JP2001155674A - 走査電子顕微鏡における電子ビーム走査軸とステージ移動軸のずれ及びステージの移動誤差の測定方法及び補正方法。 - Google Patents
走査電子顕微鏡における電子ビーム走査軸とステージ移動軸のずれ及びステージの移動誤差の測定方法及び補正方法。Info
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- JP2001155674A JP2001155674A JP34057099A JP34057099A JP2001155674A JP 2001155674 A JP2001155674 A JP 2001155674A JP 34057099 A JP34057099 A JP 34057099A JP 34057099 A JP34057099 A JP 34057099A JP 2001155674 A JP2001155674 A JP 2001155674A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 走査電子顕微鏡の電子ビーム走査軸とステー
ジ移動軸のずれを測定する 【解決手段】 ステージ移動前後に得られた画像データ
に基づいて、画像ズレ量演算回路１７は２枚の画像のＸ
軸方向及びＹ方向のズレを求め、移動ズレ演算回路１８
はステージ移動量のズレを求め、回転ズレ量演算回路１
９はステージのＸ，Ｙ軸と電子ビーム走査のＸ，Ｙ軸の
回転方向のズレを求める。
ジ移動軸のずれを測定する 【解決手段】 ステージ移動前後に得られた画像データ
に基づいて、画像ズレ量演算回路１７は２枚の画像のＸ
軸方向及びＹ方向のズレを求め、移動ズレ演算回路１８
はステージ移動量のズレを求め、回転ズレ量演算回路１
９はステージのＸ，Ｙ軸と電子ビーム走査のＸ，Ｙ軸の
回転方向のズレを求める。
Description
【０００１】
【発明の属する分野】本発明は、走査電子顕微鏡の電子
ビーム走査軸とステージ移動軸のずれ及びステージの移
動誤差の測定方法及び補正方法に関する。
ビーム走査軸とステージ移動軸のずれ及びステージの移
動誤差の測定方法及び補正方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】走査型電子顕微鏡は、電子銃からの電子
ビームを観察すべき試料上に集束し、該電子ビームで試
料上を走査し、該走査により得られた二次電子等に基づ
いて陰極線管などの表示装置の画面上に試料像を表示さ
せるものである。
ビームを観察すべき試料上に集束し、該電子ビームで試
料上を走査し、該走査により得られた二次電子等に基づ
いて陰極線管などの表示装置の画面上に試料像を表示さ
せるものである。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】さて、この様な走査型
電子顕微鏡においては、電子ビームの走査幅を大きくす
ると、得られる画像に偏向歪みの影響が大きく現れるの
で、通常、偏向歪みが許容される範囲内で電子ビームを
偏向させるようにしている。従って、走査型電子顕微鏡
における電子ビームの最大走査幅は、通常、数ｍｍ前後
と可成り小さいものである。その為に、通常の走査型電
子顕微鏡においては、一度に観察出来るのは最大でも数
ｍｍ程度の範囲に過ぎない。
電子顕微鏡においては、電子ビームの走査幅を大きくす
ると、得られる画像に偏向歪みの影響が大きく現れるの
で、通常、偏向歪みが許容される範囲内で電子ビームを
偏向させるようにしている。従って、走査型電子顕微鏡
における電子ビームの最大走査幅は、通常、数ｍｍ前後
と可成り小さいものである。その為に、通常の走査型電
子顕微鏡においては、一度に観察出来るのは最大でも数
ｍｍ程度の範囲に過ぎない。
【０００４】そこで、最近、試料表面上を複数の区画に
分割し、各区画の中心が電子ビーム光軸中心上に来るよ
うに試料ステージを移動させ、各試料ステージの停止期
間中、区画を電子ビームで走査し、該走査により発生し
た二次電子などに基づいて画像データをメモリに記憶さ
せ、該メモリに記憶された複数枚の画像を繋ぎ合わせて
（合成して）１枚にし、表示装置画面上に表示させるも
のが提案されている。
分割し、各区画の中心が電子ビーム光軸中心上に来るよ
うに試料ステージを移動させ、各試料ステージの停止期
間中、区画を電子ビームで走査し、該走査により発生し
た二次電子などに基づいて画像データをメモリに記憶さ
せ、該メモリに記憶された複数枚の画像を繋ぎ合わせて
（合成して）１枚にし、表示装置画面上に表示させるも
のが提案されている。
【０００５】しかし、この様な合成を行う際の走査型電
子顕微鏡の作動条件（試料と対物レンズ下面との距離
（ワークディスタンス）、倍率、加速電圧等）によって
ステージ移動のＸ，Ｙ軸と電子ビーム走査のＸ，Ｙ軸が
ずれる為、画像をスムーズに繋ぐことが出来ない恐れが
あった。一方、試料のステップ送り量が電子ビームの走
査幅と正確に一致していない、即ちステージ移動量の誤
差も画像をスムーズに繋ぐ上で問題となっている。
子顕微鏡の作動条件（試料と対物レンズ下面との距離
（ワークディスタンス）、倍率、加速電圧等）によって
ステージ移動のＸ，Ｙ軸と電子ビーム走査のＸ，Ｙ軸が
ずれる為、画像をスムーズに繋ぐことが出来ない恐れが
あった。一方、試料のステップ送り量が電子ビームの走
査幅と正確に一致していない、即ちステージ移動量の誤
差も画像をスムーズに繋ぐ上で問題となっている。
【０００６】本発明は、この様な問題を解決するために
成されたもので、新規な走査型電子顕微鏡における走査
軸とステージ移動軸のずれ及びステージ移動の誤差の測
定方法及び補正方法を提供することを目的とする。
成されたもので、新規な走査型電子顕微鏡における走査
軸とステージ移動軸のずれ及びステージ移動の誤差の測
定方法及び補正方法を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】 本発明に基づく走査電
子顕微鏡における電子ビーム走査軸とステージ移動軸の
ずれの測定方法は、試料ステージ上の試料に細く絞った
電子線を照射すると共に該電子線を試料上で二次元的に
走査して第１の画像を取得する工程と、試料ステージを
Ｘ軸またはＹ軸方向に試料上での走査範囲の幅よりも小
さな所定距離移動させた後電子線走査により第２の画像
を取得する工程と、第１の画像と第２の画像をパターン
を一致させて重ね合わせる工程と、重ね合わせた際の２
つの画像のＹ軸方向のずれまたはＸ軸方向のずれに基づ
いて試料ステージの移動軸と電子ビームの走査軸との間
の傾きを求める工程とから成ることを特徴とする。本発
明に基づく走査電子顕微鏡におけるステージの移動誤差
の測定方法は、試料ステージ上の試料に細く絞った電子
線を照射すると共に該電子線を試料上で二次元的に走査
して第１の画像を取得する工程と、試料ステージをＸ軸
またはＹ軸方向に試料上での走査範囲の幅よりも小さな
所定距離移動させた後電子線走査により第２の画像を取
得する工程と、第１の画像と第２の画像をパターンを一
致させて重ね合わせる工程と、重ね合わせた際の２つの
画像のＸ軸方向のずれまたはＹ軸方向のずれに基づいて
試料ステージのＸ軸方向またはＹ軸方向の移動誤差に関
する情報を求める工程とから成ることを特徴とする。本
発明に基づく走査電子顕微鏡における電子ビーム走査軸
とステージ移動軸のずれの補正方法は、試料ステージ上
の試料に細く絞った電子線を照射すると共に該電子線を
試料上で二次元的に走査して第１の画像を取得する工程
と、試料ステージをＸ軸またはＹ軸方向に試料上での走
査範囲の幅よりも小さな所定距離移動させた後電子線走
査により第２の画像を取得する工程と、第１の画像と第
２の画像をパターンを一致させて重ね合わせる工程と、
重ね合わせた際の２つの画像のＹ軸方向のずれまたはＸ
軸方向のずれに基づいて試料ステージの移動軸と電子ビ
ームの走査軸との間の傾きを求める工程と、求めた傾き
の情報に基づいて試料ステージの移動方向又は電子ビー
ム走査方向を補正する工程とから成ることを特徴とす
る。本発明に基づく走査電子顕微鏡におけるステージの
移動誤差の補正方法は、試料ステージ上の試料に細く絞
った電子線を照射すると共に該電子線を試料上で二次元
的に走査して第１の画像を取得する工程と、試料ステー
ジをＸ軸またはＹ軸方向に試料上での走査範囲の幅より
も小さな所定距離移動させた後電子線走査により第２の
画像を取得する工程と、第１の画像と第２の画像をパタ
ーンを一致させて重ね合わせる工程と、重ね合わせた際
の２つの画像のＸ軸方向のズレまたはＹ軸方向のズレに
基づいて試料ステージのＸ軸方向またはＹ軸方向の移動
誤差に関する情報を求める工程と、求めた移動誤差に関
する情報に基づいて試料ステージの移動量又は試料上で
の電子ビームの走査幅を補正する工程とから成ることを
特徴とする。
子顕微鏡における電子ビーム走査軸とステージ移動軸の
ずれの測定方法は、試料ステージ上の試料に細く絞った
電子線を照射すると共に該電子線を試料上で二次元的に
走査して第１の画像を取得する工程と、試料ステージを
Ｘ軸またはＹ軸方向に試料上での走査範囲の幅よりも小
さな所定距離移動させた後電子線走査により第２の画像
を取得する工程と、第１の画像と第２の画像をパターン
を一致させて重ね合わせる工程と、重ね合わせた際の２
つの画像のＹ軸方向のずれまたはＸ軸方向のずれに基づ
いて試料ステージの移動軸と電子ビームの走査軸との間
の傾きを求める工程とから成ることを特徴とする。本発
明に基づく走査電子顕微鏡におけるステージの移動誤差
の測定方法は、試料ステージ上の試料に細く絞った電子
線を照射すると共に該電子線を試料上で二次元的に走査
して第１の画像を取得する工程と、試料ステージをＸ軸
またはＹ軸方向に試料上での走査範囲の幅よりも小さな
所定距離移動させた後電子線走査により第２の画像を取
得する工程と、第１の画像と第２の画像をパターンを一
致させて重ね合わせる工程と、重ね合わせた際の２つの
画像のＸ軸方向のずれまたはＹ軸方向のずれに基づいて
試料ステージのＸ軸方向またはＹ軸方向の移動誤差に関
する情報を求める工程とから成ることを特徴とする。本
発明に基づく走査電子顕微鏡における電子ビーム走査軸
とステージ移動軸のずれの補正方法は、試料ステージ上
の試料に細く絞った電子線を照射すると共に該電子線を
試料上で二次元的に走査して第１の画像を取得する工程
と、試料ステージをＸ軸またはＹ軸方向に試料上での走
査範囲の幅よりも小さな所定距離移動させた後電子線走
査により第２の画像を取得する工程と、第１の画像と第
２の画像をパターンを一致させて重ね合わせる工程と、
重ね合わせた際の２つの画像のＹ軸方向のずれまたはＸ
軸方向のずれに基づいて試料ステージの移動軸と電子ビ
ームの走査軸との間の傾きを求める工程と、求めた傾き
の情報に基づいて試料ステージの移動方向又は電子ビー
ム走査方向を補正する工程とから成ることを特徴とす
る。本発明に基づく走査電子顕微鏡におけるステージの
移動誤差の補正方法は、試料ステージ上の試料に細く絞
った電子線を照射すると共に該電子線を試料上で二次元
的に走査して第１の画像を取得する工程と、試料ステー
ジをＸ軸またはＹ軸方向に試料上での走査範囲の幅より
も小さな所定距離移動させた後電子線走査により第２の
画像を取得する工程と、第１の画像と第２の画像をパタ
ーンを一致させて重ね合わせる工程と、重ね合わせた際
の２つの画像のＸ軸方向のズレまたはＹ軸方向のズレに
基づいて試料ステージのＸ軸方向またはＹ軸方向の移動
誤差に関する情報を求める工程と、求めた移動誤差に関
する情報に基づいて試料ステージの移動量又は試料上で
の電子ビームの走査幅を補正する工程とから成ることを
特徴とする。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。
施の形態を詳細に説明する。
【０００９】図１は走査電子顕微鏡の一概略例を示した
ものである。図中１は電子銃、２，３は該電子銃からの
電子ビームを試料４上で集束させるための集束レンズ，
対物レンズである。５は試料上を電子ビームで走査させ
るための偏向コイルで、Ｘ方向用とＹ方向用が備えられ
ている。６は試料４からの二次電子等を検出するための
検出器、７は該検出器からの信号をデジタル信号に変換
するＡＤ変換器である。８は画像データを記憶するため
のフレームメモリである。９は前記試料を載置して二次
元方向に移動可能なステージである。１０は前記集束レ
ンズ２，対物レンズ５の励磁をコントロールするための
レンズ制御回路、１１は前記偏向コイル５の偏向動作を
コントロールするための走査制御回路、１２は前記ステ
ージ９の移動動作を制御するためのステージ制御回路
で、これらレンズ制御回路１０，走査制御回路１１，ス
テージ制御回路１２は中央制御装置（以後ＣＰＵと称
す）１３の指令に基づいて作動する。１４は操作卓、１
５は画像メモリ、１６は陰極線管の如き表示装置であ
る。又、１７は２枚の画像のＸ軸方向及びＹ方向のズレ
を求める為の画像ズレ量演算回路、１８は前記ステージ
移動量のズレを求めるための移動ズレ演算回路、１９は
ステージのＸ，Ｙ軸と電子ビーム走査のＸ，Ｙ軸の回転
方向のズレを求めるための回転ズレ量演算回路である。
ものである。図中１は電子銃、２，３は該電子銃からの
電子ビームを試料４上で集束させるための集束レンズ，
対物レンズである。５は試料上を電子ビームで走査させ
るための偏向コイルで、Ｘ方向用とＹ方向用が備えられ
ている。６は試料４からの二次電子等を検出するための
検出器、７は該検出器からの信号をデジタル信号に変換
するＡＤ変換器である。８は画像データを記憶するため
のフレームメモリである。９は前記試料を載置して二次
元方向に移動可能なステージである。１０は前記集束レ
ンズ２，対物レンズ５の励磁をコントロールするための
レンズ制御回路、１１は前記偏向コイル５の偏向動作を
コントロールするための走査制御回路、１２は前記ステ
ージ９の移動動作を制御するためのステージ制御回路
で、これらレンズ制御回路１０，走査制御回路１１，ス
テージ制御回路１２は中央制御装置（以後ＣＰＵと称
す）１３の指令に基づいて作動する。１４は操作卓、１
５は画像メモリ、１６は陰極線管の如き表示装置であ
る。又、１７は２枚の画像のＸ軸方向及びＹ方向のズレ
を求める為の画像ズレ量演算回路、１８は前記ステージ
移動量のズレを求めるための移動ズレ演算回路、１９は
ステージのＸ，Ｙ軸と電子ビーム走査のＸ，Ｙ軸の回転
方向のズレを求めるための回転ズレ量演算回路である。
【００１０】この様に構成された走査型電子顕微鏡の動
作について以下に説明する。先ず、レンズ制御回路１０
の励磁制御信号に基づいて、集束レンズ２及び対物レン
ズは電子銃１からの電子ビームを試料４上に集束させ
る。この時、電子ビーム光軸中心（電子ビーム走査中
心）が試料４上のＯ１にあるものと想定する（図２の
（ａ）及び（ｂ）参照）。走査制御回路１１はＣＰＵ１
３からの走査指令に基づく偏向制御信号を偏向コイル５
に送るので、電子ビームは図２の（ａ）においてＳ１で
示す領域を二次元的に走査する。該走査により、試料４
から発生した例えば二次電子は検出器６に検出され、得
られた検出信号はＡＤ変換器７を介して、例えば２５６
×１９２ｐｉｘｅｌの画像データとしてフレームメモリ
８に記憶される。ＣＰＵ１３は、フレームメモリから画
像データを読み出し、前記領域Ｓ１の左半分に相当する
画像データ（１２８×１９２ｐｉｘｅｌ）を削除し、右
半分の画像データだけを表示装置１６に送る。その結
果、図３の（ａ）に示す様に、表示装置１６の画面には
前記領域Ｓ１の右半分の領域の二次電子像Ｚ１（１２８
×１９２ｐｉｘｅｌ）が表示される。
作について以下に説明する。先ず、レンズ制御回路１０
の励磁制御信号に基づいて、集束レンズ２及び対物レン
ズは電子銃１からの電子ビームを試料４上に集束させ
る。この時、電子ビーム光軸中心（電子ビーム走査中
心）が試料４上のＯ１にあるものと想定する（図２の
（ａ）及び（ｂ）参照）。走査制御回路１１はＣＰＵ１
３からの走査指令に基づく偏向制御信号を偏向コイル５
に送るので、電子ビームは図２の（ａ）においてＳ１で
示す領域を二次元的に走査する。該走査により、試料４
から発生した例えば二次電子は検出器６に検出され、得
られた検出信号はＡＤ変換器７を介して、例えば２５６
×１９２ｐｉｘｅｌの画像データとしてフレームメモリ
８に記憶される。ＣＰＵ１３は、フレームメモリから画
像データを読み出し、前記領域Ｓ１の左半分に相当する
画像データ（１２８×１９２ｐｉｘｅｌ）を削除し、右
半分の画像データだけを表示装置１６に送る。その結
果、図３の（ａ）に示す様に、表示装置１６の画面には
前記領域Ｓ１の右半分の領域の二次電子像Ｚ１（１２８
×１９２ｐｉｘｅｌ）が表示される。
【００１１】次に、ＣＰＵ１３は、前記領域Ｓ１のサイ
ズをｃｘ，ｃｙとした場合、ステージ制御回路１２に移
動指令を送り、該ステージ制御回路からの移動制御信号
に基づいて、ステージ９を、例えば、領域Ｓ１のＸ方向
サイズの１／２、即ちｃｘ／２に対応した分だけ＋Ｘ方
向に移動させる。
ズをｃｘ，ｃｙとした場合、ステージ制御回路１２に移
動指令を送り、該ステージ制御回路からの移動制御信号
に基づいて、ステージ９を、例えば、領域Ｓ１のＸ方向
サイズの１／２、即ちｃｘ／２に対応した分だけ＋Ｘ方
向に移動させる。
【００１２】この移動により、理想的には電子ビーム光
軸中心（電子ビーム走査中心）に試料４上のＯ２が来る
ことになる（図２の（ａ）及び（ｃ）参照）。走査制御
回路１１はＣＰＵ１３からの走査指令に基づく偏向制御
信号を偏向コイル５に送るので、電子ビームは図２の
（ａ）においてＳ２で示した破線で囲まれたＳ１と同じ
大きさの領域とＳ２を二次元的に走査する。該走査によ
り、試料４から発生した例えば二次電子は検出器６に検
出され、得られた検出信号はＡＤ変換器７を介して２５
６×１９２ｐｉｘｅｌの画像データとしてフレームメモ
リ８に記憶される。ＣＰＵ１３は、フレームメモリから
画像データを読み出し、前記領域Ｓ２の右半分に相当す
る画像データ（１２８×１９２ｐｉｘｅｌ）を削除し、
左半分の画像情報信号だけを表示装置１６に送る。その
結果、図３の（ａ）に示す様に、表示装置１６の画面に
は前記領域Ｓ２の左半分の領域の二次電子像Ｚ２が前記
領域Ｓ１の右半分の領域の二次電子像Ｚ１に並んで表示
される。
軸中心（電子ビーム走査中心）に試料４上のＯ２が来る
ことになる（図２の（ａ）及び（ｃ）参照）。走査制御
回路１１はＣＰＵ１３からの走査指令に基づく偏向制御
信号を偏向コイル５に送るので、電子ビームは図２の
（ａ）においてＳ２で示した破線で囲まれたＳ１と同じ
大きさの領域とＳ２を二次元的に走査する。該走査によ
り、試料４から発生した例えば二次電子は検出器６に検
出され、得られた検出信号はＡＤ変換器７を介して２５
６×１９２ｐｉｘｅｌの画像データとしてフレームメモ
リ８に記憶される。ＣＰＵ１３は、フレームメモリから
画像データを読み出し、前記領域Ｓ２の右半分に相当す
る画像データ（１２８×１９２ｐｉｘｅｌ）を削除し、
左半分の画像情報信号だけを表示装置１６に送る。その
結果、図３の（ａ）に示す様に、表示装置１６の画面に
は前記領域Ｓ２の左半分の領域の二次電子像Ｚ２が前記
領域Ｓ１の右半分の領域の二次電子像Ｚ１に並んで表示
される。
【００１３】さて、ステージの移動軸と電子ビーム走査
の軸とのズレがなく、且つステージの移動量が正確ｃｘ
／２であれば、前記領域Ｓ１の右半分の領域と前記領域
Ｓ２の左半分の領域は同じ領域なので、例えば、像Ｚ２
を移動させて２枚の画像の辺を合わせて重ねて表示する
と、２枚の画像は全くずれることなく重畳表示されるは
ずである。
の軸とのズレがなく、且つステージの移動量が正確ｃｘ
／２であれば、前記領域Ｓ１の右半分の領域と前記領域
Ｓ２の左半分の領域は同じ領域なので、例えば、像Ｚ２
を移動させて２枚の画像の辺を合わせて重ねて表示する
と、２枚の画像は全くずれることなく重畳表示されるは
ずである。
【００１４】しかし、ステージの移動軸と電子ビーム走
査の軸とのずれがあったり、ステージの移動量がｃｘ／
２からずれていると、図３の（ｂ）に示す様に、２つの
像を端を合わせて重ね表示した場合、前記領域Ｓ１の右
半分の領域の像Ｚ１と前記領域Ｓ２の左半分の領域の像
Ｚ２にずれが発生する。
査の軸とのずれがあったり、ステージの移動量がｃｘ／
２からずれていると、図３の（ｂ）に示す様に、２つの
像を端を合わせて重ね表示した場合、前記領域Ｓ１の右
半分の領域の像Ｚ１と前記領域Ｓ２の左半分の領域の像
Ｚ２にずれが発生する。
【００１５】そこで、オペレーターはＣＰＵ１３を介し
た操作卓１４の操作により、表示装置１６の画面上で、
例えば、前記領域Ｓ２の左半分の領域の像Ｚ２のパター
ンが前記領域Ｓ１の右半分の領域の像Ｚ１のパターンに
全くずれずに重なるように移動させる。この様な移動に
より、図３（ｃ）に示す様に、２つの像のパターンが一
致したときの２枚の画像のＸ方向の辺のずれΔＸ１と、
Ｙ方向の辺のずれΔＹ２がＣＰＵ１３の指令に基づいて
画像ずれ量演算回路１７で求められる。尚、このずれ量
はずれ分の画素数Ｎｘ，Ｎｙを求めれば、１画素当たり
のＸ軸方向長さ（ｃｘ／２５６）×Ｎｘ及び１画素当た
りのＹ軸方向長さ（ｃｙ／１９２）×Ｎｙより容易に求
められる。
た操作卓１４の操作により、表示装置１６の画面上で、
例えば、前記領域Ｓ２の左半分の領域の像Ｚ２のパター
ンが前記領域Ｓ１の右半分の領域の像Ｚ１のパターンに
全くずれずに重なるように移動させる。この様な移動に
より、図３（ｃ）に示す様に、２つの像のパターンが一
致したときの２枚の画像のＸ方向の辺のずれΔＸ１と、
Ｙ方向の辺のずれΔＹ２がＣＰＵ１３の指令に基づいて
画像ずれ量演算回路１７で求められる。尚、このずれ量
はずれ分の画素数Ｎｘ，Ｎｙを求めれば、１画素当たり
のＸ軸方向長さ（ｃｘ／２５６）×Ｎｘ及び１画素当た
りのＹ軸方向長さ（ｃｙ／１９２）×Ｎｙより容易に求
められる。
【００１６】次に、移動誤差演算回路１８はＣＰＵ１３
の指令に基づいて、この時の前記小領域のＸ方向サイズ
ｃｘ、及び前記求めたＸ方向のずれ量ΔＸ１から、Ｘ軸
方向の移動誤差Ｍを次式に従って演算する。
の指令に基づいて、この時の前記小領域のＸ方向サイズ
ｃｘ、及び前記求めたＸ方向のずれ量ΔＸ１から、Ｘ軸
方向の移動誤差Ｍを次式に従って演算する。
【００１７】
【数１】
【００１８】次に、ＣＰＵ１３の指令に基づいて回転ず
れ量演算回路１９は、前記Ｘ方向サイズｃｘと前記求め
たＹ方向の直線ずれ量ΔＹ２から、ステージＸ軸と走査
Ｘ軸の回転方向のずれ量θ（ｘ）を次式に従って演算す
る。
れ量演算回路１９は、前記Ｘ方向サイズｃｘと前記求め
たＹ方向の直線ずれ量ΔＹ２から、ステージＸ軸と走査
Ｘ軸の回転方向のずれ量θ（ｘ）を次式に従って演算す
る。
【００１９】
【数２】
【００２０】以上でＸ軸方向の測定及び演算が終了す
る。続いて、Ｙ軸方向の測定及び演算が以下のようにし
て行われる。
る。続いて、Ｙ軸方向の測定及び演算が以下のようにし
て行われる。
【００２１】今、電子ビーム光軸中心（電子ビーム走査
中心）が試料４上のＯ３にあるものとする（図４の
（ａ）及び（ｂ）参照）。そして、集束された電子ビー
ムでＯ３を中心に領域Ｓ３上を二次元的に走査する。該
走査により、試料４から発生した例えば二次電子は検出
器６に検出され、得られた検出信号はＡＤ変換器７を介
して２５６×１９２ｐｉｘｅｌの画像データとしてフレ
ームメモリ８に記憶される。ＣＰＵ１３は、フレームメ
モリから画像データを読み出し、前記領域Ｓ３の上半分
に対応する画像データ（２５６×９６ｐｉｘｅｌ）を削
除し、下半分の画像データだけを表示装置１６に送る。
その結果、図５の（ａ）に示す様に、表示装置１６の画
面には前記領域Ｓ３の下半分の領域の二次電子像Ｚ３が
表示される。
中心）が試料４上のＯ３にあるものとする（図４の
（ａ）及び（ｂ）参照）。そして、集束された電子ビー
ムでＯ３を中心に領域Ｓ３上を二次元的に走査する。該
走査により、試料４から発生した例えば二次電子は検出
器６に検出され、得られた検出信号はＡＤ変換器７を介
して２５６×１９２ｐｉｘｅｌの画像データとしてフレ
ームメモリ８に記憶される。ＣＰＵ１３は、フレームメ
モリから画像データを読み出し、前記領域Ｓ３の上半分
に対応する画像データ（２５６×９６ｐｉｘｅｌ）を削
除し、下半分の画像データだけを表示装置１６に送る。
その結果、図５の（ａ）に示す様に、表示装置１６の画
面には前記領域Ｓ３の下半分の領域の二次電子像Ｚ３が
表示される。
【００２２】次に、ＣＰＵ１３は、前記領域Ｓ３のｃ
ｘ，ｃｙとした場合、ステージ制御回路１２に移動指令
を送り、該ステージ制御回路からの移動制御信号に基づ
いて、ステージ９を、例えば、Ｙ方向サイズの１／２、
即ちｃｙ／２に対応した分だけ＋Ｙ方向に移動させる。
ｘ，ｃｙとした場合、ステージ制御回路１２に移動指令
を送り、該ステージ制御回路からの移動制御信号に基づ
いて、ステージ９を、例えば、Ｙ方向サイズの１／２、
即ちｃｙ／２に対応した分だけ＋Ｙ方向に移動させる。
【００２３】この移動により、理想的には電子ビーム光
軸中心（電子ビーム走査中心）に試料４上のＯ４が来る
ことになる（図４の（ａ）及び（ｃ）参照）。集束され
た電子ビームは図４の（ａ）においてＳ４で示した破線
で囲まれたＳ３と同じ大きさの領域を二次元的に走査す
る。該走査により得られた領域Ｓ４の画像データ（２５
６×１９２ｐｉｘｅｌ）はフレームメモリ８に記憶され
る。ＣＰＵ１３は、フレームメモリから画像データを読
み出し、前記領域Ｓ４の下半分に対応する画像データ
（２５６×９６ｐｉｘｅｌ）を削除し、上半分の画像デ
ータだけを表示装置１６に送る。その結果、図５の
（ａ）に示す様に、表示装置１６の画面には前記領域Ｓ
４の上半分の領域の二次電子像Ｚ４が前記領域Ｓ３の下
半分の領域の二次電子像Ｚ３の隣に並んで表示される。
軸中心（電子ビーム走査中心）に試料４上のＯ４が来る
ことになる（図４の（ａ）及び（ｃ）参照）。集束され
た電子ビームは図４の（ａ）においてＳ４で示した破線
で囲まれたＳ３と同じ大きさの領域を二次元的に走査す
る。該走査により得られた領域Ｓ４の画像データ（２５
６×１９２ｐｉｘｅｌ）はフレームメモリ８に記憶され
る。ＣＰＵ１３は、フレームメモリから画像データを読
み出し、前記領域Ｓ４の下半分に対応する画像データ
（２５６×９６ｐｉｘｅｌ）を削除し、上半分の画像デ
ータだけを表示装置１６に送る。その結果、図５の
（ａ）に示す様に、表示装置１６の画面には前記領域Ｓ
４の上半分の領域の二次電子像Ｚ４が前記領域Ｓ３の下
半分の領域の二次電子像Ｚ３の隣に並んで表示される。
【００２４】この場合も前記と同様に、ステージのＹ方
向移動軸と電子ビーム走査のＹ軸とのずれがなく、且つ
ステージの移動量が正確にｃｙ／２であれば、前記領域
Ｓ３の下半分の領域と前記領域Ｓ４の上半分の領域は同
じ領域なので、例えば像Ｚ４を移動させて２枚の画像の
辺を合わせて重ね表示すると、２枚の画像は全くずれる
ことなく重畳表示されるはずである。
向移動軸と電子ビーム走査のＹ軸とのずれがなく、且つ
ステージの移動量が正確にｃｙ／２であれば、前記領域
Ｓ３の下半分の領域と前記領域Ｓ４の上半分の領域は同
じ領域なので、例えば像Ｚ４を移動させて２枚の画像の
辺を合わせて重ね表示すると、２枚の画像は全くずれる
ことなく重畳表示されるはずである。
【００２５】しかし、ステージのＹ方向移動軸と電子ビ
ーム走査のＹ軸とのずれがあったり、ステージ移動量が
ｃｙ／２からずれていると、図５の（ｂ）に示す様に、
前記領域Ｓ３の下半分の領域の像と前記領域Ｓ４の上半
分の領域の像にずれが発生する。
ーム走査のＹ軸とのずれがあったり、ステージ移動量が
ｃｙ／２からずれていると、図５の（ｂ）に示す様に、
前記領域Ｓ３の下半分の領域の像と前記領域Ｓ４の上半
分の領域の像にずれが発生する。
【００２６】そこで、オペレーターは、ＣＰＵ１３を介
した操作卓１４の操作により、表示装置１６の画面上
で、例えば、前記領域Ｓ４の上半分の領域の像Ｚ４のパ
ターンが前記領域Ｓ３の下半分の領域の像Ｚ３のパター
ンに全くずれずに重なるように移動させる。この様な移
動により、図５（ｃ）に示す様に、２つの像のパターン
が一致した時の２枚の画像のＸ方向の辺のズレΔＸ２及
びＹ方向の辺のズレΔＹ１がＣＰＵ１３の指令に基づい
て画像ずれ量演算回路１７において求められる。なお、
このずれ量は前述と同様にズレ分の画素数から求められ
る。
した操作卓１４の操作により、表示装置１６の画面上
で、例えば、前記領域Ｓ４の上半分の領域の像Ｚ４のパ
ターンが前記領域Ｓ３の下半分の領域の像Ｚ３のパター
ンに全くずれずに重なるように移動させる。この様な移
動により、図５（ｃ）に示す様に、２つの像のパターン
が一致した時の２枚の画像のＸ方向の辺のズレΔＸ２及
びＹ方向の辺のズレΔＹ１がＣＰＵ１３の指令に基づい
て画像ずれ量演算回路１７において求められる。なお、
このずれ量は前述と同様にズレ分の画素数から求められ
る。
【００２７】次に、ＣＰＵ１３の指令に基づいて移動ず
れ演算回路１８は、この時の小領域のＹ方向サイズｃ
ｙ、及び前記求めたＹ方向のずれ量ΔＹ１から、Ｙ軸方
向の移動ズレＭ（ｙ）を次式に従って演算する。
れ演算回路１８は、この時の小領域のＹ方向サイズｃ
ｙ、及び前記求めたＹ方向のずれ量ΔＹ１から、Ｙ軸方
向の移動ズレＭ（ｙ）を次式に従って演算する。
【００２８】
【数３】
【００２９】次に、ＣＰＵ１３の指令に基づいて回転ず
れ量演算回路１９は、前記Ｙ方向サイズｃｙと前記求め
たＸ方向のずれ量ΔＸ２から、ステージＹ軸と走査Ｙ軸
の回転方向のずれ量θ（ｙ）を次式に従って演算する。
れ量演算回路１９は、前記Ｙ方向サイズｃｙと前記求め
たＸ方向のずれ量ΔＸ２から、ステージＹ軸と走査Ｙ軸
の回転方向のずれ量θ（ｙ）を次式に従って演算する。
【００３０】
【数４】
【００３１】以上で、Ｘ軸及びＹ軸方向の測定が終了
し、その結果、Ｘ軸及びＹ軸方向のステージ移動誤差に
関する情報Ｍ(ｘ）,Ｍ(ｙ)が(１)，(３)式で得られ、併
せてステージのＸ，Ｙ移動軸と電子ビームのＸ，Ｙ走査
軸とのなす角度の情報θ(ｘ),θ(ｙ)が(２)，(４)式か
ら得られた。
し、その結果、Ｘ軸及びＹ軸方向のステージ移動誤差に
関する情報Ｍ(ｘ）,Ｍ(ｙ)が(１)，(３)式で得られ、併
せてステージのＸ，Ｙ移動軸と電子ビームのＸ，Ｙ走査
軸とのなす角度の情報θ(ｘ),θ(ｙ)が(２)，(４)式か
ら得られた。
【００３２】本発明では、以上の説明のように、その結
果として得られる画像のずれから誤差あるいはずれの情
報を得ているため、簡単な操作で短時間に正確な誤差あ
るいはずれの情報を取得できる。
果として得られる画像のずれから誤差あるいはずれの情
報を得ているため、簡単な操作で短時間に正確な誤差あ
るいはずれの情報を取得できる。
【００３３】なお、上記実施例では、オペレータが２枚
の画像のパターンを一致させる操作を行ったが、パター
ンを一致させる操作は、αブレンド法、若しくは、自己
相関関数を用いたパターンマッチングプログラムを利用
することにより自動的に行うことができることは言うま
でもない。
の画像のパターンを一致させる操作を行ったが、パター
ンを一致させる操作は、αブレンド法、若しくは、自己
相関関数を用いたパターンマッチングプログラムを利用
することにより自動的に行うことができることは言うま
でもない。
【００３４】また、上記実施例では、理解のしやすさを
考慮し、取得した２枚の画像データの不要な部分を削除
した形で表示及びマッチング作業を説明したが、不要な
部分を削除せずに残したままでも全く同様にマッチング
作業が行うことができる。
考慮し、取得した２枚の画像データの不要な部分を削除
した形で表示及びマッチング作業を説明したが、不要な
部分を削除せずに残したままでも全く同様にマッチング
作業が行うことができる。
【００３５】また、上記実施例では、ステージ移動量を
電子ビーム走査範囲の幅の１／２としたが、１／２でな
くとも良い。ただし、ステージ移動量が電子ビーム走査
範囲の幅を超えると、移動前後に取得する画像中にマッ
チングを取れる共通の試料部位が存在しなくなるので、
少なくとも、ステージ移動量は、電子ビーム走査範囲の
幅よりも小さく設定する必要がある。
電子ビーム走査範囲の幅の１／２としたが、１／２でな
くとも良い。ただし、ステージ移動量が電子ビーム走査
範囲の幅を超えると、移動前後に取得する画像中にマッ
チングを取れる共通の試料部位が存在しなくなるので、
少なくとも、ステージ移動量は、電子ビーム走査範囲の
幅よりも小さく設定する必要がある。
【００３６】このようにして得られた(１)，(３)式及び
(２)，(４)式の情報に基づく補正について以下に説明す
る。得られた情報に基づく補正は、ステージ移動につい
て行うことが出来、また、電子ビームの走査についても
行うことができる。
(２)，(４)式の情報に基づく補正について以下に説明す
る。得られた情報に基づく補正は、ステージ移動につい
て行うことが出来、また、電子ビームの走査についても
行うことができる。
【００３７】ステージ移動をＣＰＵ１３からステージ制
御回路１２へ指令する場合、ＣＰＵ１３からステージの
移動先を指定する座標データ（ｘ，ｙ）がステージ制御
回路１２へ送られ、ステージ制御回路１２は、そのデー
タに基づいてステージを移動させるわけであるが、その
移動の際に、移動量に関して(１)，(３)式で与えられる
誤差が発生すると共に、移動方向に関して(２)，(４)式
で与えられるずれが発生することが先に測定されてい
る。この誤差及びずれを考慮すると、補正後の座標デー
タを（Ｓｘ，Ｓｙ）して、下式で表される補正演算を行
えば、移動量に関する誤差及び移動方向に関する誤差を
うち消すことができる。下式における各補正係数は、
(１)，(３)式及び(２)，(４)式から与えられることは言
うまでもない。
御回路１２へ指令する場合、ＣＰＵ１３からステージの
移動先を指定する座標データ（ｘ，ｙ）がステージ制御
回路１２へ送られ、ステージ制御回路１２は、そのデー
タに基づいてステージを移動させるわけであるが、その
移動の際に、移動量に関して(１)，(３)式で与えられる
誤差が発生すると共に、移動方向に関して(２)，(４)式
で与えられるずれが発生することが先に測定されてい
る。この誤差及びずれを考慮すると、補正後の座標デー
タを（Ｓｘ，Ｓｙ）して、下式で表される補正演算を行
えば、移動量に関する誤差及び移動方向に関する誤差を
うち消すことができる。下式における各補正係数は、
(１)，(３)式及び(２)，(４)式から与えられることは言
うまでもない。
【００３８】
【数５】
【００３９】この(５)式で表される補正式は、ＣＰＵ１
３に格納され、ＣＰＵ１３は、ステージ移動制御回路１
２に対してこの式に基づく補正を施した上で移動先を支
持する座標データを送る。このため、ステージの移動量
は電子ビームの走査幅に対して正確に設定され、また、
移動方向も電子ビームの走査軸に正確に一致したものと
なる。従って、ステージ移動と電子ビーム走査を繰り返
して得た多数の画像をつなぎ合わせて１枚の合成画像を
作成する場合であっても、つなぎ目での不具合のない見
やすい合成画像が得られる。
３に格納され、ＣＰＵ１３は、ステージ移動制御回路１
２に対してこの式に基づく補正を施した上で移動先を支
持する座標データを送る。このため、ステージの移動量
は電子ビームの走査幅に対して正確に設定され、また、
移動方向も電子ビームの走査軸に正確に一致したものと
なる。従って、ステージ移動と電子ビーム走査を繰り返
して得た多数の画像をつなぎ合わせて１枚の合成画像を
作成する場合であっても、つなぎ目での不具合のない見
やすい合成画像が得られる。
【００４０】(１)，(３)式及び(２)，(４)式の情報に基
づく電子ビーム走査についての補正は、例えば以下のよ
うにして行うことができる。すなわち、走査方向の補正
は、スキャンローテーション機能を用いて行うことがで
きる。スキャンローテーション機能は、Ｘ，Ｙの偏向系
に適宜なバランスでＸ，Ｙ方向の走査信号を加算して供
給することにより、電子ビームの走査方向を任意に回転
させることができる機能である。従って、(２)，(４)式
の情報に基づいてスキャンローテーション機能を使って
電子ビームの走査方向を適宜補正することにより、電子
ビームのＸ，Ｙ走査軸をステージのＸ，Ｙ移動軸と正確
に一致させることができる。
づく電子ビーム走査についての補正は、例えば以下のよ
うにして行うことができる。すなわち、走査方向の補正
は、スキャンローテーション機能を用いて行うことがで
きる。スキャンローテーション機能は、Ｘ，Ｙの偏向系
に適宜なバランスでＸ，Ｙ方向の走査信号を加算して供
給することにより、電子ビームの走査方向を任意に回転
させることができる機能である。従って、(２)，(４)式
の情報に基づいてスキャンローテーション機能を使って
電子ビームの走査方向を適宜補正することにより、電子
ビームのＸ，Ｙ走査軸をステージのＸ，Ｙ移動軸と正確
に一致させることができる。
【００４１】また、移動量の誤差に関する補正は、
(１)，(３)式の情報に基づいて電子ビームのＸ，Ｙ方向
の走査振幅を補正することにより行うことができる。こ
の補正により、前述したｃｘ，ｃｙがステージの移動量
に合わされる方向で補正されることになる。従って、走
査範囲の大きさの変化により倍率が若干変化するもの
の、ステージ移動と電子ビーム走査を繰り返して得た多
数の画像をつなぎ合わせて１枚の合成画像を作成する場
合に、つなぎ目での不具合のない見やすい合成画像が得
られる。
(１)，(３)式の情報に基づいて電子ビームのＸ，Ｙ方向
の走査振幅を補正することにより行うことができる。こ
の補正により、前述したｃｘ，ｃｙがステージの移動量
に合わされる方向で補正されることになる。従って、走
査範囲の大きさの変化により倍率が若干変化するもの
の、ステージ移動と電子ビーム走査を繰り返して得た多
数の画像をつなぎ合わせて１枚の合成画像を作成する場
合に、つなぎ目での不具合のない見やすい合成画像が得
られる。
【００４２】上記説明では、(１)，(３)式及び(２)，
(４)式の情報に基づき移動量誤差に関する補正と移動方
向に関する補正の両方について行ったが、必要に応じて
どちらか一方の補正だけ行うようにしても良い。
(４)式の情報に基づき移動量誤差に関する補正と移動方
向に関する補正の両方について行ったが、必要に応じて
どちらか一方の補正だけ行うようにしても良い。
【図１】 本発明の走査型電子顕微鏡の一概略例を示し
たものである。
たものである。
【図２】 本発明の走査型電子顕微鏡の動作を説明する
ために使用した図である。
ために使用した図である。
【図３】 本発明の走査型電子顕微鏡の動作を説明する
ために使用した図である。
ために使用した図である。
【図４】 本発明の走査型電子顕微鏡の動作を説明する
ために使用した図である。
ために使用した図である。
【図５】 本発明の走査型電子顕微鏡の動作を説明する
ために使用した図である。
ために使用した図である。
１…電子銃 ２…集束レンズ ３…対物レンズ ４…試料 ５…偏向コイル ６…検出器 ７…ＡＤ変換器 ８…フレームメモリ ９…ステージ １０…レンズ制御回路 １１…走査制御回路 １２…ステージ移動制御回路 １３…中央制御装置（ＣＰＵ） １４…操作卓 １５…画像メモリ １６…表示装置 １７…画像ずれ量演算回路 １８…移動誤差演算回路 １９…回転ずれ量演算回路
Claims (16)
- 【請求項１】 試料ステージ上の試料に細く絞った電子
線を照射すると共に該電子線を試料上で二次元的に走査
して第１の画像を取得する工程と、試料ステージをＸ軸
またはＹ軸方向に試料上での走査範囲の幅よりも小さな
所定距離移動させた後電子線走査により第２の画像を取
得する工程と、第１の画像と第２の画像をパターンを一
致させて重ね合わせる工程と、重ね合わせた際の２つの
画像のＹ軸方向のずれまたはＸ軸方向のずれに基づいて
試料ステージの移動軸と電子ビームの走査軸との間の傾
きを求める工程とから成ることを特徴とする走査電子顕
微鏡における電子ビーム走査軸とステージ移動軸のずれ
の測定方法。 - 【請求項２】 前記試料ステージの移動量は、試料上で
の電子ビームの走査幅の１／２に設定されていることを
特徴とする請求項１記載の走査電子顕微鏡における電子
ビーム走査軸とステージ移動軸のずれ測定方法。 - 【請求項３】 前記第１の画像と第２の画像をパターン
を一致させて重ね合わせる工程は、パターンマッチング
プログラムにより実行されることを特徴とする請求項１
又は２記載の走査電子顕微鏡に電子ビーム走査軸とステ
ージ移動軸のずれ測定方法。 - 【請求項４】 前記第１の画像と第２の画像をパターン
を一致させて重ね合わせる工程は、αブレンド法により
実行されることを特徴とする請求項１又は２記載の走査
電子顕微鏡に電子ビーム走査軸とステージ移動軸のずれ
測定方法。 - 【請求項５】 試料ステージ上の試料に細く絞った電子
線を照射すると共に該電子線を試料上で二次元的に走査
して第１の画像を取得する工程と、試料ステージをＸ軸
またはＹ軸方向に試料上での走査範囲の幅よりも小さな
所定距離移動させた後電子線走査により第２の画像を取
得する工程と、第１の画像と第２の画像をパターンを一
致させて重ね合わせる工程と、重ね合わせた際の２つの
画像のＸ軸方向のずれまたはＹ軸方向のずれに基づいて
試料ステージのＸ軸方向またはＹ軸方向の移動誤差に関
する情報を求める工程とから成ることを特徴とする走査
電子顕微鏡におけるステージの移動誤差の測定方法。 - 【請求項６】 前記試料ステージの移動量は、試料上で
の電子ビームの走査幅の１／２に設定されていることを
特徴とする請求項５記載の走査電子顕微鏡におけるステ
ージの移動誤差の測定方法。 - 【請求項７】 前記第１の画像と第２の画像をパターン
を一致させて重ね合わせる工程は、パターンマッチング
プログラムにより実行されることを特徴とする請求項５
又は６記載の走査電子顕微鏡におけるステージの移動誤
差の測定方法。 - 【請求項８】 前記第１の画像と第２の画像をパターン
を一致させて重ね合わせる工程は、αブレンド法により
実行されることを特徴とする請求項５又は６記載の走査
電子顕微鏡におけるステージの移動誤差の測定方法 - 【請求項９】 試料ステージ上の試料に細く絞った電子
線を照射すると共に該電子線を試料上で二次元的に走査
して第１の画像を取得する工程と、試料ステージをＸ軸
またはＹ軸方向に試料上での走査範囲の幅よりも小さな
所定距離移動させた後電子線走査により第２の画像を取
得する工程と、第１の画像と第２の画像をパターンを一
致させて重ね合わせる工程と、重ね合わせた際の２つの
画像のＹ軸方向のずれまたはＸ軸方向のずれに基づいて
試料ステージの移動軸と電子ビームの走査軸との間の傾
きを求める工程と、求めた傾きの情報に基づいて試料ス
テージの移動方向又は電子ビーム走査方向を補正する工
程とから成ることを特徴とする走査電子顕微鏡における
電子ビーム走査軸とステージ移動軸のずれの補正方法。 - 【請求項１０】 前記試料ステージの移動量は、試料上
での電子ビームの走査幅の１／２に設定されていること
を特徴とする請求項９記載の走査電子顕微鏡における電
子ビーム走査軸とステージ移動軸のずれの補正方法。 - 【請求項１１】 前記第１の画像と第２の画像をパター
ンを一致させて重ね合わせる工程は、パターンマッチン
グプログラムにより実行されることを特徴とする請求項
９又は１０記載の走査電子顕微鏡における電子ビーム走
査軸とステージ移動軸のずれの補正方法。 - 【請求項１２】 前記第１の画像と第２の画像をパター
ンを一致させて重ね合わせる工程は、パターンマッチン
グプログラムにより実行されることを特徴とする請求項
９又は１０記載の走査電子顕微鏡における電子ビーム走
査軸とステージ移動軸のずれの補正方法。 - 【請求項１３】 試料ステージ上の試料に細く絞った電
子線を照射すると共に該電子線を試料上で二次元的に走
査して第１の画像を取得する工程と、試料ステージをＸ
軸またはＹ軸方向に試料上での走査範囲の幅よりも小さ
な所定距離移動させた後電子線走査により第２の画像を
取得する工程と、第１の画像と第２の画像をパターンを
一致させて重ね合わせる工程と、重ね合わせた際の２つ
の画像のＸ軸方向のずれまたはＹ軸方向のずれに基づい
て試料ステージのＸ軸方向またはＹ軸方向の移動誤差に
関する情報を求める工程と、求めた移動誤差に関する情
報に基づいて試料ステージの移動量又は試料上での電子
ビームの走査幅を補正する工程とから成ることを特徴と
する走査電子顕微鏡におけるステージの移動誤差の補正
方法。 - 【請求項１４】 前記試料ステージの移動量は、試料上
での電子ビームの走査幅の１／２に設定されていること
を特徴とする請求項１３記載の走査電子顕微鏡における
ステージの移動誤差の補正方法。 - 【請求項１５】 前記第１の画像と第２の画像をパター
ンを一致させて重ね合わせる工程は、パターンマッチン
グプログラムにより実行されることを特徴とする請求項
１３又は１４記載の走査電子顕微鏡におけるステージの
移動誤差の補正方法。 - 【請求項１６】 前記第１の画像と第２の画像をパター
ンを一致させて重ね合わせる工程は、αブレンド法によ
り実行されることを特徴とする請求項１３又は１４記載
の走査電子顕微鏡におけるステージの移動誤差の補正方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34057099A JP2001155674A (ja) | 1999-11-30 | 1999-11-30 | 走査電子顕微鏡における電子ビーム走査軸とステージ移動軸のずれ及びステージの移動誤差の測定方法及び補正方法。 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34057099A JP2001155674A (ja) | 1999-11-30 | 1999-11-30 | 走査電子顕微鏡における電子ビーム走査軸とステージ移動軸のずれ及びステージの移動誤差の測定方法及び補正方法。 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001155674A true JP2001155674A (ja) | 2001-06-08 |
Family
ID=18338273
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34057099A Pending JP2001155674A (ja) | 1999-11-30 | 1999-11-30 | 走査電子顕微鏡における電子ビーム走査軸とステージ移動軸のずれ及びステージの移動誤差の測定方法及び補正方法。 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001155674A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003044821A1 (fr) * | 2001-11-21 | 2003-05-30 | Hitachi High-Technologies Corporation | Procede d'imagerie d'echantillon et systeme de faisceau de particules chargees |
| US7034296B2 (en) | 2001-11-21 | 2006-04-25 | Hitachi High-Technologies Corporation | Method of forming a sample image and charged particle beam apparatus |
| JP2006308471A (ja) * | 2005-04-28 | 2006-11-09 | Hitachi High-Technologies Corp | 画像形成方法 |
| JP2007327907A (ja) * | 2006-06-09 | 2007-12-20 | Jeol Ltd | 画像モンタージュ処理によるステージ動作補正方法 |
| US7361894B2 (en) | 2002-10-22 | 2008-04-22 | Hitachi High-Technologies Corporation | Method of forming a sample image and charged particle beam apparatus |
| JP2008282775A (ja) * | 2007-05-14 | 2008-11-20 | Hitachi High-Technologies Corp | 透過型電子顕微鏡及び撮影方法 |
| JP2010101907A (ja) * | 2010-01-14 | 2010-05-06 | Hitachi High-Technologies Corp | 試料像形成方法及び荷電粒子線装置 |
| JP2010237880A (ja) * | 2009-03-30 | 2010-10-21 | Hitachi High-Technologies Corp | 画像作成方法、計算装置、画像作成プログラムおよび記憶媒体 |
-
1999
- 1999-11-30 JP JP34057099A patent/JP2001155674A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003044821A1 (fr) * | 2001-11-21 | 2003-05-30 | Hitachi High-Technologies Corporation | Procede d'imagerie d'echantillon et systeme de faisceau de particules chargees |
| US7034296B2 (en) | 2001-11-21 | 2006-04-25 | Hitachi High-Technologies Corporation | Method of forming a sample image and charged particle beam apparatus |
| US7164126B2 (en) | 2001-11-21 | 2007-01-16 | Hitachi High-Technologies Corporation | Method of forming a sample image and charged particle beam apparatus |
| US7800059B2 (en) | 2001-11-21 | 2010-09-21 | Hitachi High-Technologies Corporation | Method of forming a sample image and charged particle beam apparatus |
| US7361894B2 (en) | 2002-10-22 | 2008-04-22 | Hitachi High-Technologies Corporation | Method of forming a sample image and charged particle beam apparatus |
| JP2006308471A (ja) * | 2005-04-28 | 2006-11-09 | Hitachi High-Technologies Corp | 画像形成方法 |
| JP4490864B2 (ja) * | 2005-04-28 | 2010-06-30 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 画像形成方法 |
| JP2007327907A (ja) * | 2006-06-09 | 2007-12-20 | Jeol Ltd | 画像モンタージュ処理によるステージ動作補正方法 |
| JP2008282775A (ja) * | 2007-05-14 | 2008-11-20 | Hitachi High-Technologies Corp | 透過型電子顕微鏡及び撮影方法 |
| JP2010237880A (ja) * | 2009-03-30 | 2010-10-21 | Hitachi High-Technologies Corp | 画像作成方法、計算装置、画像作成プログラムおよび記憶媒体 |
| JP2010101907A (ja) * | 2010-01-14 | 2010-05-06 | Hitachi High-Technologies Corp | 試料像形成方法及び荷電粒子線装置 |
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