JP2001181861A - アニロックスロールの表面構造 - Google Patents

アニロックスロールの表面構造

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JP2001181861A JP37197299A JP37197299A JP2001181861A JP 2001181861 A JP2001181861 A JP 2001181861A JP 37197299 A JP37197299 A JP 37197299A JP 37197299 A JP37197299 A JP 37197299A JP 2001181861 A JP2001181861 A JP 2001181861A
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anilox roll
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Abstract

(57)【要約】 【課題】酸性の塗布液を用いてフレキソ印刷により印刷
作業を行った際のフレキソ印刷機を構成するアニロック
スロールの錆により発生する印刷膜の筋状欠陥の発生を
防止する。 【解決手段】アニロックスロールの製造において、鉄製
ロール表面にプラズマＣＶＤ法またはプラズマジェット
溶射法によって酸化クロム膜形成後、酸化クロム膜の隙
間をシリカで充填する、鉄製ロール表面にほうろうによ
るガラス質膜を形成後、その上に酸化クロム膜を形成す
る、あるいは鉄製ロール表面に反応性スパッタリング法
で酸化クロム膜を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はフレキソ印刷機のア
ニロックスロール（セラミックスロール）の表面構造に
関する。
【０００２】
【従来の技術】フレキソ印刷とはゴム、プラスチック等
の弾性材料からなる版材、即ちフレキソ版を用いた凸版
輪転印刷のことをいい、フレキソ印刷機は刷板にゴムま
たはプラスチック等の弾性物質からなるフレキソ版を使
用し、速乾性インキを用いて高速印刷することを特徴と
する。
【０００３】図４に平台フレキソ印刷機の一例の概略
図、および図５に印刷液、即ち塗布液の供給機構の概略
図を示す。
【０００４】図５の（ａ）に示すように薄膜形成用液
体、即ち塗布液はディスペンサー８と通称する圧縮空気
により塗布液を押し出すロールの長手方向に対し水平に
移動可能な塗布液供給装置からゴム、プラスチック等の
弾性物質からなる回転可能なドクターロール７、または
鉄製ロール等の金属ロール上に酸化クロム等の硬質金属
膜で被覆した回転可能なアニロックスロール１上に滴下
される。図５の（ｂ）は図５の（ａ）の側面図である。
【０００５】図４に示すようにドクターロール７とアニ
ロックスロール１が互いに接触しながら逆方向に回転す
ることによって塗布液は混練される。その後、塗布液は
版銅９を回転させることにより、版銅９に巻かれたフレ
キソ版１０がアニロックスロール１と接触して同じ周速
度で回転しつつ、塗布液がアニロックスロール１よりフ
レキソ版１０に供給され、更に版銅９が回転することに
よってフレキソ版１０より、版銅９の回転の周速度と同
じ速度で版銅９と接触しつつ水平移動する台１１上の被
印刷体１２の表面に、塗布液が転写されることによって
薄膜が形成される。
【０００６】フレキソ印刷機に用いるアニロックスロー
ル１、即ち、鉄製ロール等の金属ロールの上に酸化クロ
ム等の酸化金属からなるセラミック層と通称する硬質な
金属膜で被覆した薄膜形成用塗布液を保持するための微
細なエンボス加工等の表面加工が施されたアニロックス
ロール１に対して、ゴム等の弾性材料からなるドクター
ロール７を押し込んだ際の押し込み量によって、アニロ
ックスロール１の表面の塗布液の保持量を調整してい
る。ドクターロール７はゴム等の弾性材料からなるので
金属よりなるアニロックスロール２に機械的に押圧す
る、即ち押し込むと変形する。強く押し込むことでアニ
ロックスロール１の表面の塗布液の保持量が少なくな
り、薄い膜が印刷される。塗布液の保持量がアニロック
スロール１の長手方向に均一に調整されたアニロックス
ロール１よりフレキソ版１０に塗布液が供給された後、
印刷が行われて所定の膜厚の塗布膜が得られる。
【０００７】通常、フレキソ印刷機においてはアニロッ
クスロール１は固定されており、ドクターロール７はア
ニロックスロール１に均一に押圧されて均一な膜厚の塗
布膜が得られていた。
【０００８】フレキソ印刷は基板表面に生産性よく、即
ち高速で薄膜を形成し、薄膜の膜厚を高精度で再現性よ
く制御できるので液晶表示素子の液晶配向膜、絶縁膜、
導電膜、およびブラックマトリックスパターン形成用フ
ォトレジスト等の種々の機能性薄膜を形成するのに用い
られてきた。
【０００９】液晶ディスプレイの画面、即ち画素チップ
の多面取りによる基板サイズの大型化、および画素数の
増加によるブラックマトリックスの高精細化等に伴い、
液晶表示素子の製造工程において歩留まりが非常に重要
になってきている。
【００１０】フレキソ印刷には、鉄製ロール等の金属ロ
ール表面に、酸化金属、通称セラミックで被覆したアニ
ロックスロールが使用されるが、セラミック表面には空
隙が存在するために、印刷時にはポリイミド溶液等の印
刷液がこの空隙に入り込み、使用に従って空隙内で固化
したポリイミド等が剥がれ落ちパーティクルを発生させ
る。発生したパーティクルが工程を汚し歩留まりが悪化
する。
【００１１】パーティクルの発生を防止させる手段が、
特開平６−２３８８７７号公報に印刷液を液供給装置に
よって、アニロックスロール上に供給し弾性を有するド
クターロールによりアニロックスロール上に均一な印刷
液膜を形成させ、この液膜の一部を所定のパターンを持
つ版板上に移動させた後、印刷テーブル上に固定された
板状の被印刷体上に所望のパターンの印刷液膜を転写印
刷する薄膜印刷装置において、アニロックスロールを、
金属ロール表面をセラミックスで被覆後セラミックス中
に発生した空隙を樹脂で充填して実質的空隙を無くした
後、研磨しレーザー光線によって表面に所定のセルを彫
刻後、更に表面を研磨したアニロックスロールとしたこ
とによって被印刷体上にパーティクルのない薄膜を形成
する薄膜印刷装置が開示されている。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】鉄製ロールの上にプラ
ズマＣＶＤ法またはプラズマジェット溶射法でニッケル
層、その上に酸化クロム層を積層したアニロックスロー
ルを用いたフレキソ印刷装置で酸性の塗布液を用いて印
刷した際に、アニロックスロールの錆により塗膜に筋状
の欠陥が発生するという問題があった。ロール表面に錆
が発生すると除去し辛く、完全に除去するのに時間がか
かる。
【００１３】特開平６−２３８８７７号公報は、セラミ
ック層の隙間にポリイミド樹脂を充填して、隙間よりパ
ーティクルが発生することを抑制しているが、塗布液の
浸透によって起こるセラミック層下の鋼、即ち鉄の酸化
腐食には触れていない。
【００１４】
【課題を解決するための手段】アニロックスロールの作
製方法は、通常、肉厚の鉄製の炭素鋼管にステンレス鋼
の軸を焼きばめしてロールを作製し、この金属ロール表
面にプラズマＣＶＤ法またはプラズマジェット溶射法に
よって、鉄と酸化クロムの密着性を向上させるため、お
よび鉄と酸化クロムの熱収縮率の違いによる酸化クロム
層のクラック発生を抑制するためのニッケル層を形成
し、その上に酸化クロム層を形成した後、研磨してお
り、研磨する際の研磨条件によって、塗布液を保持する
ための表面に微細なエンボス加工を施している。その
後、アニロックスロール表面にセルを作製する場合はレ
ーザー光線によってアニロックスロール表面にセル彫刻
を施している。ニッケル層および酸化クロム層の膜厚
は、微細なエンボス加工および／またはセル彫刻ができ
アニロックスロールの表面に必要な硬度が与えられる厚
みとされる。
【００１５】プラズマＣＶＤ法は、減圧状態に保たれた
反応室内で高周波放電を行わせ、系内の反応ガスを分解
または反応させて反応生成物としての薄膜を形成させる
方法である。薄膜を形成する際に金属イオンを電界等に
より加速させることはないので、金属薄膜は緻密ではな
く隙間等の欠陥が存在する。
【００１６】プラズマジェット溶射法は、プラズマジェ
ットを金属に当てて蒸発させて金属薄膜を成膜する方法
である。プラズマジェット溶射法で得られた金属薄膜は
扁平した粒子の積層構造で、プラズマジェットにより金
属粒子に運動エネルギーが与えられることで厚さ方向の
密着は強固であるが、金属薄膜を電子顕微鏡で観察する
と粒子の収縮孔と微細割れが観察される。
【００１７】よって、アニロックスロール表面にプラズ
マＣＶＤ法、プラズマジェット溶射法により酸化金属薄
膜を形成すると、酸性の塗布液を使用した際、酸化金属
薄膜に微細な隙間があるために塗布液が酸化金属薄膜を
浸透し下地の鉄ロールを酸化させる、言い換えれば錆さ
せるためアニロックスロール表面に錆が発生する。
【００１８】本発明はフレキソ印刷において、酸性の塗
布液を用いた場合にアニロックスロール表面に錆が発生
する問題を解決するために、錆が発生しない表面構造を
有するアニロックスロールを提供するものである。
【００１９】即ち本発明は、フレキソ印刷機のアニロッ
クスロールの表面構造であって、プラズマＣＶＤ法、ま
たはプラズマジェット溶射法で、金属ロール上にニッケ
ル層その上に酸化クロム層を積層させて成膜し、酸化ク
ロム層に発生した隙間にシリカを充填させたことを特徴
とするアニロックスロールの表面構造である。
【００２０】更に本発明は、フレキソ印刷機のアニロッ
クスロールの表面構造であって、金属ロール上に密着成
分を含んだガラス質の釉薬を焼成しガラス層を形成し、
その上にプラズマＣＶＤ法、プラズマジェット溶射法、
または反応性スパッタリング法で、酸化クロム層を積層
させたことを特徴とするアニロックスロールの表面構造
である。
【００２１】更に本発明は、密着成分が酸化コバルト、
または酸化ニッケルである上記のアニロックスロールの
表面構造である。
【００２２】更に本発明は、フレキソ印刷機のアニロッ
クスロールで表面構造あって、金属ロール上にプラズマ
ＣＶＤ法、プラズマジェット溶射法、またはスパッタリ
ング法でニッケル層、その上にスパッタリング法でクロ
ム層、その上に反応性スパッタリング法で酸化クロム層
を連続して積層させたことを特徴とするアニロックスロ
ールの表面構造である。
【００２３】酸化金属薄膜に酸性の塗布液が浸透しない
ようにするためには、酸化金属薄膜の微細な隙間を埋め
ればよい。
【００２４】よって本発明者らは、アニロックスロール
の作製において鉄製ロール表面にプラズマＣＶＤ法また
はプラズマジェット溶射法によって、ニッケル層を形成
しその上に酸化クロム層を形成した後、ロールをポリシ
ラザン懸濁液またはＳＩアルコキシド溶液に浸した後、
加熱し加熱硬化させた後、ロール表面を研磨して微細な
隙間にシリカを充填させる本発明に至った。加熱硬化に
より生成したシリカは耐酸性があり、シリカを充填させ
る表面処理によりプラズマＣＶＤ法またはプラズマジェ
ット溶射法によって形成した金属薄膜に酸性の塗布液が
浸透することはない。
【００２５】酸化金属薄膜に酸性の塗布液が浸透したと
しても、下地の鉄に該塗布液が達しなければ鉄は錆びる
ことがない。
【００２６】よって本発明者らは、アニロックスロール
の作製において鉄製ロール表面に粉末状のガラス質の酸
化物を懸濁させた釉薬をかけたのち、高温にて焼き付け
たほうろうによるガラス層を形成した後、その上にプラ
ズマＣＶＤ法またはプラズマジェット溶射法によって酸
化クロム層を形成した。該アニロックスロールを使用し
たところ、ガラス層と酸化クロム層の密着性が悪く、酸
化クロム層にクラックおよび剥離を生じた。釉薬に密着
成分として酸化コバルト、酸化ニッケルを加えほうろう
によるガラス層を形成したところ、ガラス層と酸化クロ
ム層は強く密着しアニロックスロール使用時に剥離する
ことはなくなった。ニッケル層、酸化クロム層はスパッ
タリング法で形成してもよい。ほうろう層を設けたこと
によりアニロックスロールの下地の鉄に塗布液が接触す
ることがなく錆びることがない。
【００２７】金属薄膜を形成する方法にはプラズマＣＶ
Ｄ法、プラズマジェット溶射法以外にスパッタリング法
がある。
【００２８】スパッタリング法は真空雰囲気中にアルゴ
ンガスを少量供給し、スパッタリング装置およびスパッ
タリング装置と絶縁された金属ターゲット間に電圧をか
けて放電させてアルゴンを解離させてアルゴンイオンと
し更に電界によりアルゴンイオンを加速させて金属ター
ゲットに衝突させて、金属ターゲットより金属粒子を叩
き出し、即ちスパッタし飛散させ金属ターゲットの金属
面の前に置かれた被覆物体に金属粒子を付着させる方法
である。雰囲気中に酸素源である酸素、一酸化炭素、二
酸化炭素、窒素酸化物類等を少量流すことでスパッタリ
ング装置内でスパッタされた金属粒子と酸素が反応す
る、即ち反応性スパッタリングによって酸化金属が成膜
される。
【００２９】スパッタリング法によって得られる膜は、
装置と金属ターゲット間の電圧、および放電電流を大き
くすることによってアルゴンイオンが金属ターゲットに
衝突する際の運動エネルギーを大きくし、スパッタされ
た金属粒子の持つ運動エネルギーを大きくすることがで
き、高速で金属粒子が被覆物体にぶつかることから、プ
ラズマＣＶＤ法、プラズマジェット溶射法で得られる金
属薄膜と比較して緻密で隙間のない金属薄膜を形成する
ことができる。
【００３０】更にスパッタリング法は、スパッタリング
の途中から酸素源である気体を流すことで連続して金属
膜の上に酸化金属膜を成膜することが可能である。よっ
て本発明者らは、アニロックスロールの作製において鉄
製ロール表面に、プラズマＣＶＤ法、プラズマジェット
溶射法、またはスパッタリング法によってニッケル層を
形成しその上にスパッタリング法でクロム層、反応性ス
パッタリング法で連続して酸化クロム層を形成させる本
発明に至った。
【００３１】
【発明の実施の形態】図１にアニロックスロール１を側
面から見た本発明のフレキソ印刷機に用いるアニロック
スロール１の表面構造の一例を示す。鉄製の金属ロール
３上にプラズマＣＶＤ法またはプラズマジェット溶射法
でニッケル層４を形成し、その上にプラズマＣＶＤ法ま
たはプラズマジェット溶射法で酸化クロム層２を形成し
た後、酸化クロム層２の隙間にシリカを充填する。シリ
カを充填する方法は、ポリシラザン、ポリシロキサン等
のケイ素ポリマー懸濁液、ケイ酸エチル等のＳｉアルコ
キシド溶液および／またはその混合物にアニロックスロ
ールを浸漬させた後に加熱硬化させシリカとし、アニロ
ックスロール表面の酸化クロム層の隙間に充填する。例
えば、固形分濃度１％以上、５０ｗｔ％以下、好ましく
は１０％以上、２０ｗｔ％以下のポリシラザン懸濁液を
超音波発振器を備えた容器に入れた後、超音波を発振さ
せながら、上記アニロックスロールをポリシラザン懸濁
液内に浸漬させた後、所定時間経過後にアニロックスロ
ールを取り出してロール表面に付着した余分なポリシラ
ザンをふき取り乾燥させた後、ポリシラザンを加熱硬化
させる。
【００３２】ポリシラザン懸濁液の濃度が１ｗｔ％以下
では薄すぎてシリカが酸化クロム膜の隙間を埋められな
い。また５０ｗｔ％以上ではポリシラザンの懸濁液中で
の安定性が甚だ悪くなるので、好ましいポリシラザン溶
液の濃度は１０ｗｔ％以上、２０ｗｔ％以下である。浸
漬時、ポリシラザン懸濁液を酸化クロム層の隙間に浸透
させるために、超音波を発振させることが好ましい。
【００３３】表面の酸化クロム層にポリシラザン懸濁液
を浸透させたアニロックスロールの加熱温度は室温以
上、１３００℃以下である。ポリシラザンの種類によっ
てはポリシラザン溶液中に硬化触媒を添加することで室
温でポリシラザンの硬化は可能であるが、４００℃以上
に大気中で加熱することによってポリシラザンは硬質の
シリカとなる。即ち加熱した方が加熱硬化が完全に進
み、より耐酸性の高いシリカが得られるので、４００℃
以上、６００℃以下に加熱することが好ましい。１３０
０℃以上に加熱すると、ロールが変形する恐れがあり、
ポリシラザンが加熱硬化し硬質なシリカとなる反応は６
００℃で律速となる。
【００３４】図２にアニロックスロール１を側面から見
た、図１とは別の本発明のフレキソ印刷機に用いるアニ
ロックスロール１の表面構造の一例を示す。
【００３５】鉄製ロール３の表面に、酸化クロムとの密
着成分として酸化コバルト、酸化ニッケルを加えた粉末
状のガラス質の酸化物を懸濁させた釉薬をかけたのち、
高温にて焼き付けたほうろうによるガラス層５を形成し
た後、その上にプラズマＣＶＤ法、プラズマジェット溶
射法または反応性スパッタリング法でよって酸化クロム
層２を形成させた。
【００３６】釉薬を焼成しほうろうによるガラス層５を
形成する焼成温度は５００℃以上、１３００℃以下でほ
うろうによる膜を形成することが可能であるが好ましく
は９００℃以上、９５０℃以下である。５００℃以下で
はガラス層が形成せず、１３００℃以上では高熱により
ロールが変形する恐れがある。
【００３７】図３にアニロックスロール１を側面から見
た、図１または図２とは別の本発明のフレキソ印刷機に
用いるアニロックスロール１の表面構造の一例を示す。
【００３８】鉄製の金属ロール３の表面に、プラズマＣ
ＶＤ法、プラズマジェット溶射法、またはスパッタリン
グ法によってニッケル層４を形成しその上にスパッタリ
ング法でクロム層６、反応性スパッタリング法で連続し
て酸化クロム層２を形成させた。 実施例１ 肉厚の鉄からなる機械構造用炭素鋼管にステンレス鋼の
軸を焼きばめして、鉄製の金属ロールを作製した。この
ロール表面にプラズマジェット溶射法によって３００μ
ｍのニッケル層を形成した上に、更にプラズマジェット
溶射法によって３００μｍの酸化クロム層を作製した。
超音波発振器を備えた浴中に２０ｗｔ％のポリシラザン
懸濁液を入れ、ポリシラザン懸濁液中に該ロールを浸漬
させ、超音波を発振させた後に５分間放置した。ロール
を取り出しロール表面の余分なポリシラザンを拭き取っ
た後室温にて乾燥させ、５００℃にて２時間焼成、即ち
加熱硬化させた後、ロール表面を研磨し微細なエンボス
加工を施しアニロックスロールとした。該アニロックス
ロールをフレキソ印刷作業に使用し、ＰＨ２の酸性印刷
液の印刷作業を連続して行ったが、１ヶ月が過ぎてもア
ニロックスロール表面に錆の発生は見られず、印刷膜に
スジ状欠陥は発生しなかった。 実施例２ 肉厚の鉄からなる機械構造用炭素鋼管にステンレス鋼の
軸を焼きばめして、鉄製の金属ロールを作製した。この
ロール表面に密着成分として酸化ニッケルを含んだガラ
ス質の酸化金属を含んだ釉薬を均一にかけた後、９５０
℃にて１時間加熱硬化、即ち、焼成しガラス層を形成し
た。更にガラス層の上にプラズマジェット溶射法によっ
て３００μｍの酸化クロム層を形成した後、ロール表面
を研磨し微細なエンボス加工を施しアニロックスロール
とした。該アニロックスロールをフレキソ印刷に使用
し、ＰＨ２の酸性印刷液の印刷作業を連続して行った
が、１ヶ月が過ぎてもアニロックスロール表面に錆の発
生見られず、印刷膜にスジ状欠陥は発生しなかった。 実施例３ 肉厚の鉄からなる機械構造用炭素鋼管にステンレス鋼の
軸を焼きばめして、鉄製の金属ロールを作製した。この
ロール表面にプラズマジェット溶射法によって厚み３０
０μｍのニッケル層を形成した上に、更にスパッタリン
グ法によって３００μｍのクロム層を作成し、連続して
スパッタリング雰囲気中に酸素を少量流しながら反応性
スパッタリングを行い厚み３００μｍの酸化クロム層を
作製した後、ロール表面を研磨し微細なエンボス加工を
施しアニロックスロールとした。該アニロックスロール
をフレキソ印刷に使用し、ＰＨ２の酸性印刷液の印刷作
業を連続して行ったが、１ヶ月が過ぎてもアニロックス
ロール表面に錆の発生は見られず、印刷膜にスジ状欠陥
は発生しなかった。 比較例１ 肉厚の鉄からなる機械構造用炭素鋼管にステンレス鋼の
軸を焼きばめして、鉄製の金属ロールを作製した。この
ロール表面にプラズマジェット溶射法によって３００μ
ｍのニッケル層を形成した上に、更にプラズマジェット
溶射法によって３００μｍの酸化クロム層を形成した
後、ロール表面を研磨し微細なエンボス加工を施しアニ
ロックスロールとした。該アニロックスロールをフレキ
ソ印刷に使用し、ＰＨ２の酸性印刷液の印刷作業を連続
して行ったところ、２日目にアニロックスロール表面に
錆の発生が見られ印刷膜に錆によるスジが認められた。
また錆を取り除くのにアニロックスロール表面を再研磨
せざるを得なかった。 比較例２ 肉厚の鉄からなる機械構造用炭素鋼管にステンレス鋼の
軸を焼きばめして、鉄製の金属ロールを作製した。この
ロール表面に密着成分として酸化ニッケルを含まないガ
ラス質の酸化金属を含んだ釉薬を均一にかけた後、９５
０℃にて１時間焼成しガラス層を形成し、更にプラズマ
ジェット溶射法によって３００μｍの酸化クロム層を形
成した後、微細なエンボス加工を施すため研磨したとこ
ろガラス層と酸化クロム層の密着性が悪いために酸化ク
ロム層にクラックが入ると共に酸化クロム層の一部が剥
がれ落ちアニロックスロールの作製が甚だ困難であっ
た。
【００３９】
【発明の効果】本発明のアニロックスロールを用いる
と、酸性の塗布液を用いたフレキソ印刷機による印刷作
業に於いても錆の発生が起きないので、印刷膜に錆によ
る筋状の欠陥が発生しない。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のアニロックスロールの表面構造を示す
アニロックスロールの概略断面図である。
【図２】本発明のアニロックスロールの表面構造を示す
アニロックスロールの概略断面図である。
【図３】本発明のアニロックスロールの表面構造を示す
アニロックスロールの概略断面図である。
【図４】本発明で使用する平台フレキソ印刷機の一例の
概略図である。
【図５】（ａ）は、遮光膜形成用液体の供給機構を説明
するためのディスペンサー、ドクターロールおよびアニ
ロックスロールの概略正面図である。（ｂ）は、遮光膜
形成用液体の供給機構を説明するためのディスペンサ
ー、ドクターロールおよびアニロックスロールの概略側
面図である。
【符号の説明】 １ アニロックスロール ２ 酸化クロム層 ３ 鉄製ロール ４ ニッケル層 ５ ガラス層 ６ クロム層
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ２３Ｄ 5/00 Ｃ２３Ｄ 5/00 Ｃ (72)発明者 板倉 伸行 三重県松阪市大口町1510番地 セントラル 硝子株式会社硝子研究所内 Ｆターム(参考） 2C250 DB08 DB14 DC04 DC11 DC12 DC14 4K029 AA02 BA07 BA12 BA43 BB02 CA05 CA06 4K031 AA01 AB03 AB04 AB09 CB08 CB21 CB42 DA04 4K044 AA02 AA03 AB03 AB09 BA02 BA06 BA11 BA12 BA14 BB03 BB04 BC02 CA11 CA13 CA14 CA53 CA62

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】フレキソ印刷機のアニロックスロールの表
    面構造であって、プラズマＣＶＤ法、またはプラズマジ
    ェット溶射法で、金属ロール上にニッケル層その上に酸
    化クロム層を積層させて成膜し、酸化クロム層に発生し
    た隙間にシリカを充填させたことを特徴とするアニロッ
    クスロールの表面構造。
  2. 【請求項２】フレキソ印刷機のアニロックスロールの表
    面構造であって、金属ロール上に密着成分を含んだガラ
    ス質の釉薬を焼成しガラス層を形成し、その上にプラズ
    マＣＶＤ法、プラズマジェット溶射法、または反応性ス
    パッタリング法で、酸化クロム層を積層させたことを特
    徴とするアニロックスロールの表面構造。
  3. 【請求項３】密着成分が酸化コバルト、または酸化ニッ
    ケルである請求項２記載のアニロックスロールの表面構
    造。
  4. 【請求項４】フレキソ印刷機のアニロックスロールの表
    面構造あって、金属ロール上にプラズマＣＶＤ法、プラ
    ズマジェット溶射法、またはスパッタリング法でニッケ
    ル層、その上にスパッタリング法でクロム層、その上に
    反応性スパッタリング法で酸化クロム層を連続して積層
    させたことを特徴とするアニロックスロールの表面構
    造。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010137543A (ja) * 2008-11-12 2010-06-24 Tocalo Co Ltd 印刷機用ロール及びその製造方法
WO2016126230A1 (en) * 2015-02-02 2016-08-11 Eastman Kodak Company Anilox roll with low surface energy zone
WO2022137871A1 (ja) * 2020-12-23 2022-06-30 トーカロ株式会社 皮膜形成方法
KR102597988B1 (ko) * 2023-02-24 2023-11-06 주식회사 오리온 플렉소 인쇄용 수성 플렉소 잉크 및 이를 이용하여 포장재를 제조하는 방법

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