JP2001166233A - 分割露光装置の描画方法及び分割露光装置 - Google Patents
分割露光装置の描画方法及び分割露光装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、分割露光装置で描画される感光材
上の各走査光学系の走査範囲のつなぎ目部分に二重露光
による黒い筋が発生することを抑制し、品質の高い描画
物を得ることを可能とする描画方法を提供する。 【解決手段】 ２つの走査系による走査範囲の重複領域
内で、第１の走査光学系側の境界にまたがって存在する
描画データは、第１の走査光学系によって描画し、第２
の走査光学系側の境界にまたがって存在する描画データ
は、第２の走査光学系によって描画する。重複領域全体
に渡って存在する描画データは、第１と第２の２つの走
査光学系で二重に描画する。重複領域内部に、スペース
部分で囲まれた描画部分が存在する場合には、その描画
部分の位置に応じて、いずれか一方の走査光学系のみに
よって描画を行う。
上の各走査光学系の走査範囲のつなぎ目部分に二重露光
による黒い筋が発生することを抑制し、品質の高い描画
物を得ることを可能とする描画方法を提供する。 【解決手段】 ２つの走査系による走査範囲の重複領域
内で、第１の走査光学系側の境界にまたがって存在する
描画データは、第１の走査光学系によって描画し、第２
の走査光学系側の境界にまたがって存在する描画データ
は、第２の走査光学系によって描画する。重複領域全体
に渡って存在する描画データは、第１と第２の２つの走
査光学系で二重に描画する。重複領域内部に、スペース
部分で囲まれた描画部分が存在する場合には、その描画
部分の位置に応じて、いずれか一方の走査光学系のみに
よって描画を行う。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、走査光学系を複数
備え、感光材に対して、それぞれの走査光学系毎に走査
線方向の走査範囲を分割して露光を行う分割露光装置に
おける描画方法及び分割露光装置に関する。
備え、感光材に対して、それぞれの走査光学系毎に走査
線方向の走査範囲を分割して露光を行う分割露光装置に
おける描画方法及び分割露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、装置の小型・軽量化を図る一
方、広範囲の露光領域を確保するために、光源からのレ
ーザービームを主走査方向に走査する走査光学系ユニッ
トを複数備え、各々の走査光学系毎に、走査線方向の走
査範囲を分割して感光材に対して露光を行う分割露光装
置が知られている。ところで、このような分割露光装置
は、走査光学系毎に走査範囲を分割して露光を行う為、
レーザビームの変調タイミングの変動等の原因から、各
走査光学系による走査範囲の隣接部分ではパターンが途
切れるという現象を生じる場合があった。
方、広範囲の露光領域を確保するために、光源からのレ
ーザービームを主走査方向に走査する走査光学系ユニッ
トを複数備え、各々の走査光学系毎に、走査線方向の走
査範囲を分割して感光材に対して露光を行う分割露光装
置が知られている。ところで、このような分割露光装置
は、走査光学系毎に走査範囲を分割して露光を行う為、
レーザビームの変調タイミングの変動等の原因から、各
走査光学系による走査範囲の隣接部分ではパターンが途
切れるという現象を生じる場合があった。
【０００３】そこで、各走査光学系毎の走査方向の隣接
部分において無露光となる部分が発生しないように、各
走査光学系毎のビームの走査範囲の隣接部分を互いに重
複させ、重複範囲内の描画データを各々の走査光学系に
よって二重に描画する方法が知られている。
部分において無露光となる部分が発生しないように、各
走査光学系毎のビームの走査範囲の隣接部分を互いに重
複させ、重複範囲内の描画データを各々の走査光学系に
よって二重に描画する方法が知られている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、走査範
囲の重複部分では描画データが二重に露光されることに
より、例えば感光材がフォトマスクフィルムである場
合、重複部分が他の部分よりも黒く感光され、それが副
走査方向に連続した場合には、副走査方向に黒い筋とし
て現れるため、描画物としての品質が低下するという問
題があった。
囲の重複部分では描画データが二重に露光されることに
より、例えば感光材がフォトマスクフィルムである場
合、重複部分が他の部分よりも黒く感光され、それが副
走査方向に連続した場合には、副走査方向に黒い筋とし
て現れるため、描画物としての品質が低下するという問
題があった。
【０００５】本発明は、各走査光学系の走査範囲の隣接
部でパターンが途切れる現象を生ずることが無く、か
つ、走査範囲の重複領域で描画データが副走査方向に連
続して存在する場合にも、感光材上に二重露光による黒
い筋が発生することを抑制し、品質の高い描画物を得る
ことを可能とする、分割露光装置における描画方法、及
び分割露光装置を提供することを目的とする。
部でパターンが途切れる現象を生ずることが無く、か
つ、走査範囲の重複領域で描画データが副走査方向に連
続して存在する場合にも、感光材上に二重露光による黒
い筋が発生することを抑制し、品質の高い描画物を得る
ことを可能とする、分割露光装置における描画方法、及
び分割露光装置を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の描画方法は、重
複領域の第１の走査光学系側の境界にまたがって存在す
る描画データは、第１の走査光学系によって描画し、重
複領域の第２の走査光学系側の境界にまたがって存在す
る描画データは、第２の走査光学系によって描画し、重
複領域全体に渡って存在する描画データは、第１と第２
の２つの走査光学系で二重に描画する。重複領域内部
に、スペース部分で囲まれた描画部分が存在する場合に
は、その描画部分の位置に応じて、いずれか一方の走査
光学系によって描画を行う。
複領域の第１の走査光学系側の境界にまたがって存在す
る描画データは、第１の走査光学系によって描画し、重
複領域の第２の走査光学系側の境界にまたがって存在す
る描画データは、第２の走査光学系によって描画し、重
複領域全体に渡って存在する描画データは、第１と第２
の２つの走査光学系で二重に描画する。重複領域内部
に、スペース部分で囲まれた描画部分が存在する場合に
は、その描画部分の位置に応じて、いずれか一方の走査
光学系によって描画を行う。
【０００７】また、本発明の描画方法は、前記重複領域
よりも十分に広い一定の移動範囲内で、重複領域の位置
を、各走査線毎に異なる位置に移動して描画を行う。こ
のように描画を行うことで、二重露光されるデータを走
査方向に分散させることができ、感光材上に二重露光に
よる黒い筋が発生するのを抑制することができる。この
場合、一定の移動範囲内での重複領域の位置を、各走査
線毎にランダムに移動して描画するのが、感光材上に二
重露光による黒い筋が発生することを抑制する上で最も
好ましい。
よりも十分に広い一定の移動範囲内で、重複領域の位置
を、各走査線毎に異なる位置に移動して描画を行う。こ
のように描画を行うことで、二重露光されるデータを走
査方向に分散させることができ、感光材上に二重露光に
よる黒い筋が発生するのを抑制することができる。この
場合、一定の移動範囲内での重複領域の位置を、各走査
線毎にランダムに移動して描画するのが、感光材上に二
重露光による黒い筋が発生することを抑制する上で最も
好ましい。
【０００８】また、本発明の描画方法は、重複領域に存
在する描画データは、全て隣接する２つの走査光学系に
よって重複して描画するものとし、重複領域の位置を、
それよりも十分に広い一定の移動範囲内で、各走査線毎
に異なる位置に移動して描画を行う。その場合、一定の
移動範囲内での重複領域の位置を、各走査線毎にランダ
ムに移動して描画するのが、感光材上に二重露光による
黒い筋が発生することを抑制する上で最も好ましい。
在する描画データは、全て隣接する２つの走査光学系に
よって重複して描画するものとし、重複領域の位置を、
それよりも十分に広い一定の移動範囲内で、各走査線毎
に異なる位置に移動して描画を行う。その場合、一定の
移動範囲内での重複領域の位置を、各走査線毎にランダ
ムに移動して描画するのが、感光材上に二重露光による
黒い筋が発生することを抑制する上で最も好ましい。
【０００９】また、本発明の分割露光装置は、複数の走
査光学系を備える分割露光装置であって、隣接する２つ
の走査光学系の走査範囲の隣接部に、重複して描画を行
う重複領域を有し、さらに、上述の本発明の描画方法を
実行する描画制御手段を有することを特徴とする。
査光学系を備える分割露光装置であって、隣接する２つ
の走査光学系の走査範囲の隣接部に、重複して描画を行
う重複領域を有し、さらに、上述の本発明の描画方法を
実行する描画制御手段を有することを特徴とする。
【００１０】
【発明の実施の形態】図３には、従来の描画方法によっ
て重複領域が描画された状態が示されている。図３にお
いて、矢印Ａの範囲は、第１の走査光学系により走査が
行われる範囲、矢印Ｂの範囲は、第２の走査光学系によ
り走査が行われる範囲、矢印Ｃの範囲は、２つの走査範
囲の重複領域である。また、図１から図３において、左
上がりの斜線で示された部分は、第１の走査光学系で描
画された描画パターンを表し、右上がりの斜線部で示さ
れた部分は、第２の走査光学系で描画された描画パター
ンを表し、２つの斜線が重なった部分は第１と第２の両
方の走査光学系で描画された描画パターンを表す。図３
において、重複領域内には、走査方向に描画データ１０
１の一部、描画データ１０２、描画データ１０３の一部
が存在し、さらに、同一の描画データが副走査方向（図
の縦方向）に繰り返し存在している。従来の重複領域に
おける描画方法は、一律に重複領域内の描画データを二
重露光するものであった。図３のようなデータの場合
は、描画データ１０１の領域Ｃにかかる部分、描画デー
タ１０２、描画データ１０３の領域Ｃにかかる部分が２
つの走査光学系によって二重露光される。従って、図３
のように、重複領域の副走査方向に連続して描画データ
が存在する場合には、重複部分の露光量が他の領域より
も多くなる為、感光材上に、二重露光による副走査方向
の黒い筋が現れる原因となっていた。
て重複領域が描画された状態が示されている。図３にお
いて、矢印Ａの範囲は、第１の走査光学系により走査が
行われる範囲、矢印Ｂの範囲は、第２の走査光学系によ
り走査が行われる範囲、矢印Ｃの範囲は、２つの走査範
囲の重複領域である。また、図１から図３において、左
上がりの斜線で示された部分は、第１の走査光学系で描
画された描画パターンを表し、右上がりの斜線部で示さ
れた部分は、第２の走査光学系で描画された描画パター
ンを表し、２つの斜線が重なった部分は第１と第２の両
方の走査光学系で描画された描画パターンを表す。図３
において、重複領域内には、走査方向に描画データ１０
１の一部、描画データ１０２、描画データ１０３の一部
が存在し、さらに、同一の描画データが副走査方向（図
の縦方向）に繰り返し存在している。従来の重複領域に
おける描画方法は、一律に重複領域内の描画データを二
重露光するものであった。図３のようなデータの場合
は、描画データ１０１の領域Ｃにかかる部分、描画デー
タ１０２、描画データ１０３の領域Ｃにかかる部分が２
つの走査光学系によって二重露光される。従って、図３
のように、重複領域の副走査方向に連続して描画データ
が存在する場合には、重複部分の露光量が他の領域より
も多くなる為、感光材上に、二重露光による副走査方向
の黒い筋が現れる原因となっていた。
【００１１】図１は、図３と同じデータに対して、本発
明の描画方法を適用して描画した状態が示されている。
本発明では、各データをどの走査光学系によって描画す
るかを次のように決定する。領域Ｃの第１の走査光学系
側の境界線ａにまたがって存在する描画データは、第１
の走査光学系によって描画し、領域Ｃの第２の走査光学
系側の境界線ｂにまたがって存在する描画データは第２
の走査光学系で描画されるように決定される。このよう
に描画することで、境界線ａ又は境界線ｂ上で描画パタ
ーンが途切れる現象は発生しない。ここで、領域Ｃの内
部に描画データ１０２のように、空白部分で囲まれた描
画データが存在する場合には、第１又は第２の走査光学
系のいずれか一方の走査光学系のみによって描画を行
う。図１には、重複領域内で空白部分で囲まれた描画デ
ータが、第１の走査光学系のみによって描画された状態
が示されている。また、第１又は第２のどちらの走査光
学系で描画データ１０２を描画するかは、例えば、描画
データ１０２の中心点が、境界ａに近い場合には、第１
の走査光学系によって描画するものとし、境界ｂに近い
場合には、第２の走査光学系によって描画するものと決
定しても良い。なお、描画データ１０４のように、領域
Ｃの全体に渡って存在するようなデータについては、第
１と第２の２つの走査光学系によって二重に描画を行
う。図１と図３を比較すると、本発明の描画方法によれ
ば、領域Ｃ内のデータが重複露光されるケースは減少す
る為、感光材上に、２重露光による副走査方向の黒い筋
が現れる現象が抑制されることが理解される。なお、重
複領域Ｃは、通常は露光面上のビーム径の２から５倍の
幅に設定される。例えば、ビーム径が２０μｍである場
合には、重複領域Ｃの幅は０．１ｍｍに設定される。
明の描画方法を適用して描画した状態が示されている。
本発明では、各データをどの走査光学系によって描画す
るかを次のように決定する。領域Ｃの第１の走査光学系
側の境界線ａにまたがって存在する描画データは、第１
の走査光学系によって描画し、領域Ｃの第２の走査光学
系側の境界線ｂにまたがって存在する描画データは第２
の走査光学系で描画されるように決定される。このよう
に描画することで、境界線ａ又は境界線ｂ上で描画パタ
ーンが途切れる現象は発生しない。ここで、領域Ｃの内
部に描画データ１０２のように、空白部分で囲まれた描
画データが存在する場合には、第１又は第２の走査光学
系のいずれか一方の走査光学系のみによって描画を行
う。図１には、重複領域内で空白部分で囲まれた描画デ
ータが、第１の走査光学系のみによって描画された状態
が示されている。また、第１又は第２のどちらの走査光
学系で描画データ１０２を描画するかは、例えば、描画
データ１０２の中心点が、境界ａに近い場合には、第１
の走査光学系によって描画するものとし、境界ｂに近い
場合には、第２の走査光学系によって描画するものと決
定しても良い。なお、描画データ１０４のように、領域
Ｃの全体に渡って存在するようなデータについては、第
１と第２の２つの走査光学系によって二重に描画を行
う。図１と図３を比較すると、本発明の描画方法によれ
ば、領域Ｃ内のデータが重複露光されるケースは減少す
る為、感光材上に、２重露光による副走査方向の黒い筋
が現れる現象が抑制されることが理解される。なお、重
複領域Ｃは、通常は露光面上のビーム径の２から５倍の
幅に設定される。例えば、ビーム径が２０μｍである場
合には、重複領域Ｃの幅は０．１ｍｍに設定される。
【００１２】図２には、本発明の別の実施形態が示され
ている。図２における領域Ｃは、図１で述べた領域Ｃと
同じ重複領域を示しており、その中で２重露光されるデ
ータは、図１の説明で述べたように決定される。本実施
形態では、重複領域Ｃは、それより十分広い領域Ｒの中
で、各走査線毎に異なる位置に移動して配置される。領
域Ｃを配置する位置は、各走査線毎に異なる位置となる
ように決定すれば良く、各走査線毎にランダムな位置に
移動することがもっとも好ましい。図２には、重複領域
Ｃが各走査線毎にランダムに配置されている場合が示さ
れている。なお、領域Ｒの幅は、通常はビーム径の２０
０から３００倍に設定される。このように、領域Ｒの中
で重複領域Ｃをランダムに移動することで、図１の場合
と比較すると、二重露光される描画データを走査方向に
分散させることが可能となり、描画物の領域Ｒの副走査
方向に２重露光によって黒い筋が現れる現象が、さらに
抑制される。
ている。図２における領域Ｃは、図１で述べた領域Ｃと
同じ重複領域を示しており、その中で２重露光されるデ
ータは、図１の説明で述べたように決定される。本実施
形態では、重複領域Ｃは、それより十分広い領域Ｒの中
で、各走査線毎に異なる位置に移動して配置される。領
域Ｃを配置する位置は、各走査線毎に異なる位置となる
ように決定すれば良く、各走査線毎にランダムな位置に
移動することがもっとも好ましい。図２には、重複領域
Ｃが各走査線毎にランダムに配置されている場合が示さ
れている。なお、領域Ｒの幅は、通常はビーム径の２０
０から３００倍に設定される。このように、領域Ｒの中
で重複領域Ｃをランダムに移動することで、図１の場合
と比較すると、二重露光される描画データを走査方向に
分散させることが可能となり、描画物の領域Ｒの副走査
方向に２重露光によって黒い筋が現れる現象が、さらに
抑制される。
【００１３】図４は本発明の描画方法が適用される分割
露光装置の外観を示す正面図であり、図５はその側面図
を表している。図４に示されるように、レーザ光源２か
ら射出されたレーザビームは、反射鏡４，５で反射した
後、ビームスプリッタ６へ導かれ、ビームスプリッタ６
で反射したビームは一方の走査光学系によって走査さ
れ、ビームスプリッタ６を透過したビームは反射鏡８に
よって反射された後、もう一方の走査光学系に導かれ走
査される。その後、それぞれのビームは、感光材９が載
置される露光面に集光される。本露光装置は、感光材９
が載置される移動ステージ１０が図の上下方向（図５の
Ｚ方向）に移動可能に構成されており、感光材９の種類
に応じてビームが感光材の露光面上に適正に集光するよ
うに調節することができる。また、移動ステージ１０は
一軸テーブル１２上に固定されており、一軸テーブルが
レーザビームの走査方向と直交する副走査方向（図５の
Ｘ方向）に、図５に示すサーボモータ１３によって移動
するように構成されている。
露光装置の外観を示す正面図であり、図５はその側面図
を表している。図４に示されるように、レーザ光源２か
ら射出されたレーザビームは、反射鏡４，５で反射した
後、ビームスプリッタ６へ導かれ、ビームスプリッタ６
で反射したビームは一方の走査光学系によって走査さ
れ、ビームスプリッタ６を透過したビームは反射鏡８に
よって反射された後、もう一方の走査光学系に導かれ走
査される。その後、それぞれのビームは、感光材９が載
置される露光面に集光される。本露光装置は、感光材９
が載置される移動ステージ１０が図の上下方向（図５の
Ｚ方向）に移動可能に構成されており、感光材９の種類
に応じてビームが感光材の露光面上に適正に集光するよ
うに調節することができる。また、移動ステージ１０は
一軸テーブル１２上に固定されており、一軸テーブルが
レーザビームの走査方向と直交する副走査方向（図５の
Ｘ方向）に、図５に示すサーボモータ１３によって移動
するように構成されている。
【００１４】図６は図４の露光装置の走査光学系及びそ
の制御部を詳細に示している。ビームスプリッタ６で反
射されたビームは、例えば音響光学素子より成る光変調
器３４に導かれる。光変調器３４は、描画制御手段であ
る制御マイコン６０がレーザ／ＡＯＭコントローラ６
２、ＡＯＭドライバ６７を介して制御可能に構成されて
いる。制御マイコン６０は、描画データが存在する場合
にはビームをＯＮに、描画データが存在しない空白部分
についてはビームをＯＦＦするように光変調器３４を変
調制御する。走査線４９上の各走査光学系の走査範囲の
つなぎめ部分には、図示はしないが、図１の領域Ｃに該
当する重複領域が存在している。制御マイコン６０は、
重複領域内部のデータが、図１または図２で示したよう
な状態に描画されるように、各走査光学系のビームのＯ
Ｎ／ＯＦＦを制御する。
の制御部を詳細に示している。ビームスプリッタ６で反
射されたビームは、例えば音響光学素子より成る光変調
器３４に導かれる。光変調器３４は、描画制御手段であ
る制御マイコン６０がレーザ／ＡＯＭコントローラ６
２、ＡＯＭドライバ６７を介して制御可能に構成されて
いる。制御マイコン６０は、描画データが存在する場合
にはビームをＯＮに、描画データが存在しない空白部分
についてはビームをＯＦＦするように光変調器３４を変
調制御する。走査線４９上の各走査光学系の走査範囲の
つなぎめ部分には、図示はしないが、図１の領域Ｃに該
当する重複領域が存在している。制御マイコン６０は、
重複領域内部のデータが、図１または図２で示したよう
な状態に描画されるように、各走査光学系のビームのＯ
Ｎ／ＯＦＦを制御する。
【００１５】光変調器３４によって変調されたビーム
は、反射鏡３６、３７で反射され、ピエゾスキャナ３８
上に取り付けられた反射鏡３９に導かれる。ピエゾスキ
ャナ３８は、ピエゾドライバ６６、ピエゾ／ＡＯＭコン
トローラ６１を介して制御マイコン６０と接続される。
制御マイコン６０はピエゾスキャナ３８を制御して、反
射鏡３９を揺動させ、ここでのビームの反射角を変更す
ることができる。さらに、ビームの反射角の変化によっ
て、露光面上の走査線４９の副走査方向の位置が変更す
る。従って、制御マイコン６０は、各走査光学系毎に走
査線の位置を補正することが可能となる。
は、反射鏡３６、３７で反射され、ピエゾスキャナ３８
上に取り付けられた反射鏡３９に導かれる。ピエゾスキ
ャナ３８は、ピエゾドライバ６６、ピエゾ／ＡＯＭコン
トローラ６１を介して制御マイコン６０と接続される。
制御マイコン６０はピエゾスキャナ３８を制御して、反
射鏡３９を揺動させ、ここでのビームの反射角を変更す
ることができる。さらに、ビームの反射角の変化によっ
て、露光面上の走査線４９の副走査方向の位置が変更す
る。従って、制御マイコン６０は、各走査光学系毎に走
査線の位置を補正することが可能となる。
【００１６】反射鏡３９で反射されたビームは、ビーム
エキスパンダ４０、４２でビーム径を拡大されてモータ
４５により回転駆動されるホログラムディスク４４に入
射する。なお、モータ４５は、モータコントローラ６
３、モータドライバ６５を介して制御マイコン６０に接
続されており、回転を制御される。さらに、ホログラム
ディスク４４に入射するビームは、ホログラムディスク
４４の回転に伴って偏向され、ビームベンダ４６、非球
面鏡４７、４８で反射されて露光面上の走査線４９の位
置を走査する。
エキスパンダ４０、４２でビーム径を拡大されてモータ
４５により回転駆動されるホログラムディスク４４に入
射する。なお、モータ４５は、モータコントローラ６
３、モータドライバ６５を介して制御マイコン６０に接
続されており、回転を制御される。さらに、ホログラム
ディスク４４に入射するビームは、ホログラムディスク
４４の回転に伴って偏向され、ビームベンダ４６、非球
面鏡４７、４８で反射されて露光面上の走査線４９の位
置を走査する。
【００１７】以上の説明においては、本発明の描画方法
でフォトマスクフィルムの作成を行う場合について述べ
たが、本発明の描画方法は、このようなマスク作成のみ
でなく、プリント基板への直接描画、又はレーザプリン
タ、レーザファックス等のＯＡ機器に適用することも可
能である。
でフォトマスクフィルムの作成を行う場合について述べ
たが、本発明の描画方法は、このようなマスク作成のみ
でなく、プリント基板への直接描画、又はレーザプリン
タ、レーザファックス等のＯＡ機器に適用することも可
能である。
【００１８】
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば２つ
の走査光学系の走査範囲の重複領域において、描画デー
タが重複露光される部分を減少させることができるの
で、感光材上の２つの走査光学系の走査範囲のつなぎ目
でパターン切れを起こすことなく、且つ、重複領域を目
立たないようにし、品質の高い描画物を得ることができ
る。また、重複領域において、二重露光される描画デー
タを走査方向に分散させることができるので、さらに品
質の高い描画物を得ることも可能である。
の走査光学系の走査範囲の重複領域において、描画デー
タが重複露光される部分を減少させることができるの
で、感光材上の２つの走査光学系の走査範囲のつなぎ目
でパターン切れを起こすことなく、且つ、重複領域を目
立たないようにし、品質の高い描画物を得ることができ
る。また、重複領域において、二重露光される描画デー
タを走査方向に分散させることができるので、さらに品
質の高い描画物を得ることも可能である。
【図１】本発明の描画方法によって重複領域を描画した
状態を示す図である。
状態を示す図である。
【図２】本発明の描画方法によって重複領域を分散させ
て描画した状態を示す図である。
て描画した状態を示す図である。
【図３】従来の方法によって重複領域を描画した状態を
示す図である。
示す図である。
【図４】本発明の描画方法が用いられる分割露光装置の
外観を示す正面図である。
外観を示す正面図である。
【図５】図４の分割露光装置の正面図である。
【図６】図４の分割露光装置の、走査ユニット部分のブ
ロック図である。
ロック図である。
１ 分割露光装置 ２ レーザ光源 ３ レーザビーム ４ 反射鏡 ５ 反射鏡 ６ ビームスプリッタ ７ 走査ユニット ８ 反射鏡 ９ 感光材 １０ 移動ステージ １１ 基台 １２ 一軸テーブル １３ サーボモータ ３４ 光変調器 ３８ 光偏光器 ３９ 反射鏡 ４０，４２ ビームエキスパンダレンズ ４４ ホログラム ４５ モータ ４６ ベンダー ４７，４８ 非球面鏡 ６０ 制御マイコン ６１ ピエゾ／ＡＯＭコントローラ ６２ レーザ／ＡＯＭコントローラ ６３ モータコントローラ ６５ モータドライバ ６６ ピエゾドライバ ６７ ＡＯＭドライバ
Claims (6)
- 【請求項１】 複数の走査光学系を備え、隣接する２つ
の走査光学系の走査範囲の隣接部に、重複して描画を行
う重複領域を有する分割露光装置に適用される描画方法
であって、 前記重複領域の第１の走査光学系側の境界にまたがって
存在する描画データは、第１の走査光学系によって描画
し、 前記重複領域の第２の走査光学系側の境界にまたがって
存在する描画データは、第２の走査光学系によって描画
し、 前記重複領域全体に渡って存在する描画データは、前記
第１と第２の２つの走査光学系で重複して描画し、 前記重複領域内部に、スペース部分で囲まれた描画部分
が存在する場合には、該描画部分の位置に応じて、いず
れか一方の走査光学系のみによってその描画部分を描画
すること、 を特徴とする、分割露光装置の描画方法。 - 【請求項２】 前記重複領域よりも十分に広い一定の移
動範囲内で、前記重複領域の位置を、各走査線毎に異な
る位置に移動して描画すること、 を特徴とする、請求項１に記載の分割露光装置の描画方
法。 - 【請求項３】 前記移動範囲内での前記重複領域の位置
を、各走査線毎にランダムに移動して描画すること、 を特徴とする、請求項２に記載の分割露光装置の描画方
法。 - 【請求項４】 複数の走査光学系を備え、隣接する２つ
の走査光学系の走査範囲の隣接部に、重複して描画を行
う重複領域を有する分割露光装置に適用される描画方法
であって、 前記重複領域の位置を、前記重複領域よりも十分に広い
一定の移動範囲内で、各走査線毎に異なる位置に移動
し、 前記重複領域に存在する描画データは、全て隣接する２
つの走査光学系によって重複して描画すること、 を特徴とする、分割露光装置の描画方法。 - 【請求項５】 前記移動範囲内での前記重複領域の位置
を、各走査線毎にランダムに移動して描画すること、 を特徴とする、請求項４に記載の分割露光装置の描画方
法。 - 【請求項６】 複数の走査光学系を備える分割露光装置
であって、隣接する２つの走査光学系の走査範囲の隣接
部に、重複して描画を行う重複領域を有し、 さらに、請求項１から請求項５に記載の描画方法を実行
する描画制御手段を有すること、 を特徴とする、分割露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34749699A JP2001166233A (ja) | 1999-12-07 | 1999-12-07 | 分割露光装置の描画方法及び分割露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34749699A JP2001166233A (ja) | 1999-12-07 | 1999-12-07 | 分割露光装置の描画方法及び分割露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001166233A true JP2001166233A (ja) | 2001-06-22 |
Family
ID=18390626
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34749699A Pending JP2001166233A (ja) | 1999-12-07 | 1999-12-07 | 分割露光装置の描画方法及び分割露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001166233A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8545400B2 (en) | 2006-04-24 | 2013-10-01 | Olympus Medical Systems Corp. | Endoscope |
-
1999
- 1999-12-07 JP JP34749699A patent/JP2001166233A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8545400B2 (en) | 2006-04-24 | 2013-10-01 | Olympus Medical Systems Corp. | Endoscope |
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