JP2001172292A - チオ(シクロペンタジエニル)(フェノキシ)チタン錯体の製造方法 - Google Patents

チオ(シクロペンタジエニル)(フェノキシ)チタン錯体の製造方法

Info

Publication number
JP2001172292A
JP2001172292A JP35733899A JP35733899A JP2001172292A JP 2001172292 A JP2001172292 A JP 2001172292A JP 35733899 A JP35733899 A JP 35733899A JP 35733899 A JP35733899 A JP 35733899A JP 2001172292 A JP2001172292 A JP 2001172292A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
phenoxy
tert
methyl
butyl
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP35733899A
Other languages
English (en)
Inventor
Satoshi Kobayashi
諭 小林
Takahiro Hino
高広 日野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Chemical Co Ltd filed Critical Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority to JP35733899A priority Critical patent/JP2001172292A/ja
Publication of JP2001172292A publication Critical patent/JP2001172292A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 S架橋Cpフェノキシチタン錯体の製造方法
を提供すること。 【解決手段】 一般式(1) (式中、R1〜R8は、ハロゲン、アルキル、アルコキ
シ、アリール等)で示されるシクロペンタジエン化合物
と四ハロゲン化チタンとを有機アルカリ金属の存在下に
反応させる一般式(2) (式中、Xはハロゲン。)で示されるS架橋Cpフェノ
キシチタン錯体の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、S架橋Cpフェノ
キシチタン錯体およびその原料となるシクロペンタジエ
ン化合物の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】Cpフェノキシチタン錯体は、オレフィ
ン重合反応に有用であることが知られている。例えば、
チオ(シクロペンタジエニル)(6−第3級ブチル−4
−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド
は、WO97/08179号公報にオレフィン重合用触
媒としての有用性が記載されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、S架橋Cp
フェノキシチタン錯体の短工程で工業的に更に有利な製
造方法、およびその中間体となるシクロペンタジエン化
合物の製造方法を提供しようとするものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するため、鋭意検討した結果、S架橋Cpフェノ
キシチタン錯体の工業的有利な製造方法を見出し、本発
明に至った。
【0005】すなわち本発明は、一般式(1) (式中、R1〜R8はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン
原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アラル
キル基またはアルキルもしくはアリール置換シリル基を
示し、あるいは隣接する基が結合してベンゼン環を形成
してもよい。)で示されるシクロペンタジエン化合物と
四ハロゲン化チタンとを有機アルカリ金属の存在下に反
応させることを特徴とする一般式(2) (式中、R1〜R8は前記と同じ意味を表わし、Xはハロ
ゲン原子を示す。)で示されるS架橋Cpフェノキシチ
タン錯体の製造方法および一般式(1)で示されるシク
ロペンタジエン化合物の製造方法を提供するものであ
る。
【0006】
【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。
【0007】S架橋Cpフェノキシチタン錯体(2)に
おいて置換基Cpとして示されるシクロペンタジエン型
アニオン骨格を有する基としては、例えばη5 −シクロ
ぺンタジエニル基、η5 −メチルシクロペンタジエニル
基、η5 −ジメチルシクロペンタジエニル基、η5 −ト
リメチルシクロペンタジエニル基、η5 −テトラメチル
シクロペンタジエニル基、η5 −エチルシクロぺンタジ
エニル基、η5 −n−プロピルシクロペンタジエニル
基、η5 −イソプロピルシクロペンタジエニル基、η5
−n−ブチルシクロペンタジエニル基、η5 −sec−
ブチルシクロペンタジエニル基、η5 −tert−ブチ
ルシクロぺンタジエニル基、η5 −n−ペンチルシクロ
ぺンタジエニル基、η5 −ネオペンチルシクロぺンタジ
エニル基、η5 −n−ヘキシルシクロぺンタジエニル
基、η5 −n−オクチルシクロぺンタジエニル基、η5
−テトラヒドロインデニル基、η5 −オクタヒドロフル
オレニル基、η5 −フェニルシクロぺンタジエニル基、
η5 −ナフチルシクロぺンタジエニル基、η5 −トリメ
チルシリルシクロぺンタジエニル基、η5 −トリエチル
シリルシクロぺンタジエニル基、η5 −トリフェニルシ
リルシクロぺンタジエニル基、η5 −tert−ブチル
ジメチルシリルシクロぺンタジエニル基などの(置換)
シクロペンタジエニル基、
【0008】η5 −インデニル基、η5 −メチルインデ
ニル基、η5 −ジメチルインデニル基、η5 −エチルイ
ンデニル基、η5 −n−プロピルインデニル基、η5 −
イソプロピルインデニル基、η5 −n−ブチルインデニ
ル基、η5 −sec−ブチルインデニル基、η5 −te
rt−ブチルインデニル基、η5 −n−ペンチルインデ
ニル基、η5 −ネオペンチルインデニル基、η5 −n−
ヘキシルインデニル基、η5 −n−オクチルインデニル
基、η5 −n−デシルインデニル基、η5 −フェニルイ
ンデニル基、η5 −メチルフェニルインデニル基、η5
−ナフチルインデニル基、などの(置換)インデニル
基、
【0009】η5 −フルオレニル基、η5 −メチルフル
オレニル基、η5 −ジメチルフルオレニル基、η5 −エ
チルフルオレニル基、η5 −ジエチルフルオレニル基、
η5 −n−プロピルフルオレニル基、η5 −ジ−n−プ
ロピルフルオレニル基、η5 −イソプロピルフルオレニ
ル基、η5 −ジイソプロピルフルオレニル基、η5 −n
−ブチルフルオレニル基、η5 −sec−ブチルフルオ
レニル基、η5 −tert−ブチルフルオレニル基、η
5 −ジ−n−ブチルフルオレニル基、η5 −ジ−sec
−ブチルフルオレニル基、η5 −ジ−tert−ブチル
フルオレニル基、η5 −n−ペンチルフルオレニル基、
η5 −ネオペンチルフルオレニル基、η5−n−ヘキシ
ルフルオレニル基、η5 −n−オクチルフルオレニル
基、η5 −n−デシルフルオレニル基、η5 −n−ドデ
シルフルオレニル基、η5 −フェニルフルオレニル基、
η5 −ジ−フェニルフルオレニル基、η5 −メチルフェ
ニルフルオレニル基、η5 −ナフチルフルオレニル基な
どの(置換)フルオレニル基が挙げられ、好ましくはη
5 −シクロペンタジエニル基、η5 −メチルシクロペン
タジエニル基、η5 −tert−ブチルシクロペンタジ
エニル基、η5 −テトラメチルシクロペンタジエニル
基、η5 −インデニル基、η5 −フルオレニル基などが
挙げられる。
【0010】置換基R1〜R8における、ハロゲン原子と
してはフッ素、塩素、臭素、ヨウ素原子などが挙げられ
る。 アルキル基としては、メチル基、エチル基、n−
プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−
ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、ネオ
ペンチル基、アミル基 、n−ヘキシル基、n−オクチ
ル基、n−デシル基、フルオロメチル基、ジフルオロメ
チル基、トリフルオロメチル基、フルオロエチル基、ジ
フルオロエチル基、トリフルオロエチル基、テトラフル
オロエチル基、ペンタフルオロエチル基、パーフルオロ
プロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロペン
チル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチ
ル基、パーフルオロデシル基等のハロゲンで置換されて
いてもよいアルキル基が挙げられる。アルコキシ基とし
ては、メトキシ、エトキシ、プロポキシ等が挙げられ
る。アリール基としては、フェニル基、2−トリル基、
3−トリル基、4−トリル基、2,3−キシリル基、
2,4−キシリル基、2,5−キシリル基、2,6−キ
シリル基、3,4−キシリル基、3,5−キシリル基、
2,3,4−トリメチルフェニル基、2,3,5−トリ
メチルフェニル基、2,3,6−トリメチルフェニル
基、2,4,6−トリメチルフェニル基、3,4,5−
トリメチルフェニル基、2,3,4,5−テトラメチル
フェニル基、2,3,4,6−テトラメチルフェニル
基、2,3,5,6−テトラメチルフェニル基、ペンタ
メチルフェニル基、エチルフェニル基、n−プロピルフ
ェニル基、イソプロピルフェニル基、n−ブチルフェニ
ル基、sec−ブチルフェニル基、tert−ブチルフ
ェニル基、 n−ペンチルフェニル基、 ネオペンチルフ
ェニル基、 n−ヘキシルフェニル基、 n−オクチルフ
ェニル基、 n−デシルフェニル基、 n−ドデシルフェ
ニル基、 n−テトラデシルフェニル基等のアルキルで
置換されていてもよいフェニル基、ナフチル基、アント
ラセニル基等が挙げられる。アラルキル基としてはベン
ジル基、(2−メチルフェニル)メチル基、(3−メチ
ルフェニル)メチル基、(4−メチルフェニル)メチル
基、(2,3−ジメチルフェニル)メチル基、(2,4
−ジメチルフェニル)メチル基、(2,5−ジメチルフ
ェニル)メチル基、(2,6−ジメチルフェニル)メチ
ル基、(3,4−ジメチルフェニル)メチル基、(2,
3,4−トリメチルフェニル)メチル基、(2,3,5
−トリメチルフェニル)メチル基、(2,3,6−トリ
メチルフェニル)メチル基、(3,4,5−トリメチル
フェニル)メチル基、(2,4,6−トリメチルフェニ
ル)メチル基、(2,3,4,5−テトラメチルフェニ
ル)メチル基、(2,3,4,6−テトラメチルフェニ
ル)メチル基、(2,3,5,6−テトラメチルフェニ
ル)メチル基、(ペンタメチルフェニル)メチル基、
(エチルフェニル)メチル基、(n−プロピルフェニ
ル)メチル基、(イソプロピルフェニル)メチル基、
(n−ブチルフェニル)メチル基、(sec−ブチルフ
ェニル)メチル基、(tert−ブチルフェニル)メチ
ル基、(n−ペンチルフェニル)メチル基、(ネオペン
チルフェニル)メチル基、(n−ヘキシルフェニル)メ
チル基、(n−オクチルフェニル)メチル基、(n−デ
シルフェニル)メチル基、(n−ドデシルフェニル)メ
チル基、(n−テトラデシルフェニル)メチル基、ナフ
チルメチル基、アントラセニルメチル基等が挙げられ
る。およびこれらのハロゲン原子置換されたものが挙げ
られる。好ましくは、メチル基、エチル基、イソプロピ
ル基、 tert−ブチル基、アミル基 、フェニル基、
ベンジル基などが挙げられる。
【0011】R1〜R8におけるアルキルまたはアリール
置換シリル基とは、アルキルまたはアリール基で置換さ
れたシリル基であって、ここでのアルキル基としては、
例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプ
ロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert
−ブチル基、n−ペンチル基、ネオペンチル基、アミル
基 、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、n−オクチ
ル基、n−デシル基などの炭素原子数1〜10のアルキ
ル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル
基、アントラセニル基などのアリール基等が挙げられる
【0012】Xにおけるハロゲン原子としてはフッ素、
塩素、臭素、ヨウ素などが例示され、好ましくは塩素、
臭素が挙げられる。
【0013】本発明で得られるS架橋Cpフェノキシ錯
体(2)としては例えば、チオ(η5−シクロペンタジ
エニル)(2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、
チオ(η5−シクロペンタジエニル)(3−tert−
ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジク
ロライド、チオ(η5−シクロペンタジエニル)(3−
tert−ブチル−5−メトキシ−2−フェノキシ)チ
タニウムジクロライド、チオ(η5−シクロペンタジエ
ニル)(3−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタ
ニウムジクロライド、チオ(η5−シクロペンタジエニ
ル)(3−tert−ブチル−5−クロロ−2−フェノ
キシ)チタニウムジクロライド、チオ(η5−シクロペ
ンタジエニル)(3−フェニル−2−フェノキシ)チタ
ニウムジクロライド、チオ(η5−シクロペンタジエニ
ル)(3−tert−ブチルジメチルシリル−5−メチ
ル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、チオ
(η5−シクロペンタジエニル)(3−トリメチルシリ
ル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロラ
イド、
【0014】チオ(η5−2,3,4,5−テトラメチ
ルシクロペンタジエニル)(2−フェノキシ)チタニウ
ムジクロライド、チオ(η5−2,3,4,5−テトラ
メチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル
−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライ
ド、チオ(η5−2,3,4,5−テトラメチルシクロ
ペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メトキ
シ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、チオ
(η5−2,3,4,5−テトラメチルシクロペンタジ
エニル)(3−tert−ブチル−2−フェノキシ)チ
タニウムジクロライド、チオ(η5−2,3,4,5−
テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−tert−
ブチル−5−クロロ−2−フェノキシ)チタニウムジク
ロライド、チオ(η5−2,3,4,5−テトラメチル
シクロペンタジエニル)(3−フェニル−2−フェノキ
シ)チタニウムジクロライド、チオ(η5−2,3,
4,5−テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−t
ert−ブチルジメチルシリル−5−メチル−2−フェ
ノキシ)チタニウムジクロライド、チオ(η5−2,
3,4,5−テトラメチルシクロペンタジエニル)(3
−トリメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チ
タニウムジクロライド、
【0015】チオ(η5−3−メチルシクロペンタジエ
ニル)(2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、チ
オ(η5−3−メチルシクロペンタジエニル)(3−t
ert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニ
ウムジクロライド、チオ(η5−3−メチルシクロペン
タジエニル)(3−tert−ブチル−5−メトキシ−
2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、チオ(η5
−3−メチルシクロペンタジエニル)(3−tert−
ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、チ
オ(η5−3−メチルシクロペンタジエニル)(3−t
ert−ブチル−5−クロロ−2−フェノキシ)チタニ
ウムジクロライド、チオ(η5−3−メチルシクロペン
タジエニル)(3−フェニル−2−フェノキシ)チタニ
ウムジクロライド、チオ(η5−3−メチルシクロペン
タジエニル)(3−tert−ブチルジメチルシリル−
5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライ
ド、チオ(η5−3−メチルシクロペンタジエニル)
(3−トリメチルシリル−5−メチル−2−フェノキ
シ)チタニウムジクロライド、
【0016】チオ(η5−フルオレニル)(2−フェノ
キシ)チタニウムジクロライド、チオ(η5−フルオレ
ニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェ
ノキシ)チタニウムジクロライド、チオ(η5−フルオ
レニル)(3−tert−ブチル−5−メトキシ−2−
フェノキシ)チタニウムジクロライド、チオ(η5−フ
ルオレニル)(3−tert−ブチル−2−フェノキ
シ)チタニウムジクロライド、チオ(η5−フルオレニ
ル)(3−tert−ブチル−5−クロロ−2−フェノ
キシ)チタニウムジクロライド、チオ(η5−フルオレ
ニル)(3−フェニル−2−フェノキシ)チタニウムジ
クロライド、チオ(η5−フルオレニル)(3−ter
t−ブチルジメチルシリル−5−メチル−2−フェノキ
シ)チタニウムジクロライド、チオ(η5−フルオレニ
ル)(3−トリメチルシリル−5−メチル−2−フェノ
キシ)チタニウムジクロライド、
【0017】チオ(η5−1−インデニル)(2−フェ
ノキシ)チタニウムジクロライド、チオ(η5−1−イ
ンデニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−
フェノキシ)チタニウムジクロライド、チオ(η5−1
−インデニル)(3−tert−ブチル−5−メトキシ
−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、チオ(η
5−1−インデニル)(3−tert−ブチル−2−フ
ェノキシ)チタニウムジクロライド、チオ(η5−1−
インデニル)(3−tert−ブチル−5−クロロ−2
−フェノキシ)チタニウムジクロライド、チオ(η5−
1−インデニル)(3−フェニル−2−フェノキシ)チ
タニウムジクロライド、チオ(η5−1−インデニル)
(3−tert−ブチルジメチルシリル−5−メチル−
2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、チオ(η5
−1−インデニル)(3−トリメチルシリル−5−メチ
ル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライドなどが例
示される。
【0018】S架橋Cpフェノキシチタン錯体(2)
は、シクロペンタジエン化合物(1)と四ハロゲン化チ
タンとを有機アルカリ金属の存在下に反応させる方法に
より製造できる。
【0019】かかるシクロペンタジエン化合物(1)と
しては、(シクロペンタジエニル)(2−フェノキシ)
スルフィド、(シクロペンタジエニル)(3−tert
−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)スルフィド、
(シクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5
−メトキシ−2−フェノキシ)スルフィド、(シクロペ
ンタジエニル)(3−tert−ブチル−2−フェノキ
シ)スルフィド、(シクロペンタジエニル)(3−te
rt−ブチル−5−クロロ−2−フェノキシ)スルフィ
ド、(シクロペンタジエニル)(3−フェニル−2−フ
ェノキシ)スルフィド、(シクロペンタジエニル)(3
−tert−ブチルジメチルシリル−5−メチル−2−
フェノキシ)スルフィド、(シクロペンタジエニル)
(3−トリメチルシリル−5−メチル−2−フェノキ
シ)スルフィド、
【0020】(2,3,4,5−テトラメチルシクロペ
ンタジエニル)(2−フェノキシ)スルフィド、(2,
3,4,5−テトラメチルシクロペンタジエニル)(3
−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)ス
ルフィド、(2,3,4,5−テトラメチルシクロペン
タジエニル)(3−tert−ブチル−5−メトキシ−
2−フェノキシ)スルフィド、(2,3,4,5−テト
ラメチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチ
ル−2−フェノキシ)スルフィド、(2,3,4,5−
テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−tert−
ブチル−5−クロロ−2−フェノキシ)スルフィド、
(2,3,4,5−テトラメチルシクロペンタジエニ
ル)(3−フェニル−2−フェノキシ)スルフィド、
(2,3,4,5−テトラメチルシクロペンタジエニ
ル)(3−tert−ブチルジメチルシリル−5−メチ
ル−2−フェノキシ)スルフィド、(2,3,4,5−
テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−トリメチル
シリル−5−メチル−2−フェノキシ)スルフィド、
【0021】(3−メチルシクロペンタジエニル)(2
−フェノキシ)スルフィド、(3−メチルシクロペンタ
ジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−
フェノキシ)スルフィド、(3−メチルシクロペンタジ
エニル)(3−tert−ブチル−5−メトキシ−2−
フェノキシ)スルフィド、(3−メチルシクロペンタジ
エニル)(3−tert−ブチル−2−フェノキシ)ス
ルフィド、(3−メチルシクロペンタジエニル)(3−
tert−ブチル−5−クロロ−2−フェノキシ)スル
フィド、(3−メチルシクロペンタジエニル)(3−フ
ェニル−2−フェノキシ)スルフィド、(3−メチルシ
クロペンタジエニル)(3−tert−ブチルジメチル
シリル−5−メチル−2−フェノキシ)スルフィド、
(3−メチルシクロペンタジエニル)(3−トリメチル
シリル−5−メチル−2−フェノキシ)スルフィド、
【0022】(フルオレニル)(2−フェノキシ)スル
フィド、(フルオレニル)(3−tert−ブチル−5
−メチル−2−フェノキシ)スルフィド、(フルオレニ
ル)(3−tert−ブチル−5−メトキシ−2−フェ
ノキシ)スルフィド、(フルオレニル)(3−tert
−ブチル−2−フェノキシ)スルフィド、(フルオレニ
ル)(3−tert−ブチル−5−クロロ−2−フェノ
キシ)スルフィド、(フルオレニル)(3−フェニル−
2−フェノキシ)スルフィド、(フルオレニル)(3−
tert−ブチルジメチルシリル−5−メチル−2−フ
ェノキシ)スルフィド、(フルオレニル)(3−トリメ
チルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)スルフィ
ド、
【0023】(1−インデニル)(2−フェノキシ)ス
ルフィド、(1−インデニル)(3−tert−ブチル
−5−メチル−2−フェノキシ)スルフィド、(1−イ
ンデニル)(3−tert−ブチル−5−メトキシ−2
−フェノキシ)スルフィド、(1−インデニル)(3−
tert−ブチル−2−フェノキシ)スルフィド、(1
−インデニル)(3−tert−ブチル−5−クロロ−
2−フェノキシ)スルフィド、(1−インデニル)(3
−フェニル−2−フェノキシ)スルフィド、(1−イン
デニル)(3−tert−ブチルジメチルシリル−5−
メチル−2−フェノキシ)スルフィド、(1−インデニ
ル)(3−トリメチルシリル−5−メチル−2−フェノ
キシ)スルフィドなどが挙げられる。
【0024】なお、本発明に用いるシクロペンタジエン
化合物(1)には、シクロペンタジエン環の異性体及び
それらの混合物を含む。
【0025】シクロペンタジエン化合物(1)と反応さ
せる有機アルカリ金属としては、メチルリチウム、n−
ブチルリチウム、sec−ブチルリチウム、t−ブチル
リチウム、リチウムヘキサメチルジシラジド、ナトリウ
ムヘキサメチルジシラジド、カリウムヘキサメチルジシ
ラジド、リチウムジイソプロピルアミドなどが挙げられ
る。
【0026】上記反応には3級アミンを共存させること
により更に好ましく実施できる。かかる3級アミンとし
ては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプ
ロピルエチルアミン、N,N−ジメチルアニリン、N,
N−ジメチルクロロアニリン、N,N−ジメチルブロモ
アニリン、N,N−ジメチルフルオロアニリン、N,N
−ジメチルアニシジン、N,N−ジメチルメチルアニリ
ン、N,N−ジメチルエチルアニリン、N,N−ジメチ
ル−n−プロピルアニリン、N,N−ジメチルイソプロ
ピルアニリン、N,N−ジメチル−4−アミノピリジ
ン、1,4−ジアザビシクロ[2,2,2]オクタン、
1,5−ジアザビシクロ[4,3,0]5−ノネン、
1,8−ジアザビシクロ[5,4,0]8−ウンデセ
ン、テトラメチルエチレンジアミンなどが挙げられる。
【0027】反応の方法は特に限定されないが、例え
ば、窒素、アルゴンなどの不活性雰囲気において、溶媒
の存在下、 配位子であるシクロペンタジエン化合物
(1)と有機アルカリ金属と接触させた後、四ハロゲン
化チタンを反応させることにより好ましく実施できる。
【0028】シクロペンタジエン化合物(1)と接触さ
せる有機アルカリ金属の仕込比はシクロペンタジエン化
合物(1)に対して、通常0.2〜10モル倍程度であ
り、好ましくは、0.5〜3モル倍程度である。
【0029】シクロペンタジエン化合物(1)に対する
3級アミンの仕込み比は、通常0.4〜20モル倍程度
であり、好ましくは1〜6モル倍程度である。
【0030】シクロペンタジエン化合物(1)に対する
四ハロゲン化チタンの仕込み比は、通常0.2〜5モル
倍程度であり、好ましくは、0.5〜2モル倍程度であ
る。
【0031】反応に用いる溶媒は特に限定されないが、
ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン等の
脂肪族炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシ
チレン等の芳香族炭化水素、ジクロロロメタン、クロロ
ホルム、ジクロロエタン等の脂肪族ハロゲン化炭化水
素、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族
ハロゲン化炭化水素、ジエチルエーテル、ジブチルエー
テル、メチル t−ブチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン等のエーテル類およびこれらの混合物が例示される。
その使用量は、 通常、シクロペンタジエン化合物
(1)の1〜200重量倍であり、好ましくは3〜30
重量倍程度である。
【0032】反応温度としては、通常は−100℃〜溶媒
の沸点において実施され、好ましくは−80〜30℃程度で
ある。
【0033】反応後、例えば不溶物を除去し、溶媒を留
去することによりS架橋Cpフェノキシ錯体チタン
(2)を得ることが出来る。必要に応じ、再結晶、昇華
など通常の方法により精製することが出来る。
【0034】本発明で用いられるシクロペンタジエン化
合物(1)は、一般式(3) (式中、R5〜R8は前記と同じ意味を表わす。)で示さ
れるシクロペンタジエンと塩基を接触させ、ついで一般
式(4) (式中、R1〜R4は前記と同じ意味を表わす。)で表さ
れるジスルフィドとを反応させることにより製造するこ
とができる。
【0035】かかるシクロペンタジエン(3)としては
例えば、シクロぺンタジエン、メチルシクロペンタジエ
ン、ジメチルシクロペンタジエン、トリメチルシクロペ
ンタジエン、テトラメチルシクロペンタジエン、エチル
シクロぺンタジエン、n−プロピルシクロペンタジエ
ン、イソプロピルシクロペンタジエン、n−ブチルシク
ロペンタジエン、sec−ブチルシクロペンタジエン、
tert−ブチルシクロぺンタジエン、n−ペンチルシ
クロぺンタジエン、ネオペンチルシクロぺンタジン、n
−ヘキシルシクロぺンタジエン、n−オクチルシクロぺ
ンタジエン、テトラヒドロインデン、オクタヒドロフル
オレン、フェニルシクロぺンタジエン、ナフチルシクロ
ぺンタジエン、トリメチルシリルシクロぺンタジエン、
トリエチルシリルシクロぺンタジエン、トリフェニルシ
リルシクロぺンタジエン、tert−ブチルジメチルシ
リルシクロぺンタジエンなどの(置換)シクロペンタジ
エン、
【0036】インデン、メチルインデン、ジメチルイン
デン、エチルインデン、n−プロピルインデン、イソプ
ロピルインデン、n−ブチルインデン、sec−ブチル
インデン、tert−ブチルインデン、n−ペンチルイ
ンデン、ネオペンチルインデン、n−ヘキシルインデ
ン、n−オクチルインデン、n−デシルインデン、フェ
ニルインデン、メチルフェニルインデン、ナフチルイン
デンなどの(置換)インデン、
【0037】フルオレン、メチルフルオレン、ジメチル
フルオレン、エチルフルオレン、ジエチルフルオレン、
n−プロピルフルオレン、ジ−n−プロピルフルオレ
ン、イソプロピルフルオレン、ジイソプロピルフルオレ
ン、n−ブチルフルオレン、sec−ブチルフルオレ
ン、tert−ブチルフルオレン、ジ−n−ブチルフル
オレン、ジ−sec−ブチルフルオレン、ジ−tert
−ブチルフルオレン、n−ペンチルフルオレン、ネオペ
ンチルフルオレン、n−ヘキシルフルオレン、n−オク
チルフルオレン、n−デシルフルオレン、n−ドデシル
フルオレン、フェニルフルオレン、ジ−フェニルフルオ
レン、メチルフェニルフルオレン、ナフチルフルオレン
などの(置換)フルオレンが挙げられ、好ましくはシク
ロペンタジエン、メチルシクロペンタジエン、tert
−ブチルシクロペンタジエン、テトラメチルシクロペン
タジエン、インデン、フルオレンなどが挙げられる。
【0038】上記反応に用いられるジスルフィド(4)
としては例えば、ビス(2−ヒドロキシフェニル)ジス
ルフィド、ビス(5−メチル−2−ヒドロキシフェニ
ル)ジスルフィド、ビス(3,5−ジメチル−2−ヒド
ロキシフェニル)ジスルフィド、ビス(3,5−ジエチ
ル−2−ヒドロキシフェニル)ジスルフィド、ビス(2
−ヒドロキ−3,5−ジ−n−プロピルフェニル)ジス
ルフィド、ビス(2−ヒドロキ−3,5−ジ−iso−
プロピルフェニル)ジスルフィド、ビス(3,5−ジ−
n−ブチル−2−ヒドロキシフェニル)ジスルフィド、
ビス(3,5−ジ−sec−ブチル−2−ヒドロキシフ
ェニル)ジスルフィド、ビス(3,5−ジ−tert−
ブチル−2−ヒドロキシフェニル)ジスルフィド、ビス
(3−エチル−2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)
ジスルフィド、ビス(2−ヒドロキシ−5−メチル−3
−n−プロピルフェニル)ジスルフィド、ビス(2−ヒ
ドロキシ−5−メチル−3−iso−プロピルフェニ
ル)ジスルフィド、ビス(3−n−ブチル−2−ヒドロ
キシ−5−メチルフェニル)ジスルフィド、ビス(3−
sec−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチルフェニ
ル)ジスルフィド、ビス(3−tert−ブチル−2−
ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ジスルフィド、ビス
(1−ヒドロキシ−2−ナフチル)ジスルフィドなどが
挙げられる。
【0039】上記反応に用いられる塩基としては、メチ
ルリチウム、n−ブチルリチウム、sec−ブチルリチ
ウム、t−ブチルリチウム、リチウムヘキサメチルジシ
ラジド、ナトリウムヘキサメチルジシラジド、カリウム
ヘキサメチルジシラジド、リチウムジイソプロピルアミ
ドなどの有機アルカリ金属、または、水素化ナトリウ
ム、水素化カリウム、水素化カルシウムなどのアルカリ
(土類)金属水素化物、あるいは、上記塩基とアニリ
ン、トリエチルアミン、テトラメチルエチレンジアミン
などのアミン類との混合物が挙げられる。
【0040】反応の方法は特に限定されないが、窒素、
アルゴンなどの不活性雰囲気において、溶媒の存在下、
シクロペンタジエン(3)と塩基とを接触させてアニ
オンを生成した後、ジスルフィド(4)を反応させるこ
とにより好ましく実施できる。
【0041】上記反応に用いる塩基の仕込比はシクロペ
ンタジエン化合物(3)に対して、通常0.2〜5モル
倍程度であり、好ましくは、0.5〜2モル倍程度であ
る。
【0042】シクロペンタジエン(3)に対するジスル
フィド(4)の仕込み比は、通常0.01〜2モル倍程
度であり、好ましくは、0.1〜1モル倍程度である。
【0043】かかる溶媒は特に限定されないが、ペンタ
ン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン等の脂肪族
炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン
等の芳香族炭化水素、ジクロロロメタン、クロロホル
ム、ジクロロエタン等の脂肪族ハロゲン化炭化水素、モ
ノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族ハロゲ
ン化炭化水素、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、
メチル t−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン等の
エーテル類およびこれらの混合物が例示される。その使
用量は、 通常、シクロペンタジエン(3)の1〜20
0重量倍であり、好ましくは3〜30重量倍程度であ
る。
【0044】反応温度としては、通常は−100℃〜溶媒
の沸点の範囲において実施され、好ましくは−80℃〜溶
媒の沸点の範囲である。
【0045】反応後、例えば水でクエンチし、有機溶媒
にて抽出後、溶媒を留去することによりシクロペンタジ
エン化合物(1)を得ることが出来る。必要に応じ、カ
ラムクロマトグラフィー、再結晶、蒸留など通常の方法
により精製することが出来る。
【0046】
【発明の効果】本発明によりシクロペンタジエン化合物
(1)およびS架橋Cpフェノキシチタン錯体(2)を
工業的に有利に得ることができる。
【0047】
【実施例】以下、実施例をあげて、本発明を詳述する
が、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、
テトラメチルシクロペンタジエン(J. Org. Chem. 199
0, 55, 1429-1432)、ビス(2−ヒドロキシ−3−te
rt−ブチル−5−メチルフェニル)ジスルフィド(WO
9708179)は既知化合物である。
【0048】実施例1 (2,3,4,5−テトラメチルシクロペンタ−1,4
−ジエニル)(2−tert−ブチル−4−メチル−6
−ヒドロキシ)スルフィドの合成 アルゴン雰囲気下、THF170mlにナトリウムヒド
リド5.83g(243mmol)を懸濁させ50℃でアニ
リン1.02ml(11mmol)を滴下した。30分保温
後、テトラメチルシクロペンタジエン30.0g(22
1mmol)を50℃にて滴下した。4時間攪拌後、0
℃に冷却し、20mlのTHFに溶かしたビス(2−ヒ
ドロキシ−3−tert−ブチル−5−メチルフェニ
ル)ジスルフィド9.23g(22mmol)を滴下し
た。20℃に昇温し、5時間攪拌した。飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液50mlを滴下し、水層を300mlの
トルエンで2回抽出し、油層を合わせて硫酸ナトリウム
で乾燥した。濃縮後、得られた粗生成物を濾過し、残さ
から17.75g(純度42.2%、収率100%)の
(2,3,4,5−テトラメチルシクロペンタ−1,4
−ジエニル)(2−tert−ブチル−4−メチル−6
−ヒドロキシフェニル)スルフィドを得た。1 H NMR(270MHz, CDCl3) δ7.08(1H, br), 6.99(1H, b
r), 6.81(1H, s), 2.52(1H, m), 2.22(3H, s), 2.07(3
H, s), 1.79(6H, s), 1.37(9H, s) , 1.33(3H, d, J=2.
4Hz) EI-MS(分子量316.49)m/z= 316, 196, 181, 153, 122,
105, 91, 77
【0049】実施例2 チオ(η5−2,3.4.5−テトラメチルシクロペン
タジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2
−フェノキシ)チタニウムジクロライドの合成アルゴン
雰囲気下、1.00g(純度42.2%、1.33mm
ol)の(2,3,4,5−テトラメチルシクロペンタ
−2,4−ジエニル)(2−tert−ブチル−4−メ
チル−6−ヒドロキシ)スルフィドと0.61g(6.
0mmol)のトリエチルアミンを8.4mlのトルエ
ンに溶かし、−30℃に冷却した。1.52Mのn−ブ
チルリチウムヘキサン溶液2.0ml(3.0mmo
l)を滴下したところ、固体が析出した。20℃に昇温
し、2時間攪拌後、グラスフィルターで濾過し、残さを
8.4mlのトルエンに懸濁させ、−30℃に冷却し
た。この懸濁液に、1.7mlのトルエンに溶解した
0.38gの四塩化チタンを滴下後、20℃に昇温し、
3時間攪拌した。反応溶液を濾過し、残さを5mlのト
ルエンで洗浄した。濾洗液を合わせて濃縮し、得られた
粗生成物を1.0mlのヘキサンに懸濁させた。濾液を
濃縮したところ、0.22gのチオ(η5−2,3.
4.5−テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−t
ert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニ
ウムジクロライドが得られた(収率30%)。1 H NMR(270MHz, C6D6) δ7.08(1H, br), 6.89(1H, br),
2.05(3H, s), 1.94(6H,s), 1.76(6H, s), 1.51(9H, s)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4H006 AA02 AC63 BA02 BA03 BA28 BA32 BA33 TA04 TB42 TC06 TC32 4H039 CA61 CD10 CD60 4H050 AA02 BE90 WB11 WB13 WB21

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】一般式(1) (式中、R1〜R8はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン
    原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アラル
    キル基またはアルキルもしくはアリール置換シリル基を
    示し、あるいは隣接する基が結合して環を形成していて
    もよい。)で示されるシクロペンタジエン化合物と四ハ
    ロゲン化チタンとを有機アルカリ金属の存在下に反応さ
    せることを特徴とする一般式(2) (式中、R1〜R8は前記と同じ意味を表わし、Xはハロ
    ゲン原子を示す。)で示されるS架橋Cpフェノキシチ
    タン錯体の製造方法。
  2. 【請求項2】3級アミンを共存させることを特徴とする
    請求項1記載の製造方法。
  3. 【請求項3】一般式(3) (式中、R5〜R8は前記と同じ意味を表わす。)で示さ
    れるシクロペンタジエンと一般式(4) (式中、R1〜R4は前記と同じ意味を表わす。)で表さ
    れるジスルフィドとを塩基の存在下に反応させることを
    特徴とする前記一般式(1)で示されるシクロペンタジ
    エン化合物の製造方法。
JP35733899A 1999-12-16 1999-12-16 チオ(シクロペンタジエニル)(フェノキシ)チタン錯体の製造方法 Pending JP2001172292A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP35733899A JP2001172292A (ja) 1999-12-16 1999-12-16 チオ(シクロペンタジエニル)(フェノキシ)チタン錯体の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP35733899A JP2001172292A (ja) 1999-12-16 1999-12-16 チオ(シクロペンタジエニル)(フェノキシ)チタン錯体の製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001172292A true JP2001172292A (ja) 2001-06-26

Family

ID=18453620

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP35733899A Pending JP2001172292A (ja) 1999-12-16 1999-12-16 チオ(シクロペンタジエニル)(フェノキシ)チタン錯体の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2001172292A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010001224A (ja) * 2008-06-18 2010-01-07 Mitsui Chemicals Inc 遷移金属化合物の製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010001224A (ja) * 2008-06-18 2010-01-07 Mitsui Chemicals Inc 遷移金属化合物の製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100414757B1 (ko) 전이금속착체,그것의제조방법,그전이금속착체를함유하는올레핀중합촉매,및올레핀중합체의제조방법
CA2098381C (en) Preparation of metal coordination complexes
US7615660B2 (en) Production process of alkoxy-titanium complex
JP3744965B2 (ja) メチル遷移金属化合物の製造方法
JP3390133B2 (ja) メタロセン化合物、その製造方法及びその使用
JP3599810B2 (ja) 架橋されたシクロペンタンジエニルマグネシウム−化合物、その製法およびメタロセンの製法
JPH09510449A (ja) ビス(シクロペンタジエニル)金属錯体の求核性置換によるモノシクロペンタジエニル金属錯体の製造
US6090961A (en) Method for producing titanium complex
JP5034690B2 (ja) ハロゲン化遷移金属錯体の製造方法
JP2001172292A (ja) チオ(シクロペンタジエニル)(フェノキシ)チタン錯体の製造方法
JP5082247B2 (ja) アルコキシチタン錯体の製造方法
US3657297A (en) Preparation of dicyclopentadienylcobalt
JP4760171B2 (ja) メタロセン化合物の製造方法
JP4556254B2 (ja) アルコキシチタン錯体の製造方法
JP3885660B2 (ja) 遷移金属錯体、その配位子、オレフィン重合用触媒およびオレフィン重合体の製造方法
JP3674332B2 (ja) アリールオキシチタン錯体の製造方法
JP2000119286A (ja) チタン二置換錯体の製造法
JP4710334B2 (ja) シクロペンタジエン化合物及びその製造方法
US7652159B2 (en) Process for producing metallocene compound
JP4411884B2 (ja) 遷移金属錯体、配位子、オレフィン重合用触媒およびオレフィン重合体の製造方法
JP3744224B2 (ja) アミノチタン錯体の製造方法
JP4496890B2 (ja) メタロセン化合物の製造方法
US20060154804A1 (en) Preparation of dialkyl-ansa-metallocenes
JP4432737B2 (ja) 遷移金属化合物の精製方法。
JP2002538128A (ja) 4−ケトシクロペンテン及びシクロペンタジエン化合物の合成