JP2001139573A - ジベンゾチオフェン類およびそれを用いる光学活性シクロプロパンカルボン酸類の製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 光学活性シクロプロパンカルボン酸誘導体の
製造法を提供すること。 【解決手段】 一般式（２） で示されるオレフィン類と一般式（３） Ｎ₂ＣＨＣＯＯＲ¹⁹ （３） で示されるジアゾ酢酸エステル類とを、ジベンゾチオフ
ェン類の光学活性体および銅塩または遷移金属塩の存在
下に反応させる一般式（４） で示される光学活性シクロプロパンカルボン酸誘導体の
製造法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ジベンゾチオフェ
ン類およびそれを用いる光学活性シクロプロパンカルボ
ン酸誘導体の製造法に関する。

【０００２】

【従来の技術】不斉シクロプロパンカルボン酸類は、医
薬、農薬などの合成中間体として有用でありオレフィン
類とジアゾ酢酸エステル類とを、銅塩と不斉配位子との
存在下に反応させて製造されることが知られている。従
来よりかかる不斉配位子として、光学活性メチレンビス
オキサゾリン類が提案されている（Tetrahedron Letter
s, Vol.32,No.50,p.p.7373−7376,1991)。しかしなが
ら、メチレンビスオキサゾリン類は、不安定で分解しや
すいばかりか、マロノニトリルを原料とする数工程を経
て製造されるが低収率であるため(Helvetica Chimica A
cta, Vol.74,p.2,1991)、不斉配位子としてかかるメチ
レンビスオキサゾリン類を用いる不斉シクロプロパンカ
ルボン酸類の製造法は、必ずしも工業的に有利であると
は言い難いものであった。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】そこで本発明者らは、
安価な原料から比較的短い工程で収率よく製造でき、安
定な化合物である下記一般式（１）で示されるジベンゾ
チオフェン類の光学活性体を用いることにより、オレフ
ィン類とジアゾ酢酸エステル類とを銅塩または遷移金属
塩の存在下に反応させて不斉シクロプロパンカルボン酸
類を有利に製造できることを見出し、本発明に至った。

【０００４】

【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、一
般式（１） （式中、Ｒ¹〜Ｒ¹⁴は、同一または相異なり、水素原
子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルキル
基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を
有していてもよいアラルキル基、置換基を有していても
よいアリールチオ基、置換基を有していてもよいアリー
ルアルケニル基、置換基を有していてもよい環状アルケ
ニル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換
基を有していてもよいアリールオキシ基、置換基を有し
ていてもよいアルキルオキシカルボニル基、置換基を有
していてもよいアラルキルオキシカルボニル基、置換基
を有していてもよいアリールオキシカルボニル基、また
は置換基を有していてもよいアリール基を示す。）で示
されるジベンゾチオフェン類並びに、一般式（２） （式中、R¹⁵、R¹⁶、R¹⁷およびR¹⁸は、同一または相異な
り、水素原子、置換基を有していてもよいアルケニル
基、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有
していてもよいアラルキル基または置換基を有していて
もよいアリール基を示す。また、R¹⁵とR¹⁷またはR¹⁵とR
¹⁶とが結合して環を形成していてもよい。ただし、
R¹⁵、R¹⁶、R¹⁷およびR¹⁸が同時に同一であることはな
い。）で示されるオレフィン類と一般式（３） Ｎ₂ＣＨＣＯＯＲ¹⁹ （３） （式中、Ｒ¹⁹は、置換基を有していてもよいアルキル
基、置換基を有していてもよいアラルキル基または置換
基を有していてもよいアリール基を示す。）で示される
ジアゾ酢酸エステル類とを、一般式（１）で示されるジ
ベンゾチオフェン類の光学活性体および銅塩または遷移
金属塩の存在下に反応させることを特徴とする一般式
（４） （式中、Ｒ¹⁵〜Ｒ¹⁹は前記と同じ意味を表わす。）で示
される光学活性シクロプロパンカルボン酸誘導体の製造
法を提供するものである。

【０００５】

【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。本発明の一般式（１）で示されるジベンゾチオフ
ェン類は、ラセミ体および光学活性体のいずれをも含む
ものである。ジベンゾチオフェン類（１）の置換基Ｒ¹
〜Ｒ¹⁴のハロゲン原子としてはフッ素原子、塩素原子、
臭素原子、沃素原子などが、アルキル基としてはメチル
基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブ
チル基、イソブチル基、t−ブチル基、n−アミル基、ネ
オペンチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、n−
オクチル基、n−ノニル基、2,3,4−トリメチル−3−ペ
ンチル基、2,4−ジメチル−3−ペンチル基などが、アラ
ルキル基としてはベンジル基、2−フェニルエチル基、2
−ナフチルエチル基、ジフェニルメチル基などが、アリ
ール基としてはフェニル基、ナフチル基、ビフェニル
基、複素環基としてはフリル基などが、アリールチオ基
としてはチオフェニル基などが、アルケニル基としては
2−メチル−1−プロペニル基、2−ブテニル基などが、
アリールアルケニル基としてはトランスβスチリル基、
3−フェニル−1−プロペニル基などが、環状アルケニル
基としては1−シクロヘキセニル基などが、アルコキシ
基としてはメトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ
基、t−ブトキシ基などが、アリールオキシ基としては
フェノキシ基、ナフチルオキシ基、ジフェニルオキシ基
などが、アルキルオキシカルボニル基としてはメトキシ
カルボニル基、エトキシカルボニル基、t−ブチルオキ
シカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基として
はベンジルオキシカルボニル基などが、アリールオキシ
カルボニル基としては、フェニルオキシカルボニル基な
どがそれぞれ例示される。また、上記の置換基は、たと
えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子など
のハロゲン原子、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポ
キシ基、t−ブトキシ基などのアルコキシ基、フェノキ
シ基などのアリールオキシ基、メチル基、エチル基、n
−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブ
チル基、t−ブチル基、n−アミル基、ネオペンチル基、
n−ヘキシル基などの低級アルキル基、n−プロピルチオ
基、t−ブチルチオ基などの低級アルキルチオ基、フェ
ニルチオ基などのアリールチオ基、ニトロ基、水酸基な
どで置換されていてもよい。

【０００６】かかるジベンゾチオフェン類（１）の具体
例としては、例えば、4,6-ジベンゾチオフェンジイル-
2,2'-ビス(4-フェニルオキサゾリン)、4,6-ジベンゾチ
オフェンジイル-2,2'-ビス(4-エチルオキサゾリン)、4,
6-ジベンゾチオフェンジイル-2,2'-ビス(4-イソプロピ
ルオキサゾリン)、4,6-ジベンゾチオフェンジイル-2,2'
-ビス(4-ベンジルオキサゾリン)、4,6-ジベンゾチオフ
ェンジイル-2,2'-ビス(4-ターシャリーブチルオキサゾ
リン)、4,6-ジベンゾチオフェンジイル-2,2'-ビス(4-イ
ソブチルオキサゾリン)、4,6-ジベンゾチオフェンジイ
ル-2,2'-ビス(4-ネオペンチルオキサゾリン)などが挙げ
られる。

【０００７】かかるジベンゾチオフェン類（１）の製造
法は特に限定されないが、例えば、下記の方法により製
造することができる。

【０００８】まずジベンゾチオフェン類を出発原料とし
て、ジベンゾチオフェン-4,6-ジカルボン酸類を調製す
る工程について記載する。この反応は通常溶媒中で行わ
れる。例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ターシャリーブチルメチルエーテル、ジオキサン、
などのエーテル系溶媒、ヘキサン、シクロヘキサン、ト
ルエン、キシレンなどの炭化水素系溶媒、などの強塩基
条件下で安定な溶媒を用いることができる。これら溶媒
の使用量は、特に制限されないが、通常、ジベンゾチオ
フェン類に対して重量比で10〜500倍程度である。

【０００９】この反応に用いられる強塩基としては、ノ
ルマルブチルリチウム、メチルリチウム、フェニルリチ
ウム、ターシャリーブチルリチウム、セカンダリーブチ
ルリチウム、などのアルキル金属、リチウムジイソプロ
ピルアミド、リチウムアミド、ナトリウムアミドなどの
金属アミド、ナトリウムメチラート、カリウムt−ブト
キシドなどの金属アルコラートが例示される。これら強
塩基類の使用量はジベンゾチオフェン１モルに対して、
通常0.5〜10モル、好ましくは2.0〜4.0モルの範囲であ
る。

【００１０】また、これら塩基の金属イオンに配位して
塩基性を活性化するために、アミン類を添加あるいは、
補溶媒として使用することができる。このアミン類とし
ては、テトラメチルエチレンジアミン、トリエチルアミ
ン、Ｎ−メチルイミダゾール、1,8-ジアザビシクロ(5.
4.0)ウンデセン-7、1,5-ジアザビシクロ(4.3.0)ノネン-
5、4-ジメチルアミノピリジンなどが例示される。これ
らアミン類の使用量はジベンゾチオフェン類１モルに対
して、通常0.5〜10モル、好ましくは2〜4モル程度の範
囲である。

【００１１】この反応の温度は、強塩基を投入しアニオ
ンを生成させるとき、および、二酸化炭素ガスにより捕
捉するときには、-100〜 -50℃付近で反応させる。反応
を熟成させるには、-25〜 25℃付近で行われる。反応時
間は、特に限定されないが、通常30分間から30時間程度
で終了する。反応終了後、pH 3まで、2規定塩酸水溶液
などで酸性にし、析出した固体をろ過し得られた反応混
合物から、ジベンゾチオフェン-4,6-ジカルボン酸類を
得る。

【００１２】次に、ジカルボン酸クロライド類を合成し
アミノアルコールと反応させジアミド類を経由しジベン
ゾチオフェンビスオキサゾリン化合物を得る合成方法に
ついて説明する。上記のようにして得られるジベンゾチ
オフェン-4,6-ジカルボン酸類を対応するジカルボン酸
クロライド類にするためには、クロル化剤として、たと
えば、チオニルクロライド、シュウ酸ジクロライド、ホ
スゲン、オキシ塩化リン、３塩化りんなどの通常のクロ
ル化剤が用いられる。これらクロル化剤の使用量はジベ
ンゾチオフェン-4,6-ジカルボン酸類１モルに対して、
通常1.5〜100モル、好ましくは2〜40モル程度の範囲で
ある。

【００１３】クロル化反応の活性化剤として、トリフル
オロ酢酸、トリクロロ酢酸、などの有機酸を添加するこ
ともある。あるいは、N,N-ジメチルホルムアミド、N-メ
チルピロリドンなどのアミド溶媒を添加する場合もあ
る。さらに、ピリジン、ルチジン、コリジンなどのピリ
ジン溶媒を添加する場合もある。その使用量は、特に制
限されないが、触媒量の場合は0.1mol%〜5mol%、溶媒量
用いる場合には、ジベンゾチオフェン-4,6-ジカルボン
酸類に対して重量比で1〜500倍程度である。また、溶媒
を用いる場合には、クロロホルム、ジクロルメタン、1,
2-ジクロルエタンなどのハロゲン溶媒、エチルエーテ
ル、ジエトキシメタン、テトラヒドロフラン、ジメトキ
シエタン、ジオキサンなどのエーテル系溶媒やヘキサン
等の飽和脂肪族炭化水素系溶媒などの反応に不活性な溶
媒が使用され、その使用量は、特に制限されないが、通
常、ジベンゾチオフェン-4,6-ジカルボン酸類に対して
重量比で0.1〜500倍程度である。

【００１４】このクロル化の反応温度は、特に限定され
ないが、およそ0〜100℃程度で行われる。反応時間は30
分間から6時間ぐらいであるが、原料のジカルボン酸類
の消失を終点とすることができる。反応終了後、析出物
があればグラスフィルターでろ過し、ろ液を濃縮し目的
のジカルボン酸クロライド類を得る。

【００１５】次に、上記のようにして得られたジカルボ
ン酸クロライド類とアミノアルコールを反応させジアミ
ド化合物を得る工程について説明する。この反応に使用
される2-アミノアルコールとしては、例えば、2−アミ
ノ−1−ブタンアルコール、2−アミノ−3,3−ジメチル
−1−ブタンアルコール、2−アミノ−2−フェニルエタ
ンアルコール、2−アミノ−3−フェニル−1−プロパン
アルコール、エリスロ−α−(1−アミノエチル)ベンジ
ルアルコールなどが挙げられる。これらの2−アミノア
ルコール類は光学活性体であってもよいし、ラセミ体で
あってもよく、用いた2−アミノアルコール類の立体配
置に対応する立体配置のジアミド類を得ることができ
る。その使用量は、特に制限されないが、通常、ジベン
ゾチオフェン-4,6-ジカルボン酸クロライド類に対して
モル比で2.0〜500倍、好ましくは2〜4倍量程度使用され
る。この反応は、通常、溶媒を用いて行われる。例え
ば、クロロホルム、ジクロルメタン、1,2-ジクロルエタ
ンなどのハロゲン溶媒、エチルエーテル、ジエトキシメ
タン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、ジオキ
サンなどのエーテル系溶媒、N,N-ジメチルホルムアミ
ド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドンの
ようなアミド溶媒やヘキサン、トルエン、ベンゼン等の
飽和脂肪族炭化水素系溶媒などの反応に不活性な溶媒が
使用される。その使用量は、特に制限されないが、通
常、ジベンゾチオフェン-4,6-ジカルボン酸クロライド
類に対して重量比で0.1〜500倍である。この反応におい
ては、系内に生成する塩化水素を捕捉するため塩基が用
いられる。例えば、トリエチルアミン、トリブチルアミ
ン、ピリジン、4-ジメチルアミノピリジンなどの有機塩
基が使われる。

【００１６】その使用量は、原料であるジベンゾチオフ
ェン-4,6-ジカルボン酸クロライド類１モルに対して１
〜２０モル倍量、好ましくは、２〜５モル倍量用いられ
る。反応温度は、特に限定されないが、通常０〜３０℃
付近で行われる。反応時間は、３０分間〜２４時間程度
で終了し、原料のジカルボン酸クロライド類の消失をも
って終了とすることができる。得られた反応混合物から
一般的な方法、例えば、塩化アンモニウム水と混合後、
トルエン、酢酸エチル、ジエチルエーテル、ジクロルメ
タンなどの有機溶媒によって抽出処理し、得られた有機
層を濃縮などにより、目的とするジアミド中間体を得る
ことができる。また、必要によりカラムクロマトグラフ
ィーや蒸留により精製してもよい。

【００１７】次に、このアミドアルコールのヒドロキシ
基をクロライドに変換する工程について説明する。この
反応におけるクロル化剤としては、たとえば、チオニル
クロライド、シュウ酸ジクロライド、ホスゲン、オキシ
塩化リン、３塩化りんなどの通常のクロル化剤が用いら
れる。これらクロル化剤の使用量はジベンゾチオフェン
-4,6-アミドアルコール類１モルに対して、通常1.5〜10
0モル、好ましくは2〜40モル程度の範囲である。また、
溶媒を用いる場合には、クロロホルム、ジクロルメタ
ン、1,2-ジクロルエタンなどのハロゲン溶媒、エチルエ
ーテル、ジエトキシメタン、テトラヒドロフラン、ジメ
トキシエタン、ジオキサンなどのエーテル系溶媒やヘキ
サン等の飽和脂肪族炭化水素系溶媒などの反応に不活性
な溶媒が使用され、その使用量は、特に制限されない
が、通常、ジベンゾチオフェン-4,6-アミドアルコール
類に対して重量比で0.1〜500倍程度である。このクロル
化の反応温度は、特に限定されないが、およそ0〜100℃
程度で行われる。反応時間は30分間から6時間ぐらいで
あるが、原料のジアルコールの消失を終点とすることが
できる。反応終了後、析出物があればグラスフィルター
でろ過し、ろ液を濃縮し目的のジクロライドを得る。得
られた反応混合物から一般的な方法、例えば、炭酸ナト
リウム水溶液と混合後、トルエン、酢酸エチル、ジエチ
ルエーテル、ジクロルメタンなどの有機溶媒によって抽
出処理し、得られた有機層を濃縮などにより、目的とす
るジクロライド中間体を得ることができる。また、必要
によりカラムクロマトグラフィーや蒸留により精製して
もよい。

【００１８】最後に、かかる方法により得られた、ジベ
ンゾチオフェン-4,6-ジアミドクロライド類を塩基処理
して目的のジベンゾチオフェン-4,6-ビスオキサゾリン
化合物を得る工程について説明する。この反応において
使用される塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、ナトリウムメチラート、カリウムメチラート、
リチウムメチラート、ナトリウムエチラート、カリウム
エチラート、リチウムエチラート、ナトリウムターシャ
リーブチラート、カリウムターシャリーブチラート、リ
チウムターシャリーブチラート、リチウムアミド、ナト
リウムアミド、カリウムアミド、などが例示される。こ
れら塩基の使用量は、特に限定されないが、原料のジベ
ンゾチオフェン-4,6-ジアミドクロライド１モル量に対
して、1.5〜50モル量、好ましくは、2〜10モル量用いら
れる。また、通常この反応は溶媒中で行われ、例えば、
メタノール、エタノール、イソプロパノール、ターシャ
リーブタノールなどのアルコール系溶媒、クロロホル
ム、ジクロルメタン、1,2-ジクロルエタンなどのハロゲ
ン溶媒、エチルエーテル、ジエトキシメタン、テトラヒ
ドロフラン、ジメトキシエタン、ジオキサンなどのエー
テル系溶媒やヘキサン等の飽和脂肪族炭化水素系溶媒な
どの反応に不活性な溶媒が使用され、好ましくは、アル
コール系溶媒と他の非極性溶媒の混合溶媒が用いられ
る。その使用量は、特に制限されないが、通常、ジベン
ゾチオフェン-4,6-ジアミドクロライド類に対して重量
比で0.1〜500倍程度である。このクロル化の反応温度
は、特に限定されないが、およそ0〜100℃程度で行われ
る。反応時間は30分間から24時間ぐらいであるが、原料
のジクロライドの消失を終点とすることができる。得ら
れた反応混合物から一般的な方法、例えば、塩化アンモ
ニウム水溶液と混合後、トルエン、酢酸エチル、ジエチ
ルエーテル、ジクロルメタンなどの有機溶媒によって抽
出処理し、得られた有機層を濃縮などにより、目的とす
るジクロライド中間体を得ることができる。また、必要
によりカラムクロマトグラフィーや蒸留により精製して
もよい。以上のような一連の合成操作により目的のジベ
ンゾチオフェンビスオキサゾリン化合物を得ることがで
きる。

【００１９】次に、光学活性シクロプロパンカルボン酸
類（４）の製造法について説明する。一般式（２）で示
されるオレフィン類におけるＲ¹⁵、Ｒ¹⁶、Ｒ¹⁷、および
Ｒ¹⁸において、置換基を有していてもよいアルケニル
基、アルキル基、アラルキル基、アリール基としてはＲ
¹〜Ｒ¹⁴で例示したものと同様なものが例示できる。
さらにＲ¹〜Ｒ¹⁴は置換基としてクロル、ブロムなどの
ハロゲン原子、またはメトキシ基、エトキシ基、n−プ
ロポキシ基、t−ブトキシ基、などの低級アルコキシ基
やフェノキシ基などのアリールオキシ基、またはn−プ
ロピルチオ基、t−ブチルチオ基などの低級アルキルチ
オ基、またはフェニルチオ基などのアリールチオ基、ま
たはニトロ基、ヒドロキシル基などを有していてもよ
い。さらに、 Ｒ¹〜Ｒ¹⁴にアリール基が存在する場合に
は、該アリール基が、メチル基、エチル基、イソプロピ
ル基、n−ブチル基、t−ブチル基、n−アミル基、n−ヘ
キシル基などの低級アルキル基で置換されていてもよ
い。

【００２０】オレフィン類（２）の具体例としては、2,
5−ジメチル−2,4−ヘキサジエン、イソブチレン、2−
メチル−2−ブテン、3−メチル−1−ブテン、3,3−ジメ
チル−1−ブテン、2−ペンテン、4−メチル−1−ペンテ
ン、2−メチル−2ペンテン、1−ヘキセン、2−ヘプテ
ン、イソブテン、2,5−ジメチル−2,4−ヘキサジエン、
1−メチル−1−シクロヘキセン、ビニルシクロペンタ
ン、スチレン、4−フェニル−1−ブテンなどが挙げられ
る。

【００２１】一般式（３）で示されるジアゾ酢酸エステ
ル類におけるＲ¹⁹の具体例としては、置換基Ｒ¹〜Ｒ¹⁴
において例示したものと同様なアルキル基、アラルキル
基、アリール基が例示できる。

【００２２】かかるジアゾ酢酸エステル類（３）として
は、例えば、ジアゾ酢酸エチルエステル、ジアゾ酢酸t
−ブチルエステル、ジアゾ酢酸シクロヘキシルエステ
ル、ジアゾ酢酸1−メンチルエステルなどが挙げられ
る。

【００２３】銅塩としては、トリフルオロメタンスルホ
ン酸銅、酢酸銅、臭化銅、塩化銅、三フッ化銅、テトラ
キスアセトニトリルヘキサフルオロフォスフェイト銅な
どの１価もしくは２価の銅塩が例示され、その使用量は
光学活性ジベンゾチオフェン類１モルに対して、通常、
0.01〜2モル程度、好ましくは0.1〜1モル程度である。

【００２４】遷移金属塩としては、クロロトリス（トリ
フェニルホスフィン）ロジウム（Ｉ）、シクロペンタジ
エニルビス（トリフェニルホスフィン）ロジウム
（Ｉ）、ビス（シクロオクタジエン）ジヨード二ロジウ
ム（Ｉ）、クロロ（シクロペンタジエニル）ビス（トリ
フェニルホスフィン）ルテニウム（ＩＩ）、クロロ（ペ
ンタメチルシクロペンタジエニル）（１，３−ビス（ジ
フェニルホスフィノ）プロパン）ルテニウム（ＩＩ）、
クロロ（ペンタメチルシクロペンタジエニル）（１，５
−シクロオクタジエン）ルテニウム（ＩＩ）、ジクロロ
トリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム（Ｉ
Ｉ）、クロロトリス（トリフェニルホスフィン）イリジ
ウム（Ｉ）、ペンタメチルシクロペンタジエニルビス
（エチレン）イリジウム（Ｉ）、（エチレン）ビス（ト
リフェニルホスフィン）白金（０）、トランス−［クロ
ロ（エチル）ビス（トリエチルホスフィン）白金（Ｉ
Ｉ）］、シス−［ジエチルビス（トリエチルホスフィ
ン）白金（ＩＩ）］、ジクロロ（ノルボルナジエン）白
金（ＩＩ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）白
金（０）などが例示される。その使用量は光学活性ジベ
ンゾチオフェン類１モルに対して、通常、0.01〜2モル
程度、好ましくは0.1〜1モル程度である。

【００２５】本発明においては、光学活性ジベンゾチオ
フェン類と銅塩または遷移金属塩およびオレフィン類
（２）との仕込み順序は、特には限定されないが、光学
活性ジベンゾチオフェン類と銅塩または遷移金属塩とで
予め錯体を調製し、これにオレフィン類（１）を添加す
る方法が好ましい。

【００２６】この反応における光学活性ジベンゾチオフ
ェン類の使用量はジアゾ酢酸エステル類（３）１モルに
対して通常、0.001〜0.5モル程度である。

【００２７】本発明においては、通常、溶媒が用いら
れ、かかる溶媒としては、例えば、エチルエーテル、ジ
エトキシメタン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタ
ン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、または、ヘキサン
等の飽和脂肪族炭化水素系溶媒、または、クロロホル
ム、ジクロロメタン等の含ハロゲン化合物系溶媒、また
は、酢酸エステル等のエステル系溶媒等の、反応に不活
性な溶媒が使用され、その使用量は特に制限はないが、
ジアゾ酢酸エステル類（３）１モルに対して、通常、5
〜500モル程度、好ましくは10〜300モル程度である。ま
た、場合によっては原料であるオレフィン類（２）を溶
媒として使用してもよい。

【００２８】オレフィン類（２）の使用量は、ジアゾ酢
酸エステル類（３）１モルに対して通常、0.5モル程度
以上であればよく、好ましくは0.5〜200モル程度、さら
に好ましくは5〜20モル程度の範囲である。

【００２９】反応方法しては、例えば、溶媒中でオレフ
ィン類（２）、光学活性ジベンゾチオフェン類と銅塩ま
たは、光学活性ジベンゾチオフェン類と遷移金属塩をあ
らかじめ混合し、該混合物中にジアゾ酢酸エステル類
（３）を添加する方法が挙げられる。

【００３０】なお、２価の銅塩を使用する場合には、ジ
アゾ酢酸エステル類（３）を添加するまえに、フェニル
ヒドラジンなどのヒドラジン化合物を添加しておくこと
が反応が速くなり好ましい。この場合、ヒドラジン化合
物の使用量は、通常、銅塩に対して0.8〜1モル倍程度で
ある。

【００３１】反応温度は、通常、−50℃〜200℃程度、
好ましくは0℃〜50℃程度の範囲である。反応終了後
は、例えば、得られた反応混合物をそのまま濃縮する
か、該反応混合物を塩化アンモニウム水中にあけ、トル
エン、酢酸エチル、ジエチルエーテル、ジクロルメタン
などの有機溶媒を用いて抽出処理し、得られた有機層を
濃縮することにより、目的とする光学活性シクロプロパ
ンカルボン酸類（４）を得ることができ、必要によりカ
ラムクロマトグラフィー、抽出、再結晶および蒸留など
により精製することができる。

【００３２】かくして、得られる不斉シクロプロパンカ
ルボン酸類（４）としては、例えば、1−S−エトキシカ
ルボニル−2−S−フェニルシクロプロパン、1−R−エト
キシカルボニル−2,2−ジメチルシクロプロパン、1−R
−エトキシカルボニル−2−Ｒ−(2−メチル−1−プロペ
ニル)シクロプロパン、1−S−エトキシカルボニル−2−
Ｓ−t−ブチルシクロプロパンなどが挙げられる。

【００３３】

【発明の効果】本発明で用いるジベンゾチオフェン類
（１）は、安価な原料から比較的短い工程で収率よく製
造でき、得られた化合物は安定であり、例えばオレフィ
ン類とジアゾ酢酸エステル類とを、銅塩の存在下に反応
させる不斉シクロプロパンカルボン酸類の製造におい
て、不斉配位子として使用できる。

【００３４】

【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳細に説
明するが、本発明がこれによって限定されるものではな
い。 （実施例１）4,6-ジベンゾチオフェンジカルボン酸の製
造 ジベンゾチオフェン2.48g(13.5mmol)とテトラメチルエ
チレンジアミン6.3g(54mmol)を50mlのジエチルエーテル
に溶かし溶液にする。０℃に冷却し攪拌しながらノルマ
ルブチルリチウムのヘキサン溶液(1.52M)35.5mlを滴下
する。25℃まで昇温し18時間攪拌する。再び０℃に冷却
し攪拌しながら、二酸化炭素ガスをバブリングする。1
時間後、25℃に昇温しバブリングしながら3時間攪拌す
る。この反応混合液を、飽和炭酸ナトリウム水溶液とト
ルエンで抽出する。目的物であるジカルボン酸が含まれ
ている水層を合わせ、濃塩酸水でpH1.15に調整する。こ
の時析出する白色固体をグラスフィルターでろ過し、80
℃で減圧乾燥する。4,6-ジベンゾチオフェンジカルボン
酸；3.53g(12.96mmol)収率96.0％。 1H-NMR(DMSO)δ(ppm)：7.69(2H,t),8.22(2H,m),8.69(2
H,m).

【００３５】（実施例２） (R,R)-4,6-ジベンゾチオフ
ェンジイル-2,2'-ビス(4-フェニルオキサゾリン)の製造 4,6-ジベンゾチオフェンジカルボン酸 0.50g(1.84mmol)
とチオニルクロライド24.5g(205.6mmol)およびトリフル
オロ酢酸 5.92g(51.9mmol)を100mlのナスフラスコに投
入し18時間還流する。この反応液を濃縮しクロロホルム
5mlを加え溶液にする。攪拌しながら(R)-2-フェニルグ
リシノール0.554g(4.04mmol)とトリエチルアミン1.023g
(10.11mmol)を投入し室温で24時間攪拌する。再び反応
液を濃縮しジアミド中間体を得る。さらに、クロロホル
ム 5mlを加え溶液にし、チオニルクロライド11.42g(95.
97mmol)を加え室温で24時間攪拌する。その後、濃縮
し、水酸化ナトリウム2.8g(70mmol)の15ml水溶液とクロ
ロホルム12ml、メタノール25mlを加え室温で24時間攪拌
する。反応液を濃縮しクロロホルム/水（50ml/50ml×３
回）有機層を集め硫酸ナトリウムで乾燥し濃縮後、カラ
ムクロマトグラフィ−（シリカゲル、ヘキサン/酢酸エ
チル＝１０：１）目的物である(R,R)-4,6-ジベンゾチオ
フェンジイル-2,2'-ビス(4-フェニルオキサゾリン)；0.
654g(1.38mmol)収率75.0％。を単離した。 1H-NMR(CDCl₃)δ(ppm)：4.35(2H,t),4.90(2H,t),5.61(2
H,t),7.26-7.43(10H,m),7.60(2H,t),8.16(2H,d),8.35(2
H,d).

【００３６】（実施例３） (R,R)-4,6-ジベンゾチオフ
ェンジイル-2,2'-ビス(4-エチルオキサゾリン)の製造 4,6-ジベンゾチオフェンジカルボン酸 0.50g(1.84mmol)
とチオニルクロライド24.5g(205.6mmol)およびトリフル
オロ酢酸 5.92g(51.9mmol)を100mlのナスフラスコに投
入し18時間還流する。この反応液を濃縮しクロロホルム
5mlを加え溶液にする。攪拌しながら(R)-2-アミノ−1−
ブタノール0.36g(4.04mmol)とトリエチルアミン1.023g
(10.11mmol)を投入し室温で24時間攪拌する。再び反応
液を濃縮しジアミド中間体を得る。さらに、クロロホル
ム 5mlを加え溶液にし、チオニルクロライド11.42g(95.
97mmol)を加え室温で24時間攪拌する。その後、濃縮
し、水酸化ナトリウム2.8g(70mmol)の15ml水溶液とクロ
ロホルム12ml、メタノール25mlを加え室温で24時間攪拌
する。反応液を濃縮しクロロホルム/水（50ml/50ml×３
回）有機層を集め硫酸ナトリウムで乾燥し濃縮後、カラ
ムクロマトグラフィ−（シリカゲル、ヘキサン/酢酸エ
チル＝１０：１）目的物である(R,R)-4,6-ジベンゾチオ
フェンジイル-2,2'-ビス(4-エチルオキサゾリン)；0.50
3g(1.33mmol)収率72.5％。を単離した。 1H-NMR(CDCl₃)δ(ppm)：1.14(6H,t),1.65-1.91(4H,m),
4.07-4.18(2H,m),4.37-4.48(2H,m),4.51-4.61(2H,t),7.
54(2H,t),8.06(2H,d),8.30(2H,d).

【００３７】（実施例４）光学活性2-(2-メチル-2-プロ
ペニル)-シクロプロパンカルボン酸エチルエステルの製
造 Cu(MeCN)₄PF₆8.57mg(0.023mmol)と(R,R)-4,6-ジベンゾ
チオフェンジイル-2,2'-ビス(4-フェニルオキサゾリン)
12.5g(0.0264mmol)を乾燥した酢酸エチル5mlに溶かしア
ルゴン気流下で30分間攪拌した。さらに、2,5-ジメチル
-2,4-ヘキサジエン4.72g(42.9mmol)を仕込んだ。この酢
酸エチル溶液を攪拌しながら室温で、ジアゾ酢酸エチル
エステル599mg(5.25mmol)の1ml酢酸エチル溶液を5時間
かけて滴下した。滴下終了後、2時間室温で攪拌した。
反応終了後室温まで冷却したのち、抽出（トルエン/
水）し有機層を乾燥し濃縮後、カラムクロマトグラフィ
−（シリカゲル、ヘキサン/酢酸エチル＝３０：１）に
付し、目的物である光学活性2-(2-メチル-2-プロペニ
ル)-シクロプロパンカルボン酸エチルエステルを単離し
た。収率５５％、トランス：シス＝６７：３３、トラン
ス；１７％ee、シス；１３％ee。

【００３８】（実施例５）光学活性2-(2-メチル-2-プロ
ペニル)-シクロプロパンカルボン酸エチルエステルの製
造 Cu(MeCN)₄PF₆8.57mg(0.023mmol)と(R,R)-4,6-ジベンゾ
チオフェンジイル-2,2'-ビス(4-エチルオキサゾリン)1
0.0g(0.0264mmol)を乾燥した酢酸エチル5mlに溶かしア
ルゴン気流下で30分間攪拌した。さらに、2,5-ジメチル
-2,4-ヘキサジエン4.72g(42.9mmol)を仕込んだ。この酢
酸エチル溶液を攪拌しながら室温で、ジアゾ酢酸エチル
エステル599mg(5.25mmol)の1ml酢酸エチル溶液を5時間
かけて滴下した。滴下終了後、2時間室温で攪拌した。
反応終了後室温まで冷却したのち、抽出（トルエン/
水）し有機層を乾燥し濃縮後、カラムクロマトグラフィ
−（シリカゲル、ヘキサン/酢酸エチル＝３０：１）に
付し、目的物である光学活性2-(2-メチル-2-プロペニ
ル)-シクロプロパンカルボン酸エチルエステルを単離し
た。収率５２％、トランス：シス＝６６：３４、トラン
ス；２１％ee、シス；１８％ee。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） // Ｃ０７Ｍ 7:00 Ｃ０７Ｍ 7:00

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】一般式（１） （式中、Ｒ¹〜Ｒ¹⁴は、同一または相異なり、水素原
   子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルキル
   基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を
   有していてもよいアラルキル基、置換基を有していても
   よいアリールチオ基、置換基を有していてもよいアリー
   ルアルケニル基、置換基を有していてもよい環状アルケ
   ニル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換
   基を有していてもよいアリールオキシ基、置換基を有し
   ていてもよいアルキルオキシカルボニル基、置換基を有
   していてもよいアラルキルオキシカルボニル基、置換基
   を有していてもよいアリールオキシカルボニル基、また
   は置換基を有していてもよいアリール基を示す。）で示
   されるジベンゾチオフェン類。
2. 【請求項２】一般式（２） （式中、R¹⁵、R¹⁶、R¹⁷およびR¹⁸は、同一または相異な
   り、水素原子、置換基を有していてもよいアルケニル
   基、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有
   していてもよいアラルキル基または置換基を有していて
   もよいアリール基を示す。また、R¹⁵とR¹⁷またはR¹⁵とR
   ¹⁶とが結合して環を形成していてもよい。ただし、
   R¹⁵、R¹⁶、R¹⁷およびR¹⁸が同時に同一であることはな
   い。）で示されるオレフィン類と一般式（３） Ｎ₂ＣＨＣＯＯＲ¹⁹ （３） （式中、Ｒ¹⁹は、置換基を有していてもよいアルキル
   基、置換基を有していてもよいアラルキル基または置換
   基を有していてもよいアリール基を示す。）で示される
   ジアゾ酢酸エステル類とを、一般式（１）で示されるジ
   ベンゾチオフェン類の光学活性体および銅塩または遷移
   金属塩の存在下に反応させることを特徴とする一般式
   （４） （式中、Ｒ¹⁵〜Ｒ¹⁹は前記と同じ意味を表わす。）で示
   される光学活性シクロプロパンカルボン酸誘導体の製造
   法。
3. 【請求項３】銅塩の銅が２価または１価の銅である請求
   項２に記載の光学活性シクロプロパンカルボン酸誘導体
   の製造法。