JP2001129592A - 有害物質処理装置の紫外線照射ランプの洗浄方法およびその装置 - Google Patents

有害物質処理装置の紫外線照射ランプの洗浄方法およびその装置

Info

Publication number
JP2001129592A
JP2001129592A JP31643499A JP31643499A JP2001129592A JP 2001129592 A JP2001129592 A JP 2001129592A JP 31643499 A JP31643499 A JP 31643499A JP 31643499 A JP31643499 A JP 31643499A JP 2001129592 A JP2001129592 A JP 2001129592A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ultraviolet irradiation
raw water
irradiation lamp
cleaning
lamp
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP31643499A
Other languages
English (en)
Inventor
Masamichi Asano
昌道 浅野
Noriaki Senba
範明 仙波
Kiyoshi Sugata
清 菅田
Takehiro Nishizawa
丈裕 西澤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Heavy Industries Ltd filed Critical Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Priority to JP31643499A priority Critical patent/JP2001129592A/ja
Publication of JP2001129592A publication Critical patent/JP2001129592A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Physical Water Treatments (AREA)
  • Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 紫外線照射ランプを処理槽から取り出すこと
なく洗浄することができる有害物質処理装置の紫外線照
射ランプの洗浄方法およびその装置を提供する。 【解決手段】 処理槽11内の原水1にオゾン発生器1
5からオゾンガス2を供給すると共に、処理槽11内に
配設されたUVランプ13から紫外線を照射することに
より、原水1に含まれている難分解性物質を分解処理す
る有害物質処理装置において、UVランプ13にスケー
ル等が付着したら、処理槽11内の原水1のpHを酸性
領域(pH4〜6)にするように酸溶液供給装置16か
ら原水1に酸溶液4を添加することによりUVランプを
洗浄した後、処理槽11内の原水1のpHを中性領域か
ら弱アルカリ性領域の間(pH7〜9)となるようにア
ルカリ溶液供給装置17から原水1にアルカリ溶液5を
添加するようにした。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、埋立地浸出水や産
業排水などの原水に存在する難分解性物質(例えば有機
ハロゲン系化合物等)などの有害物質を分解処理する有
害物質処理装置の紫外線照射ランプの洗浄方法およびそ
の装置に関する。
【0002】
【従来の技術】埋立地浸出水や産業排水などの原水に存
在する難分解性物質(例えばダイオキシン類などのよう
な有機ハロゲン系化合物)などの有害物質を分解処理す
る有害物質処理装置は、紫外線を照射する紫外線照射ラ
ンプが処理槽内に設けられ、原水中にオゾンや過酸化水
素などの酸化剤を送給すると共に紫外線照射ランプから
紫外線を照射することにより、オゾン分解を促進させて
高活性のヒドロキシラジカルを発生させ、有害物質を分
解処理している(例えば特開平7−108285号公報
等参照)。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところが、このように
して原水中の有害物質を長期(約3〜6ヵ月)にわたっ
て分解処理していると、紫外線照射ランプにカルシウム
やマグネシウム等の無機鉱物類などのようなスケールが
次第に付着してしまい、紫外線の照射量が減少し、ヒド
ロキシラジカルの発生量が減少して、有害物質の分解処
理効率が大幅に低下してしまう。このため、このような
有害物質処理装置では、所定期間ごとに紫外線照射ラン
プを処理槽から一旦取り出して洗浄しなければければな
らず、非常に手間がかかっていた。
【0004】このようなことから、本発明は、紫外線照
射ランプを処理槽から取り出すことなく洗浄することが
できる有害物質処理装置の紫外線照射ランプの洗浄方法
およびその装置を提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】前述した課題を解決する
ための、本発明による有害物質処理装置の紫外線照射ラ
ンプの洗浄方法は、処理槽内の原水に酸化剤を供給する
と共に、当該処理槽内に配設された紫外線照射ランプか
ら紫外線を照射することにより、当該原水に含まれてい
る難分解性物質を分解処理する有害物質処理装置の紫外
線照射ランプの洗浄方法であって、前記処理槽内の前記
原水のpHを酸性領域にして前記紫外線照射ランプを洗
浄することを特徴とする。
【0006】上述した有害物質処理装置の紫外線照射ラ
ンプの洗浄方法において、前記紫外線照射ランプを仕切
管で包囲するように前記処理槽内に当該仕切管を挿入
し、当該仕切管の内側の前記原水のpHを酸性領域にす
ることを特徴とする。
【0007】上述した有害物質処理装置の紫外線照射ラ
ンプの洗浄方法において、前記紫外線照射ランプを内部
に配設されて前記酸化剤を供給される前記処理槽を複数
設け、前記紫外線照射ランプの洗浄を各前記処理槽ごと
に順次1つずつ行うことを特徴とする。
【0008】上述した有害物質処理装置の紫外線照射ラ
ンプの洗浄方法において、前記酸性領域がpH4〜6で
あることを特徴とする。
【0009】上述した有害物質処理装置の紫外線照射ラ
ンプの洗浄方法において、前記紫外線照射ランプを洗浄
した後、酸性領域の前記原水のpHを中性領域から弱ア
ルカリ性領域の間に調整することを特徴とする。
【0010】上述した有害物質処理装置の紫外線照射ラ
ンプの洗浄方法において、前記中性領域から弱アルカリ
性領域の間がpH7〜9であることを特徴とする。
【0011】上述した有害物質処理装置の紫外線照射ラ
ンプの洗浄方法において、前記酸化剤がオゾンまたは過
酸化水素のうちの少なくとも一方であることを特徴とす
る。
【0012】一方、前述した課題を解決するための、本
発明による有害物質処理装置の紫外線照射ランプの洗浄
装置は、処理槽内の原水に酸化剤を供給すると共に、当
該処理槽内に配設された紫外線照射ランプから紫外線を
照射することにより、当該原水に含まれている難分解性
物質を分解処理する有害物質処理装置の紫外線照射ラン
プの洗浄装置であって、前記処理槽内の前記原水のpH
を酸性領域にして前記紫外線照射ランプを洗浄する原水
酸性化手段を備えたことを特徴とする。
【0013】上述した有害物質処理装置の紫外線照射ラ
ンプの洗浄装置において、前記原水酸性化手段が前記紫
外線照射ランプを包囲する仕切管と、前記仕切管の内側
の前記原水に酸溶液を添加する酸溶液供給手段とを備え
てなることを特徴とする。
【0014】上述した有害物質処理装置の紫外線照射ラ
ンプの洗浄装置において、前記原水のpHを中性領域か
ら弱アルカリ性領域の間に調整する原水アルカリ化手段
を設けたことを特徴とする。
【0015】
【発明の実施の形態】本発明による有害物質処理装置の
紫外線照射ランプの洗浄方法およびその装置の実施の形
態を以下に説明するが、本発明は、これらの実施の形態
に限定されるものではない。
【0016】[第一番目の実施の形態]本発明による有
害物質処理装置の紫外線照射ランプの洗浄方法およびそ
の装置の第一番目の実施の形態を図1を用いて説明す
る。なお、図1は、洗浄装置を適用した有害物質処理装
置の概略構成図である。
【0017】図1に示すように、処理槽11には、難分
解性物質などの有害物質を含む原水1を送給する送給ポ
ンプ12の送出口側が連結されている。処理槽11の内
部には、紫外線(UV)を照射する紫外線照射ランプ
(UVランプ)13が配設されている。処理槽11の内
部下方には、散気管14が配設されている。散気管14
には、オゾンガス2を発生させるオゾン発生器15の送
出口側が連結されている。
【0018】前記処理槽11には、当該処理槽11内へ
塩酸や硫酸などの酸溶液4を添加する原水酸性化手段で
ある酸溶液供給装置16と、当該処理槽11内へ水酸化
ナトリウム溶液などのアルカリ性溶液5を添加する原水
アルカリ化手段であるアルカリ溶液供給装置17とがそ
れぞれ連結されている。
【0019】このような有害物質処理装置においては、
送給ポンプ12を作動して原水1を処理槽11内に送給
した後、UVランプ13を作動してUVを照射すると共
に、オゾン発生器15を作動して散気管14から原水1
にオゾンガス2を供給すると、ヒドロキシラジカル(O
Hラジカル)が発生し、有害物質が分解処理され、処理
水3として送出される。
【0020】このようにして原水1中の有害物質を分解
処理していき、UVランプ13にカルシウムやマグネシ
ウム等の無機鉱物類などのようなスケールが次第に付着
し始めたら、処理槽11内の原水1のpHを酸性領域
(pH4〜6程度)とするように酸溶液供給装置16か
ら酸溶液4を処理槽11内に添加する。すると、UVラ
ンプ13に付着しているスケールが酸により分解除去さ
れ、UVランプ13が洗浄される。
【0021】UVランプ13の洗浄を終えたら、処理槽
11内の原水1のpHを中性領域から弱アルカリ性領域
(pH7〜9程度)とするようにアルカリ溶液供給装置
17からアルカリ溶液5を処理槽11内に添加して、有
害物質の分解処理を継続する。ここで、原水1のpHを
弱アルカリ性領域とすると、OHラジカルが発生しやす
くなり、分解処理能力を向上させることができる。
【0022】したがって、UVランプ13を処理槽11
から取り出さなくてもUVランプ13を洗浄することが
できるので、UVランプ13の洗浄作業の容易化を図る
ことができる。
【0023】なお、本発明を適用する有害物質処理装置
で分解処理する難分解物質としては、ダイオキシン類や
PCB類に代表される有害な塩素化芳香族化合物、高縮
合度芳香族炭化水素等の埋立地浸出水や産業排水等の排
水からの有害物質をいうが、本発明のヒドロキシラジカ
ルで分解できる埋立地浸出水や産業排水等やシュレッダ
ーダスト処理物からの排水や洗煙排水等の原水中の有害
物質はもちろんのこと、フタル酸エステルやビスフェノ
ールAやβ−エストラジオール等のような環境ホルモン
と呼ばれる物質も処理することができる。
【0024】また、前記ダイオキシン類とは、ポリハロ
ゲン化ジベンゾ−p−ダイオキシン類(PXDDs)及
びポリハロゲン化ジベンゾフラン類(PXDFs)の総
称であり(Xはハロゲンを示す。)、ハロゲン系化合物
とある種の有機ハロゲン化合物の燃焼時に微量発生する
といわれる。ハロゲンの数によって一ハロゲン化物から
八ハロゲン化物まであり、これらのうち、特に四塩化ジ
ベンゾ−p−ダイオキシン(T4 CDD)は、最も強い
毒性を有するものとして知られている。なお、有害なハ
ロゲン化芳香族化合物としては、ダイオキシン類の他に
その前駆体となる種々の有機ハロゲン化合物(例えば、
フェノール,ベンゼン等の芳香族化合物(例えばハロゲ
ン化ベンゼン類,ハロゲン化フェノール及びハロゲン化
トルエン等)、ハロゲン化アルキル化合物等)が含まれ
ており、除去する必要がある。すなわち、ダイオキシン
類とは、塩素化ダイオキシン類のみならず、臭素化ダイ
オキシン類等のハロゲン化ダイオキシン類を表す。
【0025】また、PXB類(ポリハロゲン化ビフェニ
ル類)はビフェニルにハロゲン原子が数個付加した化合
物の総称であり、ハロゲンの置換数、置換位置により異
性体がある。PXB類のうち、特にPCB(ポリ塩化ビ
フェニル)においては、2,6−ジクロロビフェニル、
2,2'−ジクロロビフェニル、2,3,5−トリクロロ
ビフェニル等が代表的であり、毒性が強く、焼却した場
合にはダイオキシン類が発生するおそれがあるものとし
て知られており、除去する必要がある。また、PXB類
には、コプラナーPXBも含まれ、処理水として放流す
るには原水中から除去する必要がある。
【0026】また、OHラジカルを発生させる手段とし
ては、オゾンに紫外線ランプにより紫外線を照射する
方法、過酸化水素に紫外線ランプにより紫外線を照射
する方法、オゾンと過酸化水素とを併用して紫外線を
照射する方法等が挙げられる。
【0027】上記のオゾンに紫外線ランプ(例えば、
低圧水銀ランプ:出力10〜200W)により紫外線を
照射する方法は、波長185nm,254nmの紫外線
をオゾン(オゾン濃度10g/m3 以上)に照射するこ
とでOHラジカルを発生させるものである。
【0028】上記の過酸化水素に紫外線ランプにより
紫外線を照射する方法は、過酸化水素の注入量を10〜
5000mg/リットルとし、前記紫外線ランプにより
紫外線を照射することによりOHラジカルを発生させる
ものである。
【0029】上記のオゾンと過酸化水素とを併用して
紫外線を照射する方法は、上記,の方法を組み合わ
せてOHラジカルを発生させるものである。
【0030】このような各種のOHラジカル発生手段に
おいて、本実施の形態では、前記の方法を適用し、水
中におけるオゾン(O3 )と紫外線照射とを下記の化学
式(1),(2)に示すように反応させ、発生させた強
力なOHラジカルの酸化分解作用により、難分解物質の
有害物質を分解処理するようにしている。
【0031】O3 +UV→O2 +O (1) O+H2 O→2・OH (2)
【0032】[第二番目の実施の形態]本発明による有
害物質処理装置の紫外線照射ランプの洗浄方法およびそ
の装置の第二番目の実施の形態を図2を用いて説明す
る。なお、図2は、洗浄装置を適用した有害物質処理装
置の概略構成図である。ただし、前述した第一番目の実
施の形態の部材と同一の部材については、前述した第一
番目の実施の形態の説明で用いた符号と同一の符号を用
いることにより、その説明を省略する。
【0033】図2に示すように、複数並設された処理槽
11a〜11c内には、UVランプ13a〜13cおよ
び散気管14a〜14cがそれぞれ配設されている。こ
れら散気管14a〜14cは、バルブ15a〜15cを
介してオゾン発生器15に連結している。各処理槽11
a〜11cは、送給ポンプ12にバルブ12a〜12c
を介して連結している。
【0034】各処理槽11a〜11cには、酸溶液供給
装置16がバルブ16a〜16cを介してそれぞれ連結
している。また、各処理槽11a〜11cには、アルカ
リ溶液供給装置17がバルブ17a〜17cを介してそ
れぞれ連結している。
【0035】すなわち、前述した第一番目の実施の形態
では、単一の処理槽11を用いて原水1を処理する場合
について説明したが、本実施の形態では、複数の処理槽
11a〜11cを用いて原水1を処理するようにしてい
るのである。
【0036】このような有害物質処理装置においては、
前述した実施の形態の場合と同様に、送給ポンプ12を
作動して原水1を各処理槽11a〜11c内に前記バル
ブ12a〜12cを調整しながらそれぞれ送給した後、
各UVランプ13a〜13cを作動してUVを照射する
と共に、オゾン発生器15を作動して各散気管14a〜
14cから各処理槽11a〜11c内の原水1に各バル
ブ15a〜15cを調整ながらオゾンガス2をそれぞれ
供給すると、各処理槽11a〜11c内でヒドロキシラ
ジカル(OHラジカル)がそれぞれ発生し、各処理槽1
1a〜11c内の原水1中の有害物質がそれぞれ分解処
理される。
【0037】このように各処理槽11a〜11cで原水
1中の有害物質をそれぞれ分解処理していき、各UVラ
ンプ13a〜13cにカルシウムやマグネシウム等の無
機鉱物類などのようなスケールが次第に付着し始めた
ら、例えば、処理槽11a内の原水1のpHを酸性領域
(pH4〜6程度)とするように前記バルブ16aを調
整して酸溶液供給装置16から酸溶液4を処理槽11a
内に添加することにより、前記UVランプ13aに付着
しているスケールを酸により分解除去して当該UVラン
プ13aを洗浄する。
【0038】上記UVランプ13aの洗浄を終えたら、
処理槽11a内の原水1のpHを中性領域から弱アルカ
リ性領域(pH7〜9程度)とするように前記バルブ1
7aを調整してアルカリ溶液供給装置17からアルカリ
溶液5を処理槽11a内に添加して、有害物質の分解処
理を継続する。
【0039】以下、他の処理槽11b,11cにおいて
も上述と同様な操作を順次行うことにより、すべてのU
Vランプ13a〜13cを洗浄することができる。
【0040】つまり、本実施の形態では、複数の処理槽
11a〜11cを用いることにより、原水1中の有害物
質のOHラジカルによる分解処理を中性領域から弱アル
カリ性領域で常に行うことができるようにしたのであ
る。
【0041】したがって、本実施の形態によれば、前述
した第一番目の実施の形態の場合と同様な効果を得るこ
とができるのはもちろんのこと、原水1中の有害物質の
OHラジカルによる分解処理を中性領域から弱アルカリ
性領域で常に行うことができるので、有害物質の処理効
率の低下を抑制することができる。
【0042】[第三番目の実施の形態]本発明による有
害物質処理装置の紫外線照射ランプの洗浄方法およびそ
の装置の第三番目の実施の形態を図3を用いて説明す
る。なお、図3は、洗浄装置を適用した有害物質処理装
置の概略構成図である。ただし、前述した第一番目の実
施の形態の部材と同一の部材については、前述した第一
番目の実施の形態の説明で用いた符号と同一の符号を用
いることにより、その説明を省略する。
【0043】図3において、18は仕切管であり、処理
槽11の上方に昇降可能に配設され、図示しない昇降手
段の作用で下降することにより、UVランプ13を包囲
して処理槽11の内部環境とUVランプ13の周辺環境
とを仕切ることができるようになっている。また、酸溶
液供給装置16およびアルカリ溶液供給装置17は、U
Vランプ13を包囲した仕切管18の内部に各溶液4,
5をそれぞれ添加することができるようになっている。
なお、本実施の形態では、酸溶液供給装置16、仕切管
18などにより原水酸性化手段を構成している。
【0044】このような有害物質処理装置においては、
前述した第一番目の実施の形態の場合と同様に操作する
ことにより、原水1中の有害物質を分解処理することが
できる。
【0045】一方、UVランプ13にスケールが付着し
たら、前記昇降手段で仕切管18を下降させてUVラン
プ13を包囲した後、UVランプ13の周囲の原水1の
pHを酸性領域(pH4〜6程度)とするように酸溶液
供給装置16から酸溶液4を仕切管18の内側に添加す
ると、UVランプ13に付着しているスケールが酸によ
り分解除去され、UVランプ13が洗浄される。
【0046】UVランプ13の洗浄を終えたら、UVラ
ンプ13の周囲の原水1のpHを中性領域から弱アルカ
リ性領域(pH7〜9程度)とするようにアルカリ溶液
供給装置17からアルカリ溶液5を仕切管18の内側に
添加した後、前記昇降手段で当該仕切管18を上昇さ
せ、有害物質の分解処理を継続する。
【0047】すなわち、前述した第一番目の実施の形態
では、処理槽11の内部全域をpH調整するようにした
が、本実施の形態では、UVランプ13の周囲のみをp
H調整するようにしたのである。
【0048】したがって、本実施の形態によれば、前述
した第一番目の実施の形態と同様な効果を得ることがで
きるのはもちろんのこと、pH調整をUVランプ13の
周囲のみで済ますことができるので、洗浄処理に要する
時間を削減することができると共に、酸溶液4やアルカ
リ溶液5の使用量を削減することができる。
【0049】[第四番目の実施の形態]本発明による有
害物質処理装置の紫外線照射ランプの洗浄方法およびそ
の装置の第四番目の実施の形態を図4を用いて説明す
る。なお、図4は、洗浄装置を適用した有害物質処理装
置の概略構成図である。ただし、前述した第二,三番目
の実施の形態の部材と同一の部材については、前述した
第二,三番目の実施の形態の説明で用いた符号と同一の
符号を用いることにより、その説明を省略する。
【0050】図4に示すように、本実施の形態による有
害物質処理装置は、前述した第二番目の実施の形態の場
合において、各処理槽11a〜11cに仕切管18a〜
18cを配設し、各UVランプ13a〜13cを包囲し
た各仕切管18a〜18cの内部に酸溶液供給装置16
およびアルカリ溶液供給装置17から各溶液4,5をそ
れぞれ添加することができるようにしたものである。
【0051】言い換えれば、本実施の形態は、前述した
第三番目の実施の形態において、複数の処理槽11a〜
11cを用いて原水1を処理できるようにしたものなの
である。
【0052】このような有害物質処理装置においては、
前述した第二番目の実施の形態の場合と同様に操作する
ことにより、各処理槽11a〜11c内の原水1中の有
害物質を分解処理することができる。
【0053】一方、各UVランプ13a〜13cにスケ
ールがそれぞれ付着し始めたら、例えば、前記昇降手段
で仕切管18aを下降させてUVランプ13aを包囲し
た後、UVランプ13aの周囲の原水1のpHを酸性領
域(pH4〜6程度)とするように前記バルブ16aを
調整して酸溶液供給装置16から酸溶液4を仕切管18
aの内側に添加することにより、UVランプ13aに付
着しているスケールを酸により分解除去してUVランプ
13を洗浄した後、UVランプ13aの周囲の原水1の
pHを中性領域から弱アルカリ性領域(pH7〜9程
度)とするように前記バルブ17aを調整してアルカリ
溶液供給装置17からアルカリ溶液5を仕切管18aの
内側に添加した後、前記昇降手段で当該仕切管18を上
昇させる。
【0054】以下、他の処理槽11b,11cにおいて
も上述と同様な操作を順次行うことにより、すべてのU
Vランプ13a〜13cを洗浄することができる。
【0055】したがって、本実施の形態によれば、前述
した第一番目の実施の形態と同様な効果を得ることがで
きるのはもちろんのこと、前述した第二,三番目の実施
の形態で得られる両者の効果を同時に得ることができ
る。
【0056】
【発明の効果】本発明による有害物質処理装置の紫外線
照射ランプの洗浄方法は、処理槽内の原水に酸化剤を供
給すると共に、当該処理槽内に配設された紫外線照射ラ
ンプから紫外線を照射することにより、当該原水に含ま
れている難分解性物質を分解処理する有害物質処理装置
の紫外線照射ランプの洗浄方法であって、前記処理槽内
の前記原水のpHを酸性領域にして前記紫外線照射ラン
プを洗浄するので、紫外線照射ランプに付着したスケー
ルを酸により分解除去して、紫外線照射ランプを洗浄す
ることができる。よって、紫外線照射ランプを処理槽か
ら取り出さなくても紫外線照射ランプを洗浄することが
でき、紫外線照射ランプの洗浄作業の容易化を図ること
ができる。
【0057】また、前記紫外線照射ランプを仕切管で包
囲するように前記処理槽内に当該仕切管を挿入し、当該
仕切管の内側の前記原水のpHを酸性領域にすれば、紫
外線照射ランプの周囲のみのpH調整だけで済むように
なるので、洗浄処理に要する時間を削減することができ
ると共に、pHを調整する薬剤の使用量を削減すること
ができる。
【0058】また、前記紫外線照射ランプを内部に配設
されて前記酸化剤を供給される前記処理槽を複数設け、
前記紫外線照射ランプの洗浄を各前記処理槽ごとに順次
1つずつ行えば、難分解性物質の分解処理の効率低下を
抑制しつつ紫外線照射ランプを洗浄することができる。
【0059】また、前記酸性領域がpH4〜6であれ
ば、洗浄処理を最も効率よく行うことができる。
【0060】また、前記紫外線照射ランプを洗浄した
後、酸性領域の前記原水のpHを中性領域から弱アルカ
リ性領域の間に調整するので、洗浄後の難分解性物質の
分解処理を効率よく行うことができる。
【0061】また、前記中性領域から弱アルカリ性領域
の間がpH7〜9であれば、洗浄後の難分解性物質の分
解処理を最も効率よく行うことができる。
【0062】また、前記酸化剤がオゾンまたは過酸化水
素のうちの少なくとも一方であれば、ヒドロキシラジカ
ルを効率よく発生させることができ、有害物質の分解を
促進することができる。
【0063】一方、本発明による有害物質処理装置の紫
外線照射ランプの洗浄装置は、処理槽内の原水に酸化剤
を供給すると共に、当該処理槽内に配設された紫外線照
射ランプから紫外線を照射することにより、当該原水に
含まれている難分解性物質を分解処理する有害物質処理
装置の紫外線照射ランプの洗浄装置であって、前記処理
槽内の前記原水のpHを酸性領域にして前記紫外線照射
ランプを洗浄する原水酸性化手段を備えたので、紫外線
照射ランプに付着したスケールを酸により分解除去し
て、紫外線照射ランプを洗浄することができる。よっ
て、紫外線照射ランプを処理槽から取り出さなくても紫
外線照射ランプを洗浄することができ、紫外線照射ラン
プの洗浄作業の容易化を図ることができる。
【0064】また、前記原水酸性化手段が前記紫外線照
射ランプを包囲する仕切管と、前記仕切管の内側の前記
原水に酸溶液を添加する酸溶液供給手段とを備えてなる
ので、紫外線照射ランプの周囲のみのpH調整だけで済
ませることができ、洗浄処理に要する時間を削減するこ
とができると共に、pHを調整する薬剤の使用量を削減
することができる。
【0065】また、前記原水のpHを中性領域から弱ア
ルカリ性領域の間に調整する原水アルカリ化手段を設け
たので、洗浄後の難分解性物質の分解処理を効率よく行
うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による有害物質処理装置の紫外線照射ラ
ンプの洗浄装置を適用した第一番目の実施の形態の有害
物質処理装置の概略構成図である。
【図2】本発明による有害物質処理装置の紫外線照射ラ
ンプの洗浄装置を適用した第二番目の実施の形態の有害
物質処理装置の概略構成図である。
【図3】本発明による有害物質処理装置の紫外線照射ラ
ンプの洗浄装置を適用した第三番目の実施の形態の有害
物質処理装置の概略構成図である。
【図4】本発明による有害物質処理装置の紫外線照射ラ
ンプの洗浄装置を適用した第四番目の実施の形態の有害
物質処理装置の概略構成図である。
【符号の説明】
1 原水 2 オゾンガス 3 処理水 4 酸溶液 5 アルカリ溶液 11,11a〜11c 処理槽 12 送給ポンプ 12a〜12c バルブ 13,13a〜13c UVランプ 14,14a〜14c 散気管 15 オゾン発生器 15a〜15c バルブ 16 酸溶液供給装置 16a〜16c バルブ 17 アルカリ溶液供給装置 17a〜17c バルブ 18,18a〜18c 仕切管
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C02F 1/78 C02F 1/78 (72)発明者 菅田 清 神奈川県横浜市金沢区幸浦一丁目8番地1 三菱重工業株式会社横浜研究所内 (72)発明者 西澤 丈裕 神奈川県横浜市中区錦町12番地 三菱重工 業株式会社横浜製作所内 Fターム(参考) 3B201 AA46 AB42 BB02 BB05 BB92 BB96 CB12 CB15 4D037 AA11 AB11 AB14 AB16 BA18 BB09 CA11 CA12 CA14 4D050 AA12 AA13 AB19 BB02 BB09 BC09 BD02 BD03 BD06 BD08 CA13

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 処理槽内の原水に酸化剤を供給すると共
    に、当該処理槽内に配設された紫外線照射ランプから紫
    外線を照射することにより、当該原水に含まれている難
    分解性物質を分解処理する有害物質処理装置の紫外線照
    射ランプの洗浄方法であって、 前記処理槽内の前記原水のpHを酸性領域にして前記紫
    外線照射ランプを洗浄することを特徴とする有害物質処
    理装置の紫外線照射ランプの洗浄方法。
  2. 【請求項2】 請求項1において、 前記紫外線照射ランプを仕切管で包囲するように前記処
    理槽内に当該仕切管を挿入し、当該仕切管の内側の前記
    原水のpHを酸性領域にすることを特徴とする有害物質
    処理装置の紫外線照射ランプの洗浄方法。
  3. 【請求項3】 請求項1または2において、 前記紫外線照射ランプを内部に配設されて前記酸化剤を
    供給される前記処理槽を複数設け、前記紫外線照射ラン
    プの洗浄を各前記処理槽ごとに順次1つずつ行うことを
    特徴とする有害物質処理装置の紫外線照射ランプの洗浄
    方法。
  4. 【請求項4】 請求項1から3のいずれかにおいて、 前記酸性領域がpH4〜6であることを特徴とする有害
    物質処理装置の紫外線照射ランプの洗浄方法。
  5. 【請求項5】 請求項1から4のいずれかにおいて、 前記紫外線照射ランプを洗浄した後、酸性領域の前記原
    水のpHを中性領域から弱アルカリ性領域の間に調整す
    ることを特徴とする有害物質処理装置の紫外線照射ラン
    プの洗浄方法。
  6. 【請求項6】 請求項5において、 前記中性領域から弱アルカリ性領域の間がpH7〜9で
    あることを特徴とする有害物質処理装置の紫外線照射ラ
    ンプの洗浄方法。
  7. 【請求項7】 請求項1から6のいずれかにおいて、 前記酸化剤がオゾンまたは過酸化水素のうちの少なくと
    も一方であることを特徴とする有害物質処理装置の紫外
    線照射ランプの洗浄方法。
  8. 【請求項8】 処理槽内の原水に酸化剤を供給すると共
    に、当該処理槽内に配設された紫外線照射ランプから紫
    外線を照射することにより、当該原水に含まれている難
    分解性物質を分解処理する有害物質処理装置の紫外線照
    射ランプの洗浄装置であって、 前記処理槽内の前記原水のpHを酸性領域にして前記紫
    外線照射ランプを洗浄する原水酸性化手段を備えたこと
    を特徴とする有害物質処理装置の紫外線照射ランプの洗
    浄装置。
  9. 【請求項9】 請求項8において、 前記原水酸性化手段が前記紫外線照射ランプを包囲する
    仕切管と、 前記仕切管の内側の前記原水に酸溶液を添加する酸溶液
    供給手段とを備えてなることを特徴とする有害物質処理
    装置の紫外線照射ランプの洗浄装置。
  10. 【請求項10】 請求項8または9において、 前記原水のpHを中性領域から弱アルカリ性領域の間に
    調整する原水アルカリ化手段を設けたことを特徴とする
    有害物質処理装置の紫外線照射ランプの洗浄装置。
JP31643499A 1999-11-08 1999-11-08 有害物質処理装置の紫外線照射ランプの洗浄方法およびその装置 Withdrawn JP2001129592A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP31643499A JP2001129592A (ja) 1999-11-08 1999-11-08 有害物質処理装置の紫外線照射ランプの洗浄方法およびその装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP31643499A JP2001129592A (ja) 1999-11-08 1999-11-08 有害物質処理装置の紫外線照射ランプの洗浄方法およびその装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001129592A true JP2001129592A (ja) 2001-05-15

Family

ID=18077052

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP31643499A Withdrawn JP2001129592A (ja) 1999-11-08 1999-11-08 有害物質処理装置の紫外線照射ランプの洗浄方法およびその装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2001129592A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003062586A (ja) * 2001-08-29 2003-03-04 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 有害物質処理装置および排水処理システム

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003062586A (ja) * 2001-08-29 2003-03-04 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 有害物質処理装置および排水処理システム

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0800407B1 (en) Method and apparatus for treatment of fluids
US7842182B2 (en) Ozone/UV combination for the decomposition of resistant substances
JP2004181339A (ja) 有機性廃棄物処理システムにおける次亜塩素酸系薬剤の自給方法及びその設備
JP2000051863A (ja) 有害物質処理方法およびその装置
JP2001129592A (ja) 有害物質処理装置の紫外線照射ランプの洗浄方法およびその装置
JP2001129572A (ja) 有害物質処理方法およびその装置
JP2000102794A (ja) 有害物質処理方法およびその装置
JP3352200B2 (ja) 揮発性有機塩素化合物の処理方法
JP2000102793A (ja) 有害物質処理方法およびその装置
JP2001129566A (ja) 有害物質処理方法およびその装置
JP2000202234A (ja) 排煙処理装置
JP2000176409A (ja) 汚染体処理装置
JP3576474B2 (ja) ダイオキシン類の分解方法
JP2000051874A (ja) 有害物質処理方法およびその装置
JP2000051873A (ja) 有害物質処理装置
JP2000186809A (ja) 排煙減温装置
JP2000061474A (ja) 有害物質処理方法およびその装置
JP2003211143A (ja) 土壌浄化装置
JP2001259664A (ja) 汚染水および汚染ガスの浄化方法および装置
JP3739169B2 (ja) 有機塩素化合物の分解装置
JP3716143B2 (ja) 有害物質処理方法及び装置
JP3901974B2 (ja) 電磁波源の洗浄装置及び該洗浄装置を備えた電磁波照射装置
JP2001121163A (ja) 内分泌撹乱物質及び/または発癌性物質を含有する汚水の処理方法
JP2003093999A5 (ja)
JP2003305362A (ja) 流体作用装置ならびに流体に作用させる方法

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20070109