JP2001177290A - 透光性電磁波シールド部材およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 透光性および電磁波シールド効果に優れ、コ
ントラストを低下させるおそれもない透光性電磁波シー
ルド部材と、その製造方法とを提供する。 【解決手段】 本発明の透光性電磁波シールド部材は、
透明基板２の表面に、金属粉末と酸化鉄粉末とを含む導
電性インキ組成物を印刷して形成された、線幅が５〜４
０μｍで、かつ式(1) ： １≦Ｓｋ／Ｓｓ≦９ …(1) 〔式中、Ｓｓは透明基板の表面における印刷された領域
の全表面積を示し、Ｓｋは印刷されていない領域の全表
面積を示す。〕を満足する印刷パターン１０と、その上
に積層、形成された金属層１１とで電磁波シールドパタ
ーン部１を構成したものであって、上記印刷パターンを
凹版オフセット印刷にて形成した後、金属層を電気メッ
キにて形成することによって得られる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えばＣＲＴ（ブ
ラウン管）、ＰＤＰ（プラズマ・ディスプレイ・パネ
ル）等の表示画面から照射される電磁波を効果的にシー
ルド（遮蔽）することができ、しかも上記表示画面にお
ける表示の視認性を阻害しないために透光性にも優れた
透光性電磁波シールド部材と、その製造方法とに関する
ものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、電子、電気機器から放射される電
磁波が人体に与える影響について種々の報告がなされて
おり、それに伴ってＣＲＴ等の表示画面から放射される
電磁波をシールドする技術について関心が高まってい
る。通常の電気機器等から放射される電磁波をシールド
するためには、その筐体を金属体にするか、あるいは筐
体に金属板を貼りつけるといった方法が行われる。

【０００３】しかし、例えばＣＲＴやＰＤＰの表示画面
から照射される電磁波をシールドするには、ただ単に電
磁波のシールド効果に優れているだけでなく、表示画面
における表示の視認性を阻害しないために、透光性にも
優れていることが求められるので、金属板をそのまま使
用することはできない。そこで、ＣＲＴ等の表示画面か
ら照射される電磁波を、表示の視認性を阻害することな
くシールドすることを目的として、例えば(1) 導電性の
高い金属フィラメントを混入した繊維からなるメッシ
ュ、(2) ステンレス、タングステン等の導電性材料の繊
維を内部に埋め込んだ透明基板（特開平３−３５２８４
号公報、特開平５−２６９９１２号公報、特開平５−３
２７２７４号公報）、(3) 表面に金属または金属酸化物
の蒸着膜を形成した透明基板（特開平１−２７８８０号
公報、特開平５−３２３１０１号公報）等が用いられて
いる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記のうち
(1)のメッシュを用いると、表示画面が暗くなって、コ
ントラストや解像度が低下するという問題がある。ま
た、上記(2)の透明部材は内部に繊維が埋め込まれてい
ることから、製造方法が複雑になってコストが高くなる
上、やはり表示画面が暗くなって、コントラストや解像
度が低下するという問題がある。

【０００５】さらに、上記(3) の場合には、十分な透光
性を維持し得る程度にまで蒸着膜を薄くすると、当該膜
の表面抵抗が低下して電磁波の減衰特性が低下すること
から、透光性とシールド効果とを両立できないという問
題がある。ＣＲＴ等の表示画面を覆って電磁波をシール
ドする部材としては、上記例示の他にも、例えば、透明
基板の表面に、導電性の高い金属粉末を混合したインキ
を、スクリーン印刷法によって格子状または縞状のパタ
ーンに印刷形成したもの（特開昭６２−５７２９７号公
報、特開平９−２８３９７７号公報）や、導電性インキ
からなる網目状のパターンを、スクリーン印刷法によっ
て印刷形成した後、真空中で焼き付けたもの（特開平２
−５２４９９号公報）、あるいは紫外線硬化型エポキシ
アクリレート樹脂に金属粉末を混合したインキを、印刷
法は不明であるが透明基板の表面に、格子状に印刷形成
した後、紫外線を照射して硬化したもの（特公平２−４
８１５９号公報）等が知られているが、これらの部材を
用いても、十分な電磁波のシールド効果と透光性とを両
立することはできない。

【０００６】すなわち、優れた電磁波のシールド効果と
透光性とを両立するには、パターンの線幅とパターンの
間隙（ピッチ）とを最適化し、さらにパターンの電気抵
抗を小さくする必要があるが、このような観点に対する
考慮は、上記各公報のいずれに記載の技術においてもな
されておらず、またパターンの作成方法に対する考慮も
不十分であると考えられる。例えば、十分な透光性を得
るには、パターンの線幅を極めて細くし、かつその間隔
を大きくするのが好ましいが、この場合にはシールド効
果が不十分になる。また、スクリーン印刷法等の方法で
数１０μｍ以下といった極めて細い線幅のパターンを形
成するのは困難であって、パターンの線幅にばらつきが
生じたり、パターンが途切れる箇所が多数発生したりす
るといった問題が生じる。特公平２−４８１５９号公報
に記載のものについても、その実施例ではパターンの線
幅が１００μｍとなっていることから、やはりスクリー
ン印刷法等の従来法にて印刷を行っているものと推測さ
れ、数１０μｍ以下といった極めて細い線幅のパターン
を形成するのは困難であって、上記のようにパターンの
線幅にばらつきが生じたり、パターンが途切れる箇所が
多数発生したりするといった問題がある。

【０００７】一方、シールド効果を高めるには、パター
ンの電気抵抗を極力低くすることが好ましいが、金属粉
末とバインダー樹脂とからなる一般的な導電性ペースト
をインキとして用いた場合、その比抵抗は十分に小さい
ものの、極めて細いパターンを形成した際に、パターン
間の電気抵抗が非常に高くなってしまって、シールド効
果を十分に高めることが困難になる。また、上記導電性
ペーストにて形成したパターンは金属光沢を有し、外光
や内部発光の反射によって、表示画面のコントラストの
低下を引き起こすという問題がある。

【０００８】そこで、コントラストの低下を抑制するた
めに、導電性のカーボンブラックを金属粉末と併用し
て、印刷パターンを黒くすることが考えられるが、カー
ボンブラックは金属粉末に比べて抵抗値が高いために、
併用すると印刷パターンの導電性が低くなって電磁波の
シールド性が悪くなるという問題がある。さらに、カー
ボンブラックを添加した場合には、添加量がわずかであ
ってもインキの粘度が非常に大きくなり、チキソトロピ
ー性が高くなってしまうため、連続印刷時に印刷パター
ンの断線や形状の乱れが発生するという問題もある。

【０００９】特に、ＰＤＰ用途では、厳しい電磁波シー
ルド性能が要求されているとともに、今後その要求がま
すます厳しくなることが予想されており、上記の、金属
粉末やカーボンブラックを主とする導電性ペーストのみ
にてパターン形成されたシールド部材では、この要求に
対応する十分なシールド性能が得られなくなりつつある
という問題もある。特開平３−３５２８４号公報には、
透明プラスチック基板の表面に、金属薄膜を蒸着等によ
って形成した後、ケミカルエッチングプロセスによって
パターニングする旨の記載があり、また特開平１０−４
１６８２号公報には、金属薄膜からなる幾何学模様を、
これもケミカルエッチングプロセスによって透明基板の
表面に設ける旨の記載がある。同様に、特開平１０−１
６３６７３号公報には、透明基板の表面にメッキ触媒を
含む透明樹脂塗膜を形成し、その上に無電解メッキによ
って銅等の金属薄膜を形成した後、やはりケミカルエッ
チングプロセスによってパターニングする旨の記載があ
る。

【００１０】これらの方法によれば、非常に微細なパタ
ーンを高い精度でもって形成することができる上、特に
ＰＤＰ用途で要求される厳しい電磁波シールド性能を達
成することもできる。しかしながら、ケミカルエッチン
グプロセスにおいては、かかる微細なパターンを形成す
るためにフォトリソグラフ法を用いる必要があり、製造
コストが極めて高くなってコスト面での不利を被る。特
に、ＰＤＰ等の大型画面に対応させるためには露光装置
やエッチング装置を大型化せねばならず、製造設備が非
常に高価になる。

【００１１】また、透明基板の表面に一旦形成された金
属薄膜のうち、大部分を除去する必要があって無駄が多
い上、エッチング後の廃液の処理に時間と手間と費用と
がかかるという問題もある。そこで、本発明の目的は、
上記課題を解決し、透光性と電磁波のシールド効果との
両方に優れるとともに、コントラストを低下させるおそ
れもない透光性電磁波シールド部材と、当該透光性電磁
波シールド部材を、簡易な方法でかつ低コストで製造す
ることのできる製造方法とを提供することにある。

【００１２】

【課題を解決するための手段および発明の効果】上記課
題を解決するための本発明に係る透光性電磁波シールド
部材は、透明基板の表面に、(a) 金属粉末と、(b) 酸化
鉄粉末とを含む導電性インキ組成物を印刷して形成され
た、その線幅が５〜４０μｍで、かつ式(1)： １≦Ｓｋ／Ｓｓ≦９ …(1) 〔式中、Ｓｓは透明基板の表面における印刷された領域
の全表面積を示し、Ｓｋは印刷されていない領域の全表
面積を示す。〕を満足する、ストライプ状、格子状また
は幾何学模様からなる印刷パターンと、当該印刷パター
ン上に積層、形成された金属層とによって電磁波シール
ドパターン部が構成されたことを特徴とする。

【００１３】また、本発明に係る透光性電磁波シールド
部材の製造方法は、インキ離型性に優れた転写体を用い
た凹版オフセット印刷法により、透明基板の表面に、
(a) 金属粉末と、(b) 酸化鉄粉末とを含む導電性インキ
組成物を印刷して、その線幅が５〜４０μｍで、かつ式
(1) ： １≦Ｓｋ／Ｓｓ≦９ …(1) 〔式中、Ｓｓは透明基板の表面における印刷された領域
の全表面積を示し、Ｓｋは印刷されていない領域の全表
面積を示す。〕を満足する、ストライプ状、格子状また
は幾何学模様からなる印刷パターンを形成した後、電気
メッキおよび／または無電解メッキによって、前記印刷
パターン上に選択的に金属層を積層、形成して、電磁波
シールドパターン部を構成することを特徴とするもので
ある。

【００１４】上記本発明では、印刷パターンの形成に
(i) 凹版と、(ii)インキ離型性に優れた転写体とを用い
ているが、前記(i) の凹版を用いて印刷することによ
り、精密でかつ微細なパターン形成が可能になるととも
に、１回の印刷で膜厚が０．５μｍ程度の薄肉のパター
ンしか形成することのできない平版印刷や凸版印刷とは
異なり、同じ１回の印刷で膜厚が０．５〜５０μｍ程度
の十分に厚肉のパターンを形成することが可能となっ
て、それゆえ、重ね印刷をすることなく、優れた導電性
を発揮するのに必要な膜厚を得ることができ、さらに凹
部の深さを調整することで印刷パターンの厚みを自由に
制御できるという利点を得ることができる。

【００１５】さらには、上記(ii)の、インキ離型性に優
れた転写体を用いて印刷することにより、凹版のインキ
をほぼ１００％透明基板に転写することができ、従っ
て、インキの分断を凹版から転写体への転写の際の１回
のみとすることができるため、たとえ極めて微細なパタ
ーンであっても原版のパターン形状に極めて忠実で、断
線等が生じることのない非常に良好な印刷物形状を有す
る印刷パターンを形成できるという利点をも得ることが
できる。

【００１６】従って、上記本発明によれば、電磁波シー
ルドパターン部を構成する、線幅が５〜４０μｍといっ
た極めて微細な印刷パターンを、１回の印刷で生産性よ
く、かつ断線や、重ね印刷によるパターンのずれ等を生
じることなく、精度よく形成することができる。さら
に、上記のように微細な印刷パターンを、フォトリソグ
ラフ法を用いる場合に比べて簡易にかつ低コストで形成
することが可能となり、生産性の向上とコストの低減と
を図ることができる。例えばフォトリソグラフ法でのラ
ンニングコストを１とすると、凹版オフセット印刷法の
ランニングコストは、そのおよそ１／１０〜１／３程度
まで低減することが可能である。

【００１７】また、形成された印刷パターンは、上記の
ようにその線幅が４０μｍ以下と非常に細いために、電
磁波シールド部材の透光性も優れたものとなる。上記印
刷パターンの形成に使用する導電性インキ組成物中にお
いて、金属粉末とともに含有される酸化鉄粉末は、カー
ボンブラックに比べて、インキにチキソトロピー性を付
与する作用が少なく、それゆえ、インキの粘度を上昇さ
せにくい。さらに、酸化鉄粉末はカーボンブラックと同
等の黒色度を有している。従って、上記導電性インキ組
成物を用いることにより、高い印刷性を維持しつつ、印
刷パターンの黒色度を高めることができる。なお、上記
導電性インキは印刷性に優れていることから、膜厚が数
μｍといった薄膜をも形成することができる。

【００１８】上記導電性インキ組成物を用いて形成され
た印刷パターンは、特に透明基板側からの光（部材をど
ちら向きに使用するかによって異なるが、主に外光）の
反射による表示のコントラストの低下を防止する機能に
優れている。また、上記導電性インキ組成物を用いた場
合には、得られた印刷パターンを陰極として使用して電
気メッキするだけで、当該印刷パターン上に選択的に、
高い導電性を有する良好な金属層を積層、形成すること
ができる。あるいは、塩化パラジウムで印刷パターンを
処理することにより、選択的に印刷パターン部分にのみ
無電解メッキを施すこともできる。また、無電解メッキ
処理後、メッキ部分を陰極として電解メッキを行うこ
と、すなわち無電解メッキと電解メッキとを併用するこ
とも可能である。

【００１９】従って、特にＰＤＰ用途で要求される厳し
い電磁波シールド性能を将来に亘って十分に達成し得
る、電磁波のシールド効果に優れた良好な電磁波シール
ドパターン部を構成することが可能となる。本発明の製
造方法によって得られる本発明の透光性電磁波シールド
部材は、印刷領域と非印刷領域との比Ｓｋ／Ｓｓが前記
所定の範囲に限定されることも相まって、透光性と電磁
波のシールド効果との両方に優れるとともにコントラス
トを低下させるおそれがなく、ＣＲＴ等の表示画面を覆
ってもその視認性やコントラストを損なうことなしに、
電磁波を高度にかつ確実にシールドできるものとなる。

【００２０】

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。 〔導電性インキ組成物〕本発明で使用する導電性インキ
組成物は、前記のように(a) 金属粉末と、(b)酸化鉄粉
末とを含むものである。このうち、(a) の金属粉末とし
ては、例えば銀、銅、鉄、ニッケル、アルミニウム、金
等が挙げられる。金属粉末はそれぞれ１種単独で使用で
きる他、２種以上を併用することもできる。また、メッ
キ複合体（例えば銀メッキ銅）や合金体としてもよい。
上記金属粉末の中でも、特に導電性、コスト、耐酸化性
（すなわち、絶縁性の高い酸化物を生成しにくい特性）
を考慮すると、銀または銅の粉末が好適に使用される。

【００２１】導電性インキ組成物中での金属粉末は、印
刷パターンの導電性を高くして、電気メッキによる金属
層の形成をより一層、良好に行うという観点から、その
充填密度が高いほど好ましい。また、印刷パターンの導
電性は、使用する金属粉末自体の体積固有抵抗のみで決
まるものではなく、パターン部中での金属粉末間の接触
抵抗によっても大きく左右される。例えば、印刷パター
ンの内部に金属粒子が高密度で充填されていても、金属
粉末間の接触抵抗が大きければ、印刷パターン全体の導
電性が低くなる。

【００２２】それゆえ、金属粉末としては、球状や粟状
のもの等よりも、金属粉末同士の接触面を大きくするこ
とを考慮して鱗片状のものが好ましく使用される。な
お、本発明において、球状や粟状の金属粉末の使用が排
除されるものではない。金属粉末の粒径は、印刷適性等
を考慮すると０．０１〜１０μｍ程度であるのが好まし
く、０．１〜５μｍ程度であるのがより好ましい。金属
粉末の、導電性インキ組成物への添加量は、当該導電性
インキ組成物の総量に対する百分率で表して６０〜９５
重量％程度であるのが好ましく、８０〜９０重量％程度
であるのがより好ましい。

【００２３】金属粉末の添加量が上記範囲を下回ると、
導電性を担う金属粉末の割合が少ないために印刷パター
ンの導電性が低下して、その表面に、電気メッキによっ
て導電性に優れた金属層を積層、形成するのが容易でな
くなり、電磁波シールド効果に優れた電磁波シールドパ
ターン部を構成できなくなるおそれが生じる。逆に、金
属粉末の添加量が上記範囲を超えると、金属粉末同士を
結合させるバインダー樹脂の結合力が弱まるために、や
はり印刷パターンの導電性が低下して、その表面に、電
気メッキによって導電性に優れた金属層を積層、形成す
るのが容易でなくなり、電磁波シールド効果に優れた電
磁波シールドパターン部を構成できなくなるおそれが生
じる。

【００２４】上記金属粉末とともに導電性インキ組成物
中に含有される、前記(b) の酸化鉄粉末としては、鉄の
酸化数に関わらず、従来公知の種々のものがいずれも使
用可能である。上記酸化鉄粉末の粒径は、印刷適性等を
考慮すると０．０１〜１０μｍ程度であるのが好まし
く、０．１〜５μｍ程度であるのがより好ましい。酸化
鉄粉末の導電性インキ組成物への添加量は、当該導電性
インキ組成物の総量に対する百分率で表して０．５〜５
０重量％程度であるのが好ましく、１〜３０重量％程度
であるのがより好ましい。

【００２５】酸化鉄粉末の添加量が上記範囲を下回る
と、印刷パターンの黒色度が低下して、外光の反射を防
止することができなくなり、コントラストの低下を防止
する効果が十分に得られなくなるおそれが生じる。逆
に、酸化鉄粉末の添加量が上記範囲を超えると、印刷パ
ターンの導電性が低下するため、その表面に、電気メッ
キによって導電性に優れた金属層を積層、形成するのが
容易でなくなって、電磁波シールド効果に優れた電磁波
シールドパターン部を構成できなくなるおそれが生じ
る。

【００２６】金属粉末Ｍと酸化鉄粉末Ｆとの配合比Ｍ／
Ｆ（重量比）は、Ｍ／Ｆ＝３００／１〜２０／１程度で
あるのが好ましく、２００／１〜４０／１程度であるの
がより好ましい。酸化鉄粉末の比率が上記範囲よりも少
ない場合には、印刷パターンの黒色度が低下するため
に、外光の反射を防止してコントラストの低下を防止す
る効果が十分に得られなくなるおそれが生じる。逆に、
酸化鉄粉末の比率が多い場合には、印刷パターンの導電
性が低下するため、その表面に、電気メッキによって導
電性に優れた金属層を積層、形成するのが容易でなくな
って、電磁波シールド効果に優れた電磁波シールドパタ
ーン部を構成できなくなるおそれが生じる。

【００２７】上記金属粉末、酸化鉄粉末とともに導電性
インキ組成物を形成する他の成分としては、例えばバイ
ンダー樹脂、溶剤等が挙げられる。このうちバインダー
樹脂としては、熱硬化性、紫外線硬化性、あるいは熱可
塑性等の種々の樹脂がいずれも使用可能であるが、特に
印刷パターンの耐熱性、耐候性等を考慮すると、熱硬化
性または紫外線硬化性のバインダー樹脂が好適に使用さ
れる。

【００２８】熱硬化性のバインダー樹脂としては、例え
ばポリエステル−メラミン、メラミン、エポキシ−メラ
ミン、フェノール、ポリイミド、熱硬化性アクリル、お
よびポリウレタン等の各種樹脂が挙げられる。また紫外
線硬化性のバインダー樹脂としては、例えばポリエステ
ル、ポリビニルブチラール、アクリル、フェノール、ポ
リウレタン等の各種樹脂が挙げられる。また、前者の熱
硬化性のバインダー樹脂を使用する際に、例えば透明基
板の耐熱性等の関係で硬化温度を高くできないようなと
きには、パラトルエンスルホン酸やアミンでブロックし
たパラトルエンスルホン酸、あるいはブロックイソシア
ネート等の硬化触媒を添加してもよい。

【００２９】バインダー樹脂の、導電性インキ組成物へ
の添加量は、当該導電性インキ組成物の総量に対する百
分率で表して０．５〜５０重量％程度であるのが好まし
く、１〜３０重量％程度であるのがより好ましい。バイ
ンダー樹脂の添加量が上記範囲を下回ると、印刷パター
ンの強度が低下するおそれがあるほか、前述したように
金属粉末同士を結合させるバインダー樹脂の結合力が弱
まるために、印刷パターンの導電性が低下して、その表
面に、電気メッキによって導電性に優れた金属層を積
層、形成するのが容易でなくなり、電磁波シールド効果
に優れた電磁波シールドパターン部を構成できなくなる
おそれが生じる。

【００３０】逆に、バインダー樹脂の添加量が上記範囲
を超えると、相対的に導電性を担う金属粉末の割合が少
なくなって、印刷パターンの導電性が低下するために、
やはりその表面に、電気メッキによって導電性に優れた
金属層を積層、形成するのが容易でなくなって、電磁波
シールド効果に優れた電磁波シールドパターン部を構成
できないおそれがある。溶剤は、前記(a) の金属粉末、
(b) の酸化鉄粉末、および上記バインダー樹脂を含む導
電性インキ組成物の粘度を、凹版オフセット印刷に適し
た範囲に調整するために添加されるもので、かかる溶剤
としては、例えばその沸点が１５０℃以上であるような
従来公知の種々の溶剤が、好適に使用される。溶剤の沸
点が１５０℃を下回ると、印刷時に乾燥しやすくなっ
て、インキ組成物が経時変化を起こしやすくなるためで
ある。

【００３１】かかる溶剤の具体例としては、例えばアル
コール類〔ヘキサノール、オクタノール、ノナノール、
デカノール、ウンデカノール、ドデカノール、トリデカ
ノール、テトラデカノール、ベンタデカノール、ステア
リルアルコール、セリルアルコール、シクロヘキサノー
ル、テルピネオール等〕や、アルキルエーテル類〔エチ
レングリコールモノブチルエーテル（ブチルセロソル
ブ）、エチレングリコールモノフェニルエーテル、ジエ
チレングリコール、ジエチレングリコールモノブチルエ
ーテル（ブチルカルビトール）、セロソルブアセテー
ト、ブチルセロソルブアセテート、力ルピトールアセテ
ート、ブチルカルビトールアセテート等〕が挙げられ、
この中から１種または２種以上が、印刷適性や作業性等
を考慮して適宜、選択される。

【００３２】溶剤として高級アルコールを使用する場合
は、インキ組成物の乾燥性や流動性が低下するおそれが
あるため、これらよりも乾燥性が良好なブチルカルビト
ール、ブチルセロソルブ、エチルカルビトール、ブチル
セロソルブアセテート、ブチルカルビトールアセテート
等を併用すればよい。溶剤は、導電性インキ組成物の粘
度が５０〜２０００ポアズ（Ｐ）程度、特に２００〜１
０００Ｐ程度となるように、その添加量を調整するのが
好ましい。

【００３３】導電性インキ組成物の粘度が上記範囲を下
回るか、あるいは逆に上回った場合には、そのいずれに
おいても、導電性インキ組成物の印刷適性が低下して、
微細なパターンを形成できなくなるおそれがあるからで
ある。導電性インキ組成物は、上記の各成分を配合し、
十分に攪拌混合した後、混練することによって調製され
る。 〔透明基板〕上記導電性インキ組成物によって、その表
面に印刷パターンが形成される透明基板としては、可視
光線に対する充分な透光性を有するガラスやフィルムが
いずれも使用可能であるが、特にロール状にして連続処
理できる樹脂のフィルムやシートが好ましい。

【００３４】フィルムやシートを形成する樹脂として
は、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）に代
表されるポリエステル類、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン等のポリオレフィン類、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビ
ニリデン等の含ハロゲン樹脂類、ポリスチレン等のスチ
レン系樹脂類、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネー
ト、ポリアミド、ポリイミド、アクリル樹脂等が挙げら
れる。中でも、特に透光性が良好で、安価である上、柔
軟性に優れ、しかも導電性インキ組成物を印刷した後で
加熱工程または紫外線照射工程に供しても熱変形等を生
じることのない、耐熱性を有するＰＥＴが、最も好適に
使用される。

【００３５】透明基板の厚みは特に限定されないが、電
磁波シールド部材の透光性を維持するという観点からす
ると薄いほど好ましく、通常は、使用時の形態（フィル
ム状、シート状）や必要とされる機械的強度に応じて
０．０５〜５ｍｍの範囲で適宜、厚みが設定される。 〔凹版〕透明基板の表面に導電性インキ組成物を凹版オ
フセット印刷して印刷パターンを形成する際に原版とし
て使用される凹版としては、基板の表面に、印刷パター
ンに対応した所定の凹部を形成した平板状のものや、平
板状のものを円筒状に巻き付けたもの、円筒状のもの、
あるいは円柱状のもの等が挙げられる。

【００３６】上記基板は表面の平滑性が重要である。平
滑性が悪いと、インキ組成物をドクターブレードによっ
て凹版の凹部に充てんする際に、凹版表面の、凹部以外
の個所にインキのかき残りが発生して、非画線部の汚れ
（地汚れ）が発生する。平滑性の程度については特に限
定されないが、十点平均粗さで表して１μｍ以下程度で
あるのが好ましく、０．５μｍ以下程度であるのがより
好ましい。かかる基板としては、例えばソーダライムガ
ラス、ノンアルカリガラス、石英ガラス、低アルカリガ
ラス、低膨張ガラス等のガラス製基板；フッ素樹脂、ポ
リカーポネート（ＰＣ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥ
Ｓ）、ポリエステル、ポリメタクリル樹脂等の樹脂板；
ステンレス、銅、ニッケル、低膨脹合金アンバー等の金
属基板等が使用可能である。中でも、最も安価に表面平
滑性の良好な凹版を製造できる上、パターンのエッジ形
状を非常にシャープに形成することが可能なガラス製の
ものを用いるのが好ましい。

【００３７】但し、ＬＳＩ等の分野でフォトリソグラフ
用の印刷原版等に用いられるノンアルカリガラスは非常
に高価であるため、透光性電磁波シールド部材の印刷パ
ターン程度の精度であれば、ソーダライムガラスで十分
である。凹版の凹部は、フォトリングラフ法、エッチン
グ法もしくは電鋳法等により形成される。凹部の深さ
は、前述したように目的とする印刷パターンの厚みに応
じて適宜、設定すればよいが、凹部内へのインキの残り
（通常は、その深さの約半分量程度のインキが凹部内へ
残る）や、あるいは溶剤の蒸発による印刷後の厚みの減
少等を考慮すると、およそ１〜５０μｍ程度、特に３〜
２０μｍ程度であるのが好ましい。

【００３８】〔転写体〕上記凹版とともに凹版オフセッ
ト印刷に使用される転写体としては、その表面がインキ
の離型性に優れたものであれば特に限定されないが、イ
ンキ離型性を示す指標としての表面エネルギーの値が１
５〜３０ｄｙｎ／ｃｍ程度、特に１８〜２５ｄｙｎ／ｃ
ｍ程度であるものが、転写体として好ましい。かかる転
写体としては、少なくともその表面層がシリコーンゴ
ム、フッ素樹脂、フッ素ゴムまたはこれらの混合物等で
形成された種々のものが挙げられるが、中でもシリコー
ンゴムがインキ離型性に優れており、凹版から転写され
たインキをほぼ１００％、透明基板上に転写できるため
好適に使用される。

【００３９】また、シリコーンゴムとしては加熱硬化型
（ＨＴＶ）、室温硬化型（ＲＴＶ）等の種々のシリコー
ンゴムが挙げられるが、特に室温硬化型の付加型シリコ
ーンゴムは硬化の際に副生成物を全く発生せず、寸法精
度において優れているので、好適に使用される。上記シ
リコーンゴム等で形成される転写体の表面層の硬さは、
印刷精度等を考慮すると、日本工業規格ＪＩＳ Ｋ ６
３０１に規定されたスプリング式硬さ（ＪＩＳ Ａ）で
表して２０〜７０°程度、特に３０〜６０°程度である
のが好ましい。

【００４０】表面層の硬さが上記範囲を超える硬い転写
体は、凹版オフセット印刷において凹版に圧接した際
に、上記表面層が凹部内に十分に圧入されないために、
凹部内のインキが転写体の表面に十分に転写されず、精
度のよい印刷を行えないおそれがある。逆に、表面層の
硬さが上記範囲を下回る柔らかい転写体は、凹版オフセ
ット印刷において凹版や透明基板に圧接した際に、上記
表面層の変形が大きくなるために、やはり精度のよい印
刷を行えないおそれがある。

【００４１】転写体の表面は、印刷精度等を考慮する
と、平滑で、その表面の凹凸等が印刷に影響を及ぼさな
いことが好ましく、具体的には十点平均粗さで表して
１．０μｍ以下、特に０．５μｍ以下であるのが好まし
い。転写体の形状はブランケット状（シート状）のもの
（円筒状の胴に巻き付ける等して使用）、ローラ状のも
の、あるいは印刷ずれの生じないものであればパット印
刷等に用いられる曲面状の弾性体等であってもよい。

【００４２】〔印刷パターン〕前記導電性インキ組成物
を用いて、凹版オフセット印刷によって、透明基板の表
面に印刷形成される印刷パターンは、前述したように、
その線幅が５〜４０μｍで、かつ式(1)： １≦Ｓｋ／Ｓｓ≦９ …(1) 〔式中、Ｓｓは透明基板の表面における印刷された領域
の全表面積を示し、Ｓｋは印刷されていない領域の全表
面積を示す〕を満足するものである必要がある。その理
由は以下のとおりである。

【００４３】本発明の発明者である近藤は、先に、線幅
５〜８０μｍ、線間隔２００〜３０００μｍのストライ
プパターンが、周波数１〜５００ＭＨｚでの電界成分を
十分にカットできる性能を有することを見出した。しか
し、本発明者らがさらに検討を重ねていく中で、上記の
線幅の範囲では、特に周波数が５００ＭＨｚを超える領
域での電磁波シールド性能が不十分であり、前述したＰ
ＤＰ用途で要求される厳しい電磁波シールド性能、具体
的には周波数０．１ＭＨｚ〜１ＧＨｚでの電界成分を十
分にカットする性能を達成できない場合のあることが明
らかとなった。

【００４４】そこで発明者らは、前記導電性インキ組成
物からなる印刷パターンと、後述する金属層との積層構
造を有するストライプ状のモデルパターンを作製し、等
価回路から、印刷パターンの線幅および開口率と、電磁
波シールド性能との関係について検討を行った。なお、
上記開口率とは、透明基板の表面における印刷されてい
ない領域の割合を示すものであって、式(2) ： 開口率（％）＝Ｓｋ／（Ｓｋ＋Ｓｓ）×１００ …(2) によって求められる。

【００４５】その結果、同じ開口率であれば線幅の細い
方が、電磁波シールド性能が向上することが明らかとな
った。つまり、開口率によって規定される透光性を落と
さずに電磁波シールド性能を向上させて、上記ＰＤＰ用
途で要求される厳しい電磁波シールド性能を達成するた
めには、できるだけ線幅の細いパターンを数多く形成す
ればよく、その具体的な範囲について検討したところ、
線幅が４０μｍ以下であればよいことを見出した。

【００４６】また、線幅の下限値についても検討を行っ
たところ、線幅が５μｍ未満では、印刷パターンを形成
する際に断線が発生しやすくなって、良品を安定して生
産できないことも判明し、これらの結果から印刷パター
ンの線幅は、５〜４０μｍの範囲内である必要のあるこ
とが明らかとなった。また、前記開口率が高いほど、透
光性の指標である可視光線の透過率は向上するが、逆に
電磁波シールド性が低下するので、その兼ね合いを考慮
すると開口率は５０〜９０％の範囲内である必要がある
ことも判明した。

【００４７】そこで、この開口率の範囲と、上記線幅の
範囲とをもとに、透明基板の表面における印刷された領
域の全表面積Ｓｓと、印刷されていない領域の全表面積
Ｓｋとの比Ｓｋ／Ｓｓを求めたところ、前記のように１
〜９の範囲内である必要のあることが明らかとなったの
である。ＰＤＰ用途で要求される厳しい電磁波シールド
性能を達成するためには、開口率は、上記の範囲内でも
特に６０〜８０％であるのが好ましく、この開口率の範
囲と、線幅（＝５〜４０μｍ）とから、上記比Ｓｋ／Ｓ
ｓのより好適な範囲を求めたところ２〜７程度であるこ
とも明らかとなった。

【００４８】印刷パターンの形状は、例えば図１(a)お
よび図２に示す、前述したストライプ状の他、図３〜図
５に示す格子状等が好適に採用される。このうちストラ
イプ状の印刷パターン１０においては、例えば図２に示
すように、当該印刷パターン１０を構成する各インキ層
１０ａの線幅Ｗｓと、インキ層１０ａ間の、透明基板２
が露出した領域の幅Ｗｋと、そしてインキ層１０ａの本
数とを調整することで、比Ｓｋ／Ｓｓが前記の範囲に規
定される。

【００４９】また、同様に図３、図４に示す格子状の印
刷パターン１０においては、それぞれの図に示すように
縦方向および横方向のインキ層１０ｂ、１０ｃの線幅Ｗ
ｓ₁、Ｗｓ₂ と、上記両方向のそれぞれにおける、イン
キ層１０ｂ、１０ｃ間の、透明基板２が露出した領域の
幅Ｗｋ₁ 、Ｗｋ₂ と、そして両方向のインキ層１０ｂ、
１０ｃの本数とをそれぞれ調整することで、比Ｓｋ／Ｓ
ｓが前記の範囲に規定される。

【００５０】図５は、正方形の格子状の印刷パターン１
０であって、縦方向および横方向のインキ層１０ｂ、１
０ｃの線幅Ｗｓ₁ 、Ｗｓ₂ が同一（Ｗｓ₁ ＝Ｗｓ₂ ）
で、かつインキ層１０ｂ、１０ｃ間の、透明基板２が露
出した領域の幅Ｗｋ₁ 、Ｗｋ₂が同一（Ｗｋ₁ ＝Ｗｋ
₂ ）である場合を示しており、この場合にもやはり上記
線幅Ｗｓ₁ 、Ｗｓ₂ 、および領域の幅Ｗｋ₁ 、Ｗｋ₂
と、そして両方向のインキ層１０ｂ、１０ｃの本数とを
それぞれ調整することで、比Ｓｋ／Ｓｓが前記の範囲に
規定される。

【００５１】この際、各図において各インキ層１０ａ、
１０ｂ、１０ｃの線幅Ｗｓ、Ｗｓ₁、Ｗｓ₂ が、それぞ
れ前述した５〜４０μｍの範囲に限定されることは言う
までもない。さらに、表示画面のドットピッチとの関係
で、画像にモアレ縞（干渉縞）が生じないように、上記
線幅等に注意することも肝要である。上記以外の印刷パ
ターンとしては、例えば図６(a)に示す円形模様、図６
(b)に示す菱形模様、図６(c)に示す正六角形模様等の幾
何学模様が挙げられる。

【００５２】上記各図において符号１０ａが、印刷パタ
ーン１０を構成する各インキ層、符号２が、インキ層１
０ａ間で露出した透明基板を示すことは、先の各図の例
と同様である。図６(a)の円形模様の印刷パターン１０
においては、当該円を同面積の正方形と置き換えたと仮
定したときに、隣り合う正方形間に設けられる印刷パタ
ーン部の幅を、線幅として規定する。

【００５３】印刷パターン１０の寸法、形状を規定する
他の数値については特に限定されないが、当該印刷パタ
ーン１０を構成するインキ層１０ａ、１０ｂ、１０ｃの
膜厚は、前述したように断線等がなく、原版に忠実な正
確な印刷パターン１０を得るとともに、当該印刷パター
ン１０を陰極として電気メッキを行って、その上に、以
下に述べる金属層１１を、これも原版に忠実な正確なパ
ターンでもって積層、形成するために、およそ０．５〜
５０μｍ程度であるのが好ましく、１〜３０μｍ程度で
あるのがより好ましい。

【００５４】〔金属層〕本発明では、図１(b) に示した
ように、上記各印刷パターン１０を構成するインキ層１
０ａの上に、当該印刷パターン１０を陰極とする電気メ
ッキによって選択的に、金属層１１が積層、形成される
ことで、電磁波シールドパターン部１が形成されて、図
１(a) に示すような透光性電磁波シールド部材が完成す
る。かかる金属層１１を形成する金属としては、導電性
に優れ、かつ電気メッキが可能である種々の金属がいず
れも使用可能である。金属の例としては銀、銅、鉄、ニ
ッケル、アルミニウムおよび金からなる群より選ばれた
少なくとも１種が挙げられ、特に導電性やコストの点
で、銀または銅が好適に使用される。

【００５５】また、上記金属層１１の表面を黒色化し
て、主に内部発光の反射による表示画面のコントラスト
の低下を防止するために、金属層１１の最表層に、黒色
ニッケルメッキ等を施すこともできる。金属層１１の膜
厚は、良好な電磁波シールド効果を得ることを考慮する
と、０．５μｍ以上であることが好ましい。なお、金属
層１１の膜厚の、上限値については特に限定されない
が、膜厚が５０μｍを超えてもそれ以上の電磁波シール
ド効果が得られないだけでなく、メッキ工程に長時間を
要するために生産性やコストの点でも問題を生じるおそ
れがある。それゆえ、金属層１１の膜厚は、上記の範囲
内でも特に５０μｍ以下であるのが好ましく、１〜３０
μｍ程度であるのがより好ましい。

【００５６】本発明の透光性電磁波シールド部材におけ
る電磁波シールドパターン部は、前述のように、断線等
がなく、原版に忠実な正確な印刷パターンが得られ、良
好な電磁波シールド効果を得ることができ、透過率を低
下させることがなく、かつ生産性や製造コストを低下さ
せることがないように、その総厚みは、１．０〜７０μ
ｍであるのが好ましく、１〜１０μｍであるのがより好
ましい。

【００５７】

【実施例】以下、本発明を実施例および比較例に基づい
て説明する。下記の実施例および比較例で得られた透光
性電磁波シールド部材については、以下の各試験を行う
ことによって、その特性を評価した。 〔電磁波シールド効果試験〕各実施例、比較例の透光性
電磁波シールド部材を縦２０ｃｍ×横２０ｃｍに切り出
し、クローズセルに挟みこんで作製したサンプルについ
て、社団法人関西電子工業振興センターが制定したＫＥ
Ｃ法によって、電磁波の減衰率（ｄＢ）を測定した。測
定は、周波数０．１ＭＨｚ〜１ＧＨｚの範囲で行い、上
記周波数の範囲での、各サンプルの電磁波シールド効果
を評価した。

【００５８】下記の表２には、シールド効果の指標とし
て、周波数１ＧＨｚでの電磁波の減衰率（ｄＢ）を、下
記の評価基準で評価した結果を示す。 （評価基準） ××：２０ｄＢ未満 ×：２０ｄＢ以上、４０ｄＢ未満 △：４０ｄＢ以上、６０ｄＢ未満 ○：６０ｄＢ以上、７０ｄＢ未満 ◎：７０ｄＢ以上 〔透光性試験〕各実施例、比較例の透光性電磁波シール
ド部材における、可視光線（波長４００〜７００ｎｍ）
の分光透過率を測定し、その最低値を指標として、各透
光性電磁波シールド部材の透光性を下記の評価基準で評
価した。

【００５９】（評価基準） ××：５０％未満 ×：５０％以上、６０％未満 △：６０％以上、７０％未満 ○：７０％以上、８０％未満 ◎：８０％以上〔視認性試験〕各実施例、比較例の透光
性電磁波シールド部材を、電磁波シールドパターン部を
内側にして、ＰＤＰパネルの表示画面に、アクリル系透
明粘着剤を介して接着した後、表示画像の視認性を下記
の基準で評価した。

【００６０】（評価基準） ×：全面にわたってムラやメッシュが見られた。 △：かすかにムラやメッシュが見られた。 ○：ムラやメッシュは全く見られなかった。またコント
ラストも十分に高く、良好な画像が得られた。 ◎：ムラやメッシュが全く見られない上、コントラスト
が著しく高く、きわめて良好な画像が得られた。

【００６１】〔製造コスト比較〕下記の実施例１におい
て、透光性電磁波シールド部材の製造に要した製造コス
トを１としたときの、各実施例、比較例の製造コストを
比較した。 〔透光性電磁波シールド部材の製造〕 実施例１ （導電性インキ組成物の作製）下記の各成分を十分に攪
拌混合し、３本ロールで混練して導電性インキ組成物を
作製した。 （成分） （重量部） ・鱗片状状銀粉末（平均粒径５μｍ） ８００ ・酸化鉄粉末（平均粒径０．５μｍ） ５０ ・ポリエステル樹脂（バインダー樹脂） ８０ ・メラミン樹脂（バインダー樹脂） ２０ ・パラトルエンスルホン酸（硬化触媒） １ ・酢酸ブチルカルビトール（溶剤） ５０ なお、上記ポリエステル樹脂には、無水トリメリト酸と
ネオペンチルグリコールとのエステル〔重量平均分子量
２００００、住友ゴム工業（株）製〕を使用した。

【００６２】（透光性電磁波シールド部材の製造） (1) 印刷パターンの形成 上記導電性インキ組成物を、凹版オフセット印刷法によ
って、透明基板としての透明ＰＥＴフィルム（厚み０．
１ｍｍ）の表面に印刷した後、クリーンオーブンにて１
００℃で２０分間、加熱、硬化させた。こうして、凹版
のパターンに対応した、図５に示す正方形で格子状の印
刷パターン１０を形成した。

【００６３】インキ層１０ｂ，１０ｃは、その厚みが１
０μｍ、線幅Ｗｓ₁ およびＷｓ₂ がいずれも２０μｍ、
線間隔Ｗｋ₁ およびＷｋ₂ がいずれも１００μｍであっ
て、比Ｓｋ／Ｓｓは２．２７であった。上記印刷におい
て、凹版には、ソーダライムガラス製の基板の表面に、
上記所定のパターンに対応した凹部（深さ＝１０μｍ）
をエッチング形成したものを使用した。また、転写体と
してのシリコーンブランケットには、最表層に、スプリ
ング式硬さ（ＪＩＳ Ａ）が４０°である付加型ＲＴＶ
シリコーンゴムの層（表面の十点平均粗さ０．３μｍ）
が形成されたものを使用した。

【００６４】(2) 金属層の積層形成 次に、上記ＰＥＴフィルムを硫酸酸銅メッキ液に浸漬
し、その表面に形成された印刷パターンを陰極として、
２Ａ／ｄｍ² の電流を流して電気銅メッキを行って、当
該印刷パターンの上に選択的に、厚み５μｍの銅被覆層
を形成して、前述した図５に示す正方形の格子状にパタ
ーン形成された電磁波シールドパターン部（総厚み１５
μｍ）を有する透光性電磁波シールド部材を製造した。

【００６５】上記実施例１の透光性電磁波シールド部材
は、周波数０．１ＭＨｚ〜１ＧＨｚの全範囲で、減衰率
が７０ｄＢを超えるという優れた電磁波シールド効果を
有するとともに、波長４００〜７００ｎｍの、可視光線
の全波長範囲で分光透過率が８０％を超えるという、良
好な透光性を有していることが確認された。また、実施
例１の部材は視認性についても全く問題なく、良好な視
認性を有していることがわかった。

【００６６】実施例２ 銅被覆層（５μｍ）の上にさらに電解黒色ニッケルメッ
キを行って、厚み２μｍの黒色ニッケル被覆層を積層、
形成したこと以外は実施例１と同様にして、総厚み以外
は同寸法、同形状の電磁波シールドパターン部（総厚み
１７μｍ）を有する透光性電磁波シールド部材を製造し
た。上記実施例２の透光性電磁波シールド部材は、実施
例１と同様に、周波数０．１ＭＨｚ〜１ＧＨｚの全範囲
で、減衰率が７０ｄＢを超える、優れた電磁波シールド
効果を有するとともに、波長４００〜７００ｎｍの、可
視光線の全波長範囲で分光透過率が８０％を超える、良
好な透光性を有していることが確認された。また、実施
例２の部材は、黒色ニッケル被覆層の働きによって主に
内部発光の反射が防止されるため特にコントラストが高
く、実施例１よりもさらに良好な視認性を有しているこ
とも確認された。製造に要したコストは実施例１の１．
５倍であった。

【００６７】実施例３ 凹版を変更して、印刷パターンの線幅Ｗｓ₁ およびＷｓ
₂ を４０μｍ、線間隔Ｗｋ₁ およびＷｋ₂ を２５０μｍ
とした（すなわち、Ｓｋ／Ｓｓ＝２．８９）こと以外は
実施例１と同様にして、寸法以外は同形状の電磁波シー
ルドパターン部（総厚み１５μｍ）を有する透光性電磁
波シールド部材を製造した。上記実施例３の透光性電磁
波シールド部材もまた、周波数０．１ＭＨｚ〜１ＧＨｚ
の全範囲で、減衰率が７０ｄＢを超える、優れた電磁波
シールド効果を有するとともに、波長４００〜７００ｎ
ｍの、可視光線の全波長範囲で分光透過率が８０％を超
える、良好な透光性を有していることが確認された。ま
た、実施例３の部材は、実施例１と同等の良好な視認性
を有していることも確認された。製造に要したコストは
実施例１と同程度であった。

【００６８】実施例４ 鱗片状銀粉末に代えて、同量の鱗片状銅粉末（平均粒径
５μｍ）を使用したこと以外は実施例１と同様にして導
電性インキ組成物を作製し、かかる導電性インキ組成物
を使用したこと以外は実施例１と同様にして、同寸法、
同形状の電磁波シールドパターン部（総厚み１５μｍ）
を有する透光性電磁波シールド部材を製造した。

【００６９】上記実施例４の透光性電磁波シールド部材
もまた、周波数０．１ＭＨｚ〜１ＧＨｚの全範囲で、減
衰率が７０ｄＢを超える、優れた電磁波シールド効果を
有するとともに、波長４００〜７００ｎｍの、可視光線
の全波長範囲で分光透過率が８０％を超える、良好な透
光性を有していることが確認された。また、実施例４の
部材は、実施例１と同等の良好な視認性を有しているこ
とも確認された。製造に要したコストは実施例１と同程
度であった。

【００７０】比較例１ 特開平１０‐１６３６７３号公報の実施例１と同様にし
て透光性電磁波シールド部材を製造した。すなわち、透
明樹脂としてのポリビニルブチラールと、パラジウム触
媒とを含む塗布液を、透明基板としてのＰＥＴフィルム
の表面に塗布し、乾燥させて、上記パラジウム触媒を含
む透明樹脂塗膜を形成したのち、この上に無電解メッキ
を施して、ＰＥＴフィルムの全面に、厚み１５μｍの銅
薄膜を形成した。

【００７１】次に、この銅薄膜の上に感光性のエッチン
グレジストを塗布した後、露光、現像して、実施例１の
印刷パターンと同寸法、同形状のレジストパターンを形
成した。そして、塩化第二鉄液に浸漬して銅薄膜をエッ
チングすることで、上記レジストパターンに対応した寸
法、形状を有する電磁波シールドパターン部を形成した
のち、レジストパターンをはく離、除去して透光性電磁
波シールド部材を得た。

【００７２】上記比較例１の透光性電磁波シールド部材
もまた、周波数０．１ＭＨｚ〜１ＧＨｚの全範囲で、減
衰率が７０ｄＢを超える、優れた電磁波シールド効果を
有するとともに、波長４００〜７００ｎｍの、可視光線
の全波長範囲で分光透過率が８０％を超える、良好な透
光性を有していることが確認された。また、比較例１の
部材は、実施例１と同等の良好な視認性を有しているこ
とも確認された。但し、製造に要したコストは実施例１
の５倍であった。

【００７３】比較例２ 特公平２‐４８１５９号公報の実施例１と同様にして透
光性電磁波シールド部材を製造した。すなわち、透明基
板としてのＰＥＴフィルムの表面に、スクリーン印刷法
によって、紫外線硬化型の導電性銀ペーストを印刷した
後、紫外線を照射してペーストを硬化させて、線幅１０
０μｍ、線間隔１ｍｍ、Ｓｋ／Ｓｓ＝４．７６、厚み２
０μｍの電磁波シールドパターン部を有する透光性電磁
波シールド部材を得た。

【００７４】上記比較例２の透光性電磁波シールド部材
は、線幅が太すぎるとともに、線間隔が広すぎるため
に、特に周波数５００ＭＨｚ以上の範囲での減衰率が２
０〜４０ｄＢ程度と低く、かかる周波数範囲での電磁波
シールド効果が不十分であることがわかった。また、波
長４００〜７００ｎｍの、可視光線の全波長範囲で分光
透過率が８０％を超えることから、透光性は良好である
ことが確認されたが、線幅が太すぎるために視認性が悪
いことがわかった。製造に要したコストは実施例１の半
分程度であった。

【００７５】比較例３ 印刷パターン上に金属層を積層、形成しなかったこと以
外は実施例４と同様にして透光性電磁波シールド部材を
製造した。上記比較例３の電磁波シールド部材は金属層
を有しないため、全周波数範囲での減衰率が２０〜４０
ｄＢ程度と低く、電磁波シールド効果が不十分であるこ
とがわかった。なお、波長４００〜７００ｎｍの、可視
光線の全波長範囲で分光透過率が８０％を超えることか
ら透光性は良好であり、視認性も良好であった。製造に
要したコストは実施例１の７割程度であった。

【００７６】以上の結果を表１および表２に示す。

【００７７】

【表１】

【００７８】

【表２】

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の透光性電磁波シールド部材の、実施の
形態の一例を示す図であって、同図(a)は全体を示す斜
視図、同図(b)は同図(a)のＢ−Ｂ線拡大断面図である。

【図２】本発明の透光性電磁波シールド部材における、
印刷パターンの一例としてのストライプ状のパターンを
示す平面図である。

【図３】印刷パターンの他の例としての、格子状のパタ
ーンを示す平面図である。

【図４】印刷パターンのさらに他の例としての、別の格
子状のパターンを示す平面図である。

【図５】印刷パターンのさらに他の例としての、さらに
別の格子状のパターンを示す平面図である。

【図６】印刷パターンのさらに他の例としての幾何学模
様のパターンを示す平面図であって、同図(a)は円形模
様のパターン、同図(b)は菱形模様のパターン、同図(c)
は正六角形模様のパターンである。

【符号の説明】

１ 電磁波シールドパターン部 １０ 印刷パターン １１ 金属層 ２ 透明基板

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】透明基板の表面に、(a) 金属粉末と、(b)
   酸化鉄粉末とを含む導電性インキ組成物を印刷して形成
   された、その線幅が５〜４０μｍで、かつ式(1) ： １≦Ｓｋ／Ｓｓ≦９ …(1) 〔式中、Ｓｓは透明基板の表面における印刷された領域
   の全表面積を示し、Ｓｋは印刷されていない領域の全表
   面積を示す。〕を満足する、ストライプ状、格子状また
   は幾何学模様からなる印刷パターンと、当該印刷パター
   ン上に積層、形成された金属層とによって電磁波シール
   ドパターン部が構成されたことを特徴とする透光性電磁
   波シールド部材。
2. 【請求項２】前記導電性インキ組成物中に含有させる金
   属粉末が、銀、銅、鉄、ニッケル、アルミニウムおよび
   金からなる群より選ばれる少なくとも１種の、粒径０．
   ０１〜１０μｍの粉末である請求項１記載の透光性電磁
   波シールド部材。
3. 【請求項３】前記金属層が、銀、銅、ニッケル、アルミ
   ニウムおよび金からなる少なくとも１種の金属を用いた
   電気メッキによって形成されたものであって、その厚み
   が０．５〜５０μｍであり、かつ前記印刷パターンと前
   記金属層との厚みの合計が１．０〜７０μｍである請求
   項１記載の透光性電磁波シールド部材。
4. 【請求項４】インキ離型性に優れた転写体を用いた凹版
   オフセット印刷法により、透明基板の表面に、(a) 金属
   粉末と、(b) 酸化鉄粉末とを含む導電性インキ組成物を
   印刷して、その線幅が５〜４０μｍで、かつ式(1) ： １≦Ｓｋ／Ｓｓ≦９ …(1) 〔式中、Ｓｓは透明基板の表面における印刷された領域
   の全表面積を示し、Ｓｋは印刷されていない領域の全表
   面積を示す。〕を満足する、ストライプ状、格子状また
   は幾何学模様からなる印刷パターンを形成した後、電気
   メッキおよび／または無電解メッキによって、前記印刷
   パターン上に選択的に金属層を積層、形成して、電磁波
   シールドパターン部を構成することを特徴とする透光性
   電磁波シールド部材の製造方法。
5. 【請求項５】転写体として、導電性インキ組成物と直接
   に接触する表面がシリコーンゴムによって形成されたも
   のを用いる請求項２記載の透光性電磁波シールド部材の
   製造方法。