JP2001129931A - 反射防止性ハードコートフイルム - Google Patents
反射防止性ハードコートフイルムInfo
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- JP2001129931A JP2001129931A JP31764399A JP31764399A JP2001129931A JP 2001129931 A JP2001129931 A JP 2001129931A JP 31764399 A JP31764399 A JP 31764399A JP 31764399 A JP31764399 A JP 31764399A JP 2001129931 A JP2001129931 A JP 2001129931A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 反射防止効果、耐スクラッチ性、透明性、防
汚性等に優れ、かつ低コストで製造可能な反射防止性ハ
ードコートフイルムを提供する。 【手段】 プラスチックフィルム（ａ）上の少なくとも
一面に、ハードコート層（ｂ）、高屈折率薄膜塗布層
（ｃ）、低屈折率薄膜塗布層（ｄ）を順次形成したこと
を特徴とする反射防止性ハードコートフイルム。
汚性等に優れ、かつ低コストで製造可能な反射防止性ハ
ードコートフイルムを提供する。 【手段】 プラスチックフィルム（ａ）上の少なくとも
一面に、ハードコート層（ｂ）、高屈折率薄膜塗布層
（ｃ）、低屈折率薄膜塗布層（ｄ）を順次形成したこと
を特徴とする反射防止性ハードコートフイルム。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ディスプレイ画面
等、反射防止性の要求される用途に使用されるところ
の、反射防止性でその表面が傷つきにくく汚れ難いなど
の特性を有する反射防止性ハードコートフイルム関す
る。
等、反射防止性の要求される用途に使用されるところ
の、反射防止性でその表面が傷つきにくく汚れ難いなど
の特性を有する反射防止性ハードコートフイルム関す
る。
【０００２】
【従来の技術】反射防止性の要求される用途の代表的な
用途にディスプレイ画面がある。ディスプレイ画面とし
て代表的なテレビジョンやコンピューターのディスプレ
イ画面はほとんどが曲面形成されたものであり、そのデ
ィスプレイ画面における反射防止性の付与はコーテイン
グや噴射等の手段で行われていたが、近年フラットな面
を使用することが普及してきて、フラット面であるが故
にフイルムに反射防止性層を形成してその反射防止性フ
イルムを貼着することで、ディスプレイ画面における反
射防止性の付与が可能となり多くの反射防止性フイルム
が提案されている。これらの反射防止性フイルムの多く
は、蒸着やスパッタリングによって形成された多層の薄
膜層を反射防止層として形成したフイルム、又は反射防
止性において若干の性能の低さはあるものの低コストで
形成可能な塗布層で反射防止層を設けたフイルムがほと
んどである。
用途にディスプレイ画面がある。ディスプレイ画面とし
て代表的なテレビジョンやコンピューターのディスプレ
イ画面はほとんどが曲面形成されたものであり、そのデ
ィスプレイ画面における反射防止性の付与はコーテイン
グや噴射等の手段で行われていたが、近年フラットな面
を使用することが普及してきて、フラット面であるが故
にフイルムに反射防止性層を形成してその反射防止性フ
イルムを貼着することで、ディスプレイ画面における反
射防止性の付与が可能となり多くの反射防止性フイルム
が提案されている。これらの反射防止性フイルムの多く
は、蒸着やスパッタリングによって形成された多層の薄
膜層を反射防止層として形成したフイルム、又は反射防
止性において若干の性能の低さはあるものの低コストで
形成可能な塗布層で反射防止層を設けたフイルムがほと
んどである。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】これらの従来の反射防
止性フイルムにおいては、蒸着やスパッタリングによっ
て形成された多層の薄膜層を形成したフイルムの場合高
コストとなり品質上でも一定水準を保持することが困難
であり、低コストで形成可能な塗布層で反射防止層を設
けたフイルムの場合低コストで比較的品質を一定水準に
保持することも容易であるが、反射防止性が不十分なこ
とが多くまた表面の傷つきや汚れに対する性能も不足が
ちとなる。従って本発明の課題は、反射防止効果、耐ス
クラッチ性、透明性、防汚性等に優れ、かつ低コストで
製造可能な反射防止性ハードコートフイルムを提供する
ことにある。
止性フイルムにおいては、蒸着やスパッタリングによっ
て形成された多層の薄膜層を形成したフイルムの場合高
コストとなり品質上でも一定水準を保持することが困難
であり、低コストで形成可能な塗布層で反射防止層を設
けたフイルムの場合低コストで比較的品質を一定水準に
保持することも容易であるが、反射防止性が不十分なこ
とが多くまた表面の傷つきや汚れに対する性能も不足が
ちとなる。従って本発明の課題は、反射防止効果、耐ス
クラッチ性、透明性、防汚性等に優れ、かつ低コストで
製造可能な反射防止性ハードコートフイルムを提供する
ことにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、プラ
スチックフィルム（ａ）上の少なくとも一面に、ハード
コート層（ｂ）、高屈折率薄膜塗布層（ｃ）、低屈折率
薄膜塗布層（ｄ）を順次形成したことを特徴とする反射
防止性ハードコートフイルムであり、ハードコート層
（ｂ）が金属酸化物微粒子を含有する電離放射線硬化型
樹脂から形成されたものである前記の反射防止性ハード
コートフイルムであり、低屈折率薄膜塗布層（ｄ）が、
Ｓｉ（ＯＲ1）4、Ｒ2 4-nＳｉ（ＯＲ1）n、Ｓｉ（ＮＣ
Ｏ）4、Ｒ1 nＳｉ（ＮＣＯ）4-n、（Ｒ1Ｏ）nＳｉ（ＮＣ
Ｏ）4-n（前記式中でＲ1，Ｒ2は、炭素数１から２０の
アルキル基を表し、ｎは１、２、３から選ばれる数を表
す。）から選ばれる一種以上から主として形成されたも
のである前記の反射防止性ハードコートフイルムであ
り、高屈折率薄膜塗布層（ｃ）が金属アルコキシド、金
属キレートから選ばれた一種以上から主として形成され
たものである前記の反射防止性ハードコートフイルムで
あり、さらに低屈折率薄膜塗布層（ｄ）側での鉛筆硬度
が２Ｈ以上である前記の反射防止性ハードコートフイル
ムであり、さらにまた低屈折率薄膜塗布層（ｄ）が、Ｒ
ｆＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（０Ｒ2）3-nＸn（Ｒｆは炭素数１〜
１００のパーフルオロアルキル基であり、Ｒ2は炭素数
１〜１０のアクリル基、Ｘはアルキル基、塩素等であ
る。ｎは０、１、２から選ばれた数を表す。）で表され
るフッソ系珪素アルコキシドをさらに含むものから形成
されたものである請求項２記載の反射防止性ハードコー
トフイルムである。
スチックフィルム（ａ）上の少なくとも一面に、ハード
コート層（ｂ）、高屈折率薄膜塗布層（ｃ）、低屈折率
薄膜塗布層（ｄ）を順次形成したことを特徴とする反射
防止性ハードコートフイルムであり、ハードコート層
（ｂ）が金属酸化物微粒子を含有する電離放射線硬化型
樹脂から形成されたものである前記の反射防止性ハード
コートフイルムであり、低屈折率薄膜塗布層（ｄ）が、
Ｓｉ（ＯＲ1）4、Ｒ2 4-nＳｉ（ＯＲ1）n、Ｓｉ（ＮＣ
Ｏ）4、Ｒ1 nＳｉ（ＮＣＯ）4-n、（Ｒ1Ｏ）nＳｉ（ＮＣ
Ｏ）4-n（前記式中でＲ1，Ｒ2は、炭素数１から２０の
アルキル基を表し、ｎは１、２、３から選ばれる数を表
す。）から選ばれる一種以上から主として形成されたも
のである前記の反射防止性ハードコートフイルムであ
り、高屈折率薄膜塗布層（ｃ）が金属アルコキシド、金
属キレートから選ばれた一種以上から主として形成され
たものである前記の反射防止性ハードコートフイルムで
あり、さらに低屈折率薄膜塗布層（ｄ）側での鉛筆硬度
が２Ｈ以上である前記の反射防止性ハードコートフイル
ムであり、さらにまた低屈折率薄膜塗布層（ｄ）が、Ｒ
ｆＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（０Ｒ2）3-nＸn（Ｒｆは炭素数１〜
１００のパーフルオロアルキル基であり、Ｒ2は炭素数
１〜１０のアクリル基、Ｘはアルキル基、塩素等であ
る。ｎは０、１、２から選ばれた数を表す。）で表され
るフッソ系珪素アルコキシドをさらに含むものから形成
されたものである請求項２記載の反射防止性ハードコー
トフイルムである。
【０００５】
【発明の実施態様】本発明として用いるプラスチックフ
ィルム（ａ）としては、特に制限はないが、加工適性な
ど用途的に考えれば、ポリエチレンテレフタレート等の
ポリエステル系樹脂からのフイルムや、三酢酸セルロー
スのフイルム、ポリカーボネートフィルムを使用するこ
とが望ましい。その厚みは２０μｍ〜２５０μｍのもの
が好適に用いられる。本発明のハードコート層（ｂ）を
形成するハードコート樹脂としては、熱硬化型樹脂、若
しくは電離放射線型樹脂が好ましく適用される。中でも
作業環境性、生産性の点で電離放射線型樹脂を使用する
ことが好ましく、電離放射線硬化型樹脂は、少なくとも
電子線、紫外線照射により硬化される樹脂であり、これ
らの樹脂を含有する塗料から本発明のハードコート層
（ｂ）が形成される。具体的には、光重合性プレポリマ
ー、光重合性モノマー、光重合開始剤を含有し、更に必
要に応じて増感剤、非反応性樹脂、レベリング剤等の添
加剤、溶剤を含有する塗料である。
ィルム（ａ）としては、特に制限はないが、加工適性な
ど用途的に考えれば、ポリエチレンテレフタレート等の
ポリエステル系樹脂からのフイルムや、三酢酸セルロー
スのフイルム、ポリカーボネートフィルムを使用するこ
とが望ましい。その厚みは２０μｍ〜２５０μｍのもの
が好適に用いられる。本発明のハードコート層（ｂ）を
形成するハードコート樹脂としては、熱硬化型樹脂、若
しくは電離放射線型樹脂が好ましく適用される。中でも
作業環境性、生産性の点で電離放射線型樹脂を使用する
ことが好ましく、電離放射線硬化型樹脂は、少なくとも
電子線、紫外線照射により硬化される樹脂であり、これ
らの樹脂を含有する塗料から本発明のハードコート層
（ｂ）が形成される。具体的には、光重合性プレポリマ
ー、光重合性モノマー、光重合開始剤を含有し、更に必
要に応じて増感剤、非反応性樹脂、レベリング剤等の添
加剤、溶剤を含有する塗料である。
【０００６】光重合性プレポリマーは、その構造、分子
量が、電離放射線型硬化型塗料の硬化に関係し、硬度、
屈折率、耐クラック性等の特性を定めるものである。光
重合性プレポリマーは骨格中に導入されたアクリロイル
基が電離放射線照射されることにより、ラジカル重合す
るタイプが一般的である。ラジカル重合により硬化する
ものは硬化速度が速く、樹脂設計の自由度も大きいた
め、特に好ましい。光重合性プレポリマーとしては、ア
クリロイル基を有するアクリル系プレポリマーが、特に
好ましく、１分子中に２個以上のアクリロイル基を有
し、３次元網目構造となるものである。アクリル系プレ
ポリマーとしては、ウレタンアクリレート、エポキシア
クリレート、メラミンアクリレート、ポリエステルアク
リレート等が使用できる。光重合性モノマーは、塗膜強
度を付与するためや、光重合性プレポリマーの粘度を低
下させるのに使用されるが、光重合性モノマーを主体と
してハードコート塗料を調整してもよい。
量が、電離放射線型硬化型塗料の硬化に関係し、硬度、
屈折率、耐クラック性等の特性を定めるものである。光
重合性プレポリマーは骨格中に導入されたアクリロイル
基が電離放射線照射されることにより、ラジカル重合す
るタイプが一般的である。ラジカル重合により硬化する
ものは硬化速度が速く、樹脂設計の自由度も大きいた
め、特に好ましい。光重合性プレポリマーとしては、ア
クリロイル基を有するアクリル系プレポリマーが、特に
好ましく、１分子中に２個以上のアクリロイル基を有
し、３次元網目構造となるものである。アクリル系プレ
ポリマーとしては、ウレタンアクリレート、エポキシア
クリレート、メラミンアクリレート、ポリエステルアク
リレート等が使用できる。光重合性モノマーは、塗膜強
度を付与するためや、光重合性プレポリマーの粘度を低
下させるのに使用されるが、光重合性モノマーを主体と
してハードコート塗料を調整してもよい。
【０００７】本発明の反射防止性ハードコートフイルム
主用途の一であるディスプレイ画面への適用において、
最終的なディスプレイ画面の要求される硬度は高いもの
であり、本発明における反射防止性ハードコートフイル
ムの低屈折率薄膜塗布層（ｄ）側の鉛筆硬度は２Ｈ以上
である。ハードコート塗布液中に無機酸化物微粒子、例
えば酸化珪素、酸化アンチモン、酸化錫、酸化インジウ
ム、酸化亜鉛、アルミナ、チタニア、ジルコニア、等を
含有させハードコート層を形成すると、高屈折率薄膜塗
布層（ｃ）との密着が良く、高屈折率薄膜塗布層
（ｃ）、低屈折率薄膜塗布層（ｄ）形成後の硬度も良く
なるので好ましい。 ハードコート塗布液に添加される
無機酸化物粒子は１〜２００ｎｍものが好適に用いられ
る。平均粒子径が２００ｎｍを越えると、透過性を損な
う傾向があり、２種類以上の無機酸化物粒子を併用して
使用することも何ら問題ないが、これらの中でも酸化錫
のような導電性のある粒子を使用すると反射防止性ハー
ドコートフイルムの制電性においても優れたものが得ら
れ好ましい。
主用途の一であるディスプレイ画面への適用において、
最終的なディスプレイ画面の要求される硬度は高いもの
であり、本発明における反射防止性ハードコートフイル
ムの低屈折率薄膜塗布層（ｄ）側の鉛筆硬度は２Ｈ以上
である。ハードコート塗布液中に無機酸化物微粒子、例
えば酸化珪素、酸化アンチモン、酸化錫、酸化インジウ
ム、酸化亜鉛、アルミナ、チタニア、ジルコニア、等を
含有させハードコート層を形成すると、高屈折率薄膜塗
布層（ｃ）との密着が良く、高屈折率薄膜塗布層
（ｃ）、低屈折率薄膜塗布層（ｄ）形成後の硬度も良く
なるので好ましい。 ハードコート塗布液に添加される
無機酸化物粒子は１〜２００ｎｍものが好適に用いられ
る。平均粒子径が２００ｎｍを越えると、透過性を損な
う傾向があり、２種類以上の無機酸化物粒子を併用して
使用することも何ら問題ないが、これらの中でも酸化錫
のような導電性のある粒子を使用すると反射防止性ハー
ドコートフイルムの制電性においても優れたものが得ら
れ好ましい。
【０００８】無機酸化物微粒子を単に混合、分散する場
合多量に混合すると、ハードコート樹脂自体の架橋密度
が低下し、硬度が低下する。そこで、無機酸化物粒子の
表面をアクリロキシ官能性シラン等で処理し電離放射線
で架橋するようにアクリレート化変性したものをハード
コート樹脂に混合するほうが更に好ましい。該表面アク
リレート化した無機酸化物微粒子は、ハードコート樹脂
との架橋に参加するため、多量に配合しても硬度の低下
はなく、逆に硬度は向上する傾向にある。またハードコ
ート樹脂への分散工程も必要なく混合が容易であり、混
合後の透過性においても優れている。アクリレート化の
表面処理をした無機酸化物微粒子とアクリレート化の表
面処理をしていない微粒子とを併用しても良い。このよ
うにして電離放射線硬化型樹脂を含む塗布液を調整し塗
工しフィルム上に形成する方法としては、通常の塗工方
法、例えばバー、ブレード、スピン、スプレー、グラビ
ア、等のコーティングで行うことができる。ハードコー
ト層（ｂ）の厚さは特に限定されないが、１〜１０μｍ
が好ましく、より好ましくは２〜７μｍであり、このハ
ードコート層（ｂ）の屈折率としては限定されるもので
はないが１．５付近１．４〜１．８程度から選ばれて使
用される。
合多量に混合すると、ハードコート樹脂自体の架橋密度
が低下し、硬度が低下する。そこで、無機酸化物粒子の
表面をアクリロキシ官能性シラン等で処理し電離放射線
で架橋するようにアクリレート化変性したものをハード
コート樹脂に混合するほうが更に好ましい。該表面アク
リレート化した無機酸化物微粒子は、ハードコート樹脂
との架橋に参加するため、多量に配合しても硬度の低下
はなく、逆に硬度は向上する傾向にある。またハードコ
ート樹脂への分散工程も必要なく混合が容易であり、混
合後の透過性においても優れている。アクリレート化の
表面処理をした無機酸化物微粒子とアクリレート化の表
面処理をしていない微粒子とを併用しても良い。このよ
うにして電離放射線硬化型樹脂を含む塗布液を調整し塗
工しフィルム上に形成する方法としては、通常の塗工方
法、例えばバー、ブレード、スピン、スプレー、グラビ
ア、等のコーティングで行うことができる。ハードコー
ト層（ｂ）の厚さは特に限定されないが、１〜１０μｍ
が好ましく、より好ましくは２〜７μｍであり、このハ
ードコート層（ｂ）の屈折率としては限定されるもので
はないが１．５付近１．４〜１．８程度から選ばれて使
用される。
【０００９】ハードコート層（ｂ）上に形成される高屈
折率薄膜塗布層（ｃ）は、金属アルコキシド等から調整
される塗料をコーティングすることにより形成される。
これらの高屈折率薄膜層を形成するものとしては、Ｚｒ
（ＯＲ3）4（Ｒ3は 炭素数１〜１０のアルキル基を表
す。）で表されるＺｒテトラプロポキシド、Ｚｒテトラ
ブトキシド等のＺｒアルコキシド、Ｉｎ（ＯＲ4）3（Ｒ
4は炭素数１〜１０のアルキル基を表す）で表されるＩ
ｎトリプロポキシド、Ｉｎトリブトキシド等のＩｎアル
コキシド、Ｓｎ（ＯＲ5）4（ Ｒ5は炭素数１〜１０の
アルキル基を表す）で表されるＳｎテトラプロポキシ
ド、Ｓｎテトラブトキシド等のＳｎアルコキシド、Ｉｎ
アルコキシドとＳｎアルコキシドを９０：１０程度の比
で混合したもの、Ｔｉテトラプロポキシド、Ｔｉテトラ
ブトキシド等のＴｉアルコキシド、アルミニウムアルコ
キシド、等が好ましい。高屈折率薄膜塗布層（ｃ）の厚
さは特に限定されないが、０．０５〜０．２μｍが好ま
しく、より好ましくは、０．１〜０．１５μｍであり、
この高屈折率薄膜塗布層（ｃ）の屈折率は、特に限定さ
れるものではないが１．５〜２．７、より好ましくは
１．８〜２．６である。
折率薄膜塗布層（ｃ）は、金属アルコキシド等から調整
される塗料をコーティングすることにより形成される。
これらの高屈折率薄膜層を形成するものとしては、Ｚｒ
（ＯＲ3）4（Ｒ3は 炭素数１〜１０のアルキル基を表
す。）で表されるＺｒテトラプロポキシド、Ｚｒテトラ
ブトキシド等のＺｒアルコキシド、Ｉｎ（ＯＲ4）3（Ｒ
4は炭素数１〜１０のアルキル基を表す）で表されるＩ
ｎトリプロポキシド、Ｉｎトリブトキシド等のＩｎアル
コキシド、Ｓｎ（ＯＲ5）4（ Ｒ5は炭素数１〜１０の
アルキル基を表す）で表されるＳｎテトラプロポキシ
ド、Ｓｎテトラブトキシド等のＳｎアルコキシド、Ｉｎ
アルコキシドとＳｎアルコキシドを９０：１０程度の比
で混合したもの、Ｔｉテトラプロポキシド、Ｔｉテトラ
ブトキシド等のＴｉアルコキシド、アルミニウムアルコ
キシド、等が好ましい。高屈折率薄膜塗布層（ｃ）の厚
さは特に限定されないが、０．０５〜０．２μｍが好ま
しく、より好ましくは、０．１〜０．１５μｍであり、
この高屈折率薄膜塗布層（ｃ）の屈折率は、特に限定さ
れるものではないが１．５〜２．７、より好ましくは
１．８〜２．６である。
【００１０】本発明で用いる低屈折率薄膜塗布層（ｄ）
は、屈折率が前記高屈折率薄膜塗布層（ｃ）よりも低
く、耐摩耗性に優れるものであれば限定されないが、Ｓ
ｉ（ＯＲ 1）4、Ｒ2 4-nＳｉ（ＯＲ1）n、Ｓｉ（ＮＣＯ）
4、Ｒ1 n（ＮＣＯ）4-n、（Ｒ1Ｏ）nＳｉ（ＮＣＯ）4-n
（前記式中でＲ1，Ｒ2は、炭素数１から２０のアルキル
基を表し、ｎは１、２、３から選ばれる数を表す。）か
ら選ばれる一種以上から主として形成されたものが好ま
しく使用される。具体的には、例えば、テトラメトキシ
シラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシ
ラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシ
シラン、ジメチルジエトキシシラン、テトライソシアネ
ートシラン、メチルシリルトリイソシアネート、ジメチ
ルシリルジイソシアネート等が挙げられる。
は、屈折率が前記高屈折率薄膜塗布層（ｃ）よりも低
く、耐摩耗性に優れるものであれば限定されないが、Ｓ
ｉ（ＯＲ 1）4、Ｒ2 4-nＳｉ（ＯＲ1）n、Ｓｉ（ＮＣＯ）
4、Ｒ1 n（ＮＣＯ）4-n、（Ｒ1Ｏ）nＳｉ（ＮＣＯ）4-n
（前記式中でＲ1，Ｒ2は、炭素数１から２０のアルキル
基を表し、ｎは１、２、３から選ばれる数を表す。）か
ら選ばれる一種以上から主として形成されたものが好ま
しく使用される。具体的には、例えば、テトラメトキシ
シラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシ
ラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシ
シラン、ジメチルジエトキシシラン、テトライソシアネ
ートシラン、メチルシリルトリイソシアネート、ジメチ
ルシリルジイソシアネート等が挙げられる。
【００１１】更に、防汚性を付与するために、フッ素系
樹脂を上記珪素アルコキシド等に混合すると良い。フッ
ソ系系樹脂については特に制限はないが、撥水性に優れ
る、ＲｆＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（０Ｒ2）3-nＸn（Ｒｆは炭素
数１〜１００のパーフルオロアルキル基であり、Ｒ2は
炭素数１〜１０のアクリル基、Ｘアルキル基、塩素等で
ある。ｎは０、１、２から選ばれた数を表す。）で表さ
れる高度にフッ素化された置換基を持つフッ素系珪素ア
ルコキシド用いることが好ましい。フッ素系珪素アルコ
キシドは、上記珪素アルコキシドと同じ反応機構でシロ
キサン結合により膜中に強固に固定されるので防汚性能
が持続し好ましい。フッ素系アルコキシドの配合の割合
は特には限定されないが、該薄膜塗布層（ｄ）中に固形
分比で０．１〜３０重量％含有されることが好ましい。
低屈折率薄膜塗布層（ｄ）の厚さは特に限定されない
が、好ましくは０．０５〜０．２μｍより好ましくは
０．０７〜０．１２μｍであり、その屈折率は特に限定
は去れないが、１．５以下好ましくは１．４以下のもの
である。上記例示の金属アルコキシド等を適当な溶媒、
例えばイソプロピルアルコール、エタノール、メタノー
ル、水、等に溶解させ、必要であれば適当な触媒、例え
ば塩酸、硫酸、酢酸、硝酸等の酸性若しくは、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム等のアルカリ性の化合物を添
加し加水分解等を行い低屈折率の薄膜塗布層用塗料を作
製する。また、この塗料には、硬化剤等、他の成分を添
加してもかまわない。この塗料を塗布、乾燥、電離線照
射、熱処理、エキシマレーザーやＥＢ照射等の活性化エ
ネルギー照射等を適宜選択実施して形成する。本発明に
より、反射防止効果、耐スクラッチ性、透明性、防汚性
等に優れ、かつ低コストで製造可能な反射防止性ハード
コートフイルムが得られる。以下に実施例及び比較例を
挙げて本発明を更に具体的に説明する。
樹脂を上記珪素アルコキシド等に混合すると良い。フッ
ソ系系樹脂については特に制限はないが、撥水性に優れ
る、ＲｆＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（０Ｒ2）3-nＸn（Ｒｆは炭素
数１〜１００のパーフルオロアルキル基であり、Ｒ2は
炭素数１〜１０のアクリル基、Ｘアルキル基、塩素等で
ある。ｎは０、１、２から選ばれた数を表す。）で表さ
れる高度にフッ素化された置換基を持つフッ素系珪素ア
ルコキシド用いることが好ましい。フッ素系珪素アルコ
キシドは、上記珪素アルコキシドと同じ反応機構でシロ
キサン結合により膜中に強固に固定されるので防汚性能
が持続し好ましい。フッ素系アルコキシドの配合の割合
は特には限定されないが、該薄膜塗布層（ｄ）中に固形
分比で０．１〜３０重量％含有されることが好ましい。
低屈折率薄膜塗布層（ｄ）の厚さは特に限定されない
が、好ましくは０．０５〜０．２μｍより好ましくは
０．０７〜０．１２μｍであり、その屈折率は特に限定
は去れないが、１．５以下好ましくは１．４以下のもの
である。上記例示の金属アルコキシド等を適当な溶媒、
例えばイソプロピルアルコール、エタノール、メタノー
ル、水、等に溶解させ、必要であれば適当な触媒、例え
ば塩酸、硫酸、酢酸、硝酸等の酸性若しくは、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム等のアルカリ性の化合物を添
加し加水分解等を行い低屈折率の薄膜塗布層用塗料を作
製する。また、この塗料には、硬化剤等、他の成分を添
加してもかまわない。この塗料を塗布、乾燥、電離線照
射、熱処理、エキシマレーザーやＥＢ照射等の活性化エ
ネルギー照射等を適宜選択実施して形成する。本発明に
より、反射防止効果、耐スクラッチ性、透明性、防汚性
等に優れ、かつ低コストで製造可能な反射防止性ハード
コートフイルムが得られる。以下に実施例及び比較例を
挙げて本発明を更に具体的に説明する。
【００１２】
【実施例】以下、実施例により本発明を更に詳しく説明
する、以下特にことわらない限り部は重量部を表す。以
下の各例で得られたフイルムの評価は下記によって実施
した。 （１）鉛筆硬度 ＪＩＳ Ｋ５４００に準じて測定した。 （２）透過率 分光光度計ＵＶ−３１００ＰＣ（島津製作所）を用い５
５０ｎｍの光線透過率を測定した。単位は％である。 （３）反射率 分光光度計ＵＶ−３１００ＰＣ（島津製作所）を用い５
５０ｎｍの光線反射率を測定した。単位は％である。 （４）密着性 低屈折率層側をカーターナイフで縦１１本、横１１本の
傷を付け、そこにセロテープを密着させた後、そのテー
プを９０度方向に剥離させ、残存する升目により評価す
る。 （５）接触角 エルマ光学社製 Ｇ−１を用いて水の接触角を測定し
た。単位は度である。
する、以下特にことわらない限り部は重量部を表す。以
下の各例で得られたフイルムの評価は下記によって実施
した。 （１）鉛筆硬度 ＪＩＳ Ｋ５４００に準じて測定した。 （２）透過率 分光光度計ＵＶ−３１００ＰＣ（島津製作所）を用い５
５０ｎｍの光線透過率を測定した。単位は％である。 （３）反射率 分光光度計ＵＶ−３１００ＰＣ（島津製作所）を用い５
５０ｎｍの光線反射率を測定した。単位は％である。 （４）密着性 低屈折率層側をカーターナイフで縦１１本、横１１本の
傷を付け、そこにセロテープを密着させた後、そのテー
プを９０度方向に剥離させ、残存する升目により評価す
る。 （５）接触角 エルマ光学社製 Ｇ−１を用いて水の接触角を測定し
た。単位は度である。
【００１３】＊＊実施例１ 厚さ１８８μｍのポリエステルフィルム上に、６官能ア
クリレートモノマ５０部、表面をアクリレート化した平
均粒径２０ｎｍのシリカ微粒子３０部、光重合開始剤５
部、メチルエチルケトン１５部を混合し、バーコーター
にて乾燥後膜厚５μｍになるように塗工し、溶剤乾燥
後、高圧水銀灯により紫外線を３００ｍＪ／ｃｍ2照射
しハードコート層を形成した。次に、チタニウムテトラ
イソプロポキシド１０部、イソプロパノール（ＩＰＡ）
４０部、ｎブタノール５０部を混合しバーコーターにて
乾燥後膜厚０．１μｍになるように塗工し、１００℃で
１分間乾燥し高屈折率薄膜塗布層を形成した。次いで、
テトラエトキシシランＳｉ（ＯＣ2Ｈ5）4１０部、エタ
ノール３０部、ＩＰＡ３０部、水３０部、塩酸０．２部
を溶解し加水分解を行い塗料を作成し、この塗料を乾燥
後膜厚０．１μｍになるようにバーコーターにて塗工
し、溶剤を除去し、１００℃で１分間乾燥を行い低屈折
率薄膜塗布層を形成した。その後８０℃、２４時間熱処
理し反射防止性ハードコートフィルムを作製した。得ら
れた反射防止性ハードコートフィルムの鉛筆硬度は３
Ｈ、透過率は９２％、反射率は０．５％、密着性は１０
０／１００であり、接触角は８０°、表面電気抵抗値は
１０10Ω／□であった。
クリレートモノマ５０部、表面をアクリレート化した平
均粒径２０ｎｍのシリカ微粒子３０部、光重合開始剤５
部、メチルエチルケトン１５部を混合し、バーコーター
にて乾燥後膜厚５μｍになるように塗工し、溶剤乾燥
後、高圧水銀灯により紫外線を３００ｍＪ／ｃｍ2照射
しハードコート層を形成した。次に、チタニウムテトラ
イソプロポキシド１０部、イソプロパノール（ＩＰＡ）
４０部、ｎブタノール５０部を混合しバーコーターにて
乾燥後膜厚０．１μｍになるように塗工し、１００℃で
１分間乾燥し高屈折率薄膜塗布層を形成した。次いで、
テトラエトキシシランＳｉ（ＯＣ2Ｈ5）4１０部、エタ
ノール３０部、ＩＰＡ３０部、水３０部、塩酸０．２部
を溶解し加水分解を行い塗料を作成し、この塗料を乾燥
後膜厚０．１μｍになるようにバーコーターにて塗工
し、溶剤を除去し、１００℃で１分間乾燥を行い低屈折
率薄膜塗布層を形成した。その後８０℃、２４時間熱処
理し反射防止性ハードコートフィルムを作製した。得ら
れた反射防止性ハードコートフィルムの鉛筆硬度は３
Ｈ、透過率は９２％、反射率は０．５％、密着性は１０
０／１００であり、接触角は８０°、表面電気抵抗値は
１０10Ω／□であった。
【００１４】＊＊実施例２ 厚さ１８８μｍのポリエステルフィルム上に、６官能ア
クリレートモノマ−５０部、平均粒径１００ｎｍの酸化
錫３０部、光重合開始剤５部、ＩＰＡ７０部、メチルエ
チルケトン１５部を混合し、バーコーターにて乾燥後膜
厚５μｍになるように塗工し、溶剤乾燥後、高圧水銀灯
により紫外線を３００ｍＪ／ｃｍ2照射しハードコート
層を形成した。次いで、ジルコニウムテトライソプロポ
キシド１０部、イソプロパノール（ＩＰＡ）４０部、ｎ
ブタノール５０部を混合しバーコーターにて乾燥後膜厚
０．１μｍになるように塗工し、１００℃で１分間乾燥
し高屈折率薄膜塗布層を形成した。次に、テトラエトキ
シシランＳｉ（ＯＣ2Ｈ5）4９部、ＣＦ3（ＣＦ2）9ＣＨ
2ＣＨ2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2１部、エタノール３０
部、ＩＰＡ３０部、水３０部、塩酸０．２部を溶解し加
水分解し塗料を形成し、この塗料にさらに、メタノール
溶媒で平均粒子径２０ｎｍ固形分３０重量％のコロイダ
ルシリカを３０部加えて、この塗料を乾燥後膜厚０．１
μｍになるようにバーコーターにて塗工し、溶剤を除去
し、１分間乾燥を行い低屈折率薄膜塗布層を形成し、そ
の後８０℃、２４時間熱処理し反射防止性ハードコート
フィルムを作製した。得られた反射防止性ハードコート
フィルムの鉛筆硬度は３Ｈ、透過率は９１．５％、反射
率は０．８％、密着性は１００／１００であり、接触角
は１０８°、表面電気抵抗値は１０8Ω／□であった。
クリレートモノマ−５０部、平均粒径１００ｎｍの酸化
錫３０部、光重合開始剤５部、ＩＰＡ７０部、メチルエ
チルケトン１５部を混合し、バーコーターにて乾燥後膜
厚５μｍになるように塗工し、溶剤乾燥後、高圧水銀灯
により紫外線を３００ｍＪ／ｃｍ2照射しハードコート
層を形成した。次いで、ジルコニウムテトライソプロポ
キシド１０部、イソプロパノール（ＩＰＡ）４０部、ｎ
ブタノール５０部を混合しバーコーターにて乾燥後膜厚
０．１μｍになるように塗工し、１００℃で１分間乾燥
し高屈折率薄膜塗布層を形成した。次に、テトラエトキ
シシランＳｉ（ＯＣ2Ｈ5）4９部、ＣＦ3（ＣＦ2）9ＣＨ
2ＣＨ2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2１部、エタノール３０
部、ＩＰＡ３０部、水３０部、塩酸０．２部を溶解し加
水分解し塗料を形成し、この塗料にさらに、メタノール
溶媒で平均粒子径２０ｎｍ固形分３０重量％のコロイダ
ルシリカを３０部加えて、この塗料を乾燥後膜厚０．１
μｍになるようにバーコーターにて塗工し、溶剤を除去
し、１分間乾燥を行い低屈折率薄膜塗布層を形成し、そ
の後８０℃、２４時間熱処理し反射防止性ハードコート
フィルムを作製した。得られた反射防止性ハードコート
フィルムの鉛筆硬度は３Ｈ、透過率は９１．５％、反射
率は０．８％、密着性は１００／１００であり、接触角
は１０８°、表面電気抵抗値は１０8Ω／□であった。
【００１５】＊＊実施例３ 厚さ１８８μｍのポリエステルフィルム上に、６官能ア
クリレートモノマ−５０部、表面をアクリレート化した
平均粒径２０ｎｍのシリカ微粒子３０部、光重合開始剤
５部、メチルエチルケトン１５部を混合し、バーコータ
ーにて乾燥後膜厚５μｍになるように塗工し、溶剤乾燥
後、高圧水銀灯により紫外線を３００ｍＪ／ｃｍ2照射
しハードコート層を形成した。次に、チタニウムテトラ
イソプロポキシド１０部、イソプロパノール（ＩＰＡ）
４０部、ｎブタノール５０部、平均粒子径１００ｎｍの
酸化錫１０部を混合し、バーコーターにて乾燥後膜厚
０．１μｍになるように塗工し、１００℃で１分間乾燥
し高屈折率薄膜塗布層を形成した。次いで、テトラエト
キシシランＳｉ（ＯＣ2Ｈ5）4１０部、エタノール３０
部、ＩＰＡ３０部、水３０部、塩酸０．２部を溶解し加
水分解を行い塗料を作成し、この塗料を乾燥後膜厚０．
１μｍになるようにバーコーターにて塗工し、溶剤を除
去し、１００℃で１分間乾燥を行い低屈折率薄膜塗布層
を形成した。その後８０℃、２４時間熱処理し反射防止
性ハードコートフィルムを作製した。得られた反射防止
性ハードコートフィルムの鉛筆硬度は３Ｈ、透過率は９
１．８％、反射率は０．６％、密着性は１００／１００
であり、接触角は８０°、表面電気抵抗値は１０8Ω／
□であった。
クリレートモノマ−５０部、表面をアクリレート化した
平均粒径２０ｎｍのシリカ微粒子３０部、光重合開始剤
５部、メチルエチルケトン１５部を混合し、バーコータ
ーにて乾燥後膜厚５μｍになるように塗工し、溶剤乾燥
後、高圧水銀灯により紫外線を３００ｍＪ／ｃｍ2照射
しハードコート層を形成した。次に、チタニウムテトラ
イソプロポキシド１０部、イソプロパノール（ＩＰＡ）
４０部、ｎブタノール５０部、平均粒子径１００ｎｍの
酸化錫１０部を混合し、バーコーターにて乾燥後膜厚
０．１μｍになるように塗工し、１００℃で１分間乾燥
し高屈折率薄膜塗布層を形成した。次いで、テトラエト
キシシランＳｉ（ＯＣ2Ｈ5）4１０部、エタノール３０
部、ＩＰＡ３０部、水３０部、塩酸０．２部を溶解し加
水分解を行い塗料を作成し、この塗料を乾燥後膜厚０．
１μｍになるようにバーコーターにて塗工し、溶剤を除
去し、１００℃で１分間乾燥を行い低屈折率薄膜塗布層
を形成した。その後８０℃、２４時間熱処理し反射防止
性ハードコートフィルムを作製した。得られた反射防止
性ハードコートフィルムの鉛筆硬度は３Ｈ、透過率は９
１．８％、反射率は０．６％、密着性は１００／１００
であり、接触角は８０°、表面電気抵抗値は１０8Ω／
□であった。
【００１６】
【発明の効果】プラスチックフィルム（ａ）上の一面
に、ハードコート層（ｂ）、高屈折率薄膜塗布層（ｃ）
を形成し、さらにこの高屈折率薄膜塗布層（ｃ）の上に
低屈折率薄膜塗布層（ｄ）を形成することによって、反
射防止効果、耐スクラッチ性、透明性、防汚性等に優
れ、かつ低コストで製造可能な反射防止性ハードコート
フイルムが得られた。
に、ハードコート層（ｂ）、高屈折率薄膜塗布層（ｃ）
を形成し、さらにこの高屈折率薄膜塗布層（ｃ）の上に
低屈折率薄膜塗布層（ｄ）を形成することによって、反
射防止効果、耐スクラッチ性、透明性、防汚性等に優
れ、かつ低コストで製造可能な反射防止性ハードコート
フイルムが得られた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4F100 AA17B AA20 AA28 AH06D AH06E AH08C AH08E AK01A AK01B AK17 AK17D AK17E AK25 AK41 AK52 AK52D AK52E AT00A BA04 BA05 BA06 BA07 BA10A BA10D BA10E BA13 CA30 DE01B EH46 EH46B EH46C EH46D EH46E EJ54 GB41 JB14B JK12B JK12D JK14 JL02 JL06 JM02C JM02D JM02E JN01 JN06 JN06D JN18C JN18D JN18E YY00D YY00E
Claims (6)
- 【請求項１】 プラスチックフィルム（ａ）上の少なく
とも一面に、ハードコート層（ｂ）、高屈折率薄膜塗布
層（ｃ）、低屈折率薄膜塗布層（ｄ）を順次形成したこ
とを特徴とする反射防止性ハードコートフイルム。 - 【請求項２】 ハードコート層（ｂ）が金属酸化物微粒
子を含有する電離放射線硬化型樹脂から形成されたもの
である請求項１記載の反射防止性ハードコートフイル
ム。 - 【請求項３】 低屈折率薄膜塗布層（ｄ）が、Ｓｉ（Ｏ
Ｒ1）4、Ｒ2 4-nＳｉ（ＯＲ1）n、Ｓｉ（ＮＣＯ）4、Ｒ1
nＳｉ（ＮＣＯ）4-n、（Ｒ1Ｏ）nＳｉ（ＮＣＯ）
4-n（前記式中でＲ1，Ｒ2は、炭素数１から２０のアル
キル基を表し、ｎは１、２、３から選ばれる数を表
す。）から選ばれる一種以上から主として形成されたも
のである請求項１記載の反射防止性ハードコートフイル
ム。 - 【請求項４】 高屈折率薄膜塗布層（ｃ）が金属アルコ
キシド、金属キレートから選ばれた一種以上から主とし
て形成されたものである請求項１記載の反射防止性ハー
ドコートフイルム。 - 【請求項５】 低屈折率薄膜塗布層（ｄ）側での鉛筆硬
度が２Ｈ以上である請求項１記載の反射防止性ハードコ
ートフイルム。 - 【請求項６】 低屈折率薄膜塗布層（ｄ）が、ＲｆＣＨ
2ＣＨ2Ｓｉ（０Ｒ2）3 -nＸn（Ｒｆは炭素数１〜１００
のパーフルオロアルキル基であり、Ｒ2は炭素数１〜１
０のアクリル基、Ｘはアルキル基、塩素等である。ｎは
０、１、２から選ばれた数を表す。）で表されるフッソ
系珪素アルコキシドをさらに含むものから形成されたも
のである請求項２記載の反射防止性ハードコートフイル
ム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31764399A JP2001129931A (ja) | 1999-11-09 | 1999-11-09 | 反射防止性ハードコートフイルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31764399A JP2001129931A (ja) | 1999-11-09 | 1999-11-09 | 反射防止性ハードコートフイルム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001129931A true JP2001129931A (ja) | 2001-05-15 |
Family
ID=18090445
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31764399A Pending JP2001129931A (ja) | 1999-11-09 | 1999-11-09 | 反射防止性ハードコートフイルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001129931A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003025510A (ja) * | 2001-07-16 | 2003-01-29 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 反射防止性及び耐擦傷性を有する多層積層体 |
| JP2005202389A (ja) * | 2003-12-18 | 2005-07-28 | Toppan Printing Co Ltd | 反射防止積層体 |
-
1999
- 1999-11-09 JP JP31764399A patent/JP2001129931A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003025510A (ja) * | 2001-07-16 | 2003-01-29 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 反射防止性及び耐擦傷性を有する多層積層体 |
| JP2005202389A (ja) * | 2003-12-18 | 2005-07-28 | Toppan Printing Co Ltd | 反射防止積層体 |
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| A131 | Notification of reasons for refusal |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20070731 |