JP2001150352A - 光学部品研摩用砥石並びにその製造方法 - Google Patents
光学部品研摩用砥石並びにその製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 研磨面品質を低下させることなく研磨時間を
短縮し、且つ良好な球面精度で安定的に加工できる光学
部品研摩用砥石とその製造方法を提供する。 【解決手段】 研磨用砥粒を研摩の目的に合わせて必要
量秤量した。一方、ポリイミド樹脂を必要量秤量し、ボ
ールミル等を用いて微粉砕し、粒径０．５〜５０μｍ、
好ましくは粒径０．５μｍの粉末にした。次いで、前記
研磨用砥粒とポリイミド樹脂粉末とを混合し、成形機に
よってタブレット品に圧縮成形した。このタブレット品
を焼成炉によって１８０℃〜２５０℃、好ましくは２０
０℃で約３時間焼成してペレットを得た。このペレット
をペレット貼付皿に接着し、必要に応じて二次成形（研
削、ラッピング等）を行った後光学部品の研磨に使用し
た。
短縮し、且つ良好な球面精度で安定的に加工できる光学
部品研摩用砥石とその製造方法を提供する。 【解決手段】 研磨用砥粒を研摩の目的に合わせて必要
量秤量した。一方、ポリイミド樹脂を必要量秤量し、ボ
ールミル等を用いて微粉砕し、粒径０．５〜５０μｍ、
好ましくは粒径０．５μｍの粉末にした。次いで、前記
研磨用砥粒とポリイミド樹脂粉末とを混合し、成形機に
よってタブレット品に圧縮成形した。このタブレット品
を焼成炉によって１８０℃〜２５０℃、好ましくは２０
０℃で約３時間焼成してペレットを得た。このペレット
をペレット貼付皿に接着し、必要に応じて二次成形（研
削、ラッピング等）を行った後光学部品の研磨に使用し
た。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、レンズ等の光学部
品を研摩するための砥石並びにその製造方法に関するも
のである。
品を研摩するための砥石並びにその製造方法に関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】レンズ等の光学部品の研摩は、砂掛けや
ダイヤモンドペレットを用いた精研削加工に続いて、ピ
ッチ又はポリウレタンシートを鋳鉄皿に貼り付けた研摩
皿を用い、レンズと研摩皿との間にＣｅＯ２等の研摩材
を水に分散させてなる研摩液を供給しながらレンズを研
摩して鏡面に近づけていくことにより行われている。
ダイヤモンドペレットを用いた精研削加工に続いて、ピ
ッチ又はポリウレタンシートを鋳鉄皿に貼り付けた研摩
皿を用い、レンズと研摩皿との間にＣｅＯ２等の研摩材
を水に分散させてなる研摩液を供給しながらレンズを研
摩して鏡面に近づけていくことにより行われている。
【０００３】ピッチ研摩では、研摩時間が砂掛けや精研
削等の前工程の加工時間の１０倍前後も要し、また数個
も加工すると球面精度が変化するので、この変化を抑制
しながら球面精度の品質を一定にするのはかなりの熟練
がいる。
削等の前工程の加工時間の１０倍前後も要し、また数個
も加工すると球面精度が変化するので、この変化を抑制
しながら球面精度の品質を一定にするのはかなりの熟練
がいる。
【０００４】ポリウレタンシートによる研摩はピッチ研
摩より高速で加工することが可能なので、研摩時間を幾
分短縮することができるが、研磨皿に縁だれ、中高など
の癖が発生しやすく、球面精度が非常に悪くなる。
摩より高速で加工することが可能なので、研摩時間を幾
分短縮することができるが、研磨皿に縁だれ、中高など
の癖が発生しやすく、球面精度が非常に悪くなる。
【０００５】また、研摩材を水に分散させた研摩液を用
いているため、作業時に研摩液が飛散し研摩機、作業者
の手などが汚れるので、作業環境が良いとはいえない。
いているため、作業時に研摩液が飛散し研摩機、作業者
の手などが汚れるので、作業環境が良いとはいえない。
【０００６】ピッチ又はポリウレタンシートを用いた研
摩皿の代わりに、フェノール樹脂又はエポキシ樹脂等の
結合剤にダイヤモンド等の砥粒を分散保持してなるダイ
ヤモンドペレットのような固定砥粒工具が多く市販され
ている。
摩皿の代わりに、フェノール樹脂又はエポキシ樹脂等の
結合剤にダイヤモンド等の砥粒を分散保持してなるダイ
ヤモンドペレットのような固定砥粒工具が多く市販され
ている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】前記従来の固定砥粒工
具を用いてレンズ加工を実施する場合水を冷却材として
主に工具に供給する。しかるに、フェノール樹脂、エポ
キシ樹脂等の結合剤は水中に長時間曝されると、膨潤に
よってその寸法が刻々と変化する。このため、精度の良
い曲率を持ったレンズを連続的に加工することは非常に
困難である。
具を用いてレンズ加工を実施する場合水を冷却材として
主に工具に供給する。しかるに、フェノール樹脂、エポ
キシ樹脂等の結合剤は水中に長時間曝されると、膨潤に
よってその寸法が刻々と変化する。このため、精度の良
い曲率を持ったレンズを連続的に加工することは非常に
困難である。
【０００８】また、フェノール樹脂、エポキシ樹脂等は
砥粒の保持力、耐熱性、耐摩耗性が不充分なため、レン
ズ加工中の砥石摩耗が早く、この点でも精度の良い曲率
を有するレンズを得ることは困難である。
砥粒の保持力、耐熱性、耐摩耗性が不充分なため、レン
ズ加工中の砥石摩耗が早く、この点でも精度の良い曲率
を有するレンズを得ることは困難である。
【０００９】特に、３〜５μｍ以下の粒径を有する研磨
用砥粒を結合剤中に分散させて良好な砥粒分散で強度の
ある研磨工具を製造することは従来極めて困難であっ
た。
用砥粒を結合剤中に分散させて良好な砥粒分散で強度の
ある研磨工具を製造することは従来極めて困難であっ
た。
【００１０】本発明の目的は上述した従来技術の諸欠点
を解消し、研磨面品質を低下させることなく研磨時間を
短縮し且つ良好な球面精度で安定的に加工できる光学部
品研摩用砥石並びにその製造方法を提供せんとするもの
である。
を解消し、研磨面品質を低下させることなく研磨時間を
短縮し且つ良好な球面精度で安定的に加工できる光学部
品研摩用砥石並びにその製造方法を提供せんとするもの
である。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の光学部品研摩用砥石は、結合剤としてのポ
リイミド樹脂に研磨用砥粒を体積で１〜４倍量分散保持
させてなることを特徴とする。
め、本発明の光学部品研摩用砥石は、結合剤としてのポ
リイミド樹脂に研磨用砥粒を体積で１〜４倍量分散保持
させてなることを特徴とする。
【００１２】また、かかる砥石を製造する請求項２の発
明は、ポリイミド樹脂粉末を結合剤として用い、これに
体積で１〜４倍量の研摩用砥粒を混合し、次いで成形
し、焼成し、請求項３の発明は研摩用砥粒をポリイミド
樹脂でコーティングし、これを単独で又はポリイミド樹
脂と混合し、次いで成形し、焼成することを特徴とす
る。
明は、ポリイミド樹脂粉末を結合剤として用い、これに
体積で１〜４倍量の研摩用砥粒を混合し、次いで成形
し、焼成し、請求項３の発明は研摩用砥粒をポリイミド
樹脂でコーティングし、これを単独で又はポリイミド樹
脂と混合し、次いで成形し、焼成することを特徴とす
る。
【００１３】
【発明の実施の形態】次に本発明の実施の形態につき説
明する。
明する。
【００１４】本発明に用いる研磨用砥粒としては、３〜
５μｍ以下の粒径を有するガラス研磨用砥粒、例えばダ
イヤモンド、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化ク
ロム、シリカ等の粒子を用いる。本発明の砥石を粗研削
に用いる場合には、５０μｍまでの粒径を有する砥粒を
適宜使用しても良い。
５μｍ以下の粒径を有するガラス研磨用砥粒、例えばダ
イヤモンド、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化ク
ロム、シリカ等の粒子を用いる。本発明の砥石を粗研削
に用いる場合には、５０μｍまでの粒径を有する砥粒を
適宜使用しても良い。
【００１５】かかる研磨用砥粒を結合剤として１０μｍ
以下の粒径を有するポリイミド樹脂粉末と混合するか、
または適当な有機溶剤に溶解したりポリイミド樹脂でコ
ーティングし、しかる後、このコーティングされた砥粒
を混合するかまたは粒径１０μｍ以下のポリイミド樹脂
粉末と共に混合する。いずれにしても、研磨用砥粒をポ
リイミド樹脂に対し体積で１〜４倍量になるように混合
する。
以下の粒径を有するポリイミド樹脂粉末と混合するか、
または適当な有機溶剤に溶解したりポリイミド樹脂でコ
ーティングし、しかる後、このコーティングされた砥粒
を混合するかまたは粒径１０μｍ以下のポリイミド樹脂
粉末と共に混合する。いずれにしても、研磨用砥粒をポ
リイミド樹脂に対し体積で１〜４倍量になるように混合
する。
【００１６】生成した混合物に、充填材としてコロイダ
ルシリカ、テフロン（登録商標）粉末または弗化炭素等
を必要に応じて適宜添加することができる。この混合物
を所望の形状に成形し、焼成することにより研摩用砥石
が得られる。
ルシリカ、テフロン（登録商標）粉末または弗化炭素等
を必要に応じて適宜添加することができる。この混合物
を所望の形状に成形し、焼成することにより研摩用砥石
が得られる。
【００１７】結合剤として用いるポリイミド樹脂は優れ
た耐熱性（熱変形温度：３００℃以上）と機械的強度と
を兼備し、かつ水に対する膨潤特性が良好（伸びが小さ
く、寸法が安定している）で、さらに難燃性、摺動特性
も良好であり、３〜５μｍ以下の微少砥粒を効率よく分
散結合することができるので、得られた砥石はレンズ研
磨工具として極めて良好な工具である。
た耐熱性（熱変形温度：３００℃以上）と機械的強度と
を兼備し、かつ水に対する膨潤特性が良好（伸びが小さ
く、寸法が安定している）で、さらに難燃性、摺動特性
も良好であり、３〜５μｍ以下の微少砥粒を効率よく分
散結合することができるので、得られた砥石はレンズ研
磨工具として極めて良好な工具である。
【００１８】本発明に係る砥石を用いると、曲率半径の
安定したレンズを連続的に加工することが容易であり、
また加工時間を短縮し、レンズ表面品質を向上させ、そ
の上作業環境の浄化等の利点が得られる。従って、本発
明はレンズの自動加工に大きく寄与する。
安定したレンズを連続的に加工することが容易であり、
また加工時間を短縮し、レンズ表面品質を向上させ、そ
の上作業環境の浄化等の利点が得られる。従って、本発
明はレンズの自動加工に大きく寄与する。
【００１９】なお、本発明に係る研摩用砥石は上述した
光学部品用のみに限られることなく、金属その他の材料
の精密研磨に適用することもできる。本発明によれば、
研磨面品質を低下させることなく研磨時間を短縮し且つ
良好な球面精度で安定的に加工できる。
光学部品用のみに限られることなく、金属その他の材料
の精密研磨に適用することもできる。本発明によれば、
研磨面品質を低下させることなく研磨時間を短縮し且つ
良好な球面精度で安定的に加工できる。
【００２０】（実施の形態１）図１に示すフローシート
に従って光学部品研摩用砥石を製造した。まず、研磨用
砥粒を研摩の目的に合わせて必要量秤量した。一方、ポ
リイミド樹脂を必要量秤量し、ボールミル等を用いて微
粉砕し、粒径０．５〜５０μｍ、好ましくは粒径０．５
μｍの粉末にした。次いで、前記研磨用砥粒とポリイミ
ド樹脂粉末とを混合し、成形機によってタブレット品に
圧縮成形した。
に従って光学部品研摩用砥石を製造した。まず、研磨用
砥粒を研摩の目的に合わせて必要量秤量した。一方、ポ
リイミド樹脂を必要量秤量し、ボールミル等を用いて微
粉砕し、粒径０．５〜５０μｍ、好ましくは粒径０．５
μｍの粉末にした。次いで、前記研磨用砥粒とポリイミ
ド樹脂粉末とを混合し、成形機によってタブレット品に
圧縮成形した。
【００２１】このタブレット品を焼成炉によって１８０
℃〜２５０℃、好ましくは２００℃で約３時間焼成して
ペレットを得た。このペレットをペレット貼付皿に接着
し、必要に応じて二次成形（研削、ラッピング等）を行
った後光学部品の研磨に使用した。
℃〜２５０℃、好ましくは２００℃で約３時間焼成して
ペレットを得た。このペレットをペレット貼付皿に接着
し、必要に応じて二次成形（研削、ラッピング等）を行
った後光学部品の研磨に使用した。
【００２２】（実施の形態２）図２に示すフローシート
に従って研摩用砥石を製造した。まず、研磨用砥粒を研
磨の目的に合わせて必要量秤量した。一方、ポリイミド
樹脂を必要量秤量し、有機溶剤に溶解した。生成した溶
液に前記研磨用砥粒を分散し、しかる後乾燥炉中で溶剤
を蒸発除去した。残存する固定物をボールミル等で微粉
砕してポリイミド樹脂で被履された砥粒を得た。これを
成形機でタブレット品に圧縮成形し、次いで焼成炉によ
って１８０℃〜２５０℃、好ましくは２００℃で約３時
間焼成してペレットを得た。このペレットを貼付皿に貼
り、必要に応じて二次成形を行った後光学部品の研摩に
使用した。
に従って研摩用砥石を製造した。まず、研磨用砥粒を研
磨の目的に合わせて必要量秤量した。一方、ポリイミド
樹脂を必要量秤量し、有機溶剤に溶解した。生成した溶
液に前記研磨用砥粒を分散し、しかる後乾燥炉中で溶剤
を蒸発除去した。残存する固定物をボールミル等で微粉
砕してポリイミド樹脂で被履された砥粒を得た。これを
成形機でタブレット品に圧縮成形し、次いで焼成炉によ
って１８０℃〜２５０℃、好ましくは２００℃で約３時
間焼成してペレットを得た。このペレットを貼付皿に貼
り、必要に応じて二次成形を行った後光学部品の研摩に
使用した。
【００２３】（実施の形態３）２７．２ｇのポリイミド
樹脂（ケルイミド６０１，三井石油化学工業株式会社
製）を６０ｃｃのＮ−メチル−２−ピロリドン（以下Ｎ
ＭＰと略す）に溶解した。この際、溶解速度を上げるた
めＮＭＰを６０℃〜８０℃に加熱した。
樹脂（ケルイミド６０１，三井石油化学工業株式会社
製）を６０ｃｃのＮ−メチル−２−ピロリドン（以下Ｎ
ＭＰと略す）に溶解した。この際、溶解速度を上げるた
めＮＭＰを６０℃〜８０℃に加熱した。
【００２４】この溶液に研摩用砥石として１７２．８ｇ
のＲｏｘＭＩ（東北金属株式会社製）を分散させた。こ
の際、分散を良くするために超音波を使用した。２７．
２ｇのケルイミド６０１に対して１７２．８ｇのＲｏｘ
ＭＩというのは、真比重が各６．０６と１．４３である
のでこれを参考にケルイミド６０１とＲｏｘＭＩが体積
で４：６となるよう計算で求めた値である。
のＲｏｘＭＩ（東北金属株式会社製）を分散させた。こ
の際、分散を良くするために超音波を使用した。２７．
２ｇのケルイミド６０１に対して１７２．８ｇのＲｏｘ
ＭＩというのは、真比重が各６．０６と１．４３である
のでこれを参考にケルイミド６０１とＲｏｘＭＩが体積
で４：６となるよう計算で求めた値である。
【００２５】混合分散したドロ状の混合物をシリコーン
ゴム板の上に薄く（好ましくは厚さが１ｍｍ以下）伸ば
し、約１００℃で１時間乾燥固化させた。固化した混合
物をボールミル中で水を１００ｃｃ加えて約２０時間湿
式で微粉砕した後、水分を蒸発させてポリイミド樹脂で
被積された研摩粒子を得た。
ゴム板の上に薄く（好ましくは厚さが１ｍｍ以下）伸ば
し、約１００℃で１時間乾燥固化させた。固化した混合
物をボールミル中で水を１００ｃｃ加えて約２０時間湿
式で微粉砕した後、水分を蒸発させてポリイミド樹脂で
被積された研摩粒子を得た。
【００２６】次いで、この粒子を型に入れて圧縮成形機
で２０φ×１２のタブレットに成形し、乾燥炉中で１８
０℃３時間焼成してペレットを得た。
で２０φ×１２のタブレットに成形し、乾燥炉中で１８
０℃３時間焼成してペレットを得た。
【００２７】比較のため、ポリイミド樹脂の代わりに２
４．５ｇのフェノール樹脂（ＮＬ−１７，日本合成化工
株式会社製）を６０ｃｃのアセトンに溶解して得た溶液
に１７５．５ｇのＲｏｘＭＩを分散させ、この分散混合
物から上述したと同様の方法により２０φ×１２のペレ
ットを得た。
４．５ｇのフェノール樹脂（ＮＬ−１７，日本合成化工
株式会社製）を６０ｃｃのアセトンに溶解して得た溶液
に１７５．５ｇのＲｏｘＭＩを分散させ、この分散混合
物から上述したと同様の方法により２０φ×１２のペレ
ットを得た。
【００２８】これらのペレットを貼付皿に貼りつけて得
た径１７．２φ、曲率半径Ｒ９．２３の凸状の研磨皿を
二次成形した。これらの研磨皿と、従来のポリウレタン
シートの研磨皿とでＬａＳＦＯ１３の光学レンズを同一
条件で加工して次の表１に示す結果を得た。
た径１７．２φ、曲率半径Ｒ９．２３の凸状の研磨皿を
二次成形した。これらの研磨皿と、従来のポリウレタン
シートの研磨皿とでＬａＳＦＯ１３の光学レンズを同一
条件で加工して次の表１に示す結果を得た。
【００２９】
【表１】
【００３０】ポリイミド樹脂とフェノール樹脂とを結合
剤として用いて得た１２φ×５のペレットをそれぞれ水
中に入れて寸法変化を測定して図３に示す結果を得た。
図３からポリイミド樹脂製ペレットがフェノール樹脂製
ペレットより水中での寸法安定性に優れていることが分
かる。
剤として用いて得た１２φ×５のペレットをそれぞれ水
中に入れて寸法変化を測定して図３に示す結果を得た。
図３からポリイミド樹脂製ペレットがフェノール樹脂製
ペレットより水中での寸法安定性に優れていることが分
かる。
【００３１】
【発明の効果】本発明によれば、研摩面品質を低下させ
ることなく研摩時間を短縮し且つ良好な球面精度で安定
的に加工できる光学部品研摩用砥石とその製造方法を提
供することができる。
ることなく研摩時間を短縮し且つ良好な球面精度で安定
的に加工できる光学部品研摩用砥石とその製造方法を提
供することができる。
【図１】本発明の実施の形態１にかかる光学部品研摩用
砥石の製造工程を示すフローシート。
砥石の製造工程を示すフローシート。
【図２】本発明の実施の形態２にかかる光学部品研摩用
砥石の製造工程を示すフローシート。
砥石の製造工程を示すフローシート。
【図３】結合剤としてのポリイミド樹脂とフェノール樹
脂の水中寸法安定性の比較結果を示すグラフである。
脂の水中寸法安定性の比較結果を示すグラフである。
Claims (3)
- 【請求項１】 結合剤としてのポリイミド樹脂に研摩用
砥粒を体積で１〜４倍量分散保持させてなる光学部品研
摩用砥石。 - 【請求項２】 粒径１０μｍ以下のポリイミド樹脂粉末
を結合剤として用い、これに体積で１〜４倍量の研摩用
砥粒を混合し、次いで生成した混合物を成形し、焼成す
ることを特徴とする光学部品研摩用砥石の製造方法。 - 【請求項３】 研摩用砥粒をポリイミド樹脂でコーティ
ングし、これを単独で又は粒径１０μｍ以下のポリイミ
ド樹脂と体積で１〜４倍量になるよう混合し、次いで成
形し、焼成することを特徴とする光学部品研摩用砥石の
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33232799A JP2001150352A (ja) | 1999-11-24 | 1999-11-24 | 光学部品研摩用砥石並びにその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33232799A JP2001150352A (ja) | 1999-11-24 | 1999-11-24 | 光学部品研摩用砥石並びにその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001150352A true JP2001150352A (ja) | 2001-06-05 |
Family
ID=18253731
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33232799A Withdrawn JP2001150352A (ja) | 1999-11-24 | 1999-11-24 | 光学部品研摩用砥石並びにその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001150352A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015208828A (ja) * | 2014-04-30 | 2015-11-24 | 富士製砥株式会社 | 回転砥石の製造法及び該製造法によって製造した回転砥石 |
| WO2021124601A1 (ja) * | 2019-12-17 | 2021-06-24 | オリンパス株式会社 | 光学ガラス用研磨工具、光学ガラス用研磨工具の製造方法及び光学ガラスの研磨方法 |
| CN113334263A (zh) * | 2021-07-27 | 2021-09-03 | 南京三超新材料股份有限公司 | 一种大气孔高气孔率砂轮成型料混制方法 |
-
1999
- 1999-11-24 JP JP33232799A patent/JP2001150352A/ja not_active Withdrawn
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015208828A (ja) * | 2014-04-30 | 2015-11-24 | 富士製砥株式会社 | 回転砥石の製造法及び該製造法によって製造した回転砥石 |
| WO2021124601A1 (ja) * | 2019-12-17 | 2021-06-24 | オリンパス株式会社 | 光学ガラス用研磨工具、光学ガラス用研磨工具の製造方法及び光学ガラスの研磨方法 |
| CN114555293A (zh) * | 2019-12-17 | 2022-05-27 | 奥林巴斯株式会社 | 光学玻璃用研磨工具，光学玻璃用研磨工具的制造方法及光学玻璃的研磨方法 |
| CN113334263A (zh) * | 2021-07-27 | 2021-09-03 | 南京三超新材料股份有限公司 | 一种大气孔高气孔率砂轮成型料混制方法 |
| CN113334263B (zh) * | 2021-07-27 | 2024-02-20 | 江苏三晶半导体材料有限公司 | 一种大气孔高气孔率砂轮成型料混制方法 |
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| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
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