [W]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/013—Alloys
- H01L2924/014—Solder alloys
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/1015—Shape
- H01L2924/1016—Shape being a cuboid
- H01L2924/10161—Shape being a cuboid with a rectangular active surface
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/14—Integrated circuits
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/19—Details of hybrid assemblies other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/1901—Structure
- H01L2924/1903—Structure including wave guides
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/19—Details of hybrid assemblies other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/191—Disposition
- H01L2924/19101—Disposition of discrete passive components
- H01L2924/19107—Disposition of discrete passive components off-chip wires
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/30—Technical effects
- H01L2924/301—Electrical effects
- H01L2924/30105—Capacitance
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/30—Technical effects
- H01L2924/301—Electrical effects
- H01L2924/30107—Inductance
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/30—Technical effects
- H01L2924/301—Electrical effects
- H01L2924/3011—Impedance
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/30—Technical effects
- H01L2924/301—Electrical effects
- H01L2924/3011—Impedance
- H01L2924/30111—Impedance matching
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Geometry (AREA)
- Structure Of Printed Boards (AREA)
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 2つ(又はそれ以上)の平行平面内に配列さ
れた複数の導体と、使用可能な接地導体とを有する半導
体パッケージを提供する。 【解決手段】 補助又は第2平面内の導体は第1平面内
の主要信号導体に実質的に重なり合い、そして組立工程
において補助導体を接地又は浮かせたままにすることに
より、いずれの線又は線対のインピーダンスが任意に設
定される。奇又は偶モードのいずれかの信号導体の差分
対は補助導体を接地端子に接続することにより設定され
る。
れた複数の導体と、使用可能な接地導体とを有する半導
体パッケージを提供する。 【解決手段】 補助又は第2平面内の導体は第1平面内
の主要信号導体に実質的に重なり合い、そして組立工程
において補助導体を接地又は浮かせたままにすることに
より、いずれの線又は線対のインピーダンスが任意に設
定される。奇又は偶モードのいずれかの信号導体の差分
対は補助導体を接地端子に接続することにより設定され
る。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は一般に半導体パッケ
ージに関し、より詳細には半導体パッケージ内の導体の
インピーダンスに関する。
ージに関し、より詳細には半導体パッケージ内の導体の
インピーダンスに関する。
【0002】
【従来の技術】信号の保全性ほ維持するために、高速集
積化回路(IC)装置の設計はICチップを印刷配線板
又は次レベル相互接続に相互接続する特別のインピーダ
ンス特性の導体を必要とする。例えば、多くの高周波数
回路のクロック回路ドライバは50オーム整合インピー
ダンスに設計されており、そしてこれが特定の幾何学的
な導体の設計を必要とし、そしてパッケージ内又は基板
の導体システムの所定の出力位置が回路設計と整合しな
ければならない。さらに、基板又はパッケージ内に使用
される単一端及び差分信号伝送に使用される伝導システ
ムは各モードに対して異なるインピーダンス・レベルを
有し、従って個別装置に対して特別の導体設計を有す
る。
積化回路(IC)装置の設計はICチップを印刷配線板
又は次レベル相互接続に相互接続する特別のインピーダ
ンス特性の導体を必要とする。例えば、多くの高周波数
回路のクロック回路ドライバは50オーム整合インピー
ダンスに設計されており、そしてこれが特定の幾何学的
な導体の設計を必要とし、そしてパッケージ内又は基板
の導体システムの所定の出力位置が回路設計と整合しな
ければならない。さらに、基板又はパッケージ内に使用
される単一端及び差分信号伝送に使用される伝導システ
ムは各モードに対して異なるインピーダンス・レベルを
有し、従って個別装置に対して特別の導体設計を有す
る。
【0003】導体の配列が半導体パッケージ又は基板内
に伝送線を提供し、これらの配列又はシステムは、基
板、印刷配線基板、又は半導体チップ自身内の信号層及
び接地導体を含む。導電層は誘電体材料の間に挟まれ
る。導体の特性インピーダンスは導線間隔、誘電体層
厚、導体幅、材料の電気的特性、そして線上の信号伝播
速度の関数である。
に伝送線を提供し、これらの配列又はシステムは、基
板、印刷配線基板、又は半導体チップ自身内の信号層及
び接地導体を含む。導電層は誘電体材料の間に挟まれ
る。導体の特性インピーダンスは導線間隔、誘電体層
厚、導体幅、材料の電気的特性、そして線上の信号伝播
速度の関数である。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】一対の導体間の差分的
インピーダンスは、信号伝播の方向に依存して奇モード
又は偶モードであり、そしてある回路については同じ装
置内で両モードの必要性が存在する。これはより高い周
波数で偶モード・インピーダンス、しばしば100オー
ム、について設計されるマイクロ波装置で真実である。
インピーダンスは、信号伝播の方向に依存して奇モード
又は偶モードであり、そしてある回路については同じ装
置内で両モードの必要性が存在する。これはより高い周
波数で偶モード・インピーダンス、しばしば100オー
ム、について設計されるマイクロ波装置で真実である。
【0005】特定の導体要求を持つ高速回路の増大は、
多くのパッケージ又は基板設計のため、困難さとコスト
増加を発生する。いくつかの異なった回路設計を収容す
るためにより柔軟な導体システムに対する必要性が存在
する。
多くのパッケージ又は基板設計のため、困難さとコスト
増加を発生する。いくつかの異なった回路設計を収容す
るためにより柔軟な導体システムに対する必要性が存在
する。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明の主要な目的は、
伝送線としての役割を有する導体のインピーダンスレベ
ルを任意に選択することのできる集積化回路チップを外
部回路に相互接続するための複数使用導体システムを提
供することである。
伝送線としての役割を有する導体のインピーダンスレベ
ルを任意に選択することのできる集積化回路チップを外
部回路に相互接続するための複数使用導体システムを提
供することである。
【0007】本発明の1つの目的は、インピーダンスが
個別の線又は線対について選択することのできる導体を
有する半導体パッケージを提供することである。
個別の線又は線対について選択することのできる導体を
有する半導体パッケージを提供することである。
【0008】本発明の1つの目的は、導体の特性インピ
ーダンスが同じパッケージ内の奇及び偶モード差分伝送
線について及び単一端又は伝送線の差分対について選択
できる半導体パッケージを提供することである。
ーダンスが同じパッケージ内の奇及び偶モード差分伝送
線について及び単一端又は伝送線の差分対について選択
できる半導体パッケージを提供することである。
【0009】本発明の1つの目的は、導体のインピーダ
ンス・レベルが回路の組立の際に設定できる半導体パッ
ケージを提供することである。
ンス・レベルが回路の組立の際に設定できる半導体パッ
ケージを提供することである。
【0010】本発明の1つの目的は、多くのチップ設計
に使用することができ、従って、製造加工、在庫及びパ
ッケージ設計に関連するコストを低減できる半導体パッ
ケージを提供することである。
に使用することができ、従って、製造加工、在庫及びパ
ッケージ設計に関連するコストを低減できる半導体パッ
ケージを提供することである。
【0011】本発明のさらなる目的は、ワイヤ・ボンド
又はフリップ・チップ相互接続のいずれかと互換性のあ
る導体の相互接続である。
又はフリップ・チップ相互接続のいずれかと互換性のあ
る導体の相互接続である。
【0012】さらに別の目的は、異なるタイプのパッケ
ージ又は基板と使用可能なフレキシブルな導体システム
を提供することである。
ージ又は基板と使用可能なフレキシブルな導体システム
を提供することである。
【0013】本発明の1つの実施の形態の目的は、単一
端及び差分モード伝送を同じ導体システム内で混合でき
る導体システムを提供することである。
端及び差分モード伝送を同じ導体システム内で混合でき
る導体システムを提供することである。
【0014】本発明は、単一端又は差分信号伝送線のイ
ンピーダンスが半導体装置の組立の際にどの導体が接地
に接続されるの選択により決定されるマイクロエレクト
ロニクス装置、及びその装置を製造する方法である。さ
らに、この装置は同じ導体システム内で奇又は偶モード
のインピーダンスを有する導体の対に適用できる。
ンピーダンスが半導体装置の組立の際にどの導体が接地
に接続されるの選択により決定されるマイクロエレクト
ロニクス装置、及びその装置を製造する方法である。さ
らに、この装置は同じ導体システム内で奇又は偶モード
のインピーダンスを有する導体の対に適用できる。
【0015】1つの実施の形態において、装置は2つ
(またはそれ以上)の平行平面内に配列された複数の導
体と、接地導体とを有する半導体パッケージである。主
導体のそれぞれは同じ大きさと導体間の同じ間隔を有
し、補助導体のそれぞれは同じ大きさと間隔を有する。
補助又は第2平面内の導体は第1平面内の主要信号導体
と実質的に重なり合い、そしてどんな線又は線対のイン
ピーダンスは補助導体を接地に接続するか又は浮かせた
ままにするかにより任意に設定できる。奇又は偶モード
のいずれかの信号導体の差分対は、補助導体を接地端子
に接続することにより設定できる。
(またはそれ以上)の平行平面内に配列された複数の導
体と、接地導体とを有する半導体パッケージである。主
導体のそれぞれは同じ大きさと導体間の同じ間隔を有
し、補助導体のそれぞれは同じ大きさと間隔を有する。
補助又は第2平面内の導体は第1平面内の主要信号導体
と実質的に重なり合い、そしてどんな線又は線対のイン
ピーダンスは補助導体を接地に接続するか又は浮かせた
ままにするかにより任意に設定できる。奇又は偶モード
のいずれかの信号導体の差分対は、補助導体を接地端子
に接続することにより設定できる。
【0016】別の実施の形態において、単一端及び差分
インピーダンス・モードが同じパッケージ又は基板内で
混合できる導体システムが提供される。導体が2つ(又
はそれ以上)の平行平面内に利用可能な接地導体と共に
配列される。そして補助導体が主要導体に実質的に重な
り合う。導体大きさ及び間隔は交替するインピーダンス
・モードを提供するために設定される。
インピーダンス・モードが同じパッケージ又は基板内で
混合できる導体システムが提供される。導体が2つ(又
はそれ以上)の平行平面内に利用可能な接地導体と共に
配列される。そして補助導体が主要導体に実質的に重な
り合う。導体大きさ及び間隔は交替するインピーダンス
・モードを提供するために設定される。
【0017】
【発明の実施の形態】図1は本発明の導体の断面図を示
す。ここで接地平面105がパッケージ、チップ、又は
典型的に印刷回路基板である相互接続の次レベルのいず
れかに存在する。第1レベル又は主要導体101が接地
面105上の距離「h1」に位置して且つ定義された幅
「w1」を有し、そして近くの主要導体から「d」分離
されている。幅「w2」を有する導体の補助又は第2レ
ベル102が主要導体101上に接地平面上の距離「h
2」に位置し、そして導体システム中、主要導体の経路
に実質的に従っている。導体101及び102は同じ材
料であり、厚さ「t」を有する。導体は誘電体により介
在される。
す。ここで接地平面105がパッケージ、チップ、又は
典型的に印刷回路基板である相互接続の次レベルのいず
れかに存在する。第1レベル又は主要導体101が接地
面105上の距離「h1」に位置して且つ定義された幅
「w1」を有し、そして近くの主要導体から「d」分離
されている。幅「w2」を有する導体の補助又は第2レ
ベル102が主要導体101上に接地平面上の距離「h
2」に位置し、そして導体システム中、主要導体の経路
に実質的に従っている。導体101及び102は同じ材
料であり、厚さ「t」を有する。導体は誘電体により介
在される。
【0018】図2は、接地源から最も遠い位置を示す導
体102と101の平面図である。この図から、補助導
体102が主要導体101のそれぞれの直接の上に横た
わるのが見える。端子パッド104及び107が基板1
06上に位置している。
体102と101の平面図である。この図から、補助導
体102が主要導体101のそれぞれの直接の上に横た
わるのが見える。端子パッド104及び107が基板1
06上に位置している。
【0019】当業者には理解されるように、導体又は線
のインピーダンスは導体のキャパシタンスとインダクタ
ンスの関数であり、接地面上の高さ、導体幅により決定
される。そして、単一端伝送線については、インピーダ
ンスは導体間の間隔の関数である。さらに、もし導体の
インピーダンスが実質的に同じであれば、「h」及び
「w」の比は与えられた信号層内で各導体について同じ
であることが理解される。導体のインピーダンス「Z」
に対する一般的な方程式は以下のように与えられる。
のインピーダンスは導体のキャパシタンスとインダクタ
ンスの関数であり、接地面上の高さ、導体幅により決定
される。そして、単一端伝送線については、インピーダ
ンスは導体間の間隔の関数である。さらに、もし導体の
インピーダンスが実質的に同じであれば、「h」及び
「w」の比は与えられた信号層内で各導体について同じ
であることが理解される。導体のインピーダンス「Z」
に対する一般的な方程式は以下のように与えられる。
【0020】
【数1】 図1において、システム内の全ての主要導体101は、
上述した既知の幾何学的制約と、構成の材料の誘電体定
数と、誘電体の低効率とを考慮して選択されたインピー
ダンス・レベルに設計されている。図3は、パッケージ
又は基板106の出力信号ピン104に電気的に接続さ
れた主要導体101を示す。この実施の形態において、
電気的接続はワイヤ接合により形成されている。補助導
体102は「浮いて」いて他の導体に接続されていな
い。そして補助導体のインピーダンス値は装置の性能に
ついて関係がない。誘電体層134が2つの導体層を分
離し、そして誘電体の厚さは図1の「h1」と「h2」
の間の差に等しい。
上述した既知の幾何学的制約と、構成の材料の誘電体定
数と、誘電体の低効率とを考慮して選択されたインピー
ダンス・レベルに設計されている。図3は、パッケージ
又は基板106の出力信号ピン104に電気的に接続さ
れた主要導体101を示す。この実施の形態において、
電気的接続はワイヤ接合により形成されている。補助導
体102は「浮いて」いて他の導体に接続されていな
い。そして補助導体のインピーダンス値は装置の性能に
ついて関係がない。誘電体層134が2つの導体層を分
離し、そして誘電体の厚さは図1の「h1」と「h2」
の間の差に等しい。
【0021】この伝送構成は、補助導体がキャパシタン
ス値にわずかな変化を生じそしてインピーダンス値にわ
ずかな変化を生ずるため、単一レベル導体を有する装置
よりわずかに異なる主要導体のインピーダンスの結果を
与える。図3に示される接合構成は差分モード伝送線に
使用される。
ス値にわずかな変化を生じそしてインピーダンス値にわ
ずかな変化を生ずるため、単一レベル導体を有する装置
よりわずかに異なる主要導体のインピーダンスの結果を
与える。図3に示される接合構成は差分モード伝送線に
使用される。
【0022】図4を参照するとと、主要導体401のそ
れぞれは信号出力ピン404に接続され、そして重なり
合う補助導体402のそれぞれは接地端子407に電気
的に接続される。誘電体層434は主要及び補助導体レ
ベルを分離する。この構成は主要導体による単一端伝送
のための接続を与える。補助導体402の接地への接続
は本質的に主要導体を2つの接地レベル、すなわち、パ
ッケージ又は基板内の接地面と接地端子に接続された時
に補助導体により形成された第2隔離接地平面、の間に
サンドイッチする。
れぞれは信号出力ピン404に接続され、そして重なり
合う補助導体402のそれぞれは接地端子407に電気
的に接続される。誘電体層434は主要及び補助導体レ
ベルを分離する。この構成は主要導体による単一端伝送
のための接続を与える。補助導体402の接地への接続
は本質的に主要導体を2つの接地レベル、すなわち、パ
ッケージ又は基板内の接地面と接地端子に接続された時
に補助導体により形成された第2隔離接地平面、の間に
サンドイッチする。
【0023】図3及び図4から、本発明の導体のインピ
ーダンスは、接地接続に依存して単一端又は差分モード
伝送として任意に選択されることが明らかである。
ーダンスは、接地接続に依存して単一端又は差分モード
伝送として任意に選択されることが明らかである。
【0024】図5及び図6に示される別の実施の形態に
おいて、主要伝導体51、52、53、54の配列と、
誘電体層534により分離されそして主要導体に実質的
に重なり合う補助導体521、522、523、524
の平行な配列とを有する伝導体システム内において、モ
ードが混在できることが理解できる。この実施の形態に
おいて、主要及び補助導体の間隔はそれぞれの導体平面
中では均一ではないが、補助導体の接地への接続に依存
して単一端インピーダンス又は差分インピーダンスの混
在モード・インピーダンスを可能にする所定の距離で離
間されている。
おいて、主要伝導体51、52、53、54の配列と、
誘電体層534により分離されそして主要導体に実質的
に重なり合う補助導体521、522、523、524
の平行な配列とを有する伝導体システム内において、モ
ードが混在できることが理解できる。この実施の形態に
おいて、主要及び補助導体の間隔はそれぞれの導体平面
中では均一ではないが、補助導体の接地への接続に依存
して単一端インピーダンス又は差分インピーダンスの混
在モード・インピーダンスを可能にする所定の距離で離
間されている。
【0025】各応用において、主要導体51、52、5
3、54は信号出力ピン又はパッドに接続される。単一
端伝送線を必要とする応用において、全ての補助導体5
21、522、523、524は接地507に接続され
る。差分対を必要とする応用において、補助導体は浮か
され又は接続されず、そして中心対52及び53は特定
のインピーダンスの差分対を与えるために離間されて大
きさが与えられる。
3、54は信号出力ピン又はパッドに接続される。単一
端伝送線を必要とする応用において、全ての補助導体5
21、522、523、524は接地507に接続され
る。差分対を必要とする応用において、補助導体は浮か
され又は接続されず、そして中心対52及び53は特定
のインピーダンスの差分対を与えるために離間されて大
きさが与えられる。
【0026】混在モードの応用について、導体52及び
53は差分伝送線になり、そして補助導体521及び5
24を接地507に接続することにより線51及び54
は単一端伝送線となる。
53は差分伝送線になり、そして補助導体521及び5
24を接地507に接続することにより線51及び54
は単一端伝送線となる。
【0027】図6にはさらに混在モードの構成がさらに
示されている。各主要導体が出力パッド504に電気的
に接続され、そして補助的導体521及び524が接地
端子507に接続され、これにより装置は一対の差分伝
送線52及び53と2つの単一端線51及び54を有す
る。
示されている。各主要導体が出力パッド504に電気的
に接続され、そして補助的導体521及び524が接地
端子507に接続され、これにより装置は一対の差分伝
送線52及び53と2つの単一端線51及び54を有す
る。
【0028】適当な信号伝送及びタイミングを確保する
ために、パッケージング・システムの電気的パラメータ
の制御と予測がコンピュータ・モデリングとシュミュレ
ーション・プログラムを用いて解析される。このような
電気的モデリング・プログラムは商業的に入手可能であ
り、そしていくつかの大学により開発されている。一連
の導体と絶縁体の材料特性と幾何学形状がプログラムに
入力され、そして出力がキャパシタンス、導体のインダ
クタンス、及び問題の線と周囲の線との結果として得ら
れるインピーダンスである。そしてこのような解析の結
果は回路性能を予測するためにシュミレーション・モデ
ルに入力される。
ために、パッケージング・システムの電気的パラメータ
の制御と予測がコンピュータ・モデリングとシュミュレ
ーション・プログラムを用いて解析される。このような
電気的モデリング・プログラムは商業的に入手可能であ
り、そしていくつかの大学により開発されている。一連
の導体と絶縁体の材料特性と幾何学形状がプログラムに
入力され、そして出力がキャパシタンス、導体のインダ
クタンス、及び問題の線と周囲の線との結果として得ら
れるインピーダンスである。そしてこのような解析の結
果は回路性能を予測するためにシュミレーション・モデ
ルに入力される。
【0029】本発明の有効性は、図3及び図4の装置の
電気的モデルの結果として説明され、それぞれ表1及び
表2に与えられる。 導体材料: 銅(抵抗率=1.67 オームcm) 透磁率(μr=1) 基板材料: BT樹脂(誘電定数=4) (誘電損失タンジェント δ=0) 導体設計 単位mm w2=0.0625 w1=0.125 t=0.02 d1=0.125 h1=0.251 h2=0.3615
電気的モデルの結果として説明され、それぞれ表1及び
表2に与えられる。 導体材料: 銅(抵抗率=1.67 オームcm) 透磁率(μr=1) 基板材料: BT樹脂(誘電定数=4) (誘電損失タンジェント δ=0) 導体設計 単位mm w2=0.0625 w1=0.125 t=0.02 d1=0.125 h1=0.251 h2=0.3615
【0030】 表1 差分伝送線を有する第1レベル導体 (補助導体を浮かせる) 導体 # 1 2 3 4 キャパシタンス・ マトリックス (pf/cm) 1.32 1.39 1.39 1.32 センチメートル当り ピコ・フアラッド インダクタンス・ マトリックス (nh/cm) 5.00 5.00 5.07 5.07 ナノヘンリー/cm インピーダンス・ マトリックス (ohm) 76.22 75.19 75.19 76.22 近接線 25 25 25 25 差分モード・ インピーダンス 51.22 50.19 50.19 51.22
【0031】 表2 単一端伝送線を有する第1レベル導体 (補助導体を接地する) 導体 # 1 2 3 4 キャパシタンス・ マトリックス (pf/cm) 1.32 1.39 1.39 1.32 センチメートル当り ピコ・フアラッド インダクタンス・ マトリックス (nh/cm) 3.44 3.33 3.35 3.44 ナノヘンリー/cm インピーダンス・ マトリックス (ohm) 51.59 50.02 50.02 51.59 図4の単一端導体は50オーム・インピーダンスの設計
であった。そしてモデル・データは5%内の値を示す。
特定の補助導体を接地接続することにより、偶及び奇モ
ードの差分インピーダンスは3%以内である。
であった。そしてモデル・データは5%内の値を示す。
特定の補助導体を接地接続することにより、偶及び奇モ
ードの差分インピーダンスは3%以内である。
【0032】図5及び図6の混合モード装置の解析は表
3に与えられる結果を生ずる。 導体材料: 銅(抵抗率=1.67 オームcm) 透磁率(μr=1) 基板材料: BT樹脂(誘電定数=4) (誘電損失タンジェント δ=0) 導体設計 単位mm t=0.02 w2=0.02 w1=0.1 d1=0.53 d2=0.18 d3=0.1 d4=0.45 h1=0.192 h2=0.264
3に与えられる結果を生ずる。 導体材料: 銅(抵抗率=1.67 オームcm) 透磁率(μr=1) 基板材料: BT樹脂(誘電定数=4) (誘電損失タンジェント δ=0) 導体設計 単位mm t=0.02 w2=0.02 w1=0.1 d1=0.53 d2=0.18 d3=0.1 d4=0.45 h1=0.192 h2=0.264
【0033】 表3 差分伝送線52、53 (補助導体を浮かせる) 導体 # 51 52 53 54 キャパシタンス・ マトリックス (pf/cm) 1.33 1.42 1.43 1.33 センチメートル当り ピコ・フアラッド インダクタンス・ マトリックス (nh/cm) 5.00 4.93 4.93 5.00 ナノヘンリー/cm インピーダンス・ マトリックス (ohm) 75.27 74.21 74.22 75.26 近接線 24.79 24.79 差分モード・ インピーダンス 49.42 49.43
【0034】 単一端伝送線を有する導体 (全ての補助導体を接地する) 導体 # 51 52 53 54 キャパシタンス・ マトリックス (pf/cm) 1.33 1.42 1.42 1.33 センチメートル当り ピコ・フアラッド インダクタンス・ マトリックス (nh/cm) 3.33 3.22 3.21 3.33 ナノヘンリー/cm インピーダンス・ マトリックス (ohm) 50.02 48.27 48.22 50.01
【0035】 混合モード伝送線 差分対52、53、単一端51、54 導体 # 51 52 53 54 キャパシタンス・ マトリックス (pf/cm) 1.33 1.42 1.42 1.33 センチメートル当り ピコ・フアラッド インダクタンス・ マトリックス (nh/cm) 3.34 4.88 4.88 3.34 ナノヘンリー/cm インピーダンス・ マトリックス (ohm) 50.13 73.44 73.44 50.13 近接線 24.12 24.12 差分モード・ インピーダンス 49.32 49.32 従って、図3及び図4に示された好ましい実施の形態と
表1及び表2の解析において、単一装置設計内に重なり
合う導体を有する導体システムが与えられ、そして前記
設計はさまざまなチップ伝送要求と互換性があり、これ
により様々なインピーダンス整合導体のために特定のパ
ッケージ設計の必要性を除去する。
表1及び表2の解析において、単一装置設計内に重なり
合う導体を有する導体システムが与えられ、そして前記
設計はさまざまなチップ伝送要求と互換性があり、これ
により様々なインピーダンス整合導体のために特定のパ
ッケージ設計の必要性を除去する。
【0036】図5及び図6で与えられそして表3の解析
の代替的な実施の形態において、同一パッケージ内で単
一端と差分モード・インピーダンス線の両方を可能にす
るか、又は接合構成により単一端又は差分伝送モードの
いずれかを任意に選択可能とする導体システムが示され
ている。
の代替的な実施の形態において、同一パッケージ内で単
一端と差分モード・インピーダンス線の両方を可能にす
るか、又は接合構成により単一端又は差分伝送モードの
いずれかを任意に選択可能とする導体システムが示され
ている。
【0037】図7はBGA(ボール・グリッド・アレ
イ)半導体パッケージの好ましい実施の形態を示す。こ
の実施の形態において、パッケージ基板706は誘電定
数4を有するBT樹脂などの複合材からなる。装置は、
補助導体702の第2レベルにより重ね合わせられた導
体701の主要レベルを含み、そして導体は誘電体73
4の層により分離される。メッキされたバイア711が
各主要導体701を外部はんだボール端子721へ接続
する。メッキされたバイア712が各第2レベル導体7
02をパッケージ基板内に埋め込まれた接地面732
へ、そして外部はんだボール端子に接続する。集積化回
路チップ700はパッケージ基板706上のチップパッ
ド715に接着され、そしてチップ700がワイヤ接合
により選択された導体へ接続される。チップ及び導体シ
ステムがプラスチック材料(図示しない)内に封じ込め
られる。
イ)半導体パッケージの好ましい実施の形態を示す。こ
の実施の形態において、パッケージ基板706は誘電定
数4を有するBT樹脂などの複合材からなる。装置は、
補助導体702の第2レベルにより重ね合わせられた導
体701の主要レベルを含み、そして導体は誘電体73
4の層により分離される。メッキされたバイア711が
各主要導体701を外部はんだボール端子721へ接続
する。メッキされたバイア712が各第2レベル導体7
02をパッケージ基板内に埋め込まれた接地面732
へ、そして外部はんだボール端子に接続する。集積化回
路チップ700はパッケージ基板706上のチップパッ
ド715に接着され、そしてチップ700がワイヤ接合
により選択された導体へ接続される。チップ及び導体シ
ステムがプラスチック材料(図示しない)内に封じ込め
られる。
【0038】図8に示す本発明の実施の形態は、基板8
06上の主要導体801及び補助導体802のパターン
にはんだバンプ820により電気的に接続されたフリッ
プチップ相互接続集積化回路チップ800を含む。基板
表面上の主要導体801はICチップ上のはんだバンプ
を外部信号線又ははんだボール821に相互接続し、そ
して補助導体802はチップ接地端子を接地面832に
相互接続する。外部設置接続はバイアによりはんだボー
ル822を経由して接地面832へ形成される。差分モ
ード伝送線の場合と同じく、削除されるべき接地接続は
指定されたはんだボールを基板への組立前に除去するこ
とにより回避できる。伝導バイアは、外部はんだボール
端子821及び822への主要導体801及び二次導体
802間の電気的接続を与える。
06上の主要導体801及び補助導体802のパターン
にはんだバンプ820により電気的に接続されたフリッ
プチップ相互接続集積化回路チップ800を含む。基板
表面上の主要導体801はICチップ上のはんだバンプ
を外部信号線又ははんだボール821に相互接続し、そ
して補助導体802はチップ接地端子を接地面832に
相互接続する。外部設置接続はバイアによりはんだボー
ル822を経由して接地面832へ形成される。差分モ
ード伝送線の場合と同じく、削除されるべき接地接続は
指定されたはんだボールを基板への組立前に除去するこ
とにより回避できる。伝導バイアは、外部はんだボール
端子821及び822への主要導体801及び二次導体
802間の電気的接続を与える。
【0039】図7及び図8に示される好ましい実施の形
態は、パッケージ基板内に接地面732、832を含
む。しかし、接地面はパッケージ自身内よりは印刷回路
基板内にしばしば存在し、そしてこの構成に本発明を使
用することができる。接地接続は、パッケージ内の追加
的な層の必要性を回避して、印刷配線基板の接地面に直
接に行なわれる。
態は、パッケージ基板内に接地面732、832を含
む。しかし、接地面はパッケージ自身内よりは印刷回路
基板内にしばしば存在し、そしてこの構成に本発明を使
用することができる。接地接続は、パッケージ内の追加
的な層の必要性を回避して、印刷配線基板の接地面に直
接に行なわれる。
【0040】本発明の導体システムは、図6、図7、図
8に示すように導体が剛体材料により支持されて誘電体
層により分離された剛体の基板のみならず、薄くフレキ
シブルな回路にも適用できる。図9において、本発明の
フレキシブルな回路装置の断面図が示されていて、基板
上の主要導体901のレベルとポリイミド・フイルムな
どのような薄膜誘電体903上の別の表面上の補助導体
の重なり合う配列とを有する。ICチップ900は薄膜
基板上の前記導体へのはんだバンプ接続905を有す
る。導体901及び902への外部接続は周縁端子パッ
ド910になされる。
8に示すように導体が剛体材料により支持されて誘電体
層により分離された剛体の基板のみならず、薄くフレキ
シブルな回路にも適用できる。図9において、本発明の
フレキシブルな回路装置の断面図が示されていて、基板
上の主要導体901のレベルとポリイミド・フイルムな
どのような薄膜誘電体903上の別の表面上の補助導体
の重なり合う配列とを有する。ICチップ900は薄膜
基板上の前記導体へのはんだバンプ接続905を有す
る。導体901及び902への外部接続は周縁端子パッ
ド910になされる。
【0041】本発明は単一チップ・パッケージとして説
明されてきたが、本発明の重なり合う導体システムは、
制御されたインピーダンス伝送線を必要とするマルチチ
ップ装置に等しく適用される。
明されてきたが、本発明の重なり合う導体システムは、
制御されたインピーダンス伝送線を必要とするマルチチ
ップ装置に等しく適用される。
【0042】さらに、本発明の導体システムを有するパ
ッケージ又は基板は、はんだボール接続を有する装置よ
りも線接続装置を含む。
ッケージ又は基板は、はんだボール接続を有する装置よ
りも線接続装置を含む。
【0043】本発明の好ましい実施の形態といくつかの
代替的な応用が上述されたが、上記説明は限定の意図は
無く、その代り特許請求の範囲に記載された本発明の範
囲と精神から逸脱することなく以上に詳述された内容か
らさまざまな修正ができることが理解される。
代替的な応用が上述されたが、上記説明は限定の意図は
無く、その代り特許請求の範囲に記載された本発明の範
囲と精神から逸脱することなく以上に詳述された内容か
らさまざまな修正ができることが理解される。
【0044】以上の記載に関連して、以下の各項を開示
する。 1.マイクロエレクトロニクス装置の電気導体システム
であって、前記装置の組立の際に個別の線のインピーダ
ンスが任意に選択できるシステムにおいて、 a)平面内の主要導体の配列と、 b)前記主要導体に実質的に重なり合う補助導体の配列
と、 c)前記導体層を分離する誘電体層と、 d)誘電体材料により前記導体から分離された接地面
と、 e)前記導体と前記接地面とを相互接続する手段と、を
備えた導体システム。
する。 1.マイクロエレクトロニクス装置の電気導体システム
であって、前記装置の組立の際に個別の線のインピーダ
ンスが任意に選択できるシステムにおいて、 a)平面内の主要導体の配列と、 b)前記主要導体に実質的に重なり合う補助導体の配列
と、 c)前記導体層を分離する誘電体層と、 d)誘電体材料により前記導体から分離された接地面
と、 e)前記導体と前記接地面とを相互接続する手段と、を
備えた導体システム。
【0045】2.インピーダンスを単一端又は差分対の
伝送線のいずれかに選択され、前記システムが同じ大き
さと等しい間隔の主要導体と同じ大きさと等しい間隔の
補助導体とを有する1項に記載の導体システム。
伝送線のいずれかに選択され、前記システムが同じ大き
さと等しい間隔の主要導体と同じ大きさと等しい間隔の
補助導体とを有する1項に記載の導体システム。
【0046】3.インピーダンスを単一端、差分対、又
は単一端及び差分対の両方に同じ装置内の伝送線を選択
され、前記システムはそれぞれが同じ大きさの主要導体
とそれぞれは同じ大きさの補助導体とを有する2項に記
載の導体システム。
は単一端及び差分対の両方に同じ装置内の伝送線を選択
され、前記システムはそれぞれが同じ大きさの主要導体
とそれぞれは同じ大きさの補助導体とを有する2項に記
載の導体システム。
【0047】4.主要導体のインピーダンスが差分モー
ド入力と出力を形成するために選択されたマイクロエレ
クトロニクス装置の導体システムを組み立てる方法であ
って、 a)平面内に主要導体の配列を与え、 b)前記主要導体と実質的に重なり合う補助導体の配列
を与え、 c)誘電体層により前記導体を分離し、 d)前記導体から誘電体層により分離された接地面を与
え、 e)前記主要導体を信号ポートに相互接続し、そして補
助導体を接続しない、各ステップを含む導体システムを
組み立てる方法。
ド入力と出力を形成するために選択されたマイクロエレ
クトロニクス装置の導体システムを組み立てる方法であ
って、 a)平面内に主要導体の配列を与え、 b)前記主要導体と実質的に重なり合う補助導体の配列
を与え、 c)誘電体層により前記導体を分離し、 d)前記導体から誘電体層により分離された接地面を与
え、 e)前記主要導体を信号ポートに相互接続し、そして補
助導体を接続しない、各ステップを含む導体システムを
組み立てる方法。
【0048】5.主要導体のインピーダンスが単一端伝
送線を形成するために選択されるマイクロエレクトロニ
クス装置のための導体システムを組み立てる方法であっ
て、 a)平面内に主要導体の配列を与え、 b)前記主要導体と実質的に重なり合う補助導体の配列
を与え、 c)誘電体層により前記導体を分離し、 d)前記導体から誘電体層により分離された接地面を与
え、 e)前記主要導体を信号ポートに相互接続し、そして補
助導体を接地する、各ステップを含む導体システムを組
み立てる方法。
送線を形成するために選択されるマイクロエレクトロニ
クス装置のための導体システムを組み立てる方法であっ
て、 a)平面内に主要導体の配列を与え、 b)前記主要導体と実質的に重なり合う補助導体の配列
を与え、 c)誘電体層により前記導体を分離し、 d)前記導体から誘電体層により分離された接地面を与
え、 e)前記主要導体を信号ポートに相互接続し、そして補
助導体を接地する、各ステップを含む導体システムを組
み立てる方法。
【0049】6.任意に選択できるインピーダンスの線
を有する半導体装置であって、 a)集積化回路チップと、 b)1項の導体システムと、 c)基板と、外部線と、カプセル化材料とを含んだ半導
体パッケージと、を備えた半導体装置。
を有する半導体装置であって、 a)集積化回路チップと、 b)1項の導体システムと、 c)基板と、外部線と、カプセル化材料とを含んだ半導
体パッケージと、を備えた半導体装置。
【0050】7.前記相互接続する手段がワイヤ接合で
ある6項に記載の半導体装置。 8.前記相互接続する手段がフリップチップ接続である
6項に記載の半導体装置。 9.前記パッケージがボール・グリッド・アレイである
6項に記載の半導体装置。 10.パッケージが1又は複数の半導体チップのための
基板を含む6項に記載の半導体装置。
ある6項に記載の半導体装置。 8.前記相互接続する手段がフリップチップ接続である
6項に記載の半導体装置。 9.前記パッケージがボール・グリッド・アレイである
6項に記載の半導体装置。 10.パッケージが1又は複数の半導体チップのための
基板を含む6項に記載の半導体装置。
【0051】11.パッケージ又は基板内の主要導体の
インピーダンスが差分モード入力及び出力対を形成する
半導体装置の組立方法であって、 a)前記パッケージ内の主要導体の配列に半導体チップ
を相互接続し、 b)前記主要導体に実質的に重なり合う補助導体の配列
を与え、 c)前記導体を分離する誘電体層を与え、 d)前記導体から誘電体層により分離された接地面を与
え、 e)前記主要導体を前記パッケージ上の外部信号ポート
に相互接続し、そして補助導体を接続しない、各ステッ
プを含む方法。
インピーダンスが差分モード入力及び出力対を形成する
半導体装置の組立方法であって、 a)前記パッケージ内の主要導体の配列に半導体チップ
を相互接続し、 b)前記主要導体に実質的に重なり合う補助導体の配列
を与え、 c)前記導体を分離する誘電体層を与え、 d)前記導体から誘電体層により分離された接地面を与
え、 e)前記主要導体を前記パッケージ上の外部信号ポート
に相互接続し、そして補助導体を接続しない、各ステッ
プを含む方法。
【0052】12.パッケージ又は基板内の主要導体の
インピーダンスが単一端伝送線を形成する半導体装置の
組立方法であって、 a)前記パッケージ内の主要導体の配列に半導体チップ
を相互接続し、 b)前記主要導体に実質的に重なり合う補助導体の配列
に半導体チップを相互接続し、 c)前記導体を分離する誘電体層を与え、 d)前記導体から誘電体層により分離された接地面を与
え、 e)前記主要導体を外部信号ポートに相互接続し、そし
て補助導体を接地する、各ステップを含む方法。
インピーダンスが単一端伝送線を形成する半導体装置の
組立方法であって、 a)前記パッケージ内の主要導体の配列に半導体チップ
を相互接続し、 b)前記主要導体に実質的に重なり合う補助導体の配列
に半導体チップを相互接続し、 c)前記導体を分離する誘電体層を与え、 d)前記導体から誘電体層により分離された接地面を与
え、 e)前記主要導体を外部信号ポートに相互接続し、そし
て補助導体を接地する、各ステップを含む方法。
【0053】13.任意に選択できるインピーダンスの
個別の線を有する可撓性回路半導体装置であって、 a)フリップチップ接続を有する集積化回路チップと、 b)第1表面上に主要導体の配列を有するフレキシブル
誘電体フイルムと、 c)前記主要導体と実質的に重なり合う第2表面上の補
助導体の配列と、 e)前記フイルム表面上の入力/出力端子パッドの配列
と、 f)前記装置の外部の使用可能な接地面と、 g)前記導体と前記接地面を相互接続する手段と、を備
える可撓性回路半導体装置。
個別の線を有する可撓性回路半導体装置であって、 a)フリップチップ接続を有する集積化回路チップと、 b)第1表面上に主要導体の配列を有するフレキシブル
誘電体フイルムと、 c)前記主要導体と実質的に重なり合う第2表面上の補
助導体の配列と、 e)前記フイルム表面上の入力/出力端子パッドの配列
と、 f)前記装置の外部の使用可能な接地面と、 g)前記導体と前記接地面を相互接続する手段と、を備
える可撓性回路半導体装置。
【0054】14.2つ(又はそれ以上)の平行平面内
に配列された複数の導体と、使用可能な接地導体とを有
する半導体パッケージを提供する。補助又は第2平面内
の導体は第1平面内の主要信号導体に実質的に重なり合
い、そして組立工程において補助導体を接地又は浮かせ
たままにすることにより、いずれの線又は線対のインピ
ーダンスを任意に設定される。奇又は偶モードのいずれ
かの信号導体の差分対は補助導体を接地端子に接続する
ことにより設定される。
に配列された複数の導体と、使用可能な接地導体とを有
する半導体パッケージを提供する。補助又は第2平面内
の導体は第1平面内の主要信号導体に実質的に重なり合
い、そして組立工程において補助導体を接地又は浮かせ
たままにすることにより、いずれの線又は線対のインピ
ーダンスを任意に設定される。奇又は偶モードのいずれ
かの信号導体の差分対は補助導体を接地端子に接続する
ことにより設定される。
【図1】 本発明の導体の設計の横断面図。
【図2】 重なり合う導体を示す平面図。
【図3】 差分モード伝送のための主要導体の接合選択
を示す図。
を示す図。
【図4】 単一端信号の伝送のための主要及び接地導体
の接合選択を示す図。
の接合選択を示す図。
【図5】 伝送線の混合モード、単一端、又は差分対に
適用可能な伝導体システムの横断面図。
適用可能な伝導体システムの横断面図。
【図6】 同じ装置の混合伝送モードの導体システムを
示す図。
示す図。
【図7】 単一端伝送線を有するボール・グリッド・ア
レイ・パッケージの図。
レイ・パッケージの図。
【図8】 本発明のフリップ・チップ接合されたBGA
パッケージを示す図。
パッケージを示す図。
【図9】 フレキシブ回路基板を使用した本発明の装置
の断面図。
の断面図。
101 主要導体 102 補助導体 104 端子パッド 105 接地面 106 基板 107 端子パッド
Claims (2)
- 【請求項1】 マイクロエレクトロニクス装置の電気導
体システムであって、前記装置の組立の際に個別の線の
インピーダンスが任意に選択できるシステムにおいて、 a)平面内の主要導体の配列と、 b)前記主要導体に実質的に重なり合う補助導体の配列
と、 c)前記導体層を分離する誘電体層と、 d)誘電体材料により前記導体から分離された接地面
と、 e)前記導体と前記接地面とを相互接続する手段と、 を備えた導体システム。 - 【請求項2】 主要導体のインピーダンスが差分モード
入力と出力を形成するために選択されたマイクロエレク
トロニクス装置の導体システムを組み立てる方法であっ
て、 a)平面内に主要導体の配列を与え、 b)前記主要導体と実質的に重なり合う補助導体の配列
を与え、 c)誘電体層により前記導体を分離し、 d)前記導体から誘電体層により分離された接地面を与
え、 e)前記主要導体を信号ポートに相互接続し、そして補
助導体を接続しない、 各ステップを含む導体システムを組み立てる方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US17345099P | 1999-12-29 | 1999-12-29 | |
US60/173450 | 1999-12-29 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001196499A true JP2001196499A (ja) | 2001-07-19 |
Family
ID=22632093
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000394486A Abandoned JP2001196499A (ja) | 1999-12-29 | 2000-12-26 | 組立中に選択されるインピーダンスの導体を持つ半導体パッケージ |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US6563208B2 (ja) |
EP (1) | EP1113497A3 (ja) |
JP (1) | JP2001196499A (ja) |
KR (1) | KR100686671B1 (ja) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1113497A3 (en) * | 1999-12-29 | 2006-01-25 | Texas Instruments Incorporated | Semiconductor package with conductor impedance selected during assembly |
DE10031843A1 (de) * | 2000-06-30 | 2002-01-10 | Alcatel Sa | Elektrisches oder opto-elektrisches Bauelement mit einer Verpackung aus Kunststoff und Verfahren zur Variation der Impedanz einer Anschlussleitung eines solchen Bauelements |
US7149666B2 (en) * | 2001-05-30 | 2006-12-12 | University Of Washington | Methods for modeling interactions between massively coupled multiple vias in multilayered electronic packaging structures |
JP3674780B2 (ja) * | 2001-11-29 | 2005-07-20 | ユーディナデバイス株式会社 | 高周波半導体装置 |
US20040012935A1 (en) * | 2002-07-16 | 2004-01-22 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Printed wiring board |
US7259968B2 (en) * | 2003-05-14 | 2007-08-21 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Tailoring impedances of conductive traces in a circuit board |
US7265443B2 (en) * | 2005-04-29 | 2007-09-04 | Texas Instruments Incorporated | Wire bonded semiconductor device having low inductance and noise |
US7605477B2 (en) * | 2007-01-25 | 2009-10-20 | Raytheon Company | Stacked integrated circuit assembly |
US8436450B2 (en) * | 2008-02-01 | 2013-05-07 | Viasat, Inc. | Differential internally matched wire-bond interface |
MY191544A (en) | 2016-12-27 | 2022-06-30 | Intel Corp | Multi-conductor interconnect structure for a microelectronic device |
KR20220019331A (ko) | 2020-08-10 | 2022-02-17 | 삼성전자주식회사 | 패키지 기판 및 이를 포함하는 반도체 패키지 |
Family Cites Families (89)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4498122A (en) * | 1982-12-29 | 1985-02-05 | At&T Bell Laboratories | High-speed, high pin-out LSI chip package |
JPS60134440A (ja) * | 1983-12-23 | 1985-07-17 | Hitachi Ltd | 半導体集積回路装置 |
KR920005701B1 (ko) * | 1989-07-20 | 1992-07-13 | 현대전자산업 주식회사 | 반도체 집적회로 내의 소자 연결용 금속배선층 및 그 제조방법 |
ATE120883T1 (de) * | 1990-05-28 | 1995-04-15 | Siemens Ag | Ic-gehäuse, bestehend aus drei beschichteten dielektrischen platten. |
US5228911A (en) * | 1991-04-18 | 1993-07-20 | Merck Patent Gesellschaft Mit Beschrankter Haftung | Oxidized graphite flaky particles and pigments based thereon |
JPH05109924A (ja) * | 1991-10-17 | 1993-04-30 | Ngk Spark Plug Co Ltd | 集積回路用パツケージ |
US5234437A (en) * | 1991-12-12 | 1993-08-10 | Target Therapeutics, Inc. | Detachable pusher-vasoocclusion coil assembly with threaded coupling |
US5261916A (en) * | 1991-12-12 | 1993-11-16 | Target Therapeutics | Detachable pusher-vasoocclusive coil assembly with interlocking ball and keyway coupling |
US5266912A (en) * | 1992-08-19 | 1993-11-30 | Micron Technology, Inc. | Inherently impedance matched multiple integrated circuit module |
US5312415A (en) * | 1992-09-22 | 1994-05-17 | Target Therapeutics, Inc. | Assembly for placement of embolic coils using frictional placement |
US5250071A (en) * | 1992-09-22 | 1993-10-05 | Target Therapeutics, Inc. | Detachable embolic coil assembly using interlocking clasps and method of use |
US5350397A (en) * | 1992-11-13 | 1994-09-27 | Target Therapeutics, Inc. | Axially detachable embolic coil assembly |
US5690671A (en) * | 1994-12-13 | 1997-11-25 | Micro Interventional Systems, Inc. | Embolic elements and methods and apparatus for their delivery |
JPH08236654A (ja) * | 1995-02-23 | 1996-09-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | チップキャリアとその製造方法 |
JP2963037B2 (ja) * | 1995-11-30 | 1999-10-12 | 三洋電機株式会社 | ディスク記録再生装置 |
FR2747235B1 (fr) * | 1996-04-03 | 1998-07-10 | Bull Sa | Boitier de circuit integre |
US6406420B1 (en) * | 1997-01-02 | 2002-06-18 | Myocor, Inc. | Methods and devices for improving cardiac function in hearts |
US6050936A (en) * | 1997-01-02 | 2000-04-18 | Myocor, Inc. | Heart wall tension reduction apparatus |
US6077214A (en) * | 1998-07-29 | 2000-06-20 | Myocor, Inc. | Stress reduction apparatus and method |
JP3732927B2 (ja) * | 1997-07-31 | 2006-01-11 | 京セラ株式会社 | 多層配線基板 |
FR2768324B1 (fr) * | 1997-09-12 | 1999-12-10 | Jacques Seguin | Instrument chirurgical permettant, par voie percutanee, de fixer l'une a l'autre deux zones de tissu mou, normalement mutuellement distantes |
JP3111938B2 (ja) * | 1997-09-16 | 2000-11-27 | 日本電気株式会社 | 半導体装置 |
US6332893B1 (en) * | 1997-12-17 | 2001-12-25 | Myocor, Inc. | Valve to myocardium tension members device and method |
US6064113A (en) * | 1998-01-13 | 2000-05-16 | Lsi Logic Corporation | Semiconductor device package including a substrate having bonding fingers within an electrically conductive ring surrounding a die area and a combined power and ground plane to stabilize signal path impedances |
US6190408B1 (en) * | 1998-03-05 | 2001-02-20 | The University Of Cincinnati | Device and method for restructuring the heart chamber geometry |
US6143024A (en) * | 1998-06-04 | 2000-11-07 | Sulzer Carbomedics Inc. | Annuloplasty ring having flexible anterior portion |
US6250308B1 (en) * | 1998-06-16 | 2001-06-26 | Cardiac Concepts, Inc. | Mitral valve annuloplasty ring and method of implanting |
US6701929B2 (en) * | 1999-03-03 | 2004-03-09 | Hany Hussein | Device and method for treatment of congestive heart failure |
US20040044350A1 (en) * | 1999-04-09 | 2004-03-04 | Evalve, Inc. | Steerable access sheath and methods of use |
ATE484241T1 (de) * | 1999-04-09 | 2010-10-15 | Evalve Inc | Verfahren und vorrichtung zur herzklappenreperation |
US6752813B2 (en) * | 1999-04-09 | 2004-06-22 | Evalve, Inc. | Methods and devices for capturing and fixing leaflets in valve repair |
US6709382B1 (en) * | 1999-05-04 | 2004-03-23 | Simon Marcus Horner | Cardiac assist method and apparatus |
US6626899B2 (en) * | 1999-06-25 | 2003-09-30 | Nidus Medical, Llc | Apparatus and methods for treating tissue |
US6997951B2 (en) * | 1999-06-30 | 2006-02-14 | Edwards Lifesciences Ag | Method and device for treatment of mitral insufficiency |
SE521337C2 (sv) * | 1999-08-09 | 2003-10-21 | Electrolux Ab | Textiltvättmaskin med ångtorkning |
US6299637B1 (en) * | 1999-08-20 | 2001-10-09 | Samuel M. Shaolian | Transluminally implantable venous valve |
US20030069570A1 (en) * | 1999-10-02 | 2003-04-10 | Witzel Thomas H. | Methods for repairing mitral valve annulus percutaneously |
FR2799364B1 (fr) * | 1999-10-12 | 2001-11-23 | Jacques Seguin | Dispositif d'annuloplastie utilisable par voie mini-invasive |
US6626930B1 (en) * | 1999-10-21 | 2003-09-30 | Edwards Lifesciences Corporation | Minimally invasive mitral valve repair method and apparatus |
EP1113497A3 (en) * | 1999-12-29 | 2006-01-25 | Texas Instruments Incorporated | Semiconductor package with conductor impedance selected during assembly |
US6402781B1 (en) * | 2000-01-31 | 2002-06-11 | Mitralife | Percutaneous mitral annuloplasty and cardiac reinforcement |
US7296577B2 (en) * | 2000-01-31 | 2007-11-20 | Edwards Lifescience Ag | Transluminal mitral annuloplasty with active anchoring |
US6797002B2 (en) * | 2000-02-02 | 2004-09-28 | Paul A. Spence | Heart valve repair apparatus and methods |
KR20010087130A (ko) * | 2000-03-06 | 2001-09-15 | 0 | 통신망을 이용한 광고 및 경품 제공 시스템 및 방법 |
JP4257485B2 (ja) * | 2000-06-21 | 2009-04-22 | セイコーエプソン株式会社 | セラミックス膜およびその製造方法ならびに半導体装置および圧電素子 |
EP1330189B1 (en) * | 2000-06-23 | 2007-12-19 | Viacor Incorporated | Automated annular plication for mitral valve repair |
US7527646B2 (en) * | 2000-09-20 | 2009-05-05 | Ample Medical, Inc. | Devices, systems, and methods for retaining a native heart valve leaflet |
US6723038B1 (en) * | 2000-10-06 | 2004-04-20 | Myocor, Inc. | Methods and devices for improving mitral valve function |
US6918917B1 (en) * | 2000-10-10 | 2005-07-19 | Medtronic, Inc. | Minimally invasive annuloplasty procedure and apparatus |
WO2002062408A2 (en) * | 2001-02-05 | 2002-08-15 | Viacor, Inc. | Method and apparatus for improving mitral valve function |
CA2439852A1 (en) * | 2001-03-02 | 2002-09-12 | Christine Dingivan | Methods of preventing or treating inflammatory or autoimmune disorders by administering integrin alphav beta3 antagonists |
US6619291B2 (en) * | 2001-04-24 | 2003-09-16 | Edwin J. Hlavka | Method and apparatus for catheter-based annuloplasty |
US20030069635A1 (en) * | 2001-05-29 | 2003-04-10 | Cartledge Richard G. | Prosthetic heart valve |
US6726716B2 (en) * | 2001-08-24 | 2004-04-27 | Edwards Lifesciences Corporation | Self-molding annuloplasty ring |
DE10142232B4 (de) * | 2001-08-29 | 2021-04-29 | Roche Diabetes Care Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines analytischen Hilfsmittels mit Lanzette und Testelement |
DE60225303T2 (de) * | 2001-08-31 | 2009-02-26 | Mitral Interventions, Redwood City | Vorrichtung für eine herzklappenreperatur |
US20030050693A1 (en) * | 2001-09-10 | 2003-03-13 | Quijano Rodolfo C. | Minimally invasive delivery system for annuloplasty rings |
CA2455444A1 (en) * | 2001-10-01 | 2003-04-10 | Ample Medical, Inc. | Methods and devices for heart valve treatments |
JP2003122402A (ja) * | 2001-10-09 | 2003-04-25 | Yaskawa Electric Corp | サーボ制御装置の制御方法 |
US7144363B2 (en) * | 2001-10-16 | 2006-12-05 | Extensia Medical, Inc. | Systems for heart treatment |
US7052487B2 (en) * | 2001-10-26 | 2006-05-30 | Cohn William E | Method and apparatus for reducing mitral regurgitation |
US6949122B2 (en) * | 2001-11-01 | 2005-09-27 | Cardiac Dimensions, Inc. | Focused compression mitral valve device and method |
US6575971B2 (en) * | 2001-11-15 | 2003-06-10 | Quantum Cor, Inc. | Cardiac valve leaflet stapler device and methods thereof |
US6740107B2 (en) * | 2001-12-19 | 2004-05-25 | Trimedyne, Inc. | Device for treatment of atrioventricular valve regurgitation |
US6764510B2 (en) * | 2002-01-09 | 2004-07-20 | Myocor, Inc. | Devices and methods for heart valve treatment |
US7125420B2 (en) * | 2002-02-05 | 2006-10-24 | Viacor, Inc. | Method and apparatus for improving mitral valve function |
US7048754B2 (en) * | 2002-03-01 | 2006-05-23 | Evalve, Inc. | Suture fasteners and methods of use |
US6797001B2 (en) * | 2002-03-11 | 2004-09-28 | Cardiac Dimensions, Inc. | Device, assembly and method for mitral valve repair |
US6770063B2 (en) * | 2002-04-23 | 2004-08-03 | Uresil, L.P. | Thoracic vent kit |
WO2003105667A2 (en) * | 2002-06-12 | 2003-12-24 | Mitral Interventions, Inc. | Method and apparatus for tissue connection |
US8287555B2 (en) * | 2003-02-06 | 2012-10-16 | Guided Delivery Systems, Inc. | Devices and methods for heart valve repair |
US6723036B2 (en) * | 2002-06-19 | 2004-04-20 | Contour Fabricators, Inc. | Methods and apparatus for folding sheet material |
ATE384479T1 (de) * | 2002-08-13 | 2008-02-15 | Gen Hospital Corp | Herzvorrichtungen für die perkutane reparatur von atrioventrikulären klappen |
WO2004019826A1 (en) * | 2002-08-29 | 2004-03-11 | Md3 Technologies, Llc | Apparatus for implanting surgical devices |
CA2498030A1 (en) * | 2002-10-01 | 2004-04-15 | Ample Medical, Inc. | Devices, systems, and methods for reshaping a heart valve annulus |
US20040133062A1 (en) * | 2002-10-11 | 2004-07-08 | Suresh Pai | Minimally invasive cardiac force transfer structures |
US7416557B2 (en) * | 2002-10-24 | 2008-08-26 | Boston Scientific Scimed, Inc. | Venous valve apparatus and method |
US20040097979A1 (en) * | 2002-11-14 | 2004-05-20 | Oleg Svanidze | Aortic valve implantation device |
US6878331B2 (en) * | 2002-12-03 | 2005-04-12 | Ucar Carbon Company Inc. | Manufacture of carbon composites by hot pressing |
US20040133279A1 (en) * | 2003-01-06 | 2004-07-08 | Krueger David J. | Surgical implants for use as spinal spacers |
US20040133240A1 (en) * | 2003-01-07 | 2004-07-08 | Cardiac Dimensions, Inc. | Electrotherapy system, device, and method for treatment of cardiac valve dysfunction |
US6956705B2 (en) * | 2003-02-05 | 2005-10-18 | Pentax Corporation | Structure of a lens barrel |
US20040162510A1 (en) * | 2003-02-14 | 2004-08-19 | Medtronic Physio-Control Corp | Integrated external chest compression and defibrillation devices and methods of operation |
US6871523B2 (en) * | 2003-03-31 | 2005-03-29 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method and apparatus for forming microchannels in a filament wire |
US6784510B1 (en) * | 2003-04-16 | 2004-08-31 | Freescale Semiconductor, Inc. | Magnetoresistive random access memory device structures |
US20040220657A1 (en) * | 2003-05-02 | 2004-11-04 | Cardiac Dimensions, Inc., A Washington Corporation | Tissue shaping device with conformable anchors |
US7383148B2 (en) * | 2004-03-25 | 2008-06-03 | Siemens Building Technologies, Inc. | Method and apparatus for graphically displaying a building system |
US7641686B2 (en) * | 2004-04-23 | 2010-01-05 | Direct Flow Medical, Inc. | Percutaneous heart valve with stentless support |
EP1796597B1 (en) * | 2004-09-14 | 2013-01-09 | Edwards Lifesciences AG | Device for treatment of heart valve regurgitation |
-
2000
- 2000-12-20 EP EP00127906A patent/EP1113497A3/en not_active Withdrawn
- 2000-12-26 JP JP2000394486A patent/JP2001196499A/ja not_active Abandoned
- 2000-12-28 US US09/750,393 patent/US6563208B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-12-28 KR KR1020000083615A patent/KR100686671B1/ko active IP Right Grant
-
2003
- 2003-04-10 US US10/411,531 patent/US7132740B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1113497A2 (en) | 2001-07-04 |
US6563208B2 (en) | 2003-05-13 |
EP1113497A3 (en) | 2006-01-25 |
US7132740B2 (en) | 2006-11-07 |
KR100686671B1 (ko) | 2007-02-26 |
US20030201519A1 (en) | 2003-10-30 |
KR20010062801A (ko) | 2001-07-07 |
US20020003291A1 (en) | 2002-01-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US20220230993A1 (en) | Embedded multi-die interconnect bridge with improved power delivery | |
US6008534A (en) | Integrated circuit package having signal traces interposed between power and ground conductors in order to form stripline transmission lines | |
US7468551B2 (en) | Multiple chips bonded to packaging structure with low noise and multiple selectable functions | |
US6613606B1 (en) | Structure of high performance combo chip and processing method | |
US4926241A (en) | Flip substrate for chip mount | |
US6815254B2 (en) | Semiconductor package with multiple sides having package contacts | |
US7161251B2 (en) | Partially populated ball grid design to accommodate landing pads close to the die | |
JPH0658941B2 (ja) | コンピュータシステム内への機能的サブシステム形成方法 | |
US6215184B1 (en) | Optimized circuit design layout for high performance ball grid array packages | |
US7987588B2 (en) | Interposer for connecting plurality of chips and method for manufacturing the same | |
JP2001196499A (ja) | 組立中に選択されるインピーダンスの導体を持つ半導体パッケージ | |
JP2974159B2 (ja) | 薄膜再分配域を備えた多層モジュール | |
US10497655B2 (en) | Methods, circuits and systems for a package structure having wireless lateral connections | |
JPH11195872A (ja) | 多層薄膜配線基板 | |
JPH04290258A (ja) | マルチチップモジュール | |
CN117673004A (zh) | 半导体封装组件 | |
Chen et al. | An overview of electrical and mechanical aspects of electronic packaging | |
CN113497022A (zh) | 电子系统、晶粒组件及元件晶粒 | |
KR20010070187A (ko) | 전자 장치 패키지 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20071226 |
|
A762 | Written abandonment of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A762 Effective date: 20081209 |