JP2001142057A - 液晶素子 - Google Patents
液晶素子Info
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- JP2001142057A JP2001142057A JP2000304508A JP2000304508A JP2001142057A JP 2001142057 A JP2001142057 A JP 2001142057A JP 2000304508 A JP2000304508 A JP 2000304508A JP 2000304508 A JP2000304508 A JP 2000304508A JP 2001142057 A JP2001142057 A JP 2001142057A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 液晶素子の光学装置としての信頼性の向上を
図る。 【解決手段】 一対の基板２９ａ，２９ｂ間に液晶層２
７を介在して形成される液晶表示素子２０は、一対のプ
ラスチック基板２１ａ，２１ｂの少なくとも一方表面上
にＳｉＯｘから成る無機ガスバリア膜２３ａ，２３ｂが
形成され、無機ガスバリア膜２３ａ，２３ｂに積層して
ハードコート膜２２ａ，２２ｂが形成される。前記プラ
スチック基板２１ａ，２１ｂの無機ガスバリア膜２３
ａ，２３ｂが形成された一方表面上には、ＩＴＯ膜２４
ａ，２４ｂ、配向膜２５ａ，２５ｂが形成され、ＩＴＯ
膜２４ａ，２４ｂが形成された基板２９ａ，２９ｂの表
面が対向するように基板２９ａ，２９ｂが貼り合わさ
れ、液晶層２７がシール材２６によって封入されて形成
される。
図る。 【解決手段】 一対の基板２９ａ，２９ｂ間に液晶層２
７を介在して形成される液晶表示素子２０は、一対のプ
ラスチック基板２１ａ，２１ｂの少なくとも一方表面上
にＳｉＯｘから成る無機ガスバリア膜２３ａ，２３ｂが
形成され、無機ガスバリア膜２３ａ，２３ｂに積層して
ハードコート膜２２ａ，２２ｂが形成される。前記プラ
スチック基板２１ａ，２１ｂの無機ガスバリア膜２３
ａ，２３ｂが形成された一方表面上には、ＩＴＯ膜２４
ａ，２４ｂ、配向膜２５ａ，２５ｂが形成され、ＩＴＯ
膜２４ａ，２４ｂが形成された基板２９ａ，２９ｂの表
面が対向するように基板２９ａ，２９ｂが貼り合わさ
れ、液晶層２７がシール材２６によって封入されて形成
される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶層を介在する
一対のプラスチック基板に少なくとも１層から成る無機
ガスバリア膜を形成した液晶素子に関する。
一対のプラスチック基板に少なくとも１層から成る無機
ガスバリア膜を形成した液晶素子に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示素子の薄型軽量化を図り、基板
の加工性を向上するためにガラスのかわりにプラスチッ
ク素材を用いて液晶表示素子の基板を形成することが試
みられている。しかし、プラスチック基板はガラス基板
に比べてガス透過率が高く、このために外部から透過し
てきたガスが液晶層中で気泡となり、液晶表示素子の表
示不良が生じる。
の加工性を向上するためにガラスのかわりにプラスチッ
ク素材を用いて液晶表示素子の基板を形成することが試
みられている。しかし、プラスチック基板はガラス基板
に比べてガス透過率が高く、このために外部から透過し
てきたガスが液晶層中で気泡となり、液晶表示素子の表
示不良が生じる。
【０００３】このため、特開平３−１３８６１７に開示
されるように、液晶表示素子のプラスチック基板表面に
透光性を有するＳｉ，Ｔｉなどの金属酸化物あるいは金
属窒化物のガスバリア膜をスパッタ法などによって形成
し、プラスチック基板のガス透過性を抑制する構造が提
案されている。
されるように、液晶表示素子のプラスチック基板表面に
透光性を有するＳｉ，Ｔｉなどの金属酸化物あるいは金
属窒化物のガスバリア膜をスパッタ法などによって形成
し、プラスチック基板のガス透過性を抑制する構造が提
案されている。
【０００４】図３は、従来の液晶表示素子１０の構成を
示す断面図である。液晶表示素子１０は、一対の基板１
１ａ，１１ｂ間に液晶層７が封入され、シール材６によ
って封止されて形成される。前記一対の基板１１ａ，１
１ｂは、プラスチック基板１ａ，１ｂの両面にハードコ
ート膜２ａ，２ｂと、これに積層してＳｉ，Ｔｉなどの
アモルファス金属酸化物あるいは金属窒化物から成るガ
スバリア膜３ａ，３ｂが形成され、さらに対向する面上
にＩＴＯ（インジウム錫酸化物）などの透光性を有する
電極４ａ，４ｂおよび配向膜５ａ，５ｂが形成される。
示す断面図である。液晶表示素子１０は、一対の基板１
１ａ，１１ｂ間に液晶層７が封入され、シール材６によ
って封止されて形成される。前記一対の基板１１ａ，１
１ｂは、プラスチック基板１ａ，１ｂの両面にハードコ
ート膜２ａ，２ｂと、これに積層してＳｉ，Ｔｉなどの
アモルファス金属酸化物あるいは金属窒化物から成るガ
スバリア膜３ａ，３ｂが形成され、さらに対向する面上
にＩＴＯ（インジウム錫酸化物）などの透光性を有する
電極４ａ，４ｂおよび配向膜５ａ，５ｂが形成される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】前述のような順序でプ
ラスチック基板１ａ，１ｂに膜処理を行い、ガスバリア
膜３ａ，３ｂとしてたとえばＳｉＯ2を選んだ場合、Ｓ
ｉＯ2膜３ａ，３ｂとそれに積層されるＩＴＯ膜４ａ，
４ｂとは共にスパッタ法によって同一装置内で連続的に
形成することが可能である。したがって、従来製造コス
トを低く抑えるために、図３に示すようなプラスチック
基板１ａ，１ｂへの膜処理が行われている。
ラスチック基板１ａ，１ｂに膜処理を行い、ガスバリア
膜３ａ，３ｂとしてたとえばＳｉＯ2を選んだ場合、Ｓ
ｉＯ2膜３ａ，３ｂとそれに積層されるＩＴＯ膜４ａ，
４ｂとは共にスパッタ法によって同一装置内で連続的に
形成することが可能である。したがって、従来製造コス
トを低く抑えるために、図３に示すようなプラスチック
基板１ａ，１ｂへの膜処理が行われている。
【０００６】しかし、前述のＩＴＯ膜４ａ，４ｂの膜厚
は７００〜２０００Åであり、ＳｉＯ2膜３ａ，３ｂの
膜厚は６００〜１０００Åであって、それぞれ非常に薄
いため微小な異物によって傷を生じることがある。この
ため、微小な異物が液晶表示素子を製造する工程で液晶
層７などの中に混入した場合には、ＩＴＯ膜４ａ，４ｂ
が形成されない部分のガスバリア膜３ａ，３ｂは直接前
記異物と接することになり、これによって貼り合わされ
た基板をプレスするなどの工程でガスバリア膜３ａ，３
ｂにクラックを生じてしまう。その結果、プラスチック
基板１ａ，１ｂを透過したガスがクラックから液晶層７
中に浸入し、液晶表示素子１０の液晶層７に気泡を生
じ、光学装置としての信頼性に劣るという問題がある。
は７００〜２０００Åであり、ＳｉＯ2膜３ａ，３ｂの
膜厚は６００〜１０００Åであって、それぞれ非常に薄
いため微小な異物によって傷を生じることがある。この
ため、微小な異物が液晶表示素子を製造する工程で液晶
層７などの中に混入した場合には、ＩＴＯ膜４ａ，４ｂ
が形成されない部分のガスバリア膜３ａ，３ｂは直接前
記異物と接することになり、これによって貼り合わされ
た基板をプレスするなどの工程でガスバリア膜３ａ，３
ｂにクラックを生じてしまう。その結果、プラスチック
基板１ａ，１ｂを透過したガスがクラックから液晶層７
中に浸入し、液晶表示素子１０の液晶層７に気泡を生
じ、光学装置としての信頼性に劣るという問題がある。
【０００７】本発明の目的は、前記問題点を解消し、光
学装置としての信頼性の高い液晶素子を提供することで
ある。
学装置としての信頼性の高い液晶素子を提供することで
ある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、無機ガスバリ
ア膜が形成された一対のプラスチック基板間に液晶層を
介在して形成される液晶素子において、前記無機ガスバ
リア膜がＳｉＯｘから成り、前記無機ガスバリア膜を保
護するハードコート層が形成されることを特徴とする液
晶素子である。
ア膜が形成された一対のプラスチック基板間に液晶層を
介在して形成される液晶素子において、前記無機ガスバ
リア膜がＳｉＯｘから成り、前記無機ガスバリア膜を保
護するハードコート層が形成されることを特徴とする液
晶素子である。
【０００９】本発明に従えば、液晶素子は、液晶層を介
在して液晶素子を形成する一対のプラスチック基板に当
該プラスチック基板のガス透過を防止するためのＳｉＯ
ｘから成る無機ガスバリア膜が設けられる。さらに、こ
れに積層して無機ガスバリア膜を保護するためのハード
コート層が設けられる。これによって、前記ハードコー
ト層によってその下層に形成された無機ガスバリア膜が
保護され、液晶素子の製造工程で外気中の微細な異物に
よって無機ガスバリア膜に傷が生じることを防止するこ
とができる。
在して液晶素子を形成する一対のプラスチック基板に当
該プラスチック基板のガス透過を防止するためのＳｉＯ
ｘから成る無機ガスバリア膜が設けられる。さらに、こ
れに積層して無機ガスバリア膜を保護するためのハード
コート層が設けられる。これによって、前記ハードコー
ト層によってその下層に形成された無機ガスバリア膜が
保護され、液晶素子の製造工程で外気中の微細な異物に
よって無機ガスバリア膜に傷が生じることを防止するこ
とができる。
【００１０】したがって、無機ガスバリア膜のガス透過
防止の信頼性を向上することができ、液晶素子の光学装
置としての信頼性を向上することができる。
防止の信頼性を向上することができ、液晶素子の光学装
置としての信頼性を向上することができる。
【００１１】
【発明の実施の形態】図１は本発明の一実施例である液
晶表示素子２０の構成を示す断面図であり、図２は図１
に示す基板２９の他の例を示す断面図である。図１に示
すように液晶表示素子２０は、膜処理が施された一対の
プラスチック基板２９ａ，２９ｂ間に液晶層２７が注入
され、シール材２６によって封止されて形成される。前
記基板２９ａは、３００ｍｍ×３２４ｍｍ、厚さ０．４
ｍｍのアクリル系プラスチック基板２１ａの一方表面上
にスパッタ法によってＳｉＯｘ膜から成る無機ガスバリ
ア膜２３ａが膜厚約６００Åに形成される。その後、前
記基板２１ａはディップ法によってシロキサン系をベー
スにＳｉ粒子を混入したハードコート剤を塗布され、焼
結によって膜厚１．５〜２ｎｍのハードコート膜２２ａ
がプラスチック基板２１ａの両面に形成される。前記ハ
ードコート膜２２ａは、下地となる無機ガスバリア膜２
３ａおよびプラスチック基板２１ａを保護し、さらにハ
ードコート膜２２ａ上にスパッタ法によって形成される
ＩＴＯ膜２４ａの密着性を向上する。
晶表示素子２０の構成を示す断面図であり、図２は図１
に示す基板２９の他の例を示す断面図である。図１に示
すように液晶表示素子２０は、膜処理が施された一対の
プラスチック基板２９ａ，２９ｂ間に液晶層２７が注入
され、シール材２６によって封止されて形成される。前
記基板２９ａは、３００ｍｍ×３２４ｍｍ、厚さ０．４
ｍｍのアクリル系プラスチック基板２１ａの一方表面上
にスパッタ法によってＳｉＯｘ膜から成る無機ガスバリ
ア膜２３ａが膜厚約６００Åに形成される。その後、前
記基板２１ａはディップ法によってシロキサン系をベー
スにＳｉ粒子を混入したハードコート剤を塗布され、焼
結によって膜厚１．５〜２ｎｍのハードコート膜２２ａ
がプラスチック基板２１ａの両面に形成される。前記ハ
ードコート膜２２ａは、下地となる無機ガスバリア膜２
３ａおよびプラスチック基板２１ａを保護し、さらにハ
ードコート膜２２ａ上にスパッタ法によって形成される
ＩＴＯ膜２４ａの密着性を向上する。
【００１２】さらに、前記プラスチック基板２１ａの無
機ガスバリア膜２３ａが形成されている側のハードコー
ト膜２２ａに積層してＩＴＯ膜２４ａがスパッタ法によ
って形成される。前記ＩＴＯ膜２４ａは、エッチングな
どの既知の方法を用いて電極パターンが形成される。さ
らに、これに積層して配向膜２５ａが形成された後、前
記配向膜２５ａにはラビングなどの配向処理が施され
る。また、図２に示す液晶表示素子２０ａのように基板
２９ａは、プラスチック基板２１ａの両面にＳｉＯｘか
ら成る無機ガスバリア膜２３ａが形成されてもよい。基
板２９ｂも基板２９ａと同様である。
機ガスバリア膜２３ａが形成されている側のハードコー
ト膜２２ａに積層してＩＴＯ膜２４ａがスパッタ法によ
って形成される。前記ＩＴＯ膜２４ａは、エッチングな
どの既知の方法を用いて電極パターンが形成される。さ
らに、これに積層して配向膜２５ａが形成された後、前
記配向膜２５ａにはラビングなどの配向処理が施され
る。また、図２に示す液晶表示素子２０ａのように基板
２９ａは、プラスチック基板２１ａの両面にＳｉＯｘか
ら成る無機ガスバリア膜２３ａが形成されてもよい。基
板２９ｂも基板２９ａと同様である。
【００１３】前述のようにして形成された液晶表示素子
２０，２０ａは、ＳｉＯｘから成る無機ガスバリア膜２
３ａ，２３ｂがプラスチック基板２１ａ，２１ｂの片面
に形成されたもの、および両面に形成されたものの両方
について加速試験が行われた。前記加速試験において、
前記液晶表示素子２０，２０ａはそれぞれ温度４０℃湿
度９５％、温度６０℃湿度９５％および温度７０℃湿度
９５％の環境下に通電状態および通電しない状態で保存
される。前述のいずれの場合にも、１０００時間まで液
晶表示素子２０，２０ａには液晶層２７内に気泡の発生
が見られなかった。さらに、温度５０℃、気圧５ｋｇｆ
／ｃｍ2空気中で１２時間保存した場合も、液晶層２７
内に気泡の発生が見られなかった。
２０，２０ａは、ＳｉＯｘから成る無機ガスバリア膜２
３ａ，２３ｂがプラスチック基板２１ａ，２１ｂの片面
に形成されたもの、および両面に形成されたものの両方
について加速試験が行われた。前記加速試験において、
前記液晶表示素子２０，２０ａはそれぞれ温度４０℃湿
度９５％、温度６０℃湿度９５％および温度７０℃湿度
９５％の環境下に通電状態および通電しない状態で保存
される。前述のいずれの場合にも、１０００時間まで液
晶表示素子２０，２０ａには液晶層２７内に気泡の発生
が見られなかった。さらに、温度５０℃、気圧５ｋｇｆ
／ｃｍ2空気中で１２時間保存した場合も、液晶層２７
内に気泡の発生が見られなかった。
【００１４】以上のように本実施例によれば、液晶表示
素子２０，２０ａは、一対のプラスチック基板２１ａ，
２１ｂの少なくとも液晶層２７を介在して対向する表面
上にＳｉＯｘから成る無機ガスバリア膜２３ａ，２３ｂ
が形成され、さらに前記無機ガスバリア膜２３ａ，２３
ｂに積層してハードコート膜２２ａ，２２ｂが基板２１
ａ，２１ｂの両面に形成される。これによって、プラス
チック基板２１ａ，２１ｂ上に形成された無機ガスバリ
ア膜２３ａ，２３ｂがハードコート膜２２ａ，２２ｂに
よって被覆されるので、製造工程で外気中の微小な異物
に接することによって無機ガスバリア膜２３ａ，２３ｂ
に傷を生じることを防止することができる。したがっ
て、この結果、無機ガスバリア膜２３ａ，２３ｂのガス
透過防止の信頼性を向上することができ、液晶表示素子
２０，２０ａの表示信頼性を向上することができる。
素子２０，２０ａは、一対のプラスチック基板２１ａ，
２１ｂの少なくとも液晶層２７を介在して対向する表面
上にＳｉＯｘから成る無機ガスバリア膜２３ａ，２３ｂ
が形成され、さらに前記無機ガスバリア膜２３ａ，２３
ｂに積層してハードコート膜２２ａ，２２ｂが基板２１
ａ，２１ｂの両面に形成される。これによって、プラス
チック基板２１ａ，２１ｂ上に形成された無機ガスバリ
ア膜２３ａ，２３ｂがハードコート膜２２ａ，２２ｂに
よって被覆されるので、製造工程で外気中の微小な異物
に接することによって無機ガスバリア膜２３ａ，２３ｂ
に傷を生じることを防止することができる。したがっ
て、この結果、無機ガスバリア膜２３ａ，２３ｂのガス
透過防止の信頼性を向上することができ、液晶表示素子
２０，２０ａの表示信頼性を向上することができる。
【００１５】本実施例では、液晶表示素子を例にとり説
明したけれども、透明電極であるＩＴＯ膜が形成されな
い光学補償板に利用されるような液晶素子に適用するよ
うにしてもよい。
明したけれども、透明電極であるＩＴＯ膜が形成されな
い光学補償板に利用されるような液晶素子に適用するよ
うにしてもよい。
【００１６】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、液晶素子
は、液晶層を介在する一対のプラスチック基板にＳｉＯ
ｘから成る無機ガスバリア膜に積層してハードコート層
が形成されるので、液晶素子の製造工程で無機ガスバリ
ア膜に微小な傷が生じることを防止することができる。
これによって、無機ガスバリア膜のガス透過防止の信頼
性を向上することができ、液晶素子の光学装置としての
信頼性を向上することができる。
は、液晶層を介在する一対のプラスチック基板にＳｉＯ
ｘから成る無機ガスバリア膜に積層してハードコート層
が形成されるので、液晶素子の製造工程で無機ガスバリ
ア膜に微小な傷が生じることを防止することができる。
これによって、無機ガスバリア膜のガス透過防止の信頼
性を向上することができ、液晶素子の光学装置としての
信頼性を向上することができる。
【図１】本発明の一実施例である液晶表示素子２０の構
成を示す断面図である。
成を示す断面図である。
【図２】図１に示す基板２９ａ，２９ｂの他の例を示す
断面図である。
断面図である。
【図３】従来の液晶表示素子１０の構成を示す断面図で
ある。
ある。
２０，２０ａ 液晶表示素子 ２１ａ，２１ｂ プラスチック基板 ２２ａ，２２ｂ ハードコート膜 ２３ａ，２３ｂ 無機ガスバリア膜 ２４ａ，２４ｂ ＩＴＯ膜（透明電極） ２５ａ，２５ｂ 配向膜 ２６ａ，２６ｂ シール材 ２７ａ，２７ｂ 液晶層 ２９ａ，２９ｂ 基板
Claims (1)
- 【請求項１】 無機ガスバリア膜が形成された一対のプ
ラスチック基板間に液晶層を介在して形成される液晶素
子において、 前記無機ガスバリア膜がＳｉＯｘから成り、前記無機ガ
スバリア膜を保護するハードコート層が形成されること
を特徴とする液晶素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000304508A JP2001142057A (ja) | 2000-10-04 | 2000-10-04 | 液晶素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000304508A JP2001142057A (ja) | 2000-10-04 | 2000-10-04 | 液晶素子 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP05162694A Division JP3143268B2 (ja) | 1993-06-30 | 1993-06-30 | 液晶素子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001142057A true JP2001142057A (ja) | 2001-05-25 |
Family
ID=18785544
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000304508A Pending JP2001142057A (ja) | 2000-10-04 | 2000-10-04 | 液晶素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001142057A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003005159A (ja) * | 2001-06-18 | 2003-01-08 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 光学用フィルムシート及びこれを用いた表示装置 |
| US7486373B2 (en) | 2005-09-06 | 2009-02-03 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Substrate for liquid crystal display |
| US7898632B2 (en) | 2005-12-28 | 2011-03-01 | Seiko Epson Corporation | Electro-optical device, manufacturing method thereof, and electronic apparatus |
| CN102455535A (zh) * | 2010-10-18 | 2012-05-16 | 精工爱普生株式会社 | 电光装置以及电子设备 |
-
2000
- 2000-10-04 JP JP2000304508A patent/JP2001142057A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003005159A (ja) * | 2001-06-18 | 2003-01-08 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 光学用フィルムシート及びこれを用いた表示装置 |
| US7486373B2 (en) | 2005-09-06 | 2009-02-03 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Substrate for liquid crystal display |
| US7656497B2 (en) | 2005-09-06 | 2010-02-02 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Substrate for liquid crystal display |
| US7898632B2 (en) | 2005-12-28 | 2011-03-01 | Seiko Epson Corporation | Electro-optical device, manufacturing method thereof, and electronic apparatus |
| CN102455535A (zh) * | 2010-10-18 | 2012-05-16 | 精工爱普生株式会社 | 电光装置以及电子设备 |
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